偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
【課題】偏光子を薄型化した場合にも、カールの発生を抑えられる偏光子を有する偏光板の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする工程（２）、および前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる工程（３）、を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【解決手段】基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする工程（２）、および前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる工程（３）、を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板の製造方法に関する。当該製造方法により得られた偏光板はこれ単独で、またはこれを積層した光学フィルムとして液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置、ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＯＬＥＤ等の画像表示装置を形成しうる。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置（特に液晶表示装置）には偏光板が用いられている。偏光板は、明るく、色の再現性が良い画像を提供するために、高い透過率と高い偏光度を兼ね備えることが必要とされている。このような偏光板は、偏光子の片面または両面に透明保護フィルムを接着剤により貼り合わせたものが用いられている。透明保護フィルムとしては、透湿度の高いトリアセチルセルロース等が用いられる。
【０００３】
偏光子は、従来、ポリビニルアルコール系フィルムに、二色性を有するヨウ素または二色性染料等の二色性物質を配向させることにより製造されている。具体的には、例えば、原反ロールから繰り出されるポリビニルアルコール系フィルムに、膨潤処理、染色処理、架橋処理、延伸処理、水洗処理、乾燥処理等を施すことにより得られる（特許文献１）。
【０００４】
上記製造方法では、原反ロールのポリビニルアルコール系フィルムを用いるため、フィルムの取り扱い性等が考慮される結果、得られる偏光子の厚さを薄くするには限界があった。従って、上記製造方法により得られる偏光子の厚みは、通常、３０μｍを超えるものであった。しかし、偏光子の厚みが厚くなると、当該偏光子またはこれを用いた偏光板の収縮応力が大きくなって、これらを液晶表示装置等の画像表示装置に貼り合わせた際に、カールが発生して光漏れを生じることが問題となっている。一方、原反ロールのポリビニルアルコール系フィルムは、厚み３０μｍ程度の薄膜であることから、延伸処理等によってフィルムが切断される等の生産性の問題もあった。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３４１５１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、偏光子を薄型化した場合にも、カールの発生を抑えられる偏光子を有する偏光板の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
また本発明は前記製造方法により得られた偏光板を提供すること、当該偏光板を積層した光学フィルムを提供すること、さらには、当該偏光板、光学フィルムを用いた液晶表示装置等の画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す偏光板の製造方法等により前記目的に達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法、に関する。
【００１０】
また本発明は、基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ｂ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法、に関する。
【００１１】
前記偏光板の製造方法において、親水性高分子層を形成する親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系樹脂が好適である。
【００１２】
前記偏光板の製造方法において、延伸積層体における親水性高分子層の厚みが、０．５〜３０μｍであることが好ましい。
【００１３】
前記偏光板の製造方法において、さらに、前記積層体の親水性高分子層に、架橋処理を施す架橋工程（４）を有することができる。
【００１４】
前記偏光板の製造方法において、前記工程（１ａ）乃至（３）、または工程（１ｂ）乃至（３）を施した後、を施した後、得られた延伸積層体における親水性高分子層を、他の基材に転写する工程を有することができる。
【００１５】
また本発明は、前記製造方法により得られた偏光板、に関する。
【００１６】
また本発明は、前記偏光板が、少なくとも１枚積層されていることを特徴とする光学フィルム、に関する。
【００１７】
さらに本発明は、前記偏光板または前記光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置、に関する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の偏光板の製造方法によれば、工程（１ａ）により、基材層上に親水性高分子層が積層した積層体、または工程（１ｂ）により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体を形成した後に、当該積層体に、延伸工程（２）を施して延伸積層体にし、かつ染色工程（３）により親水性高分子層に二色性物質を吸着させている。こうして得られて本発明の偏光板は、前記積層体が延伸処理された延伸積層体であり、当該延伸積層体における親水性高分子層が、二色性物質が吸着されることで偏光子として機能する。前記偏光子である親水性高分子層は、基材層に積層されて、これらが一体として偏光板を形成しているため、薄層の親水性高分子層（偏光子）の形成が可能である。このように、本発明の偏光板が有する偏光子は、基材層と一体化した薄型化が可能であることから、本発明の偏光板は液晶表示装置に貼り合わせた場合においても偏光板の収縮応力を小さく制御でき、偏光板にカールが発生することにより生じる光漏れを押さえることができる。
【００１９】
また、前述の通り、本発明の製造方法では、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体が延伸処理されるが、基材層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体として延伸されるため、本発明の製造方法で得られる偏光子（偏光板）は、従来のポリビニルアルコール系フィルムから得られる偏光子に比べて薄層のものが得られるにも拘らず、従来のポリビニルアルコール系フィルムのみを延伸することにより得られる偏光子に比べて、均一な延伸が可能であり、偏光子の配向性（吸収軸のバラツキ）を抑制でき、偏光子（偏光板）の特性を向上することができる。また、本発明の製造方法で得られる偏光板は、薄膜のポリビニルアルコール系フィルムを用いる代わりに、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体に対して延伸処理が施されるため、延伸処理時におけるフィルム切断等の問題を低減でき、従来の偏光子の製造方法に比べて、生産性を向上することができる。また、本発明で得られた偏光板は、親水性高分子層の片側には基材層を有するため、当該基材層をそのまま、偏光子の透明保護フィルムとして用いることができ、この点から偏光板の生産性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の偏光板の製造方法では、まず、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体を調製する。かかる積層体の調製は、基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、または、基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ｂ）、により行うことができる。
【００２１】
前記工程（１ａ）または工程（１ｂ）の基材層には、従来、偏光子の透明保護フィルムとして用いられていたものも用いることができる。前記基材層を構成する材料としては、例えば透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性などに優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびこれらの混合物があげられる。また前記基材層は、親水性高分子層との密着性を向上するため、プライマー層（下塗り層）等の薄層が形成されていてもよい。一方、前記工程（１ａ）乃至工程（３）、または工程（１ｂ）乃至工程（３）を施した後、得られた延伸積層体における親水性高分子層を、他の基材に転写する工程を施す場合には、前記基材層は、親水性高分子層との剥離を容易にするため、剥離層を形成することができる。
【００２２】
