ウェット処理用キャリア及びこれを備えるウェット処理装置
【課題】ウェハへの液滴の落下を抑制し、ウェハに直線状の欠陥が形成されてしまうことを抑制することが可能なウェット処理用キャリアを提供する。
【解決手段】ウェット処理用キャリア１は、搬送装置のアームに固定される固定部４と、固定部４から垂下するように該固定部４に設けられ、複数のウェハ１０が搭載されるウェハ搭載器具（ボート）６を吊り下げ支持する吊り下げ支持部（チャック）２３とを備える。ウェット処理用キャリア１は、固定部４をアームに対して固定する止着部材（ボルト）８を備える。固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、止着部材８の頭部を収容する収容凹部６０が形成されている。
【解決手段】ウェット処理用キャリア１は、搬送装置のアームに固定される固定部４と、固定部４から垂下するように該固定部４に設けられ、複数のウェハ１０が搭載されるウェハ搭載器具（ボート）６を吊り下げ支持する吊り下げ支持部（チャック）２３とを備える。ウェット処理用キャリア１は、固定部４をアームに対して固定する止着部材（ボルト）８を備える。固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、止着部材８の頭部を収容する収容凹部６０が形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェット処理用キャリア及びこれを備えるウェット処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェット処理装置は、例えば、半導体ウェハ（以下、単にウェハ）に対するウェット処理が行われるウェット処理槽（例えば、複数の処理槽）と、複数のウェハが搭載されるボート（ウェハ搭載器具）を保持するウェット処理用キャリアと、を備える。
【０００３】
例えば、複数のウェハが搭載されたボートを保持したウェット処理用キャリアを複数のウェット処理槽へと順次に移載し、ボート内のウェハを各ウェット処理槽へ順次に浸漬することにより、これらウェハに対して一連のウェット処理を行うことができる。
【０００４】
なお、ウェット処理槽としては、例えば、ウェハのエッチングを行うエッチング処理槽、ウェハの表面に形成されているレジストを剥離する剥離処理槽、ウェハの洗浄を行う洗浄槽などが含まれる。
【０００５】
図４は一般的なウェット処理装置１００の平面図、図５はウェット処理装置１００が備えるウェット処理用キャリア１２０及びその周辺を示す斜視図である。
【０００６】
図４に示すように、ウェット処理装置１００は、例えば、ウェット処理装置１００の外部でのウェハ１０（図５）の搬送用のキャリア（図示略）が配置されるロード部８１と、そのキャリア内のウェハ１０をウェット処理用のボート６（図５）に移し替える作業が行われる移替部８２と、を備える。更に、ウェット処理装置１００は、処理液の種類や洗浄方法にそれぞれ特色のある複数の処理槽（例えば、図４に示すように、第１乃至第８処理槽１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８）を備える。更に、ウェット処理装置１００は、ウェハ１０を乾燥させる処理を行う乾燥部８３を備える。更に、ウェット処理装置１００は、ボート６内のウェハ１０を上述の外部搬送用のキャリア（図示略）に移し替える作業が行われる移替部８４と、ウェット処理装置１００からのキャリアの搬出が行われるアンロード部８５と、を備える。更に、ウェット処理装置１００は、複数の移載ロボット２と、各移載ロボット２のアーム３に固定されるウェット処理用キャリア１２０と、を備える。
【０００７】
図５に示すように、ウェット処理用キャリア１２０は、例えば、一対の開閉部１２７を備えている。一方の開閉部１２７は、例えば、移載ロボット２のアーム３に固定される２つの固定部１２１と、各固定部１２１から垂下するように各固定部１２１に設けられ、ボート６を吊り下げ支持するチャック１２４と、からなる。
【０００８】
このうち固定部１２１は、固定板１２２と、チャックブロック１２３と、を備えて構成されている。固定板１２２とチャックブロック１２３との間にアーム３を挟んだ状態で、固定板１２２をボルト１２５によってチャックブロック１２３に対して固定することにより、これら固定板１２２及びチャックブロック１２３からなる固定部１２１がアーム３に固定されている。
【０００９】
また、チャックブロック１２３には、該チャックブロック１２３から垂下するように、チャック１２４が固定されている。チャック１２４は、その下部によってボート６を吊り下げ支持する。なお、ボート６には、例えば、複数枚のウェハ１０が、互いに平行となるよう縦置きで一列に搭載される。
【００１０】
また、移載ロボット２は、例えば、ウェット処理用キャリア１２０を支持する一対のアーム３と、この一対のアーム３を水平に支える支持部９１と、この支持部９１を上側に支え持つ支柱９２と、を備えて構成されている。支持部９１内には図示しない回転機構が備えられ、この回転機構により一対のアーム３をそれぞれ軸周りに回転させることにより、ウェット処理用キャリア１２０の上記一対の開閉部１２７がハの字に開いたり閉じたりする。この開閉動作により、ウェット処理用キャリア１２０のチャック１２４によってボート６の端部を放したり保持したりするようになっている。移載ロボット２は、更に、支柱９２を上下方向（図５の矢印Ｂ方向）、及び、横方向（図５の矢印Ａ方向）に移動させるための駆動機構（図示略）を備えている。
【００１１】
なお、ウェット処理用キャリア１２０が上述のように構成され、固定部１２１（固定板１２２及びチャックブロック１２３）がウェハ１０の上方に位置し、また、チャック１２４の上部がウェハ１０の斜め上方に位置することは、重量物であるウェハ１０を吊り下げ支持して移動させる必要上、避けがたい。
【００１２】
図６は一連のウェット処理の動作のうちの一部の動作を示すウェット処理装置１００の正面図である。図６は、例えば、第５処理槽１５乃至第８処理槽１８でこの順にウェット処理を行う一連の動作を示している。チャック１２４によりボート６を吊り下げ支持したウェット処理用キャリア１２０は、移載ロボット２によって、以下に説明するように順次に移動される。
【００１３】
先ず、ウェット処理用キャリア１２０のチャック１２４は、ウェハ１０が搭載されたボート６を該ボート６の両端を保持することによって吊り下げ支持している。このウェット処理用キャリア１２０が矢印Ｃに従って第５処理槽１５の上方に移動された後、矢印Ｄにおける下方に移動される。その結果、ボート６が第５処理槽１５内の処理液に沈められる。ボート６が第５処理槽１５の底に達すると、ウェット処理用キャリア１２０の一対の開閉部１２７が開動作されることによりチャック１２４がボート６を放す。次に、ウェット処理用キャリア１２０は、矢印Ｄにおける上方に移動され、第５処理槽１５の上方において所定の待機時間だけ待機する。待機時間の経過後、ウェット処理用キャリア１２０は、再び矢印Ｄにおける下方に移動され、チャック１２４が再びボート６の両端を保持する。次に、ウェット処理用キャリア１２０は、矢印Ｄにおける上方に移動され、ボート６が第５処理槽１５の処理液から引き上げられる。なお、ボート６に搭載されているウェハ１０は、処理液に浸っている間、該処理液により処理される。次に、ウェット処理用キャリア１２０は、矢印Ｅに従って第６処理槽１６の上方に移動される。以後は、第５処理槽１５での処理時と同様に、ウェット処理用キャリア１２０が矢印Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ、Ｉ、Ｊ、Ｋに従って移動されることにより、第６乃至第８処理槽１６〜１８での処理が順次に行われる。
【００１４】
なお、特許文献１には、基板洗浄用のキャリアチャックを全体的に丸みを帯びた形状とした構造が開示されている。
【００１５】
また、特許文献２には、基板洗浄にも使用できる基板用のキャリア（特許文献２では基板ロットの合成装置）のガイド支持部材の下面をテーパ形状とした構造が開示されている。
【００１６】
また、特許文献３には、半導体ウェハのウェット処理用のキャリアチャックが下方に向けて縮径するテーパ状に形成されている構造が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開平７−３２１０７９号公報
【特許文献２】特開２００４−５５６９６号公報
【特許文献３】特開２００３−２９７８０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
上述のようなウェット処理用キャリア１２０を用いてウェット処理を行うと、ウェハ１０の品種或いは工程に関係なく、ウェハ１０に直線状の欠陥が発見されていた。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
ウェハ１０に形成される直線状の欠陥の発生原因を究明すべく、本発明者が詳細な調査を行った結果、ウェット処理装置１００のウェット処理用キャリア１２０の固定部１２１（固定板１２２及びチャックブロック１２３）、ボルト１２５及びチャック１２４などに付着した処理液の液滴がウェハ１０上へ落下している事を発見した。
【００２０】
処理液の液滴は、例えば、ウェット処理の際に、処理槽１１〜１８から発生する蒸気がウェット処理用キャリア１２０に付着する結果として形成される。
【００２１】
ところで、上述のようなウェット処理用キャリア１２０のチャックブロック１２３の形状は、直線的で角があるのに加え、ボルト１２５が固定板１２２の板面から突出している。しかも、チャック１２４の上部も角（段差部）がある形状となっている。
【００２２】
ウェット処理用キャリア１２０は、このような形状であるため、該ウェット処理用キャリア１２０に液滴が付着したままとなりやすい。そして、この液滴が、ウェット処理用キャリア１２０の移動の際などに複数のチャック１２４の間に位置するウェハ１０に落下して該ウェハ１０に付着することにより、該ウェハ１０を汚染し、結果的に欠陥を発生させてしまう。特に、ウェット処理用キャリア１２０が横方向（図６の矢印Ｃ、Ｅ、Ｇ、Ｉ、Ｋ方向）に移動する際、或いは、ウェット処理用キャリア１２０が移動に伴い振動する際などに、液滴の落下が生じる。
