【課題】温水引き上げ乾燥や、マランゴニー乾燥といった、液面より被乾燥基板を引き上げ乾燥を行なう際に発生する水滴残渣をなくし、安定した品質で乾燥を可能とさせる乾燥ジグを提供する。
【解決手段】乾燥ジグ１は、磁気記録媒体の基板洗浄後の温水引き上げ乾燥方式又は、マランゴニー乾燥方式において、縦置きに配列された複数枚の被乾燥基板の外形を支持し、支持部を剣先形状にすることにより基板との接点を小さくし、且つ支持部に液滴を吸引する開口を有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はコンピュータの外部記録装置をはじめとする各種磁気記録装置に搭載される磁気記録媒体の製造方法、ならびに、これに用いる乾燥装置、乾燥ジグ及び乾燥方式に関する。
【背景技術】
【０００２】
高い記録密度と低ノイズが要求される磁気記録媒体では、従来からさまざまな洗浄乾燥方法が提案されており、洗浄後の乾燥方式としては、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）置換によるベーパー乾燥方式や、高速回転によるスピン乾燥方式等が用いられている。しかし昨今、安全性や、脱溶剤化、高品質化の観点から、温水引き上げ乾燥やマランゴニー乾燥方式の採用が多くされている。
【０００３】
しかしながら、高記録密度を要する磁気記録媒体において、温水引き上げ乾燥やマランゴニー乾燥で発生する水滴残渣（ウォーターマーク）は重大な欠陥であり、この対策として、例えば特許文献１では基板とジグの接点を剣先にし、且つV形状の接点部にスリットを入れることにより、毛細管現象により水滴の排除を行い、又、接点部に残留する液滴を強制的に排除する方法としては、特許文献２にあるように、基板を支持するキャリアに吸引機構を儲け、基板とキャリアの接点に残留する水滴を強制的に吸引排除することを実現させている。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１５０３１３号公報
【特許文献２】特開平１１−２９７８０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、磁気記録媒体の記録密度の増加に伴い、問題とする水滴残渣のレベルもより厳しくなり、従来の対応では改善困難な状況にある。
【０００６】
本発明は、温水引き上げ乾燥や、マランゴニー乾燥といった、液面より被乾燥基板を引き上げ乾燥を行なう際に発生する水滴残渣をなくし、安定した品質で乾燥を可能とさせる乾燥ジグ、乾燥装置及び乾燥方法、ならびに、これを用いた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の乾燥ジグは、磁気記録媒体の基板洗浄後の温水引き上げ乾燥方式又は、マランゴニー乾燥方式において、縦置きに配列された複数枚の被乾燥基板の外形を支持し、支持部を剣先形状にすることにより基板との接点を小さくし、且つ支持部に液滴を吸引する開口を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明の乾燥方式は、上記の乾燥ジグを用い温水引き上げ乾燥又は、マランゴニー乾燥において被乾燥基板を支持し乾燥を行なうことを特徴とする。
【０００９】
本発明の乾燥装置は、上記の乾燥ジグおよび乾燥方式を採用したことを特徴とする。
【００１０】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記の乾燥装置により乾燥を行なうことを特徴とする。すなわち、縦置きにされた基板を本発明のジグにより支持し基板とジグの接点を強制的に吸引することにより、基板とジグとの接点に残留する水滴残渣を排除し、残渣による欠陥の無い磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の最良の実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
【００１２】
図１に基板を支える為に必要なＶ形状の支持部材１の側面図を示す。加工による歪を防ぎ且つ基板との接点をできるだけ小さくする為、接点部のみ板厚を薄くし（0.3〜0.5mm）、拡大図図３に示す通り、基板とジグの接点には毛細管現象によりできるだけ水滴が引き込めるように幅0.3mm、長さ0.7mm程度のスリットが施されている。材料は、加工精度と親水性を考慮すると、ステンレス材が望ましく、図２に同支持部材１の正面図を示す。
【００１３】
図４は吸引に必要な連通口が形成された部材２の側面図であり、引き上げ時の液切れを良くする為上部にはテーパー加工を施し、拡大図図7に記す幅1mm程度、角度90度程度の連通口により吸引できる構造を提供している。材料は、ステンレス又は樹脂材でも問題なく、重量や取り扱いを考慮するとＰＥＥＫ材が望ましい。図５は同部材２の正面図、図6には上面図を記す。
【００１４】
上記部材１と部材２を組み合わせることにより、部材２の連通口が、部材１のスリット部に重なり、基板とジグの接点に残留する水滴を吸引できる構造が提供される。なお、部材１と２の組み合わせたジグは３個を取り付け台に固定し、３点支持により基板を縦置きに配列させる。実際に基板を設置した場合の位置関係を図８に示す。
【００１５】
又、吸引に関しては、図９に示された配管回路により、ジグの連通口より強制的な吸引が行なわれ、基板とジグの接点部に残留する水滴の除去が行なわれる。