基材層には、前記材料の他に、任意の適切な添加剤が１種類以上含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などがあげられる。基材層中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００重量％、より好ましくは５０〜９９重量％、さらに好ましくは６０〜９８重量％、特に好ましくは７０〜９７重量％である。基材層中の上記熱可塑性樹脂の含有量が５０重量％以下の場合、熱可塑性樹脂が本来有する高透明性等が十分に発現できないおそれがある。
【００２３】
また、基材層の材料としては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、（Ａ）側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換および／または非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物があげられる。具体例としてはイソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムがあげられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。これらのフィルムは位相差が小さく、光弾性係数が小さいため偏光板の歪みによるムラなどの不具合を解消することができ、また透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。
【００２４】
基材層の厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍ程度である。特に１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。基材層の厚さは、５〜１５０μｍの場合に特に好適である。
【００２５】
本発明の基材層の材料としては、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂および（メタ）アクリル樹脂から選ばれるいずれか少なくとも１つを用いるのが好ましい。
【００２６】
セルロース樹脂は、セルロースと脂肪酸のエステルである。このようセルロースエステル系樹脂の具体例としでは、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネート等があげられる。これらのなかでも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルローストリアセテートは多くの製品が市販されており、入手容易性やコストの点でも有利である。セルローストリアセテートの市販品の例としては、富士写真フイルム社製の商品名「ＵＶ−５０」、「ＵＶ−８０」、「ＳＨ−８０」、「ＴＤ−８０U」、「ＴＤ−ＴＡＣ」、「ＵＺ−ＴＡＣ」や、コニカ社製の「ＫＣシリーズ」等があげられる。一般的にこれらセルローストリアセテートは、面内位相差（Ｒｅ）はほぼゼロであるが、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）は、〜６０ｎｍ程度を有している。
【００２７】
なお、厚み方向位相差が小さいセルロース樹脂フィルムは、例えば、上記セルロース樹脂を処理することにより得られる。例えばシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤を塗工したポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ステンレスなどの基材フィルムを、一般的なセルロース系フィルムに貼り合わせ、加熱乾燥（例えば８０〜１５０℃で３〜１０分間程度）した後、基材フィルムを剥離する方法；ノルボルネン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂などをシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤に溶解した溶液を一般的なセルロース樹脂フィルムに塗工し加熱乾燥（例えば８０〜１５０℃で３〜１０分間程度）した後、塗工フィルムを剥離する方法などがあげられる。
【００２８】
また、厚み方向位相差が小さいセルロース樹脂フィルムとしては、脂肪置換度を制御した脂肪酸セルロース系樹脂フィルムを用いることができる。一般的に用いられるトリアセチルセルロースでは酢酸置換度が２．８程度であるが、好ましくは酢酸置換度を１．８〜２．７に制御することによってＲｔｈを小さくすることができる。上記脂肪酸置換セルロース系樹脂に、ジブチルフタレート、ｐ−トルエンスルホンアニリド、クエン酸アセチルトリエチル等の可塑剤を添加することにより、Ｒｔｈを小さく制御することができる。可塑剤の添加量は、脂肪酸セルロース系樹脂１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下、より好ましくは１〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１５重量部である。
【００２９】
ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等があげられる。環状ポリオレフィン樹脂の具体的としては、好ましくはノルボルネン系樹脂である。環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１−２４０５１７号公報、特開平３−１４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報等に記載されている樹脂があげられる。具体例としては、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとその共重合体（代表的にはランダム共重合体）、および、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、ならびに、それらの水素化物などがあげられる。環状オレフィンの具体例としては、ノルボルネン系モノマーがあげられる。
【００３０】
環状ポリオレフィン樹脂としては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン株式会社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学株式会社製の商品名「ＡＰＥＬ」があげられる。
【００３１】
（メタ）アクリル系樹脂としては、Ｔｇ（ガラス転移温度）が好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１２５℃以上、特に好ましくは１３０℃以上である。Ｔｇが１１５℃以上であることにより、偏光板の耐久性に優れたものとなりうる。上記（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定きれないが、成形性当の観点から、好ましくは１７０℃以下である。（メタ）アクリル系樹脂からは、面内位相差（Ｒｅ）、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）がほぼゼロものフィルムを得ることができる。
【００３２】
（メタ）アクリル系樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な（メタ）アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、脂環族炭化水素基を有する重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体など）があげられる。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキルがあげられる。より好ましくはメタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂があげられる。
【００３３】
（メタ）アクリル系樹脂の具体例として、例えば、三菱レイヨン株式会社製のアクリペットＶＨやアクリペットＶＲＬ２０Ａ、特開２００４−７０２９６号公報に記載の分子内に環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Ｔｇ（メタ）アクリル樹脂系があげられる。
【００３４】
（メタ）アクリル系樹脂としては、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いることもできる。ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報などに記載のものがあげられる。
【００３５】
また、（メタ）アクリル系樹脂としては、不飽和カルボン酸アルキルエステルの構造単位およびグルタル酸無水物の構造単位を有するアクリル樹脂を用いることができる。前記アクリル樹脂としては、特開２００４−７０２９０号公報、特開２００４−７０２９６号公報、特開２００４−１６３９２４号公報、特開２００４−２９２８１２号公報、特開２００５−３１４５３４号公報、特開２００６−１３１８９８号公報、特開２００６−２０６８８１号公報、特開２００６−２６５５３２号公報、特開２００６−２８３０１３号公報、特開２００６−２９９００５号公報、特開２００６−３３５９０２号公報などに記載のものがあげられる。
【００３６】