【００２３】
詳細には、液滴は、例えば、鉛直面であるチャックブロック１２３の側面に沿って流れ落ちた後、その下方に位置するウェハ１０へ落下して該ウェハ１０の上部に付着し、さらにウェハ１０の面上を直線状に流れ落ちるため、直線状の欠陥が発生していた。
【００２４】
このような液滴の落下のメカニズムを図７及び図８を用いて説明する。図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はウェット処理用キャリア１２０の正面図、図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、ウェット処理用キャリア１２０の側面図である。このうち図７（ａ）及び図８（ａ）はウェット処理用キャリア１２０に液滴１４０（図７（ｂ））が付着していない状態を示す。図７（ｂ）及び図８（ｂ）はウェット処理用キャリア１２０に液滴１４０が付着している状態を示す。図７（ｃ）及び図８（ｃ）はウェット処理用キャリア１２０からの液滴１４０の落下態様の例を示す。
【００２５】
液滴１４０は、例えば、図７（ｂ）及び図８（ｂ）に示すように、ボルト１２５の頭部、固定板１２２の下側の角、固定板１２２の水平な下面などに付着する。更に、図７（ｂ）に示すように、チャックブロック１２３の下側の角、チャック１２４の上端に形成されている段差部１２４ａなどにも液滴１４０は付着する。
【００２６】
また、図７（ｃ）及び図８（ｃ）は、液滴１４０が付着しているウェット処理用キャリア１２０が図７（ｃ）の矢印Ｌ方向に移動する際に、その液滴１４０がウェット処理用キャリア１２０から落下する状態を示す。
【００２７】
液滴１４０は、例えば図７（ｃ）及び図８（ｃ）に示すような飛跡１４１で落下し、ウェハ１０の上部に付着した後、上述のような直線状の欠陥をウェハ１０に形成する。
【００２８】
このように、上述したような構造のウェット処理用キャリア１２０では、ウェハ１０への液滴の落下を好適に抑制することは困難だった。
【００２９】
なお、特許文献１〜３は、いずれもウェハの上方の構造体からの液滴の落下を抑制する構造にはなっていない。すなわち、特許文献１のキャリアチャック、特許文献２のガイド支持部材、及び特許文献３のキャリアチャックは、いずれも、ウェハの斜め上方に配置されている。このため、特許文献１〜３の構造では、いずれも、ウェハ上方に位置する構造体に付着した液滴が、構造体の移動或いは振動に伴いウェハに落下して該ウェハに付着してしまうことを抑制することが困難である。
【００３０】
そこで、本発明は、搬送装置のアームに固定される固定部と、前記固定部から垂下するように該固定部に設けられ、複数のウェハが搭載されるウェハ搭載器具を吊り下げ支持する吊り下げ支持部と、前記固定部を前記アームに対して固定する止着部材と、を備え、前記固定部の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、前記止着部材の頭部を収容する収容凹部が形成されていることを特徴とするウェット処理用キャリアを提供する。
【００３１】
このウェット処理用キャリアによれば、ボルトなどの止着部材の頭部を収容凹部内に収容できるので、この頭部が処理液の蒸気に曝されにくくなるため、この蒸気により止着部材の頭部に液滴が形成されてしまうことを抑制できる。また、止着部材の頭部に液滴が形成され、その液滴が頭部から落下又は流下したとしても、その液滴は、一旦、収容凹部の下部における内周面で受けられる。よって、その液滴が頭部からウェハへと落下してしまうこと、或いは、その液滴がウェット処理用キャリアの何れかの部位へ流下した後、その部位からウェハへと落下してしまうことを抑制できる。このように、ウェハへの液滴の落下を抑制することができるため、ウェハに上述のような直線状の欠陥が発生してしまうことも抑制することができる。
【００３２】
また、本発明は、本発明のウェット処理用キャリアと、前記搬送装置と、前記ウェハに対するウェット処理が行われるウェット処理槽と、を備えることを特徴とするウェット処理装置を提供する。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、ウェハへの液滴の落下を好適に抑制することができ、ウェハに直線状の欠陥が発生してしまうことを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】実施形態に係るウェット処理用キャリアの側面図である。
【図２】実施形態に係るウェット処理用キャリアの正面図である。
【図３】実施形態に係るウェット処理用キャリアを備えるウェット処理装置の平面図である。
【図４】一般的なウェット処理装置の平面図である。
【図５】一般的なウェット処理装置が備えるウェット処理用キャリア及びその周辺を示す斜視図である。
【図６】一連のウェット処理の動作のうちの一部の動作を示す、一般的なウェット処理装置の正面図である。
【図７】一般的なウェット処理用キャリアの正面図である。
【図８】一般的なウェット処理用キャリアの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様の構成要素には同一の符号を付し、適宜に説明を省略する。
【００３６】
図１は実施形態に係るウェット処理用キャリア１の側面図、図２はウェット処理用キャリア１の正面図である。なお、図１（ａ）及び図２（ａ）はウェット処理用キャリア１に液滴５が付着していない状態を示す。図１（ｂ）及び図２（ｂ）はウェット処理用キャリア１に液滴５が付着している状態を示す。図１（ｃ）及び図２（ｃ）は液滴５がウェット処理用キャリア１に沿って流下する様子を示す。また、図３は本実施形態に係るウェット処理用キャリア１を備えるウェット処理装置８０の平面図である。
【００３７】
本実施形態に係るウェット処理用キャリア１は、搬送装置（例えば、移載ロボット２）のアーム３に固定される固定部４と、固定部４から垂下するように該固定部４に設けられ、複数のウェハ１０が搭載されるウェハ搭載器具（例えば、ボート６）を吊り下げ支持する吊り下げ支持部（例えば、チャック２３）と、固定部４をアーム３に対して固定する止着部材（例えば、ボルト８）と、を備える。固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、止着部材（例えば、ボルト８）の頭部を収容する収容凹部６０が形成されている。また、本実施形態に係るウェット処理装置８０は、本実施形態に係るウェット処理用キャリア１と、搬送装置（例えば、移載ロボット２）と、ウェハ１０に対するウェット処理が行われるウェット処理槽（例えば、第１乃至第８処理槽１１〜１８）と、を備える。以下、詳細に説明する。
【００３８】
先ず、本実施形態に係るウェット処理用キャリア１の構成を説明する。
【００３９】
図１及び図２に示すように、ウェット処理用キャリア１は、例えば、移載ロボット２（図３）のアーム３（図３、図２）に固定される固定部４と、この固定部４から垂下するように該固定部４に設けられボート６を吊り下げ支持するチャック２３と、固定部４をアーム３に対して固定するボルト８と、を備えている。
【００４０】
このうち固定部４は、固定板２１と、チャックブロック２２と、を備えて構成されている。例えば、図２に示すように、固定板２１とチャックブロック２２には、それぞれ半円筒状の凹部２１ａ、２２ａが形成され、これら凹部２１ａ、２２ａを相互に位置合わせすると、アーム３の直径よりも僅かに小さい内径の円筒形状が形成されるようになっている。そして、この円筒形状内にアーム３が位置するように、固定板２１とチャックブロック２２との間にアーム３を挟んだ状態で、固定板２１をボルト８によってチャックブロック２２に対して固定することにより、これら固定板２１及びチャックブロック２２からなる固定部４がアーム３に固定されている。
【００４１】
ボート６には、複数枚のウェハ１０が、例えば、互いに平行となるよう縦置きで一列に搭載される。チャック２３は、その下部によってボート６を保持し、該ボート６を吊り下げ支持する。なお、チャック２３がボート６を保持する機構は、周知であるため、説明を省略する。
【００４２】
図３に示すように、各移載ロボット２には、例えば、２つずつのウェット処理用キャリア１が設けられている。また、各移載ロボット２は、例えば、それぞれ水平方向に延在する２本のアーム３を、互いに平行な配置で備えている。図１及び図２に示すように、ウェット処理用キャリア１は、例えば、左右に２つ並び、且つ、前後にも２つ並ぶ、合計４つの固定部４を備えている。このため、例えば、１本のアーム３に、例えば、４つずつの固定部４（１つのウェット処理用キャリア１につき２つの固定部４）が固定されている。つまり、１つの移載ロボット２には、例えば、合計８つの固定部４が固定されている。そして、１つの移載ロボット２に対し、例えば、合計８つのチャック２３が、それぞれ対応する固定部４から垂下するように設けられている。
【００４３】
ウェット処理用キャリア１は、一対の開閉部２７からなる。このうち一方の開閉部２７は、移載ロボット２が備える２本のアーム３のうちの一方のアーム３に設けられ、他方の開閉部２７は、他方のアーム３に設けられている。一方のアーム３に設けられている開閉部２７は、２つの固定部４と、各固定部４から垂下するチャック２３（つまり、計２つのチャック２３）と、からなる。この一方の開閉部２７が備える２つの固定部４は、図１に示すように、左右対称形に形成されている。他方の開閉部２７（他方のアーム３に設けられている開閉部２７）も、一方の開閉部２７と同様に構成されている。なお、図２に示すように、一方の開閉部２７と他方の開閉部２７とは、互いに前後対称形に形成されている。
【００４４】
ここで、本実施形態の場合も、移載ロボット２の構成は、図５を用いて説明した移載ロボット２と同様である。すなわち、移載ロボット２は、例えば、一対のアーム３を水平に支える支持部９１と、この支持部９１を上側に支え持つ支柱９２と、を備えて構成されている。支持部９１内には図示しない回転機構が備えられ、この回転機構により一対のアーム３をそれぞれ軸周りに回転させることにより、ウェット処理用キャリア１の上記一対の開閉部２７がハの字に開いたり閉じたりする。この開閉動作により、ウェット処理用キャリア１のチャック２３によってボート６の端部を放したり保持したりするようになっている。移載ロボット２は、更に、支柱９２を上下方向、及び、横方向に移動させるための駆動機構（図示略）を備えている。
