【課題】プラズマ電位が低く，より安定した高密度のプラズマを容易に形成する。
【解決手段】処理室１０２内に設けられ，ウエハを載置する載置台１１０と，処理室内に処理ガスを導入するガス供給部１２０と，処理室内を排気して減圧する排気部１３０と，載置台に対向するように板状誘電体１０４を介して配設された平面状の高周波アンテナ１４０と，高周波アンテナを覆うように設けられたシールド部材１６０と，載置台と板状誘電体との間に誘導結合プラズマを生成するための高周波を高周波アンテナに印加する高周波電源１５０とを備え，高周波アンテナは両端を開放するとともに中点又はその近傍を接地し，前記高周波電源からの高周波の１／２波長で共振するように構成したアンテナ素子１４２からなる。 （もっと読む）

【課題】Ｑｍａｓｓなどの質量分析装置を用いることなく，処理室内の水分量を検出する。
【解決手段】処理室１１０内を減圧し，処理室内を排気しながら所定のガスを導入し，そのガスのプラズマを励起するステップと，処理室に設けられたモニタ用窓部２００を介してその窓部を透過するプラズマの発光スペクトルのうち，処理室内の水分量と相関のある特定波長領域の光を受光して発光強度を取得するステップと，その発光強度に基づいて処理室内の水分量の変化を検出するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】エッチング、ＣＶＤ、アッシングといったプラズマプロセスを行うプラズマプロセス装置において、チャンバ内のプラズマ光を採光するためのビューポートの光学窓に反応生成物が付着することを防止し、かつ、リアルタイムで連続的に採光を行うことができるプラズマプロセス装置を提供する。
【解決手段】光学窓よりも反応チャンバ側において、それぞれが開口部を有し、反応チャンバからの光の一部が前記光学窓に投影されるように互いに配置される複数の遮蔽板と、それら複数の遮蔽板を同速度で同一方向に回転させる回転部と、を備えたプラズマプロセス装置とする。遮蔽板において、面内で径方向に延伸する立上部を反応チャンバ側に設けることもできる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置の処理容器内の金属面とプラズマとの間を伝搬する金属表面波を計測する。
【解決手段】金属表面波計測装置１０００は、電磁波によりガスを励起させて基板Ｇをプラズマ処理するプラズマ処理装置２０００に設けられ、処理容器内部の金属とプラズマとの間を伝搬する金属表面波を計測する。金属表面波計測装置１０００は、プラズマに近接して設けられた金属からなるプローブ１００５ａ、１００５ｂ、１００５ｃと、プローブ１００５ａ、１００５ｂ、１００５ｃに電気的に接続されたオシロスコープ１０３０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】安定且つ短時間で装置の状態を変更可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法を提供する。
【解決手段】処理容器内のプラズマに関与する高周波を出力する複数の高周波電源を有し、これらの出力電力を順番に段階的に大きくし、得られたプラズマにより被処理体に対して処理を行うプラズマ処理装置は、各高周波電源毎に設けられた高周波電源ユニットは、高周波電源とその出力を制御する電力制御部と、反射波の電力値を計測する反射波計測手段とを含み、さらに各反射波の計測電力値がしきい値以下になったか否かを判断する手段と、出力電力を１段階大きくする順番が回ってきた一の高周波電源について、他の高周波電源の反射波の計測電力値がしきい値以下になった後、予め設定した時間経過したときに当該一の高周波電源の出力電力を１段階大きくするためのタイミング信号を前記電力制御部に与える手段とを備える。 （もっと読む）