また、（メタ）アクリル系樹脂としては、グルタルイミド単位、（メタ）アクリル酸エステル単位、および芳香族ビニル単位を有する熱可塑性樹脂を用いることができる。当該熱可塑性樹脂としては、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報などに記載のものがあげられる。
【００３７】
前記工程（１ａ）または工程（１ｂ）の積層体の調製において、親水性高分子層の形成に用いる親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料があげられる。ポリビニルアルコール系材料としては、例えば、ポリビニルアルコールおよびその誘導体があげられる。ポリビニルアルコールの誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等があげられる他、エチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸そのアルキルエステル、アクリルアミド等で変性したものがあげられる。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜１００００程度が好ましく、１０００〜１００００がより好ましい。ケン化度は８０〜１００モル％程度のものが一般に用いられる。上記の他、親水性高分子としては、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等があげられる。前記親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料のなかでも、ポリビニルアルコールを用いるのが好ましい。
【００３８】
前記ポリビニルアルコール系樹脂中には、可塑剤、界面活性剤等の添加剤を含有することもできる。可塑剤としては、ポリオールおよびその縮合物等があげられ、たとえばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等があげられる。可塑剤等の使用量は、特に制限されないがポリビニルアルコール系樹脂中２０重量％以下とするのが好適である。
【００３９】
前記工程（１ａ）または工程（１ｂ）により調製される積層体は、前記基材層と親水性高分子層が積層されているものである。当該積層体における親水性高分子層の厚さは、当該積層物に、延伸工程（２）を施すことにより得られる延伸積層物における親水性高分子層（延伸物）の厚みに応じて適宜に設定することができる。前記延伸積層物における親水性高分子層（延伸物）の厚みは、偏光子を薄型として用いることを重視する観点から、０．５〜３０μｍであることが好ましく、さらには１〜２０μｍ、さらには２〜１０μｍである。親水性高分子層（延伸物）の厚みが０．５μｍ未満では、製造時の厚みバラツキの影響が大きくなり、外観不良が生じ易くなるので好ましくない。
【００４０】
積層体における親水性高分子層の厚さは、延伸処理により延伸または収縮が生じて、上記の厚さになる。従って、積層体における親水性高分子層の厚さは、通常、１〜５０μｍ程度、さらには２〜３０μｍとするのが好ましい。また、積層体における親水性高分子層は、水分率が、１〜２０重量％、さらには２〜１５重量％であるのが、当該積層体に延伸処理等を施すうえで好ましい。
【００４１】
なお、積層体、延伸積層体における親水性高分子層の厚さ、水分率の測定は、親水性高分子層を基材層から剥がした後に測定することができる。厚さの測定は、厚みゲージ等により行う。水分率の測定は、基材層から剥離した親水性高分子層を１００×１００ｍｍの大きさに切り出して、このサンプルの初期重量を測定した。続いて、このサンプルを１２０℃で２時間乾燥し、乾燥重量を測定して、下記式により水分率を測定した。水分率（重量％）＝{（初期重量−乾燥重量）／初期重量}×１００。重量の測定はそれぞれ３回ずつ行い、その平均値を用いた。
【００４２】
前記工程（１ａ）では、前記積層体を、基材層に、親水性高分子を含有する水溶液を塗工した後に、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成することにより得ることができる。かかる塗工により、基材層と親水性高分子層は、プライマー層もしくは剥離層を介して、または、基材層と親水性高分子層が、直接、積層し、基材層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体が得られる。前記水溶液は、親水性高分子の粉末または親水性高分子フィルムの粉砕物、切断物等を、適宜に加熱した水（熱水）に溶解することにより調製することができる。前記水溶液の基材層上への塗工は、塗工法は、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを適宜に選択して採用できる。基材層がプライマー層または剥離層を有する場合には当該プライマー層または剥離層に、プライマー層を有しない場合には基材層に、直接、前記水溶液を塗工する。なお、乾燥温度は、通常、５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０℃であり、乾燥時間は、通常、５〜３０分間程度である。
【００４３】
一方、前記工程（１ｂ）では、前記積層体を、基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により形成することができる。かかる共押出により基材層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体が得られる。共押出にあたっては、基材層の材料および親水性高分子層の材料を、それぞれ各層の形成材として共押出機に仕込み、共押出される基材層および親水性高分子層の厚さが、前記範囲になるように制御することが好ましい。
【００４４】
本発明の偏光板の製造方法では、前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、を施す。延伸工程（２）により、延伸積層体が得られる。染色工程（３）により、当該延伸積層体の親水性高分子層に二色性物質による染色処理が施され、得られる親水性高分子層には二色性物質が吸着されて偏光子として機能するようになる。
【００４５】
延伸工程（２）は、前記積層体に、通常、一軸延伸を施すことにより行う。一軸延伸は、前記積層体の長手方向に対して行う縦延伸、前記積層体の幅方向に対して行う横延伸のいずれも採用することができる。本発明では横延伸により行うことが好ましい。横延伸では、幅方向に延伸を行いながら、長手方向に収縮させることもできる。横延伸方式としては、例えば、テンターを介して一端を固定した固定端一軸延伸方法や、一端を固定しない自由端一軸延伸方法等があげられる。縦延伸方式としては、ロール間延伸方法、圧縮延伸方法、テンターを用いた延伸方法等があげられる。延伸処理は多段で行うこともできる。また、延伸処理は、二軸延伸、斜め延伸などを施すことにより行うことができる。
【００４６】
また、延伸処理は、湿潤式延伸方法と乾式延伸方法のいずれも採用できるが、本発明では乾式延伸方法を用いるのが、前記積層体を延伸する際の温度範囲を広く設定することができる点で好ましい。乾式延伸方法では、通常、前記積層体を、５０〜２００℃程度、好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃に加熱した状態で延伸処理が行われる。
【００４７】
延伸処理では、前記積層体の元長に対して、総延伸倍率で１．５〜１７倍の範囲になるように行う。好ましくは１．５〜１０倍、さらに好ましくは１．５〜８倍である。なお、前記総延伸倍率は、延伸処理工程以外の工程等において延伸を伴う場合には、それらの工程における延伸を含めた累積の延伸倍率をいう。総延伸倍率は、他の工程等における延伸倍率を考慮して適宜に決定される。総延伸倍率が低いと、配向が不足して、高い光学特性（偏光度）の偏光子が得られにくい。一方、総延伸倍率が高すぎると延伸切れが生じ易くなり、また偏光子が薄くなりすぎて、続く工程での加工性が低下するおそれがある。
【００４８】
染色工程（３）は、前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させることより行う。二色性物質としては、例えば、ヨウ素や有機染料等があげられる。有機染料としては、例えば、レッドＢＲ、レッドＬＲ、レッドＲ、ピンクＬＢ、ルビンＢＬ、ボルドーＧＳ、スカイブルーＬＧ、レモンエロー、ブルーＢＲ、ブルー２Ｒ、ネイビーＲＹ、グリーンＬＧ、バイオレットＬＢ、バイオレットＢ、ブラックＨ、ブラックＢ、ブラックＧＳＰ、エロー３Ｇ、エローＲ、オレンジＬＲ、オレンジ３Ｒ、スカーレットＧＬ、スカーレットＫＧＬ、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットＢＫ、スプラブルーＧ、スプラブルーＧＬ、スプラオレンジＧＬ、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジＳ、ファーストブラック、等が使用できる。これらの二色性物質は、一種類でも良いし、二種類以上を併用して用いても良い。
【００４９】
染色処理は、例えば、前記二色性物質を含有する溶液（染色溶液）に、前記積層体を浸漬することにより行う。前記染色溶液としては、前記二色性物質を溶媒に溶解した溶液が使用できる。前記溶媒としては、水が一般的に使用されるが、水と相溶性のある有機溶媒がさらに添加されても良い。二色性物質の濃度としては、０．０１〜１０重量％の範囲にあることが好ましく、０．０２〜７重量％の範囲にあることがより好ましく、０．０２５〜５重量％であることが特に好ましい。
【００５０】
