説明

レーザー用ガラス、ファイバレーザーおよび2重クラッド光ファイバ

【課題】屈折率が高く、発光特性および機械特性に優れたレーザー用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、Pを50〜65%、Alを5〜20%、Bを1〜10%、LiOを0〜10%、NaOを0〜10%、KOを5〜20%、MgOを0〜10%、CaOを0〜10%、SrOを0〜10%、Nbを2〜15%、Ybを0.1〜10%、Laを0〜10%含有するレーザー用ガラス。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明はレーザー用Yb含有リン酸塩ガラス、ファイバレーザーおよび2重クラッド光ファイバに関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、高出力レーザ用のリン酸塩ガラスとしてNdを活性物質に用いたものが提案されている。
【0003】
特許文献2には、波長1.5μmの通信帯用のリン酸塩ガラスとして、Erを活性物質、YbおよびCrを増感剤として用いたものが提案されている。
【0004】
特許文献3には、高出力レーザー用のリン酸塩ガラスとして、Ybを活性物質として用いたものが提案されている。
【0005】
特許文献4には、高出力レーザー用の2重クラッド光ファイバーとして、シリカ系ガラスをベースにErおよびYbを活性物質として用いたものが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特許第3158202号公報
【特許文献2】特開平3−275529号公報
【特許文献3】特開平8−26768号公報
【特許文献4】特表2007−523035号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
従来知られているレーザー用ガラスには、屈折率が高くない、発光特性が充分ではない、または機械特性が充分ではない、という問題があった。
本発明は、このような問題を解決できるレーザー用ガラス、ファイバレーザーおよび2重クラッド光ファイバの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、下記酸化物基準のモル百分率表示で、Pを50〜65%、Alを5〜20%、Bを1〜10%、LiOを0〜10%、NaOを0〜10%、KOを5〜20%、MgOを0〜10%、CaOを0〜10%、SrOを0〜10%、Nbを2〜15%、Ybを0.1〜10%、Laを0〜10%含有するレーザー用ガラス(以下、本発明のガラスとことがある。)を提供する。
【0009】
また、レーザー媒質、共振器および励起光源を有するファイバレーザーであって、レーザー媒質として前記レーザー用ガラスが用いられているファイバレーザーを提供する。
また、前記レーザー用ガラスをコアガラスとする2重クラッド光ファイバを提供する。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば高屈折率のレーザー用ガラスが得られ、その結果、輻射遷移確率(Arad)を高くすることが可能になる。
また、本発明の2重クラッド光ファイバ、たとえば本発明のガラスをコアとし、コアよりも屈折率が低く第2クラッドより屈折率の高いガラスを第1クラッドとし、第1クラッドよりも屈折率の低い樹脂を第2クラッドとする2重クラッド光ファイバは、第1クラッドと第2クラッドとの開口数(NA)を大きくすることができ、クラッドに励起光を閉じ込めやすくなる。
【0011】
また、本発明によれば蛍光寿命(τ)を長くすることが可能であり、この場合レーザー発振の閾値を低くできる。
また、Aradを高くできるのでレーザー出力を高くできる。
ただし、量子効率(η)はτとAradの積で表されるのでτとAradはトレードオフの関係にある。
【0012】
また、本発明によればガラスの研磨加工や溶融延伸工程、ファイバ化工程時に重要となる機械特性、または、製品として使うときに重要となる化学的耐久性が優れたものを得ることができる。
また、本発明のガラスはPを50モル%以上含有するリン酸塩ガラスであるので、シリカベースガラスに比べてYbなどの希土類を多く含有させても失透しにくく、またYbなどの希土類がクラスタリングしにくいので発光特性に優れる。
【0013】
本発明の2重クラッド光ファイバによれば、マルチモード高出力レーザーダイオード(LD)の励起光を伝搬する光ファイバを複数個束ねて第1クラッドにその励起光を入力することが可能となり、結果として、コアのみにシングルモードLDの励起光を入力する方法よりも高出力が得られるようになる。
【発明を実施するための形態】
【0014】
本発明のファイバレーザーは加工に好適に用いられる。
【0015】