【００４５】
ウェット処理用キャリア１の固定部４は、全体的に流面形状に形成されている。すなわち、例えば、固定部４の上面には、上側に向けて凸となる曲面４１が形成されている。また、固定部４の角の部分はそれぞれ面取りされて、丸みを帯びた形状、すなわち、Ｒ形状部５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９とされている。更に、固定部４において、後述する各収容凹部６０よりも下側の部位は、該固定部４とチャック２３との境界部６５に向けて、例えばテーパ状に徐々に縮径する縮径部６４とされている。
【００４６】
また、固定部４の表面には、ボルト８の頭部を収容する収容凹部６０が形成されている。すなわち、収容凹部６０は、ボルト８の頭部よりも深く形成され、該収容凹部６０内に該頭部が収まるようになっている。つまり、ボルト８の頭部が固定部４の表面よりも外側に突出しないようになっている。なお、収容凹部６０は、固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、形成されている。本実施形態の場合、収容凹部６０は、具体的には、例えば、固定部４の表面のうち、鉛直方向に対して平行な面に形成されている。
【００４７】
収容凹部６０の径は、ボルト８の頭部の外周面と、収容凹部６０の内周壁と、の間にクリアランス６１が生じる寸法に設定されている。クリアランス６１は、ボルト８の頭部を囲む全周に存在する。このクリアランス６１は、ボルト８の締結作業時における工具の動作範囲を確保するのに必要であるほか、例えば、ボルト８などに付着した液滴５（図１（ｂ）及び図２（ｂ）参照）を流下案内する（流下する際に案内する）機能を持つ。この収容凹部６０の外周形状は、例えば、円形である。
【００４８】
ボルト８は、チャックブロック２２に対し、例えば、水平方向に螺入されている。また、１つの固定板２１は、複数（例えば、図１（ａ）に示すように、４つ）のボルト８によって、チャックブロック２２、ひいてはアーム３に対して固定されている。各ボルト８は、例えば、図１（ａ）に示すように、上下方向に２列、水平方向にも２列となる配置とされている。
【００４９】
これらボルト８のうち、上下に並ぶ２つのボルト８に対応する収容凹部６０は、固定板２１の表面に形成されている接続溝６２を介して相互に接続されている。なお、接続溝６２は、例えば、その長手方向が鉛直方向に沿うように形成されている。
【００５０】
更に、固定板２１の表面には、収容凹部６０のうちのいずれかを該固定板２１の表面まで段差無く接続する無段差接続溝６３が形成されている。この無段差接続溝６３は、具体的には、例えば、上下に並ぶ２つのボルト８に対応する収容凹部６０のうち、下側の収容凹部６０を固定板２１の表面まで段差無く接続する。
【００５１】
例えば、この無段差接続溝６３の底面は、平坦に形成され、且つ、鉛直方向に沿って形成されている。ここで、固定部４において、少なくとも各収容凹部６０の下側に位置する部位は、上述のような縮径部６４とされている。この縮径部６４は、固定部４において少なくとも各収容凹部６０の下側に位置する下面が、境界部６５に向けて、オーバーハングした状態で傾斜するような形状に形成されている。このため、無段差接続溝６３は、その底面が平坦で、かつ鉛直方向に沿って形成されていても、下方に向けて次第に浅くなり、該無段差接続溝６３の下端部は固定部４の表面へと無段差で接続されている。
【００５２】
なお、以上において、上下に並ぶ一対の収容凹部６０におけるクリアランス６１に対応する部分と、これらを相互に接続する接続溝６２と、下側の収容凹部６０の更に下側に位置する無段差接続溝６３と、が一連の溝形状を構成している。そして、この一連の溝形状により、ボルト８や固定部４の表面に付着した液滴５（図１（ｂ）、図２（ｂ）参照）をスムーズに流下案内するようになっている。
【００５３】
なお、固定部４は、上述のように、Ｒ形状部５３、５４、５７、５８を備える。つまり、固定部４において、該固定部４とチャック２３との境界部６５の直上の部分（Ｒ形状部５３、５４、５７、５８）は、面取り形状に形成されている、と言える。
【００５４】
また、チャック２３において、該チャック２３と固定部４との境界部６５の直下の部分は、下方に向けて徐々に拡径する拡径部７１とされている。更に、チャック２３において、拡径部７１と、該拡径部７１の下側の部分を構成する下部７２とは、連続的な曲面７３を介して、段差無く相互に接続されている。また、チャック２３の下部７２は、径が一定である。このため、チャック２３は、少なくとも、該チャック２３と固定部４との境界部６５から、ボート６に搭載されたウェハ１０の下端と対応する高さの部分に亘って、段差無く形成されている、と言える。
【００５５】
また、図１及び図２に示すように、固定部４の少なくとも一部分は、チャック２３により保持されているボート６に搭載されているウェハ１０の直上に位置するようになっている。
【００５６】
次に、本実施形態に係るウェット処理装置８０の構成を説明する。
【００５７】
図３に示すように、本実施形態に係るウェット処理装置８０は、図４に示すウェット処理装置１００のウェット処理用キャリア１２０に代えて、本実施形態に係るウェット処理用キャリア１を備える点でのみ、ウェット処理装置１００と相違し、その他の点では、ウェット処理用キャリア１２０と同様に構成されている。
【００５８】
すなわち、ウェット処理装置８０は、例えば、ウェット処理装置８０の外部でのウェハ１０の搬送用のキャリア（図示略）が配置されるロード部８１と、そのキャリア内のウェハ１０をウェット処理用のボート６に移し替える作業が行われる移替部８２と、を備える。更に、ウェット処理装置８０は、処理液の種類や洗浄方法にそれぞれ特色のある複数の処理槽（例えば、図３に示すように、第１乃至第８処理槽１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８）を備える。更に、ウェット処理装置８０は、ウェハ１０を乾燥させる処理を行う乾燥部８３を備える。更に、ウェット処理装置８０は、ボート６内のウェハ１０を上述の外部搬送用のキャリア（図示略）に移し替える作業が行われる移替部８４と、ウェット処理装置８０からのキャリアの搬出が行われるアンロード部８５と、を備える。更に、ウェット処理装置８０は、複数の移載ロボット２と、各移載ロボット２のアーム３に固定されるウェット処理用キャリア１と、を備える。
【００５９】
次に、動作を説明する。
【００６０】
本実施形態の場合、ウェット処理時の移載ロボット２によるウェット処理用キャリア１の移動については、図６を用いて説明した技術と同様であるため、その説明を省略する。図１（ｃ）及び図２（ｃ）は、ウェット処理用キャリア１が図２（ｃ）の矢印Ｍ方向に移動する際の、液滴５の挙動の一例を示す図である。
【００６１】
本実施形態の場合、上述のような形状のウェット処理用キャリア１を用いるため、ウェット処理用キャリア１に付着した液滴５が、例えば、図１（ｃ）及び図２（ｃ）に示すような軌跡７でウェット処理用キャリア１に沿って流下する結果、ウェハ１０への液滴５の落下を好適に抑制することができる。
【００６２】
本実施形態の場合、固定部４は全体的に流面形状に形成され、また、固定部４の表面には、収容凹部６０、接続溝６２及び無段差接続溝６３が形成されているので、液滴５が、固定部４の特定の部位に局所的に溜まったままとなってしまうことを好適に抑制できる。このため、液滴５が固定部４から離れウェハ１０に向けて落下してしまうことも抑制することができる。
【００６３】
すなわち、固定部４に付着した液滴５は、例えば、上記のような形状の固定部４の収容凹部６０、接続溝６２、無段差接続溝６３、縮径部６４などに沿って、境界部６５へ向けてスムーズに流下案内される。このように、流面形状の固定部４の表面、収容凹部６０、接続溝６２、無段差接続溝６３などに沿って液滴５が流れる結果、平面的にはウェット処理用キャリア１の隅に位置する各チャック２３に液滴５の流れを集中させることができる。更に、チャック２３において、チャック２３と固定部４との境界部６５の直下の部分（拡径部７１、曲面７３）は、段差のない連続的な面となっているので、液滴５は、固定部４からチャック２３の下部７２へとスムーズに伝い降りることができる。
【００６４】
より詳細な挙動を説明すると、ボルト８の頭部が収容凹部６０内に収容されているので、処理液の蒸気によりボルト８の頭部に液滴５が形成されてしまうことを抑制できる。また、ボルト８の頭部に液滴５が形成され、その液滴５がボルト８から落下したとしても、その液滴５は、一旦、収容凹部６０の下部における内周面で受けられるため、その液滴５が該頭部からウェハ１０へと落下してしまうことを抑制できる。よって、ウェハ１０への液滴５の落下を抑制することができる。そして、ボルト８から収容凹部６０の下部における内周面へ落下した液滴５は、例えば、接続溝６２、収容凹部６０、無段差接続溝６３により、この順に流下案内されて、固定部４の表面へ導かれる。更に、この液滴５は、例えば、固定部４において収容凹部６０の下側に位置する下面（縮径部６４の下面）により、境界部６５へ向けて流下案内される。
【００６５】
このように境界部６５へ向けて流下案内された液滴５は、例えば、固定部４における境界部６５の直上の部分、すなわち、面取りされているＲ形状部５３、５４、５７、５８から、チャック２３へとスムーズに流下案内される。
【００６６】
また、チャック２３において、境界部６５の直下の部分は下方に向けて徐々に拡径する拡径部７１とされ、この拡径部７１と下部７２とは連続的な曲面７３を介して段差無く相互に接続されているので、液滴５は、チャック２３の拡径部７１から下部７２へとスムーズに流下案内される。液滴５は、更に、このチャック２３の下部７２に沿って流下案内された後、例えば、チャック２３の下端から滴り落ちる。
【００６７】
液滴５は、例えばこのように挙動するため、移載ロボット２の横方向の移動や振動に伴いウェット処理用キャリア１から液滴５が落下しまうことを抑制し、この液滴５がウェハ１０へ付着して該ウェハ１０を汚染してしまうことも好適に抑制することができる。
【００６８】