また、前記二色性物質としてヨウ素を使用する場合、染色効率をより一層向上できることから、さらにヨウ化物を添加することが好ましい。このヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらヨウ化物の添加割合は、前記染色溶液において、０．０１〜１０重量％であることが好ましく、０．１〜５重量％であることがより好ましい。これらのなかでも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましく、ヨウ素とヨウ化カリウムの割合（重量比）は、１：５〜１：１００の範囲にあることが好ましく、１：６〜１：８０の範囲にあることがより好ましく、１：７〜１：７０の範囲にあることが特に好ましい。
【００５１】
前記染色溶液への積層体の浸漬時間は、特に限定されないが、通常は、１５秒〜５分間の範囲であることが好ましく、１分〜３分間であることがより好ましい。また、染色溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜４０℃の範囲にあることがより好ましい。
【００５２】
また、染色処理としては、前述のような染色溶液に浸漬する方法以外に、例えば、二色性物質を含む溶液を前記積層体に塗工または噴霧する方法であってもよい。また、前記親水性高分子層を形成するための溶液または形成材に二色性物質をあらかじめ混ぜておいても良い。
【００５３】
染色処理は、前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させて、二色性物質を配向させる。前記染色工程（３）は、前記延伸工程（２）の前、同時または後に施すことができるが、親水性高分子層に吸着させた二色性物質を良好に配向させる点から、染色工程（３）は、前記積層体に延伸工程（２）を施した後に行うのが好ましい。
【００５４】
本発明の偏光板の製造方法では、前記延伸工程（２）および染色工程（３）に加えて、架橋工程（４）を施すことができる。架橋処理は、例えば、架橋剤を含む溶液（架橋溶液）中に前記積層体を浸漬してことにより行うことができる。架橋剤としては、従来公知の物質が使用できる。例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物や、グリオキザール、グルタルアルデヒド等があげられる。これらは一種類でも良いし、二種類以上を併用しても良い。
【００５５】
前記架橋溶液としては、前記架橋剤を溶媒に溶解した溶液が使用できる。前記溶媒としては、例えば水が使用できるが、さらに、水と相溶性のある有機溶媒を含んでも良い。前記溶液における架橋剤の濃度は、これに限定されるものではないが、１〜１０重量％の範囲にあることが好ましく、２〜６重量％であることがより好ましい。
【００５６】
前記架橋溶液中には、偏光子の面内の均一な特性が得られる点から、ヨウ化物を添加してもよい。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンがあげられ、この含有量は０．０５〜１５重量％、より好ましくは０．５〜８重量％である。
【００５７】
前記架橋溶液への前記積層体の浸漬時間は、通常、１５秒〜５分間であることが好ましく、３０秒〜３分間であることがより好ましい。また、架橋溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜５０℃の範囲にあることがより好ましい。
【００５８】
さらに、架橋工程（４）も染色工程（３）と同様に、架橋溶液を塗工または噴霧する方法を用いても行うことができる。架橋工程（４）は、前記架橋剤を染色溶液中に配合することにより、架橋工程（４）と前記染色工程（３）とを同時に行うことができる。また、架橋工程（４）を延伸工程（２）と行ってもよい。
【００５９】
本発明の偏光板には、前記処理の他に、金属イオン処理を施すことができる。金属イオン処理は、金属塩を含む水溶液に、前記積層体を浸漬することにより行う。金属イオン処理により、種々の金属イオンを前記積層体の親水性高分子層中に含有させることができる。
【００６０】
金属イオンとしては、特に色調調整や耐久性付与の点からコバルト、ニッケル、亜鉛、クロム、アルミニウム、銅、マンガン、鉄などの遷移金属の金属イオンが好ましく用いられる。これら金属イオンのなかでも、色調調整や耐熱性付与などの点から亜鉛イオンが好ましい。亜鉛塩としては、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などがあげられる。
【００６１】
金属イオン含浸処理には、金属塩溶液が用いられる。金属塩溶液中の亜鉛イオンの濃度は、０．１〜１０重量％程度、好ましくは０．３〜７重量％の範囲である。また、金属円溶液はヨウ化カリウム等のヨウ化物を含有させた水溶液を用いるのが金属イオンを含浸させやすく好ましい。金属塩溶液中のヨウ化物濃度は０．１〜１０重量％程度、さらには０．２〜５重量％とするのが好ましい。
【００６２】
金属イオン含浸処理にあたり、金属塩溶液の温度は、通常１５〜８５℃程度、好ましくは２５〜７０℃である。浸漬時間は通常１〜１２０秒程度、好ましくは３〜９０秒間の範囲である。金属イオン含浸処理の段階は特に制限されず、染色溶液および／または架橋溶液中に亜鉛塩を共存させておいて、染色工程（３）および／または架橋工程（４）と同時に行ってもよい。また延伸工程（２）と同時に行うこともできる。
【００６３】
前記処理が施された後には、得られた延伸積層体に、洗浄処理を施すことができる。洗浄処理は、ヨウ化カリウム等のヨウ化物溶液により行うことができる。前記ヨウ化物溶液中のヨウ化物ム濃度は、通常、０．５〜１０重量％程度、さらには０．５〜８重量％、さらには１〜６重量％の範囲である。
【００６４】
ヨウ化物溶液による洗浄処理にあたり、その処理温度は、通常１５〜６０℃程度、好ましくは２５〜４０℃である。浸漬時間は通常１〜１２０秒程度、好ましくは３〜９０秒間の範囲である。ヨウ化物溶液による洗浄処理の段階は、乾燥処理前であれば特に制限はない。
【００６５】
また、洗浄処理としては、水洗浄処理を施すことができる。水洗浄処理は、通常、イオン交換水、蒸留水などの純水に前記延伸積層体を浸漬することにより行うことができる。水洗浄温度は、通常、５〜５０℃、好ましくは１０〜４５℃、さらに好ましくは１５〜４０℃の範囲である。浸漬時間は、通常、１０〜３００秒間、好ましくは２０〜２４０秒間程度である。
【００６６】
前記水洗浄処理は、ヨウ化物溶液による洗浄処理と水洗浄処理を組み合わせてもよく、適宜にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、プロパノール等の液体アルコールを配合した溶液を用いることもできる。
【００６７】
前記洗浄処理の後には乾燥処理を施すことができる。乾燥処理は、任意の適切な方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用されうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常、２０〜８０℃程度であり、乾燥時間は、通常、１〜１０分間程度である。以上のようにして偏光子が得られる。
【００６８】
なお、本発明において用いる偏光板（延伸積層体）における偏光子（親水性高分子層）は、水分率が好ましくは２０重量％以下、より好ましくは０〜１５重量％、さらに好ましくは１〜１５重量％である。水分率が２０重量％より大きいと、得られた偏光板の寸法変化が大きくなり、高温下あるいは高温高湿下における寸法変化が大きくなってしまうという問題が生じるおそれがある。
【００６９】
本発明の製造法で得られた偏光板（延伸積層体）は、親水性高分子層（偏光子）の片側に、基材層を有する。基材層は、偏光板の透明保護フィルムとして、そのまま用いることができる。一方、親水性高分子層における基材層のない側には、透明保護フィルムを貼り合わせることができる。また、親水性高分子層を基材層から剥離した後に、当該親水性高分子層の両側に透明保護フィルムを貼り合わせることができる。また、得られた延伸積層体における親水性高分子層は、他の基材に転写することができる。転写は、親水性高分子層に他の基材（例えば、透明保護フィルム）を貼り合わせた後に、基材層を剥離することにより行うことができ、また、基材層から親水性高分子層を剥離した後に、当該親水性高分子層を他の基材に貼り合わすことにより行うことができる。
【００７０】
透明保護フィルムとしては、前記基材層として例示したものと同様の材料を用いることができうる。透明保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍ程度である。特に１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。透明保護フィルムは、５〜１５０μｍの場合に特に好適である。
【００７１】
なお、親水性高分子層（偏光子）の両側に透明保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる透明保護フィルム（基材層を含めて）を用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる透明保護フィルムを用いてもよい。
【００７２】