【００１６】
本発明の一実施形態は、図８に示すとおり、３点支持により基板４を縦置きに保持する為、取り付け台５に固定された状態に組上げられ、図１０に示すジグ駆動軸７に、取り付け台５に固定されたジグが設置される。又、このジグ駆動軸７は、キャリア駆動軸６と異なる駆動を行なうことができるように、各々の駆動源は別の制御で行なうことで、基板４と洗浄乾燥用キャリア８を別々に引き上げ乾燥させることを可能としている。
【００１７】
基板４は、洗浄乾燥用キャリア８の支持棒９により３点支持で配置され、５０枚単位で縦置きに収納された状態で本発明のジグを使用した乾燥工程に投入される。
【００１８】
洗浄乾燥用キャリア８がキャリア駆動軸６のキャリア位置決めブロック１０に置かれた時点で、基板４は取り付け台に設置されたジグに乗り移り、洗浄乾燥キャリア８の支持棒９から離れた状態になる。詳細図を１１に示す。
【００１９】
洗浄乾燥用キャリア８がキャリア駆動軸６に置かれた状態で、キャリア駆動軸６とジグ駆動軸７は温水又は乾燥に必要な液体の中に水没する。
【００２０】
乾燥プロセスは図１２に示す様に、洗浄乾燥用キャリア８がキャリア駆動軸６に置かれた状態（図１２（ａ））から、キャリア駆動軸６とジグ駆動軸７を同時に駆動し、ジグで基板４を支持した状態で基板４及び洗浄乾燥用キャリア８を液面上に引き上げる（図１２（ｂ））。
【００２１】
液面より基板４が引き上げ乾燥され、図１２（ｃ）に示す液面から離れる状態でジグの吸引が行なわれ、ジグと基板の接触部の水滴残渣が強制排除される。
【００２２】
この時、吸引開始のポイント及び、吸引している時間は任意設定により条件を変えられるが、基板４とジグの接点が液面から出る直前から吸引を開始し、完全に基板が液面から出るまで吸引し続けることが望ましい。
【００２３】
基板４が液面から完全に出た状態で、ジグ駆動軸７が停止し、キャリア駆動軸６のみが更に稼働し、洗浄乾燥用キャリアを単独で乾燥させ引き上げ、乾燥した基板４を乾燥した洗浄乾燥用キャリア８の支持棒９で再び保持する（図１２（ｄ））。
【００２４】
以上述べたように、本発明に係る磁気記録媒体用基板の乾燥ジグ及び、乾燥装置とその乾燥方法を用いることにより、基板表面に水滴残渣を残さず、確実に再現性が良い乾燥が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明のジグ部材１の側面図である。
【図２】部材１の正面図である。
【図３】部材１の円Ａの詳細拡大図である。
【図４】ジグ部材２の側面図である。
【図５】部材２の正面図である。
【図６】部材２の上面図である。
【図７】部材２の詳細拡大図である。
【図８】本発明ジグの組立て図である。
【図９】本発明ジグの吸引配管図である。
【図１０】本発明の実施適用図である。
【図１１】図１０で示すジグの拡大図である。
【図１２】本発明の実施プロセス図であって、（ａ）は水没した状態を示す図、（ｂ）引き上げた状態を示す図、（ｃ）は引き上げ吸引した状態を示す図、及び（ｄ）は乾燥移し替えした状態を示す図である。
【符号の説明】
【００２６】
１ 部材１
２ 部材２
３ 連通口
４ 基板
５ 取り付け台
６ キャリア駆動軸
７ ジグ駆動軸
８ 洗浄乾燥用キャリア
９ 支持棒
１０ エジャクター
１１ 気液分離タンク
１２ 配管
１３ バルブ

【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体の基板洗浄後の温水引き上げ乾燥方式又は、マランゴニー乾燥方式において、縦置きに配列された複数枚の被乾燥基板の外形を支持し、支持部を剣先形状にすることにより基板との接点を小さくし、且つ支持部に液滴を吸引する開口を有することを特徴とする乾燥ジグ。
【請求項２】
請求項１のジグにおいて、基板を支える為に必要なV形状の支持部材１と、吸引に必要な連通口をが形成された部材２を組み合わせることにより、基板を垂直に支持し且つ、基盤と支持板の接点部に吸引口が形成できることを特徴とする乾燥ジグ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の乾燥ジグを用い温水引き上げ乾燥又は、マランゴニー乾燥において被乾燥基板を支持し乾燥を行なうことを特徴とする乾燥方式。
【請求項４】
請求項３の方式において、被乾燥基板と、洗浄用キャリアを別々に引き上げ乾燥させることを特徴とする乾燥方式。
【請求項５】
請求項１または２に記載のジグを用い請求項３または４の乾燥方式を採用したことを特徴とする乾燥装置。
【請求項６】
磁気記録媒体の製造方法において、請求項５に記載の乾燥装置により乾燥を行なうことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【公開番号】特開２００９−２９５６７２（Ｐ２００９−２９５６７２Ａ）
【公開日】平成２１年１２月１７日（２００９．１２．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１４５７６３（Ｐ２００８−１４５７６３）
【出願日】平成２０年６月３日（２００８．６．３）
【出願人】（５０３３６１２４８）富士電機デバイステクノロジー株式会社 (1,023)
【出願人】（０００１０７７３４）スピードファムクリーンシステム株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】