なお、本実施形態のウェット処理用キャリア１を用いて本発明者が実際にウェット処理を行った実験では、ウェハ１０に液滴５が付着せず、ウェハ１０が汚染されない、という効果を確認できた。
【００６９】
以上のような実施形態によれば、ウェット処理用キャリア１は、移載ロボット２のアーム３に固定される固定部４と、固定部４から垂下するように該固定部４に設けられ、複数のウェハ１０が搭載されるボート６を吊り下げ支持するチャック２３と、固定部４をアーム３に対して固定するボルト８と、を備え、固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、ボルト８の頭部を収容する収容凹部６０が形成されているので、ボルト８の頭部を収容凹部６０内に収容でき、処理液の蒸気によりボルト８の頭部に液滴５が形成されてしまうことを抑制できる。また、ボルト８の頭部に液滴５が形成され、その液滴５が落下又は流下したとしても、その液滴５は、一旦、収容凹部６０の下部における内周面で受けられる。このため、その液滴５が該頭部からウェハ１０へと落下してしまうこと、或いは、その液滴５がウェット処理用キャリア１の何れかの部位へ流下した後、その部位からウェハ１０へと落下してしまうことを、抑制できる。このように、ウェハ１０への液滴５の落下を抑制することができるため、ウェハ１０に直線状の欠陥が発生してしまうことも抑制することができる。
【００７０】
収容凹部６０の径は、ボルト８の頭部の外周面と、収容凹部６０の内周壁と、の間にクリアランス６１が生じる寸法に設定されているので、このクリアランス６１を介して、液滴５を流下させることができる。
【００７１】
また、ウェット処理用キャリア１は、複数のボルト８を備え、複数のボルト８のうちの２つ以上（例えば、２つ）のボルト８に対応する収容凹部６０が、固定部４の表面に形成されている接続溝６２を介して相互に接続されているので、この接続溝６２を介して、液滴５をスムーズに流すことができる。具体的には、例えば、接続溝６２は、鉛直方向に沿って形成されているので、この接続溝６２を介して、液滴５をよりスムーズに流下案内することができる。
【００７２】
また、固定部４の表面には、収容凹部６０のうちのいずれか（例えば、接続溝６２を介して相互に接続されている上下一対の収容凹部６０のうちの下側の収容凹部６０））を固定部４の表面まで段差無く接続する無段差接続溝６３が形成されている。この無段差接続溝６３により、収容凹部６０内の液滴５をスムーズに固定部４の表面へと導くことができる。
【００７３】
また、固定部４において、少なくとも収容凹部６０の下側に位置する下面（例えば、縮径部６４の下面）は、該固定部４とチャック２３との境界部６５に向けて傾斜しているので、固定部４の表面の液滴５を、この下面によって、チャック２３に集中するように流下案内することができる。より具体的には、例えば、固定部４において、少なくとも収容凹部６０の下側に位置する部位である縮径部６４は、下方に向けてテーパ状に縮径しているので、この縮径部６４の全周に亘り、液滴５をチャック２３に集中するように流下案内することができる。
【００７４】
また、固定部４において、該固定部４とチャック２３との境界部６５の直上の部分（Ｒ形状部５３、５４、５７、５８）は、面取り形状とされて丸みを帯びているので、液滴５は、固定部４からチャック２３へとスムーズに伝い下りることができる。
【００７５】
また、チャック２３において、該チャック２３と固定部４との境界部６５の直下の部分は、下方に向けて徐々に拡径する拡径部７１とされている。この拡径部７１は、無段差であるため、この拡径部７１に局所的に液滴５が溜まってしまうことを抑制できるとともに、固定部４から伝い下りてきた液滴５をスムーズにチャック２３の下部７２へと流下案内することができる。
【００７６】
更に、チャック２３において、拡径部７１と、該拡径部７１の下側の部分である下部７２とは、連続的な曲面７３を介して段差無く相互に接続されているので、液滴５を拡径部７１から下部７２へとスムーズに流下案内することができる。
【００７７】
しかも、チャック２３は、少なくとも、該チャック２３と固定部４との境界部６５から、ボート６に搭載されたウェハ１０の下端と対応する高さの部分に亘って、段差無く形成されているので、ウェハ１０の下端と対応する高さまで、液滴５をスムーズに流下案内することができる。
【００７８】
また、固定部４の角部（Ｒ形状部５０〜５９）は丸みを帯びているので、その角部に局所的に液滴５が溜まったりすることを抑制できる。
【００７９】
しかも、固定部４は、その全体が流面形状に形成されているので、局所的に液滴５が溜まったりすることを、固定部４の全体に亘って抑制することができるとともに、固定部４は、その全体に亘って、液滴５をスムーズに流下案内することができる。
【００８０】
このように、移載ロボット２の移動や振動に伴いウェット処理用キャリア１から液滴５が落下してしまうことを抑制し、この液滴５がウェハ１０へ付着して該ウェハ１０を汚染してしまうことも好適に抑制することができる。よって、ウェハ１０に直線状の欠陥が発生してしまうことを抑制できるため、ウェハ１０の歩留まりを向上させ、ウェハ１０のコストダウンを図ることもできる。
【００８１】
なお、上記の実施形態では、止着部材としてボルト８を用いた例を説明したが、ボルト８以外の止着部材（例えば、ピンなど）により固定部４をアーム３に対して固定するようにしても良い。
【００８２】
また、収容凹部６０が円形である例を説明したが、収容凹部６０は、例えば、楕円形（例えば、縦長の楕円形）などでも良い。また、接続溝６２及び無段差接続溝６３が鉛直方向に沿って形成されている例を説明したが、接続溝６２及び無段差接続溝６３は、それぞれ鉛直方向に対して傾斜する方向に沿って形成されていても良い。
【符号の説明】
【００８３】
１ ウェット処理用キャリア
２ 移載ロボット
３ アーム
４ 固定部
５ 液滴
６ ボート
７ 液滴の軌跡
８ ボルト
１０ ウェハ
１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８ 処理槽
２１ 固定板
２１ａ 凹部
２２ チャックブロック
２２ａ 凹部
２３ チャック
２７ 開閉部
４１ 曲面
５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９ Ｒ形状部
６０ 収容凹部
６１ クリアランス
６２ 接続溝
６３ 無段差接続溝
６４ 縮径部
６５ 境界部
７１ 拡径部
７２ 下部
７３ 曲面
８０ ウェット処理装置
８１ ロード部
８２ 移替部
８３ 乾燥部
８４ 移替部
８５ アンロード部
９１ 支持部
９２ 支柱
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェット処理用キャリア及びこれを備えるウェット処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェット処理装置は、例えば、半導体ウェハ（以下、単にウェハ）に対するウェット処理が行われるウェット処理槽（例えば、複数の処理槽）と、複数のウェハが搭載されるボート（ウェハ搭載器具）を保持するウェット処理用キャリアと、を備える。
【０００３】
例えば、複数のウェハが搭載されたボートを保持したウェット処理用キャリアを複数のウェット処理槽へと順次に移載し、ボート内のウェハを各ウェット処理槽へ順次に浸漬することにより、これらウェハに対して一連のウェット処理を行うことができる。
【０００４】
なお、ウェット処理槽としては、例えば、ウェハのエッチングを行うエッチング処理槽、ウェハの表面に形成されているレジストを剥離する剥離処理槽、ウェハの洗浄を行う洗浄槽などが含まれる。
【０００５】
図４は一般的なウェット処理装置１００の平面図、図５はウェット処理装置１００が備えるウェット処理用キャリア１２０及びその周辺を示す斜視図である。
【０００６】
図４に示すように、ウェット処理装置１００は、例えば、ウェット処理装置１００の外部でのウェハ１０（図５）の搬送用のキャリア（図示略）が配置されるロード部８１と、そのキャリア内のウェハ１０をウェット処理用のボート６（図５）に移し替える作業が行われる移替部８２と、を備える。更に、ウェット処理装置１００は、処理液の種類や洗浄方法にそれぞれ特色のある複数の処理槽（例えば、図４に示すように、第１乃至第８処理槽１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８）を備える。更に、ウェット処理装置１００は、ウェハ１０を乾燥させる処理を行う乾燥部８３を備える。更に、ウェット処理装置１００は、ボート６内のウェハ１０を上述の外部搬送用のキャリア（図示略）に移し替える作業が行われる移替部８４と、ウェット処理装置１００からのキャリアの搬出が行われるアンロード部８５と、を備える。更に、ウェット処理装置１００は、複数の移載ロボット２と、各移載ロボット２のアーム３に固定されるウェット処理用キャリア１２０と、を備える。
【０００７】
図５に示すように、ウェット処理用キャリア１２０は、例えば、一対の開閉部１２７を備えている。一方の開閉部１２７は、例えば、移載ロボット２のアーム３に固定される２つの固定部１２１と、各固定部１２１から垂下するように各固定部１２１に設けられ、ボート６を吊り下げ支持するチャック１２４と、からなる。
【０００８】
このうち固定部１２１は、固定板１２２と、チャックブロック１２３と、を備えて構成されている。固定板１２２とチャックブロック１２３との間にアーム３を挟んだ状態で、固定板１２２をボルト１２５によってチャックブロック１２３に対して固定することにより、これら固定板１２２及びチャックブロック１２３からなる固定部１２１がアーム３に固定されている。
【０００９】
また、チャックブロック１２３には、該チャックブロック１２３から垂下するように、チャック１２４が固定されている。チャック１２４は、その下部によってボート６を吊り下げ支持する。なお、ボート６には、例えば、複数枚のウェハ１０が、互いに平行となるよう縦置きで一列に搭載される。
【００１０】