前記透明保護フィルムは、正面位相差が４０ｎｍ未満、かつ、厚み方向位相差が８０ｎｍ未満であるものが、通常、用いられる。正面位相差Ｒｅは、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、で表わされる。厚み方向位相差Ｒｔｈは、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄ、で表される。また、Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）、で表される。［ただし、フィルムの遅相軸方向、進相軸方向及び厚さ方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）はフィルムの厚みとする。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率の最大となる方向とする。］。なお、透明保護フィルムは、できるだけ色付きがないことが好ましい。厚み方向の位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍである保護フィルムが好ましく用いられる。かかる厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍのものを使用することにより、透明保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）をほぼ解消することができる。厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍ、特に−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。
【００７３】
一方、前記透明保護フィルムとして、正面位相差が４０ｎｍ以上および／または、厚み方向位相差が８０ｎｍ以上の位相差を有する位相差板を用いることができる。正面位相差は、通常、４０〜２００ｎｍの範囲に、厚み方向位相差は、通常、８０〜３００ｎｍの範囲に制御される。透明保護フィルムとして位相差板を用いる場合には、当該位相差板が透明保護フィルムとしても機能するため、薄型化を図ることができる。
【００７４】
位相差板としては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板の厚さも特に制限されないが、２０〜１５０μｍ程度が一般的である。
【００７５】
高分子素材としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などがあげられる。これらの高分子素材は延伸等により配向物（延伸フィルム）となる。前記高分子素材のなかでも、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等は、非液晶性材料によって、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ（二軸性フィルム）、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ（ネガティブＣプレート）を形成することができる。
【００７６】
液晶ポリマーとしては、例えば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどをあげられる。主鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサー部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサー部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これらの液晶ポリマーは、例えば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化ケイ素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。
【００７７】
位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであって良く、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであっても良い。
【００７８】
位相差板は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、の関係を満足するものが、各種用途に応じて選択して用いられる。なお、ｎｙ＝ｎｚとは、ｎｙとｎｚが完全に同一である場合だけでなく、実質的にｎｙとｎｚが同じ場合も含む。
【００７９】
例えば、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、を満足する位相差板では、正面位相差は４０〜１００ｎｍ、厚み方向位相差は１００〜３２０ｎｍ、Ｎｚ係数は１．８〜４．５を満足するものを用いるのが好ましい。例えば、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、を満足する位相差板（ポジティブＡプレート）では、正面位相差は１００〜２００ｎｍを満足するものを用いるのが好ましい。例えば、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙ、を満足する位相差板（ネガティブＡプレート）では、正面位相差は１００〜２００ｎｍを満足するものを用いるのが好ましい。例えば、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、を満足する位相差板では、正面位相差は１５０〜３００ｎｍ、Ｎｚ係数は０を超え〜０．７を満足するものを用いるのが好ましい。また、上記の通り、例えば、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ、またはｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、を満足する用いることができる。
【００８０】
透明保護フィルムは、適用される液晶表示装置に応じて適宜に選択できる。例えば、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ，ＭＶＡ，ＰＶＡ含む）の場合は、偏光板の少なくとも片方（セル側）の透明保護フィルムが位相差を有している方が望ましい。具体的な位相差として、Ｒｅ＝０〜２４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝０〜５００ｎｍの範囲である事が望ましい。三次元屈折率で言うと、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの場合が望ましい。液晶セルの上下に偏光板を使用する際、液晶セルの上下共に、位相差を有している、または上下いずれかの透明保護フィルムが位相差を有していてもよい。
【００８１】
例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌaｎe Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＦＦＳ含む）の場合、偏光板の片方の透明保護フィルムが位相差を有している場合、有していない場合のいずれも使用できる。例えば、位相差を有していない場合は、液晶セルの上下（セル側）ともに位相差を有していない場合が望ましい。位相差を有している場合は、液晶セルの上下ともに位相差を有している場合、上下のいずれかが位相差を有している場合が望ましい（例えば、上側にＺ化、下側に位相差なしの場合や、上側にＡプレート、下側にポジティブＣプレートの場合）。位相差を有している場合、Ｒｅ＝−５００〜５００ｎｍ、Ｒｔｈ＝−５００〜５００ｎｍの範囲が望ましい。三次元屈折率で言うと、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙが望ましい。
【００８２】
なお、前記位相差を有するフィルムは、位相差を有しない透明保護フィルムに、別途、貼り合せて上記機能を付与することができる。
【００８３】
前記親水性高分子層（偏光子）に、透明保護フィルムは、通常、接着剤により貼り合わされるが、前記接着剤を塗工する前に、表面改質処理を行ってもよい。具体的な処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、ケン化処理、カップリング剤による処理などがあげられる。
【００８４】
前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであってもよい。
【００８５】
ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層（例えば、バックライト側の拡散板）との密着防止を目的に施される。
【００８６】
またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて透明保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜７０重量部程度であり、５〜５０重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
【００８７】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。
【００８８】
前記ハードコート層としては、鉛筆硬度が４Ｈ以上となるハードコート層が好ましい。当該ハードコート層の材料としては、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含むハードコート層形成用樹脂を用いて形成されたものが挙げられる。かかるハードコート層については、本出願人による特願２００６−２３９１３７号に記載されている。