本発明の2重クラッド光ファイバは、コアが本発明のガラスであり、コアの周りにコアよりも屈折率が小さい第1クラッドを有し、第1クラッドの周りに第1クラッドよりも屈折率が小さい第2クラッドを有し、第2クラッドは典型的には樹脂である。また、第1クラッドと第2クラッドとのNAを大きくすればクラッドに励起光を閉じ込めやすくなる、すなわち励起光を導入しやすくなる。本発明の2重クラッド光ファイバはシングルモードでもマルチモードでも使用できる。
【0016】
本発明のガラスのヘリウムd線に対する屈折率(n)は1.52〜1.64であることが好ましい。1.52未満では、本発明の2重クラッド光ファイバにおいて第1クラッドと第2クラッド(多くの場合は樹脂)の屈折率差を大きくしてNAを大きくすることが困難になり、クラッドに多くの励起光を閉じ込めにくくなるおそれがある。より好ましくは1.545以上、さらに好ましくは1.56以上、特に好ましくは1.58以上である。1.64超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。より好ましくは1.625以下、典型的には1.615以下である。
【0017】
本発明のガラスのτは0.5ms以上であることが好ましい。0.5ms未満ではレーザー発振の閾値が高くなるおそれがある。より好ましくは1ms以上である。また、τは2ms以下であることが好ましい。2ms超ではAradが小さくなってレーザー出力が低くなるおそれがある。より好ましくは1.5ms以下である。
【0018】
本発明のガラスのビッカース硬度(Hv)は500以上であることが好ましい。500未満であると、ガラスの研磨加工や溶融延伸工程、ファイバ化工程において傷がつきやすくなる。より好ましくは550以上、特に好ましくは600以上である。また、Hvは700以下であることが好ましい。700未満ではヤング率が高くなって熱衝撃に弱くなるおそれがある。より好ましくは650以下である。
【0019】
本発明のガラスの破壊靱性(Kc)は0.5MPa・m0.5以上であることが好ましい。0.5MPa・m0.5未満では、ガラスの研磨加工や溶融延伸工程、ファイバ化工程においてガラスに傷がついてしまったときにその傷が伸展しやすくなり、加工プロセスの制御範囲が狭くなる、または歩留まりが低下するおそれがある。より好ましくは0.53MPa・m0.5以上、特に好ましくは0.55MPa・m0.5以上である。一方、Kcは0.65MPa・m0.5以下であることが好ましい。0.65MPa・m0.5超ではガラスの粘性が高くなりすぎ、研磨加工やファイバ化工程、溶融延伸工程など加工性が低下するおそれがある。より好ましくは0.60MPa・m0.5以下である。
【0020】
次に、本発明のガラスの組成についてモル百分率表示含有量を用いて説明する。
はガラスを形成する主成分(ガラス形成酸化物)であるとともにHvやKcを向上させる成分であり、必須である。50%未満ではガラスが失透しやすくなる等ガラスが不安定となるおそれがある。好ましくは53%以上、より好ましくは56%以上、特に好ましくは59%以上である。65%超では所望の屈折率を得にくくなる、または化学的耐久性が低下する。好ましくは62%以下、より好ましくは60%以下である。
【0021】
AlはHv、Kcまたは化学的耐久性を向上させる成分であり、必須である。Alは、好ましくは7%以上、より好ましくは9%以上、特に好ましくは11%以上である。Alが20%超ではガラスが不安定になる。好ましくは18%以下、より好ましくは16%以下である。
【0022】
はHvやKcを向上させる、またはガラスを安定化させる効果があり、必須である。1%未満では前記効果が小さくなる。好ましくは2%以上、より好ましくは3%以上、特に好ましくは4%以上である。10%超では屈折率が小さくなる、または化学的耐久性が低下する。好ましくは8%以下、より好ましくは6%以下である。
【0023】
LiOは必須ではないが、屈折率を高め、またガラスを軟化させる効果があり10%以下の範囲で含有してもよい。10%超では化学的耐久性が低下するおそれがある。好ましくは8%以下、より好ましくは6%以下である。LiOを含有する場合その含有量は1%以上であることが好ましい。1%未満では前記効果が不充分となるおそれがある。より好ましくは2%以上、さらに好ましくは3%以上、特に好ましくは4%以上である。
【0024】
NaOは必須ではないが、屈折率を高め、またガラスを軟化させる効果があり10%以下の範囲で含有してもよい。10%超では化学的耐久性が低下するおそれがある。好ましくは8%以下、より好ましくは6%以下である。NaOを含有する場合その含有量は1%以上であることが好ましい。1%未満では前記効果が不充分となるおそれがある。より好ましくは2%以上、さらに好ましくは3%以上、特に好ましくは4%以上である。
【0025】
Oはガラスの発光特性もしくは屈折率を高め、また、ガラスを軟化させる効果を有する成分であり、必須である。5%未満では前記効果が小さい。好ましくは7%以上、より好ましくは9%以上、特に好ましくは11%以上である。20%超では化学的耐久性が低下する。好ましくは17%以下、より好ましくは15%以下である。