また、移載ロボット２は、例えば、ウェット処理用キャリア１２０を支持する一対のアーム３と、この一対のアーム３を水平に支える支持部９１と、この支持部９１を上側に支え持つ支柱９２と、を備えて構成されている。支持部９１内には図示しない回転機構が備えられ、この回転機構により一対のアーム３をそれぞれ軸周りに回転させることにより、ウェット処理用キャリア１２０の上記一対の開閉部１２７がハの字に開いたり閉じたりする。この開閉動作により、ウェット処理用キャリア１２０のチャック１２４によってボート６の端部を放したり保持したりするようになっている。移載ロボット２は、更に、支柱９２を上下方向（図５の矢印Ｂ方向）、及び、横方向（図５の矢印Ａ方向）に移動させるための駆動機構（図示略）を備えている。
【００１１】
なお、ウェット処理用キャリア１２０が上述のように構成され、固定部１２１（固定板１２２及びチャックブロック１２３）がウェハ１０の上方に位置し、また、チャック１２４の上部がウェハ１０の斜め上方に位置することは、重量物であるウェハ１０を吊り下げ支持して移動させる必要上、避けがたい。
【００１２】
図６は一連のウェット処理の動作のうちの一部の動作を示すウェット処理装置１００の正面図である。図６は、例えば、第５処理槽１５乃至第８処理槽１８でこの順にウェット処理を行う一連の動作を示している。チャック１２４によりボート６を吊り下げ支持したウェット処理用キャリア１２０は、移載ロボット２によって、以下に説明するように順次に移動される。
【００１３】
先ず、ウェット処理用キャリア１２０のチャック１２４は、ウェハ１０が搭載されたボート６を該ボート６の両端を保持することによって吊り下げ支持している。このウェット処理用キャリア１２０が矢印Ｃに従って第５処理槽１５の上方に移動された後、矢印Ｄにおける下方に移動される。その結果、ボート６が第５処理槽１５内の処理液に沈められる。ボート６が第５処理槽１５の底に達すると、ウェット処理用キャリア１２０の一対の開閉部１２７が開動作されることによりチャック１２４がボート６を放す。次に、ウェット処理用キャリア１２０は、矢印Ｄにおける上方に移動され、第５処理槽１５の上方において所定の待機時間だけ待機する。待機時間の経過後、ウェット処理用キャリア１２０は、再び矢印Ｄにおける下方に移動され、チャック１２４が再びボート６の両端を保持する。次に、ウェット処理用キャリア１２０は、矢印Ｄにおける上方に移動され、ボート６が第５処理槽１５の処理液から引き上げられる。なお、ボート６に搭載されているウェハ１０は、処理液に浸っている間、該処理液により処理される。次に、ウェット処理用キャリア１２０は、矢印Ｅに従って第６処理槽１６の上方に移動される。以後は、第５処理槽１５での処理時と同様に、ウェット処理用キャリア１２０が矢印Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ、Ｉ、Ｊ、Ｋに従って移動されることにより、第６乃至第８処理槽１６〜１８での処理が順次に行われる。
【００１４】
なお、特許文献１には、基板洗浄用のキャリアチャックを全体的に丸みを帯びた形状とした構造が開示されている。
【００１５】
また、特許文献２には、基板洗浄にも使用できる基板用のキャリア（特許文献２では基板ロットの合成装置）のガイド支持部材の下面をテーパ形状とした構造が開示されている。
【００１６】
また、特許文献３には、半導体ウェハのウェット処理用のキャリアチャックが下方に向けて縮径するテーパ状に形成されている構造が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開平７−３２１０７９号公報
【特許文献２】特開２００４−５５６９６号公報
【特許文献３】特開２００３−２９７８０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
上述のようなウェット処理用キャリア１２０を用いてウェット処理を行うと、ウェハ１０の品種或いは工程に関係なく、ウェハ１０に直線状の欠陥が発見されていた。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
ウェハ１０に形成される直線状の欠陥の発生原因を究明すべく、本発明者が詳細な調査を行った結果、ウェット処理装置１００のウェット処理用キャリア１２０の固定部１２１（固定板１２２及びチャックブロック１２３）、ボルト１２５及びチャック１２４などに付着した処理液の液滴がウェハ１０上へ落下している事を発見した。
【００２０】
処理液の液滴は、例えば、ウェット処理の際に、処理槽１１〜１８から発生する蒸気がウェット処理用キャリア１２０に付着する結果として形成される。
【００２１】
ところで、上述のようなウェット処理用キャリア１２０のチャックブロック１２３の形状は、直線的で角があるのに加え、ボルト１２５が固定板１２２の板面から突出している。しかも、チャック１２４の上部も角（段差部）がある形状となっている。
【００２２】
ウェット処理用キャリア１２０は、このような形状であるため、該ウェット処理用キャリア１２０に液滴が付着したままとなりやすい。そして、この液滴が、ウェット処理用キャリア１２０の移動の際などに複数のチャック１２４の間に位置するウェハ１０に落下して該ウェハ１０に付着することにより、該ウェハ１０を汚染し、結果的に欠陥を発生させてしまう。特に、ウェット処理用キャリア１２０が横方向（図６の矢印Ｃ、Ｅ、Ｇ、Ｉ、Ｋ方向）に移動する際、或いは、ウェット処理用キャリア１２０が移動に伴い振動する際などに、液滴の落下が生じる。
【００２３】
詳細には、液滴は、例えば、鉛直面であるチャックブロック１２３の側面に沿って流れ落ちた後、その下方に位置するウェハ１０へ落下して該ウェハ１０の上部に付着し、さらにウェハ１０の面上を直線状に流れ落ちるため、直線状の欠陥が発生していた。
【００２４】
このような液滴の落下のメカニズムを図７及び図８を用いて説明する。図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はウェット処理用キャリア１２０の正面図、図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、ウェット処理用キャリア１２０の側面図である。このうち図７（ａ）及び図８（ａ）はウェット処理用キャリア１２０に液滴１４０（図７（ｂ））が付着していない状態を示す。図７（ｂ）及び図８（ｂ）はウェット処理用キャリア１２０に液滴１４０が付着している状態を示す。図７（ｃ）及び図８（ｃ）はウェット処理用キャリア１２０からの液滴１４０の落下態様の例を示す。
【００２５】
液滴１４０は、例えば、図７（ｂ）及び図８（ｂ）に示すように、ボルト１２５の頭部、固定板１２２の下側の角、固定板１２２の水平な下面などに付着する。更に、図７（ｂ）に示すように、チャックブロック１２３の下側の角、チャック１２４の上端に形成されている段差部１２４ａなどにも液滴１４０は付着する。
【００２６】
また、図７（ｃ）及び図８（ｃ）は、液滴１４０が付着しているウェット処理用キャリア１２０が図７（ｃ）の矢印Ｌ方向に移動する際に、その液滴１４０がウェット処理用キャリア１２０から落下する状態を示す。
【００２７】
液滴１４０は、例えば図７（ｃ）及び図８（ｃ）に示すような飛跡１４１で落下し、ウェハ１０の上部に付着した後、上述のような直線状の欠陥をウェハ１０に形成する。
【００２８】
このように、上述したような構造のウェット処理用キャリア１２０では、ウェハ１０への液滴の落下を好適に抑制することは困難だった。
【００２９】
なお、特許文献１〜３は、いずれもウェハの上方の構造体からの液滴の落下を抑制する構造にはなっていない。すなわち、特許文献１のキャリアチャック、特許文献２のガイド支持部材、及び特許文献３のキャリアチャックは、いずれも、ウェハの斜め上方に配置されている。このため、特許文献１〜３の構造では、いずれも、ウェハ上方に位置する構造体に付着した液滴が、構造体の移動或いは振動に伴いウェハに落下して該ウェハに付着してしまうことを抑制することが困難である。
【００３０】
そこで、本発明は、搬送装置のアームに固定される固定部と、前記固定部から垂下するように該固定部に設けられ、複数のウェハが搭載されるウェハ搭載器具を吊り下げ支持する吊り下げ支持部と、前記固定部を前記アームに対して固定する止着部材と、を備え、前記固定部の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、前記止着部材の頭部を収容する収容凹部が形成されていることを特徴とするウェット処理用キャリアを提供する。
【００３１】
このウェット処理用キャリアによれば、ボルトなどの止着部材の頭部を収容凹部内に収容できるので、この頭部が処理液の蒸気に曝されにくくなるため、この蒸気により止着部材の頭部に液滴が形成されてしまうことを抑制できる。また、止着部材の頭部に液滴が形成され、その液滴が頭部から落下又は流下したとしても、その液滴は、一旦、収容凹部の下部における内周面で受けられる。よって、その液滴が頭部からウェハへと落下してしまうこと、或いは、その液滴がウェット処理用キャリアの何れかの部位へ流下した後、その部位からウェハへと落下してしまうことを抑制できる。このように、ウェハへの液滴の落下を抑制することができるため、ウェハに上述のような直線状の欠陥が発生してしまうことも抑制することができる。
【００３２】
また、本発明は、本発明のウェット処理用キャリアと、前記搬送装置と、前記ウェハに対するウェット処理が行われるウェット処理槽と、を備えることを特徴とするウェット処理装置を提供する。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、ウェハへの液滴の落下を好適に抑制することができ、ウェハに直線状の欠陥が発生してしまうことを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】実施形態に係るウェット処理用キャリアの側面図である。
【図２】実施形態に係るウェット処理用キャリアの正面図である。
【図３】実施形態に係るウェット処理用キャリアを備えるウェット処理装置の平面図である。
【図４】一般的なウェット処理装置の平面図である。
【図５】一般的なウェット処理装置が備えるウェット処理用キャリア及びその周辺を示す斜視図である。
【図６】一連のウェット処理の動作のうちの一部の動作を示す、一般的なウェット処理装置の正面図である。
【図７】一般的なウェット処理用キャリアの正面図である。
【図８】一般的なウェット処理用キャリアの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様の構成要素には同一の符号を付し、適宜に説明を省略する。