（Ａ）成分：ウレタンアクリレートおよびウレタンメタクリレートの少なくとも一方。
（Ｂ）成分：ポリオールアクリレートおよびポリオールメタクリレートの少なくとも一方
（Ｃ）成分：下記（Ｃ１）及び下記（Ｃ２）の少なくとも一方から形成されるポリマー若しくはコポリマー又は前記ポリマーとコポリマーの混合ポリマー。
（Ｃ１）：水酸基及びアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキルアクリレート。
（Ｃ２）：水酸基及びアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキルメタクリレート。
【００８９】
前記偏光子と透明保護フィルムとの接着処理には、接着剤が用いられる。接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリエステル等を例示できる。前記接着剤は、通常、水溶液からなる接着剤として用いられ、通常、０．５〜６０重量％の固形分を含有してなる。上記の他、偏光子と透明保護フィルムとの接着剤としては、紫外硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等があげられる。電子線硬化型偏光板用接着剤は、上記各種の透明保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。特に、接着性を満足することが困難であったアクリル樹脂に対しても良好な接着性を示す。また本発明で用いる接着剤には、金属化合物フィラーを含有させることができる。
【００９０】
本発明の偏光板は、実用に際して他の光学層と積層した光学フィルムとして用いることができる。その光学層については特に限定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／２や１／４等の波長板を含む）、視角補償フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層を１層または２層以上用いることができる。特に、本発明の偏光板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。
【００９１】
反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【００９２】
反射型偏光板の具体例としては、必要に応じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。また前記透明保護フィルムに微粒子を含有させて表面微細凹凸構造とし、その上に微細凹凸構造の反射層を有するものなどもあげられる。前記した微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させて指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点などを有する。また微粒子含有の透明保護フィルムは、入射光及びその反射光がそれを透過する際に拡散されて明暗ムラをより抑制しうる利点なども有している。透明保護フィルムの表面微細凹凸構造を反映させた微細凹凸構造の反射層の形成は、例えば真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式などの適宜な方式で金属を透明保護層の表面に直接付設する方法などにより行うことができる。
【００９３】
反射板は前記の偏光板の透明保護フィルムに直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお反射層は、通常、金属からなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などより好ましい。
【００９４】
なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。
【００９５】
偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える位相差板としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板とも言う）が用いられる。１／２波長板（λ／２板とも言う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。
【００９６】
楕円偏光板はスーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色（青又は黄）を補償（防止）して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）することができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。上記した位相差板の具体例としては、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。
【００９７】
また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板は、偏光板又は反射型偏光板と位相差板を適宜な組み合わせで積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射型）偏光板と位相差板の組み合わせとなるようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっても形成しうるが、前記の如く予め楕円偏光板等の光学フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点がある。
【００９８】
視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるためのフィルムである。このような視角補償位相差板としては、例えば位相差フィルム、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いうる。
【００９９】
また良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリアセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いうる。
【０１００】
偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部又は全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るような偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。
【０１０１】
輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にもどす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。
【０１０２】
前記の輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。
【０１０３】
従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を透過するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。
【０１０４】
可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの淡色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層又は２層以上の位相差層からなるものであってよい。
【０１０５】
なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層又は３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。
【０１０６】
また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と２層又は３層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。
【０１０７】
偏光板に前記光学層を積層した光学フィルムは、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学フィルムとしたものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板やその他の光学フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。
【０１０８】
前述した偏光板や、偏光板を少なくとも１層積層されている光学フィルムには、液晶セル等の他部材と接着するための粘着層を設けることもできる。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
【０１０９】
また上記に加えて、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層が好ましい。
【０１１０】
粘着層は、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層などであってもよい。
【０１１１】
