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国際特許分類[H01L33/22]の内容

国際特許分類[H01L33/22]に分類される特許

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【課題】生産性を向上させることができ、光の反射効率の最大化によって光抽出効率を向上できる発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子200は、第1の導電型半導体層236、活性層234及び第2の導電型半導体層232を含む発光構造物と、第1の電極層210と、発光構造物と第1の電極層との間に配置された第2の電極層220と、第2の導電型半導体層の下側で第2の電極層の縁部を取り囲み、第2の電極層と第1の電極層との間に配置された絶縁層240とを含み、第2の電極層は、第2の導電型半導体層と接し、互いに所定間隔だけ離隔するように配置された複数の第1の反射層222を有し、第1の電極層は、第2の電極層、第2の導電型半導体層及び活性層を貫通して第1の導電型半導体層に接する。 (もっと読む)


【課題】発光素子の光利用効率を高め、蛍光体板により波長変換を行ってもイエローリングのない安定した白色光や、赤色、緑色の色むらのない安定した色の光を発光する安価な発光装置を提供するものである。
【解決手段】発光素子と、発光素子が発光する光を波長変換する蛍光体板を備える発光装置において、発光素子を形成する半導体層の表面に、発光素子が発光する光の半波長以下のピッチを有する凹部を形成して、矩形周期構造体を構成し、蛍光体板は、矩形周期構造体の上方に配置している。 (もっと読む)


【課題】窒化物半導体層に加わるダメージを抑制しながら、窒化物半導体層と電極との間でオーミック接触を得ることが可能な窒化物半導体素子を提供する。
【解決手段】この発光素子(窒化物半導体素子)1は、主面10aを有する基板10と、n型層20a、n型コンタクト層20bおよびp型層20dを含む半導体層20と、を備える。主面10aはm面に対してa軸方向に所定のオフ角度を有する。半導体層20は、傾斜領域21と非傾斜領域22とを含む。傾斜領域21において、n型層20aおよびn型コンタクト層20bの所定領域上にn電極40が形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光出射率が高い発光ダイオードを提供する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、第一半導体層と、第二半導体層と、活性層と、複数の三次元ナノ構造体と、第一電極及び第二電極と、を含む。前記第二半導体層の前記活性層に隣接する表面と反対側の表面は、該発光ダイオードの光出射面であり、前記複数の三次元ナノ構造体は、前記第一半導体層の前記活性層に隣接する表面と反対側の表面に、一次元アレイの形式によって設置され、三次元ナノ構造体は、第一突部と第二突部を含み、前記第一突部と前記第二突部とは互いに並列して、同じ方向に延伸し、三次元ナノ構造体の前記第一突部と前記第二突部との間には、第一溝が形成され、隣接する三次元ナノ構造体の間には、第二溝が形成され、前記第二溝の深度は前記第一溝より深い。 (もっと読む)


【課題】発光素子の半導体層の厚さを減少させ、発光素子の光抽出効率を改善しようとすること。
【解決手段】本発明の一実施例に係る発光素子は、第1の導電型半導体層、活性層及び第2の導電型半導体層を有する発光構造物と、前記発光構造物の下部に位置し、第2の導電型半導体層と電気的に連結された第2の電極層と、第2の電極層の下部に位置する主電極、及び前記主電極から分岐され、第2の電極層、第2の導電型半導体層及び活性層を貫通して第1の導電型半導体層と接する少なくとも1つの接触電極を有する第1の電極層と、第1の電極層と第2の電極層との間及び第1の電極層と前記発光構造物との間の絶縁層とを備え、第1の導電型半導体層は、第1の領域と、第1の領域と区分され、第1の領域より高さの低い第2の領域とを有し、第1の領域は前記接触電極と重畳されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光出射率が高い発光ダイオードを提供する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、第一半導体層と、第二半導体層と、活性層と、複数の三次元ナノ構造体と、第一電極及び第二電極と、を含む。前記複数の三次元ナノ構造体は、前記基板の表面に、一次元アレイの形式によって設置され、前記三次元ナノ構造体は、第一突部と第二突部を含み、前記第一突部と前記第二突部とは互いに並列して、同じ方向で延伸し、三次元ナノ構造体の前記第一突部と前記第二突部との間には、第一溝が形成され、隣接する三次元ナノ構造体の間には、第二溝が形成され、前記第二溝の深度は前記第一溝より深い。 (もっと読む)


【課題】光出射率が高い発光ダイオードを提供する。
【解決手段】発光ダイオード10は、基板100と、第一半導体層110と、第二半導体層130と、活性層120と、複数の三次元ナノ構造体140と、第一電極150及び第二電極160と、を含む。第二半導体層の活性層に隣接する表面と反対側の表面は、発光ダイオードの光出射面であり、複数の三次元ナノ構造体は、発光ダイオードの光出射面に、一次元アレイの形式によって設置され、各々の三次元ナノ構造体は、第一突部と第二突部とを含み、第一突部と第二突部とは同じ延伸規則によって延伸し、三次元ナノ構造体の第一突部と第二突部との間には、第一溝が形成され、隣接する二つの三次元ナノ構造体の間には、第二溝が形成され、第二溝の深度は第一溝より深い。 (もっと読む)


【課題】 光の取り出し効率を向上させるとともに、容易かつ再現性良く製造可能な半導体発光素子やその製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体発光素子1は、電力を供給することで発光する発光層12を有した半導体積層構造11〜13と、半導体積層構造11〜13の上面に形成されて発光層12が出射する光に対して透明であり導電性を有する透明電極14と、透明電極14の上面に形成されて発光層12が出射する光に対して透明であり透明電極14よりも屈折率が高い透明高屈折率膜15と、を備える。透明高屈折率膜15は、透明電極14から離れるに従い連続的または段階的に屈折率が低くなり、かつ、透明電極14からの距離にかかわらず組成が一様である。 (もっと読む)


【課題】ダブルフリップ製作プロセスによって形成されたダブルフリップチップ半導体デバイスを提供する。
【解決手段】最初にn型層204を成長させ、続いてp型層206を成長させる通常の方式で、基板上にエピタキシャル層を成長させる。チップを最初にフリップして、犠牲層に取り付ける。当初の基板を除去し、n型層を露出させ、追加の層および処理をデバイスに追加する。n型層は製作中に露出されるので、光取出しを向上させるためにさまざまな方式で加工することができる。チップを再度フリップして、支持要素に取り付ける。次いで、犠牲層を除去して、追加の層および処理をデバイスに追加する。完成したデバイスは、各層が当初の基板に対して有していたのと同じ向きを、支持要素に対して維持する構成を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】LEDの発生光の外部への結合効率を効率的に改善する。
【解決手段】基板112上に堆積した半導体材料の第1の層13と共にp−nダイオードを形成する前記半導体材料の第2の層14と、第1と第2の層の間にあって、光を発生する発光領域18と、第2の層に堆積した第1の電極15と、第1の層に電気的に接続された第2の電極16が含まれている。基板112の上部表面に、光を散乱または回折するための突出部118及び/または陥凹部119が設けられる。第2の層の上部表面の粗面化も用いることができる。 (もっと読む)


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