【００３６】
図１は実施形態に係るウェット処理用キャリア１の側面図、図２はウェット処理用キャリア１の正面図である。なお、図１（ａ）及び図２（ａ）はウェット処理用キャリア１に液滴５が付着していない状態を示す。図１（ｂ）及び図２（ｂ）はウェット処理用キャリア１に液滴５が付着している状態を示す。図１（ｃ）及び図２（ｃ）は液滴５がウェット処理用キャリア１に沿って流下する様子を示す。また、図３は本実施形態に係るウェット処理用キャリア１を備えるウェット処理装置８０の平面図である。
【００３７】
本実施形態に係るウェット処理用キャリア１は、搬送装置（例えば、移載ロボット２）のアーム３に固定される固定部４と、固定部４から垂下するように該固定部４に設けられ、複数のウェハ１０が搭載されるウェハ搭載器具（例えば、ボート６）を吊り下げ支持する吊り下げ支持部（例えば、チャック２３）と、固定部４をアーム３に対して固定する止着部材（例えば、ボルト８）と、を備える。固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、止着部材（例えば、ボルト８）の頭部を収容する収容凹部６０が形成されている。また、本実施形態に係るウェット処理装置８０は、本実施形態に係るウェット処理用キャリア１と、搬送装置（例えば、移載ロボット２）と、ウェハ１０に対するウェット処理が行われるウェット処理槽（例えば、第１乃至第８処理槽１１〜１８）と、を備える。以下、詳細に説明する。
【００３８】
先ず、本実施形態に係るウェット処理用キャリア１の構成を説明する。
【００３９】
図１及び図２に示すように、ウェット処理用キャリア１は、例えば、移載ロボット２（図３）のアーム３（図３、図２）に固定される固定部４と、この固定部４から垂下するように該固定部４に設けられボート６を吊り下げ支持するチャック２３と、固定部４をアーム３に対して固定するボルト８と、を備えている。
【００４０】
このうち固定部４は、固定板２１と、チャックブロック２２と、を備えて構成されている。例えば、図２に示すように、固定板２１とチャックブロック２２には、それぞれ半円筒状の凹部２１ａ、２２ａが形成され、これら凹部２１ａ、２２ａを相互に位置合わせすると、アーム３の直径よりも僅かに小さい内径の円筒形状が形成されるようになっている。そして、この円筒形状内にアーム３が位置するように、固定板２１とチャックブロック２２との間にアーム３を挟んだ状態で、固定板２１をボルト８によってチャックブロック２２に対して固定することにより、これら固定板２１及びチャックブロック２２からなる固定部４がアーム３に固定されている。
【００４１】
ボート６には、複数枚のウェハ１０が、例えば、互いに平行となるよう縦置きで一列に搭載される。チャック２３は、その下部によってボート６を保持し、該ボート６を吊り下げ支持する。なお、チャック２３がボート６を保持する機構は、周知であるため、説明を省略する。
【００４２】
図３に示すように、各移載ロボット２には、例えば、２つずつのウェット処理用キャリア１が設けられている。また、各移載ロボット２は、例えば、それぞれ水平方向に延在する２本のアーム３を、互いに平行な配置で備えている。図１及び図２に示すように、ウェット処理用キャリア１は、例えば、左右に２つ並び、且つ、前後にも２つ並ぶ、合計４つの固定部４を備えている。このため、例えば、１本のアーム３に、例えば、４つずつの固定部４（１つのウェット処理用キャリア１につき２つの固定部４）が固定されている。つまり、１つの移載ロボット２には、例えば、合計８つの固定部４が固定されている。そして、１つの移載ロボット２に対し、例えば、合計８つのチャック２３が、それぞれ対応する固定部４から垂下するように設けられている。
【００４３】
ウェット処理用キャリア１は、一対の開閉部２７からなる。このうち一方の開閉部２７は、移載ロボット２が備える２本のアーム３のうちの一方のアーム３に設けられ、他方の開閉部２７は、他方のアーム３に設けられている。一方のアーム３に設けられている開閉部２７は、２つの固定部４と、各固定部４から垂下するチャック２３（つまり、計２つのチャック２３）と、からなる。この一方の開閉部２７が備える２つの固定部４は、図１に示すように、左右対称形に形成されている。他方の開閉部２７（他方のアーム３に設けられている開閉部２７）も、一方の開閉部２７と同様に構成されている。なお、図２に示すように、一方の開閉部２７と他方の開閉部２７とは、互いに前後対称形に形成されている。
【００４４】
ここで、本実施形態の場合も、移載ロボット２の構成は、図５を用いて説明した移載ロボット２と同様である。すなわち、移載ロボット２は、例えば、一対のアーム３を水平に支える支持部９１と、この支持部９１を上側に支え持つ支柱９２と、を備えて構成されている。支持部９１内には図示しない回転機構が備えられ、この回転機構により一対のアーム３をそれぞれ軸周りに回転させることにより、ウェット処理用キャリア１の上記一対の開閉部２７がハの字に開いたり閉じたりする。この開閉動作により、ウェット処理用キャリア１のチャック２３によってボート６の端部を放したり保持したりするようになっている。移載ロボット２は、更に、支柱９２を上下方向、及び、横方向に移動させるための駆動機構（図示略）を備えている。
【００４５】
ウェット処理用キャリア１の固定部４は、全体的に流面形状に形成されている。すなわち、例えば、固定部４の上面には、上側に向けて凸となる曲面４１が形成されている。また、固定部４の角の部分はそれぞれ面取りされて、丸みを帯びた形状、すなわち、Ｒ形状部５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９とされている。更に、固定部４において、後述する各収容凹部６０よりも下側の部位は、該固定部４とチャック２３との境界部６５に向けて、例えばテーパ状に徐々に縮径する縮径部６４とされている。
【００４６】
また、固定部４の表面には、ボルト８の頭部を収容する収容凹部６０が形成されている。すなわち、収容凹部６０は、ボルト８の頭部よりも深く形成され、該収容凹部６０内に該頭部が収まるようになっている。つまり、ボルト８の頭部が固定部４の表面よりも外側に突出しないようになっている。なお、収容凹部６０は、固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、形成されている。本実施形態の場合、収容凹部６０は、具体的には、例えば、固定部４の表面のうち、鉛直方向に対して平行な面に形成されている。
【００４７】
収容凹部６０の径は、ボルト８の頭部の外周面と、収容凹部６０の内周壁と、の間にクリアランス６１が生じる寸法に設定されている。クリアランス６１は、ボルト８の頭部を囲む全周に存在する。このクリアランス６１は、ボルト８の締結作業時における工具の動作範囲を確保するのに必要であるほか、例えば、ボルト８などに付着した液滴５（図１（ｂ）及び図２（ｂ）参照）を流下案内する（流下する際に案内する）機能を持つ。この収容凹部６０の外周形状は、例えば、円形である。
【００４８】
ボルト８は、チャックブロック２２に対し、例えば、水平方向に螺入されている。また、１つの固定板２１は、複数（例えば、図１（ａ）に示すように、４つ）のボルト８によって、チャックブロック２２、ひいてはアーム３に対して固定されている。各ボルト８は、例えば、図１（ａ）に示すように、上下方向に２列、水平方向にも２列となる配置とされている。
【００４９】
これらボルト８のうち、上下に並ぶ２つのボルト８に対応する収容凹部６０は、固定板２１の表面に形成されている接続溝６２を介して相互に接続されている。なお、接続溝６２は、例えば、その長手方向が鉛直方向に沿うように形成されている。
【００５０】
更に、固定板２１の表面には、収容凹部６０のうちのいずれかを該固定板２１の表面まで段差無く接続する無段差接続溝６３が形成されている。この無段差接続溝６３は、具体的には、例えば、上下に並ぶ２つのボルト８に対応する収容凹部６０のうち、下側の収容凹部６０を固定板２１の表面まで段差無く接続する。
【００５１】
例えば、この無段差接続溝６３の底面は、平坦に形成され、且つ、鉛直方向に沿って形成されている。ここで、固定部４において、少なくとも各収容凹部６０の下側に位置する部位は、上述のような縮径部６４とされている。この縮径部６４は、固定部４において少なくとも各収容凹部６０の下側に位置する下面が、境界部６５に向けて、オーバーハングした状態で傾斜するような形状に形成されている。このため、無段差接続溝６３は、その底面が平坦で、かつ鉛直方向に沿って形成されていても、下方に向けて次第に浅くなり、該無段差接続溝６３の下端部は固定部４の表面へと無段差で接続されている。
【００５２】
なお、以上において、上下に並ぶ一対の収容凹部６０におけるクリアランス６１に対応する部分と、これらを相互に接続する接続溝６２と、下側の収容凹部６０の更に下側に位置する無段差接続溝６３と、が一連の溝形状を構成している。そして、この一連の溝形状により、ボルト８や固定部４の表面に付着した液滴５（図１（ｂ）、図２（ｂ）参照）をスムーズに流下案内するようになっている。
【００５３】
なお、固定部４は、上述のように、Ｒ形状部５３、５４、５７、５８を備える。つまり、固定部４において、該固定部４とチャック２３との境界部６５の直上の部分（Ｒ形状部５３、５４、５７、５８）は、面取り形状に形成されている、と言える。
【００５４】
また、チャック２３において、該チャック２３と固定部４との境界部６５の直下の部分は、下方に向けて徐々に拡径する拡径部７１とされている。更に、チャック２３において、拡径部７１と、該拡径部７１の下側の部分を構成する下部７２とは、連続的な曲面７３を介して、段差無く相互に接続されている。また、チャック２３の下部７２は、径が一定である。このため、チャック２３は、少なくとも、該チャック２３と固定部４との境界部６５から、ボート６に搭載されたウェハ１０の下端と対応する高さの部分に亘って、段差無く形成されている、と言える。
【００５５】
また、図１及び図２に示すように、固定部４の少なくとも一部分は、チャック２３により保持されているボート６に搭載されているウェハ１０の直上に位置するようになっている。
【００５６】
次に、本実施形態に係るウェット処理装置８０の構成を説明する。