【0026】
LiO、NaOおよびKOの含有量の合計は6〜20%であることが好ましい。6%未満では屈折率を高める効果またはガラスを軟化させる効果が小さくなるおそれがある。より好ましくは8%以上である。20%超では化学的耐久性が低下するおそれがある。より好ましくは18%以下、特に好ましくは15%以下である。
【0027】
MgO、CaOおよびSrOはいずれも必須ではないが、屈折率を高める効果があり、それぞれ10%以下の範囲で含有してもよい。10%超では化学的耐久性が低下する、またはガラスが不安定化するおそれがある。好ましくはそれぞれ7%以下、より好ましくは5%以下である。また、MgO、CaOまたはSrOを含有する場合、好ましくは含有量はそれぞれ1%以上、より好ましくは3%以上、特に好ましくは4%以上である。
【0028】
Nbは屈折率もしくは発光特性を高める、またはHvもしくはKcを向上させる効果があり、必須である。2%未満では前記効果が小さい。好ましくは3%以上、より好ましくは5%以上である。15%超ではガラスが不安定になる。好ましくは12%以下、より好ましくは9%以下である。
【0029】
Ybは活性物質として必須である。0.1%未満では活性物質として作用が不充分になり、高出力が得られなくなるおそれがある。好ましくは0.5%以上、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは2%以上、特に好ましくは5%以上である。10%超ではガラスが不安定になる。好ましくは8%以下、より好ましくは6%以下である。
【0030】
Laは必須ではないが、屈折率を高める効果があり10%以下の範囲で含有してもよい。10%超ではガラスが不安定になる。好ましくは8%以下、より好ましくは6%以下である。Laを含有する場合、その含有量は1%以上であることが好ましい。より好ましくは2%以上、特に好ましくは5%以上である。
【0031】
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。このような場合当該その他の成分の含有量は合計で5%以下であることが好ましく、典型的には1%以下である。たとえば、Sbは、必須の成分ではないがガラス溶融の際の清澄剤として添加することができる。Sbを添加する場合その含有量は好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.05%以上であり、また、好ましくは1%以下、より好ましくは0.5%以下である。
【0032】
なお、SiOは成形温度の観点から含有しないことが好ましい。なお、たとえば「SiOを含有しない」とはSiOを含有する場合であっても0.05%以下であることをいう。
また、BaOはHv、Kcを低下させる成分であるから含有しないことが好ましい。
また、Nd、Er、V、NiO、Co、Cr、CuOおよびCeOはηを低下させるおそれがある成分であるからいずれも含有しないことが好ましい。
また、F、PbOおよびAsは環境面などの観点からいずれも含有しないことが好ましい。
【0033】
本ガラスの製造方法は特に制限されない。たとえば、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の通常の光学ガラスで用いられる原料を秤量・混合し、白金ルツボ、石英ルツボ、アルミナルツボ等通常光学ガラス製造で用いられるルツボに入れて、約1200〜1500℃で2〜10時間溶融、清澄、撹拌後、500〜600℃に予熱した金型に鋳込等した後、徐冷して製造できる。
本発明の2重クラッド光ファイバの製造方法は特に限定されるものではない。たとえば、溶解したガラスを研磨加工後、溶融延伸することによりプリフォームを作製し、それを線引きすることにより光ファイバ化する。
【実施例】
【0034】
以下、本発明の実施例等を説明する。例1〜例15は本発明の実施例であり、例16は特開平8−26768号公報に実施例27として記載されているものであって比較例である。
【0035】
[化学組成・試料作製法]
表1に示す化学組成(モル%)となるように原料を秤量した。各ガラスの原料は、Pの場合はHPOまたはBPOまたはAl(POまたはKPOを、Alの場合はAlまたはAl(POを、Bの場合はHBOまたはBPOを、KOの場合はKCOまたはKPOを、SrOの場合はSrCOを、BaOの場合はBaCOを、KOの場合はKCOまたはKPOを、SrOの場合はSrCOを、Nb、Yb、ZnOの場合はこれら酸化物そのものを、それぞれ使用した。
【0036】