処理チャンバに送達される電力を管理するためのシステムおよび方法を記載する。一実施形態において、初期期間中に、プラズマ処理チャンバへの電力の印加を開始する間に、電流が、プラズマ処理チャンバから引き出され、引き出される電流の量は、初期期間中に、初期期間中にプラズマ処理チャンバに印加される電力の量が増加するように、減少する。
一実施形態において、方法は、プラズマチャンバ内のアークを検出するステップと、該検出されたアークに応答して、アークを消弧するように、プラズマ処理チャンバから遠のくように電流を分流するステップとを含み、プラズマ処理チャンバへの電流の印加を開始するステップは、アークが消弧された後に生じる。
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【課題】複数の計測器に対してプラズマ装置からのノイズ対策を構築し、精度の良いモニタ結果を得る。
【解決手段】プラズマ計測器は、各計測器類が収納された筐体３０と各計測器類を制御するパソコン５０等からなる。チャージアップ用センサ２１の出力電圧の測定を行う場合、入力電圧を降圧する抵抗素子と、プラズマ装置１０から誘導されるＡＣ信号を取り除くフィルタと、その出力電圧を電圧計で測定する。ＵＶ用センサ２２の出力電流の測定を行う場合、シールド線で接続され、センサ２２に印加する電圧源と、センサ２２からの入力電流はインダクタを介して電流計で測定する。電圧計や電流計は、パソコン５０からＧＰＩＢケーブル５１を介して制御され、各測定値はリアルタイムでパソコン５０のモニタに表示される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面波共振と表面波共振以外の共振との判別を容易に行うことができるプラズマ密度測定子、プラズマ密度測定装置、プラズマ処理装置、およびプラズマ密度測定方法を提供する。
【解決手段】一端が閉塞された筒状を呈する管部と、前記管部の内部であって、前記閉塞された端部の側に設けられた高周波信号の送受信を行う送受信部と、前記管部の内部に設けられ、前記送受信部と電気的に接続された伝送部と、前記伝送部と前記管部の内壁との間に設けられ、前記管部の軸方向長さ寸法よりも短い長さ寸法を有し、高周波エネルギーを吸収する第１の吸収体と、前記管部の外周面に設けられ、前記管部の軸方向長さ寸法よりも短い長さ寸法を有し、高周波エネルギーを吸収する第２の吸収体と、を備えたことを特徴とするプラズマ密度測定子が提供される。 （もっと読む）

【課題】 真空状態にある容器の内部で、直流放電によりプラズマを発生させた場合であっても、プラズマの状態変化を、精度良くかつ高い自由度で検出できる技術を提供する。
【解決手段】 アノード１２およびカソード１３の間となるプラズマ処理容器１１の側壁の外面に、磁気センサ２１を設け、プラズマ処理容器１１のプラズマ生成空間に生成したプラズマＰの流れの周囲に発生する磁界を計測する。磁界変化量生成部は、磁気センサ２１で計測された磁界の初期値と当該初期値から変化した変化値との差分である、電磁界の変化量を生成し、プラズマ変化情報としてプラズマ処理制御部１７に出力する。プラズマ処理制御部１７は、取得したプラズマ変化情報に基づいて、例えば、プラズマ生成用電源１４の印加電圧を変化させる等の制御を行う。 （もっと読む）

【課題】アーク放電の発生を防止し、かつ、パルスピーク電流値をできるだけ大きくしてスパッタ粒子のイオン化を促進できるスパッタ装置を提供すること。
【解決手段】複数のスパッタ蒸発源に直流パルス電力を供給する電源装置を備えたスパッタ装置において、電源装置は、１台の直流電源と、電力貯蔵部に蓄えた電力を各スパッタ蒸発源毎に分配供給するパルス分配供給手段と、前記複数のスパッタ蒸発源の少なくとも一つに設けられて当該スパッタ蒸発源に流れる電流を測定するための電流センサと、該電流センサの出力に基づいて当該スパッタ蒸発源に流れるパルスピーク電流検出値を求めるパルスピーク電流検出部と、該パルスピーク電流検出部で検出したパルスピーク電流検出値がアーク放電を発生させないためのパルスピーク電流目標値を超えないように前記直流電源の出力を制御するパルスピーク電流制御部とを備える。 （もっと読む）