【００５７】
図３に示すように、本実施形態に係るウェット処理装置８０は、図４に示すウェット処理装置１００のウェット処理用キャリア１２０に代えて、本実施形態に係るウェット処理用キャリア１を備える点でのみ、ウェット処理装置１００と相違し、その他の点では、ウェット処理用キャリア１２０と同様に構成されている。
【００５８】
すなわち、ウェット処理装置８０は、例えば、ウェット処理装置８０の外部でのウェハ１０の搬送用のキャリア（図示略）が配置されるロード部８１と、そのキャリア内のウェハ１０をウェット処理用のボート６に移し替える作業が行われる移替部８２と、を備える。更に、ウェット処理装置８０は、処理液の種類や洗浄方法にそれぞれ特色のある複数の処理槽（例えば、図３に示すように、第１乃至第８処理槽１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８）を備える。更に、ウェット処理装置８０は、ウェハ１０を乾燥させる処理を行う乾燥部８３を備える。更に、ウェット処理装置８０は、ボート６内のウェハ１０を上述の外部搬送用のキャリア（図示略）に移し替える作業が行われる移替部８４と、ウェット処理装置８０からのキャリアの搬出が行われるアンロード部８５と、を備える。更に、ウェット処理装置８０は、複数の移載ロボット２と、各移載ロボット２のアーム３に固定されるウェット処理用キャリア１と、を備える。
【００５９】
次に、動作を説明する。
【００６０】
本実施形態の場合、ウェット処理時の移載ロボット２によるウェット処理用キャリア１の移動については、図６を用いて説明した技術と同様であるため、その説明を省略する。図１（ｃ）及び図２（ｃ）は、ウェット処理用キャリア１が図２（ｃ）の矢印Ｍ方向に移動する際の、液滴５の挙動の一例を示す図である。
【００６１】
本実施形態の場合、上述のような形状のウェット処理用キャリア１を用いるため、ウェット処理用キャリア１に付着した液滴５が、例えば、図１（ｃ）及び図２（ｃ）に示すような軌跡７でウェット処理用キャリア１に沿って流下する結果、ウェハ１０への液滴５の落下を好適に抑制することができる。
【００６２】
本実施形態の場合、固定部４は全体的に流面形状に形成され、また、固定部４の表面には、収容凹部６０、接続溝６２及び無段差接続溝６３が形成されているので、液滴５が、固定部４の特定の部位に局所的に溜まったままとなってしまうことを好適に抑制できる。このため、液滴５が固定部４から離れウェハ１０に向けて落下してしまうことも抑制することができる。
【００６３】
すなわち、固定部４に付着した液滴５は、例えば、上記のような形状の固定部４の収容凹部６０、接続溝６２、無段差接続溝６３、縮径部６４などに沿って、境界部６５へ向けてスムーズに流下案内される。このように、流面形状の固定部４の表面、収容凹部６０、接続溝６２、無段差接続溝６３などに沿って液滴５が流れる結果、平面的にはウェット処理用キャリア１の隅に位置する各チャック２３に液滴５の流れを集中させることができる。更に、チャック２３において、チャック２３と固定部４との境界部６５の直下の部分（拡径部７１、曲面７３）は、段差のない連続的な面となっているので、液滴５は、固定部４からチャック２３の下部７２へとスムーズに伝い降りることができる。
【００６４】
より詳細な挙動を説明すると、ボルト８の頭部が収容凹部６０内に収容されているので、処理液の蒸気によりボルト８の頭部に液滴５が形成されてしまうことを抑制できる。また、ボルト８の頭部に液滴５が形成され、その液滴５がボルト８から落下したとしても、その液滴５は、一旦、収容凹部６０の下部における内周面で受けられるため、その液滴５が該頭部からウェハ１０へと落下してしまうことを抑制できる。よって、ウェハ１０への液滴５の落下を抑制することができる。そして、ボルト８から収容凹部６０の下部における内周面へ落下した液滴５は、例えば、接続溝６２、収容凹部６０、無段差接続溝６３により、この順に流下案内されて、固定部４の表面へ導かれる。更に、この液滴５は、例えば、固定部４において収容凹部６０の下側に位置する下面（縮径部６４の下面）により、境界部６５へ向けて流下案内される。
【００６５】
このように境界部６５へ向けて流下案内された液滴５は、例えば、固定部４における境界部６５の直上の部分、すなわち、面取りされているＲ形状部５３、５４、５７、５８から、チャック２３へとスムーズに流下案内される。
【００６６】
また、チャック２３において、境界部６５の直下の部分は下方に向けて徐々に拡径する拡径部７１とされ、この拡径部７１と下部７２とは連続的な曲面７３を介して段差無く相互に接続されているので、液滴５は、チャック２３の拡径部７１から下部７２へとスムーズに流下案内される。液滴５は、更に、このチャック２３の下部７２に沿って流下案内された後、例えば、チャック２３の下端から滴り落ちる。
【００６７】
液滴５は、例えばこのように挙動するため、移載ロボット２の横方向の移動や振動に伴いウェット処理用キャリア１から液滴５が落下しまうことを抑制し、この液滴５がウェハ１０へ付着して該ウェハ１０を汚染してしまうことも好適に抑制することができる。
【００６８】
なお、本実施形態のウェット処理用キャリア１を用いて本発明者が実際にウェット処理を行った実験では、ウェハ１０に液滴５が付着せず、ウェハ１０が汚染されない、という効果を確認できた。
【００６９】
以上のような実施形態によれば、ウェット処理用キャリア１は、移載ロボット２のアーム３に固定される固定部４と、固定部４から垂下するように該固定部４に設けられ、複数のウェハ１０が搭載されるボート６を吊り下げ支持するチャック２３と、固定部４をアーム３に対して固定するボルト８と、を備え、固定部４の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、ボルト８の頭部を収容する収容凹部６０が形成されているので、ボルト８の頭部を収容凹部６０内に収容でき、処理液の蒸気によりボルト８の頭部に液滴５が形成されてしまうことを抑制できる。また、ボルト８の頭部に液滴５が形成され、その液滴５が落下又は流下したとしても、その液滴５は、一旦、収容凹部６０の下部における内周面で受けられる。このため、その液滴５が該頭部からウェハ１０へと落下してしまうこと、或いは、その液滴５がウェット処理用キャリア１の何れかの部位へ流下した後、その部位からウェハ１０へと落下してしまうことを、抑制できる。このように、ウェハ１０への液滴５の落下を抑制することができるため、ウェハ１０に直線状の欠陥が発生してしまうことも抑制することができる。
【００７０】
収容凹部６０の径は、ボルト８の頭部の外周面と、収容凹部６０の内周壁と、の間にクリアランス６１が生じる寸法に設定されているので、このクリアランス６１を介して、液滴５を流下させることができる。
【００７１】
また、ウェット処理用キャリア１は、複数のボルト８を備え、複数のボルト８のうちの２つ以上（例えば、２つ）のボルト８に対応する収容凹部６０が、固定部４の表面に形成されている接続溝６２を介して相互に接続されているので、この接続溝６２を介して、液滴５をスムーズに流すことができる。具体的には、例えば、接続溝６２は、鉛直方向に沿って形成されているので、この接続溝６２を介して、液滴５をよりスムーズに流下案内することができる。
【００７２】
また、固定部４の表面には、収容凹部６０のうちのいずれか（例えば、接続溝６２を介して相互に接続されている上下一対の収容凹部６０のうちの下側の収容凹部６０））を固定部４の表面まで段差無く接続する無段差接続溝６３が形成されている。この無段差接続溝６３により、収容凹部６０内の液滴５をスムーズに固定部４の表面へと導くことができる。
【００７３】
また、固定部４において、少なくとも収容凹部６０の下側に位置する下面（例えば、縮径部６４の下面）は、該固定部４とチャック２３との境界部６５に向けて傾斜しているので、固定部４の表面の液滴５を、この下面によって、チャック２３に集中するように流下案内することができる。より具体的には、例えば、固定部４において、少なくとも収容凹部６０の下側に位置する部位である縮径部６４は、下方に向けてテーパ状に縮径しているので、この縮径部６４の全周に亘り、液滴５をチャック２３に集中するように流下案内することができる。
【００７４】
また、固定部４において、該固定部４とチャック２３との境界部６５の直上の部分（Ｒ形状部５３、５４、５７、５８）は、面取り形状とされて丸みを帯びているので、液滴５は、固定部４からチャック２３へとスムーズに伝い下りることができる。
【００７５】
また、チャック２３において、該チャック２３と固定部４との境界部６５の直下の部分は、下方に向けて徐々に拡径する拡径部７１とされている。この拡径部７１は、無段差であるため、この拡径部７１に局所的に液滴５が溜まってしまうことを抑制できるとともに、固定部４から伝い下りてきた液滴５をスムーズにチャック２３の下部７２へと流下案内することができる。
【００７６】
更に、チャック２３において、拡径部７１と、該拡径部７１の下側の部分である下部７２とは、連続的な曲面７３を介して段差無く相互に接続されているので、液滴５を拡径部７１から下部７２へとスムーズに流下案内することができる。
【００７７】
しかも、チャック２３は、少なくとも、該チャック２３と固定部４との境界部６５から、ボート６に搭載されたウェハ１０の下端と対応する高さの部分に亘って、段差無く形成されているので、ウェハ１０の下端と対応する高さまで、液滴５をスムーズに流下案内することができる。
【００７８】
また、固定部４の角部（Ｒ形状部５０〜５９）は丸みを帯びているので、その角部に局所的に液滴５が溜まったりすることを抑制できる。
【００７９】
しかも、固定部４は、その全体が流面形状に形成されているので、局所的に液滴５が溜まったりすることを、固定部４の全体に亘って抑制することができるとともに、固定部４は、その全体に亘って、液滴５をスムーズに流下案内することができる。
【００８０】
このように、移載ロボット２の移動や振動に伴いウェット処理用キャリア１から液滴５が落下してしまうことを抑制し、この液滴５がウェハ１０へ付着して該ウェハ１０を汚染してしまうことも好適に抑制することができる。よって、ウェハ１０に直線状の欠陥が発生してしまうことを抑制できるため、ウェハ１０の歩留まりを向上させ、ウェハ１０のコストダウンを図ることもできる。