偏光板や光学フィルムの片面又は両面への粘着層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解又は分散させた１０〜４０重量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で偏光板上または光学フィルム上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれを偏光板上または光学フィルム上に移着する方式などがあげられる。
【０１１２】
粘着層は、異なる組成又は種類等のものの重畳層として偏光板や光学フィルムの片面又は両面に設けることもできる。また両面に設ける場合に、偏光板や光学フィルムの表裏において異なる組成や種類や厚さ等の粘着層とすることもできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、一般には１〜４０μｍであり、５〜３０μｍが好ましく、特に１０〜２５μｍが好ましい。１μｍより薄いと耐久性が悪くなり、また４０μｍより厚いと発泡などによる浮きや剥がれが生じやすく外観不良となる、
【０１１３】
粘着層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚さ条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。
【０１１４】
偏光板と粘着剤層との間の密着性を向上させるために、その層間にアンカー層を設けることもできる。
【０１１５】
上記アンカー層の形成材としては、好ましくは、ポリウレタン、ポリエステル、分子中にアミノ基を含むポリマー類から選ばれるアンカー剤が用いられ、特に好ましくは、分子中にアミノ基を含んだポリマー類である。分子中にアミノ基を含むポリマー類は、分子中のアミノ基が粘着剤中のカルボキシル基等と反応またはイオン性相互作用などの相互作用を示すため、良好な密着性が確保される。
【０１１６】
分子中にアミノ基を含むポリマー類としては、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリビニルピリジン、ポリビニルピロリジン、ジメチルアミノエチルアクリレート等の含アミノ基含有モノマーの重合体などをあげることができる。
【０１１７】
上記アンカー層には、帯電防止性を付与するために、帯電防止剤を添加することもできる。帯電防止性付与のための帯電防止剤としては、イオン性界面活性剤系、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリキノキサリン等の導電性ポリマー系、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム等の金属酸化物系などがあげられるが、特に光学特性、外観、帯電防止効果、および帯電防止効果の加熱、加湿時での安定性という観点から、導電性ポリマー系が好ましく使用される。この中でも、ポリアニリン、ポリチオフェンなどの水溶性導電性ポリマー、もしくは水分散性導電性ポリマーが特に好ましく使用される。帯電防止層の形成材料として水溶性導電性ポリマーや水分散性導電性ポリマーを用いた場合、塗工に際して有機溶剤による光学フィルム基材への変質を抑えることができる。
【０１１８】
なお本発明において、上記した偏光板を形成する偏光子や透明保護フィルムや光学フィルム等、また粘着層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。
【０１１９】
本発明の偏光板または光学フィルムは液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと偏光板または光学フィルム、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による偏光板または光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、などの任意なタイプのものを用いうる。
【０１２０】
液晶セルの片側又は両側に偏光板または光学フィルムを配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による偏光板または光学フィルムは液晶セルの片側又は両側に設置することができる。両側に偏光板または光学フィルムを設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。
【０１２１】
次いで有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
【０１２２】
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１２３】
有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【０１２４】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
【０１２５】
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。
【０１２６】
位相差板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０１２７】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が１／４波長板でしかも偏光板と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【０１２８】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【実施例】
【０１２９】
以下に、本発明の実施例を記載するが、本発明の実施形態はこれらに限定されない。
【０１３０】
＜位相差値の測定＞
位相差値の測定は、平行ニコル回転法を原理とする位相差計〔王子計測機器（株）製，製品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」〕を用いて、波長５９０ｎｍの値について測定した、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの値と、フィルム厚み（ｄ）から、正面位相差Ｒｅ、厚み方向位相差Ｒｔｈ、Ｎｚを求めた。［ただし、フィルムの遅相軸方向、進相軸方向及び厚さ方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）はフィルムの厚みとする。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率の最大となる方向とする。］。
【０１３１】
実施例１
（親水性高分子を含有する水溶液の調製）
（株）クラレ製のポリビニルアルコールフィルム（平均重合度２４００，ケン化度９９モル％、商品名：ＶＦ‐ＰＳ２４００）を、１辺が５ｍｍ以下の小片に裁断し、９５℃の熱水中に溶解して、濃度１０重量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。
【０１３２】
（積層体の作成：親水性高分子層の形成）
基材層として、厚み４０μｍのアクリル系樹脂フィルム（ラクトン化ポリメチルメタクリレートフィルム，Ｒｅ＝２ｎｍ，Ｒｔｈ＝０ｎｍ）を用いた。当該アクリル系樹脂フィルムは、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂[共重合モノマーの重量比：メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２；ラクトン環化率約１００％]９０重量部とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ ＡＳ２０，東洋スチレン(株)製｝１０重量部の混合物（（株）日本触媒製）を溶融押出成膜した後、縦２．０倍、横２．４倍に延伸することにより得た。
【０１３３】
上記アクリル系樹脂フィルムに、上記ポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃で１０分間乾燥させて、親水性高分子層として、厚み５μｍのポリビニルアルコール塗膜を形成した積層体を得た。
【０１３４】
（延伸処理）
上記積層体を、１４３℃の加熱下で、テンター装置を用いて、自由端一軸延伸により、幅方向に、延伸倍率５倍まで延伸して延伸積層体とした。このとき、チャック間距離は１００ｍｍ、延伸速度は２ｍｍ／ｓｅｃとした。この延伸処理後において、ポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１３５】
（染色処理）
次いで、前記延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃で４分間乾燥を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１３６】
実施例２
実施例１において、延伸処理における延伸倍率を３倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１３７】
実施例３
実施例１において、基材層として、厚み５０μｍのポリプロピレンフィルムを用いたこと、延伸処理における延伸倍率を２．４倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１３８】
実施例４
実施例１において、基材層として、厚み５０μｍのノルボルネン系樹脂フィルム（ＪＳＲ（株）製，商品名：アートンフィルム）を用いたこと、親水性高分子層として形成したポリビニルアルコール塗膜の厚みを１５μｍにしたこと、延伸処理における延伸倍率を１．５倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１３９】