秤量した原料を混合し、内容積約300ccの白金ルツボ内に入れて、約1200〜1500℃で2〜3時間溶融、清澄、撹拌後、およそ500〜600℃に予熱した縦100mm×横50mm×高さ20mmの長方形のモールドに鋳込み後、約1℃/分で徐冷してサンプルとした。ガラスの溶解性等については、上記サンプル作製時に目視で観察した結果、例1〜例16のいずれについても、溶解性に問題がないこと、得られたガラスサンプルには泡や脈理のないことを確認した。
【0037】
[評価方法]
ヘリウムd線に対する屈折率nを屈折率計(カルニュー光学工業社製、商品名:KRP−2)で測定した。屈折率の値は、小数点以下第4位まで測定し、小数点以下第4位を四捨五入して小数点以下第3位として記載した。
【0038】
蛍光寿命τ(ms)を5/27/2遷移の蛍光強度の時間減衰曲線により算出した。励起は、980nmの波長で行い、モニタは最も発光強度の強い1020〜1060nmの波長で行った。τ/10以下のパルスで励起し、試料からの発光を分光器(SPEX社製xxx)にて分光し、InGaAsフォトダイオード(Electro−Optical−System社製 IGA−020−A)で検出した。信号は、デジタルオシロスコープ(Tectronics社製 TDS520)に取り込み、得られた減衰曲線をシングルエクスポネンシャル関数で最小二乗フィッティングすることにより、蛍光寿命とした。
【0039】
ビッカース硬度Hv(GPa)は、ビッカース硬度測定機(AKASHI社製、商品名:MVK−H2)を用いて押し込み試験法にて評価した。具体的には、室温、大気雰囲気にて、平滑な試料表面に押し込み加重25g、押し込み時間15秒にてビッカース圧子を押し込み,圧子押し込みによって発生した圧痕の寸法から下式によりビッカース硬度を求めた。1サンプルにつき5回測定を行い、最大値と最小値を除いた3点の平均より、ビッカース硬度を求めた。
ビッカース硬度Hv(GPa)=(1.854P/d2)×9.8。
ここで、Pは押し込み加重(kg)、dは圧痕の対角線長(mm)である。
【0040】
破壊靱性Kc(MPa・mm1/2)は、ビッカース硬度測定機(AKASHI社製、商品名:MVK−H2)を用いて、押し込み加重Pを0.2kgとしてクラックを発生させた後、圧痕の対角線の長さ2a(m)および除荷後30sのクラックの長さ2c(m)を測定し、超音波パルス法により求めたヤング率E(Pa)を用い次式により算出した。測定は、室温、大気雰囲気にて行い、c/a>2.5を満たす。1サンプルにつき5回測定を行い、最大値と最小値を除いた3点の平均より、破壊靱性を求めた。
破壊靱性Kc=0.026×E1/2×P1/2×a/c3/2
ここで、Pは押し込み加重(kg)、aは圧痕の対角線の長さ(m)、cはクラック長さの半分(m)である。なお、KcはKICと標記されることがある。
【0041】
【表1】

【0042】
【表2】

【産業上の利用可能性】
【0043】
本発明のガラスはレーザーに利用できる。また、本発明の2重クラッド光ファイバは高出力ファイバレーザーに利用できる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記酸化物基準のモル百分率表示で、Pを50〜65%、Alを5〜20%、Bを1〜10%、LiOを0〜10%、NaOを0〜10%、KOを5〜20%、MgOを0〜10%、CaOを0〜10%、SrOを0〜10%、Nbを2〜15%、Ybを0.1〜10%、Laを0〜10%含有するレーザー用ガラス。
【請求項2】
SiOを含有しない請求項1のレーザー用ガラス。
【請求項3】
BaOを含有しない請求項1または2のレーザー用ガラス。
【請求項4】
Nd、Er、V、NiO、Co、Cr、CuOおよびCeOのいずれも含有しない請求項1、2または3のレーザー用ガラス。
【請求項5】
、PbOおよびAsのいずれも含有しない請求項1、2、3または4のレーザー用ガラス。
【請求項6】
ヘリウムd線に対する屈折率が1.52〜1.64である請求項1〜5のいずれかのレーザー用ガラス。
【請求項7】
蛍光寿命が0.5ms以上である請求項1〜6のいずれかのレーザー用ガラス。
【請求項8】
ビッカース硬度が500以上である請求項1〜7のいずれかのレーザー用ガラス。
【請求項9】
破壊靱性が0.5MPa・m0.5以上である請求項1〜8のいずれかのレーザー用ガラス。
【請求項10】
レーザー媒質、共振器および励起光源を有するファイバレーザーであって、レーザー媒質として請求項1〜9のいずれかに記載のレーザーガラスが用いられているファイバレーザー。
【請求項11】
請求項1〜9のいずれかのレーザー用ガラスをコアガラスとする2重クラッド光ファイバ。

【公開番号】特開2010−184847(P2010−184847A)
【公開日】平成22年8月26日(2010.8.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−31445(P2009−31445)
【出願日】平成21年2月13日(2009.2.13)
【出願人】(000000044)旭硝子株式会社 (2,665)
【Fターム(参考)】