【００８１】
なお、上記の実施形態では、止着部材としてボルト８を用いた例を説明したが、ボルト８以外の止着部材（例えば、ピンなど）により固定部４をアーム３に対して固定するようにしても良い。
【００８２】
また、収容凹部６０が円形である例を説明したが、収容凹部６０は、例えば、楕円形（例えば、縦長の楕円形）などでも良い。また、接続溝６２及び無段差接続溝６３が鉛直方向に沿って形成されている例を説明したが、接続溝６２及び無段差接続溝６３は、それぞれ鉛直方向に対して傾斜する方向に沿って形成されていても良い。
【符号の説明】
【００８３】
１ ウェット処理用キャリア
２ 移載ロボット
３ アーム
４ 固定部
５ 液滴
６ ボート
７ 液滴の軌跡
８ ボルト
１０ ウェハ
１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８ 処理槽
２１ 固定板
２１ａ 凹部
２２ チャックブロック
２２ａ 凹部
２３ チャック
２７ 開閉部
４１ 曲面
５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９ Ｒ形状部
６０ 収容凹部
６１ クリアランス
６２ 接続溝
６３ 無段差接続溝
６４ 縮径部
６５ 境界部
７１ 拡径部
７２ 下部
７３ 曲面
８０ ウェット処理装置
８１ ロード部
８２ 移替部
８３ 乾燥部
８４ 移替部
８５ アンロード部
９１ 支持部
９２ 支柱
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送装置のアームに固定される固定部と、
前記固定部から垂下するように該固定部に設けられ、複数のウェハが搭載されるウェハ搭載器具を吊り下げ支持する吊り下げ支持部と、
前記固定部を前記アームに対して固定する止着部材と、
を備え、
前記固定部の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、前記止着部材の頭部を収容する収容凹部が形成されていることを特徴とするウェット処理用キャリア。
【請求項２】
前記収容凹部の径は、前記止着部材の頭部の外周面と、前記収容凹部の内周壁と、の間にクリアランスが生じる寸法に設定されていることを特徴とする請求項１に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項３】
複数の前記止着部材を備え、
２つ以上の前記止着部材に対応する前記収容凹部が、前記固定部の表面に形成されている接続溝を介して相互に接続されていることを特徴とする請求項２に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項４】
前記接続溝は、鉛直方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項３に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項５】
前記固定部の表面には、更に、前記収容凹部のうちのいずれかを前記固定部の表面まで段差無く接続する無段差接続溝が形成されていることを特徴とする請求項３又は４に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項６】
前記固定部において、少なくとも前記収容凹部の下側に位置する下面は、当該固定部と前記吊り下げ支持部との境界部に向けて傾斜していることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項７】
前記固定部において、少なくとも前記収容凹部の下側に位置する部位は、下方に向けて徐々に縮径する縮径部とされていることを特徴とする請求項６に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項８】
前記固定部において、当該固定部と前記吊り下げ支持部との境界部の直上の部分は、面取り形状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項９】
前記吊り下げ支持部において、当該吊り下げ支持部と前記固定部との境界部の直下の部分は、下方に向けて徐々に拡径する拡径部とされていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１０】
前記吊り下げ支持部において、前記拡径部と、該拡径部の下側の部分とは、段差無く相互に接続されていることを特徴とする請求項９に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１１】
前記吊り下げ支持部は、少なくとも、当該吊り下げ支持部と前記固定部との境界部から、前記ウェハ搭載器具に搭載された前記ウェハの下端と対応する高さの部分に亘って、段差無く形成されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１２】
前記固定部の角部は面取り形状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１３】
前記固定部は、その全体が流面形状に形成されていることを特徴とする請求項１２に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリアと、
前記搬送装置と、
前記ウェハに対するウェット処理が行われるウェット処理槽と、
を備えることを特徴とするウェット処理装置。
【請求項１】
搬送装置のアームに固定される固定部と、
前記固定部から垂下するように該固定部に設けられ、複数のウェハが搭載されるウェハ搭載器具を吊り下げ支持する吊り下げ支持部と、
前記固定部を前記アームに対して固定する止着部材と、
を備え、
前記固定部の表面であって、鉛直方向に対して平行な面、又は、鉛直方向に対して平行な面よりも上側を向く面に、前記止着部材の頭部を収容する収容凹部が形成されていることを特徴とするウェット処理用キャリア。
【請求項２】
前記収容凹部の径は、前記止着部材の頭部の外周面と、前記収容凹部の内周壁と、の間にクリアランスが生じる寸法に設定されていることを特徴とする請求項１に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項３】
複数の前記止着部材を備え、
２つ以上の前記止着部材に対応する前記収容凹部が、前記固定部の表面に形成されている接続溝を介して相互に接続されていることを特徴とする請求項２に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項４】
前記接続溝は、鉛直方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項３に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項５】
前記固定部の表面には、更に、前記収容凹部のうちのいずれかを前記固定部の表面まで段差無く接続する無段差接続溝が形成されていることを特徴とする請求項３又は４に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項６】
前記固定部において、少なくとも前記収容凹部の下側に位置する下面は、当該固定部と前記吊り下げ支持部との境界部に向けて傾斜していることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項７】
前記固定部において、少なくとも前記収容凹部の下側に位置する部位は、下方に向けて徐々に縮径する縮径部とされていることを特徴とする請求項６に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項８】
前記固定部において、当該固定部と前記吊り下げ支持部との境界部の直上の部分は、面取り形状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項９】
前記吊り下げ支持部において、当該吊り下げ支持部と前記固定部との境界部の直下の部分は、下方に向けて徐々に拡径する拡径部とされていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１０】
前記吊り下げ支持部において、前記拡径部と、該拡径部の下側の部分とは、段差無く相互に接続されていることを特徴とする請求項９に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１１】
前記吊り下げ支持部は、少なくとも、当該吊り下げ支持部と前記固定部との境界部から、前記ウェハ搭載器具に搭載された前記ウェハの下端と対応する高さの部分に亘って、段差無く形成されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１２】
前記固定部の角部は面取り形状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１３】
前記固定部は、その全体が流面形状に形成されていることを特徴とする請求項１２に記載のウェット処理用キャリア。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のウェット処理用キャリアと、
前記搬送装置と、
前記ウェハに対するウェット処理が行われるウェット処理槽と、
を備えることを特徴とするウェット処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１０−１９２６１７（Ｐ２０１０−１９２６１７Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３４４３５（Ｐ２００９−３４４３５）
【出願日】平成２１年２月１７日（２００９．２．１７）
【出願人】（３０２０６２９３１）ルネサスエレクトロニクス株式会社 (8,021)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１７日（２００９．２．１７）
【出願人】（３０２０６２９３１）ルネサスエレクトロニクス株式会社 (8,021)
【Ｆターム（参考）】
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