実施例５
実施例１において、基材層として、厚み５０μｍのノルボルネン系樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製，商品名：ゼオノアフィルム）を用いたこと、親水性高分子層として形成したポリビニルアルコール塗膜の厚みを１５μｍにしたこと、延伸処理における延伸倍率を３．３倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１４０】
実施例６
実施例１において、延伸処理における延伸倍率を３倍に変えたこと、染色処理を施した後に、さらに、３０℃の３重量％のホウ酸および３重量％のヨウ化カリウムを含有する水溶液に３０秒間浸漬する処理を施した後に、６０℃で４分間乾燥を行ったこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１４１】
実施例７
実施例１において、延伸処理を、１４３℃の加熱下で、テンター装置を用いて、固定端（幅方向をチャックした状態）で一軸延伸により、幅方向に、延伸倍率２．２倍まで延伸して延伸積層体としたこと（このとき、チャック間距離は１００ｍｍ、延伸速度は２ｍｍ／ｓｅｃとした。延伸処理後のポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。）以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１４２】
実施例８
実施例７において、延伸処理における延伸倍率を２．４倍に変えたこと以外は実施例７と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１４３】
［評価］
実施例で得られた、偏光板について下記評価を行った。なお、実施例で得られた偏光板は、その片側（偏光子層表面：ポリビニルアルコール塗膜の表面）には、透明保護フィルムとして、厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤により貼り合わせたものを評価に供した。結果を表１に示す。
【０１４４】
（光学特性測定方法）
得られた偏光板の光学特性を、積分球付き分光光度計（日本分光株式会社製のＶ７１００）にて測定した。各直線偏光に対する透過率はグランテラ‐プリズム偏光子を通して得られた完全偏光を１００％として測定した。単体透過率（Ｔｓ）、平行透過率（Ｈ0）および直交透過率（Ｈ90）を、波長５５０ｎｍで測定し、その値から下記式により偏光度（Ｐ）を求めた。なお、これらの透過率は、ＪｌＳＺ ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により、視感度補正を行ったＹ値である。
偏光度（％）＝｛（Ｈ0−Ｈ90）／（Ｈ0＋Ｈ90）｝1/2×１００
単体透過率（Ｔｓ）は、４０％以上、偏光度は９９％以上であるのが、液晶表示装置に適用できる目標値として設定される。実施例で得られた偏光板は、前記単体透過率（Ｔｓ）、偏光度の目標値を満足するものであった。
【０１４５】
【表１】
【０１４６】
実施例で得られた偏光板は、偏光子（ポリビニルアルコール塗膜）が薄型であるにも拘らず、カールの発生が抑えられているものであった。また、延伸処理における、切断等の不具合が認められなかった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板の製造方法に関する。当該製造方法により得られた偏光板はこれ単独で、またはこれを積層した光学フィルムとして液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置、ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＯＬＥＤ等の画像表示装置を形成しうる。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置（特に液晶表示装置）には偏光板が用いられている。偏光板は、明るく、色の再現性が良い画像を提供するために、高い透過率と高い偏光度を兼ね備えることが必要とされている。このような偏光板は、偏光子の片面または両面に透明保護フィルムを接着剤により貼り合わせたものが用いられている。透明保護フィルムとしては、透湿度の高いトリアセチルセルロース等が用いられる。
【０００３】
偏光子は、従来、ポリビニルアルコール系フィルムに、二色性を有するヨウ素または二色性染料等の二色性物質を配向させることにより製造されている。具体的には、例えば、原反ロールから繰り出されるポリビニルアルコール系フィルムに、膨潤処理、染色処理、架橋処理、延伸処理、水洗処理、乾燥処理等を施すことにより得られる（特許文献１）。
【０００４】
上記製造方法では、原反ロールのポリビニルアルコール系フィルムを用いるため、フィルムの取り扱い性等が考慮される結果、得られる偏光子の厚さを薄くするには限界があった。従って、上記製造方法により得られる偏光子の厚みは、通常、３０μｍを超えるものであった。しかし、偏光子の厚みが厚くなると、当該偏光子またはこれを用いた偏光板の収縮応力が大きくなって、これらを液晶表示装置等の画像表示装置に貼り合わせた際に、カールが発生して光漏れを生じることが問題となっている。一方、原反ロールのポリビニルアルコール系フィルムは、厚み３０μｍ程度の薄膜であることから、延伸処理等によってフィルムが切断される等の生産性の問題もあった。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３４１５１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、偏光子を薄型化した場合にも、カールの発生を抑えられる偏光子を有する偏光板の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
また本発明は前記製造方法により得られた偏光板を提供すること、当該偏光板を積層した光学フィルムを提供すること、さらには、当該偏光板、光学フィルムを用いた液晶表示装置等の画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す偏光板の製造方法等により前記目的に達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法、に関する。
【００１０】
また本発明は、基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ｂ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法、に関する。
【００１１】
前記偏光板の製造方法において、親水性高分子層を形成する親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系樹脂が好適である。
【００１２】
前記偏光板の製造方法において、延伸積層体における親水性高分子層の厚みが、０．５〜３０μｍであることが好ましい。
【００１３】
前記偏光板の製造方法において、さらに、前記積層体の親水性高分子層に、架橋処理を施す架橋工程（４）を有することができる。
【００１４】
前記偏光板の製造方法において、前記工程（１ａ）乃至（３）、または工程（１ｂ）乃至（３）を施した後、を施した後、得られた延伸積層体における親水性高分子層を、他の基材に転写する工程を有することができる。
【００１５】
また本発明は、前記製造方法により得られた偏光板、に関する。
【００１６】
また本発明は、前記偏光板が、少なくとも１枚積層されていることを特徴とする光学フィルム、に関する。
【００１７】
さらに本発明は、前記偏光板または前記光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置、に関する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の偏光板の製造方法によれば、工程（１ａ）により、基材層上に親水性高分子層が積層した積層体、または工程（１ｂ）により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体を形成した後に、当該積層体に、延伸工程（２）を施して延伸積層体にし、かつ染色工程（３）により親水性高分子層に二色性物質を吸着させている。こうして得られて本発明の偏光板は、前記積層体が延伸処理された延伸積層体であり、当該延伸積層体における親水性高分子層が、二色性物質が吸着されることで偏光子として機能する。前記偏光子である親水性高分子層は、基材層に積層されて、これらが一体として偏光板を形成しているため、薄層の親水性高分子層（偏光子）の形成が可能である。このように、本発明の偏光板が有する偏光子は、基材層と一体化した薄型化が可能であることから、本発明の偏光板は液晶表示装置に貼り合わせた場合においても偏光板の収縮応力を小さく制御でき、偏光板にカールが発生することにより生じる光漏れを押さえることができる。
【００１９】
また、前述の通り、本発明の製造方法では、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体が延伸処理されるが、基材層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体として延伸されるため、本発明の製造方法で得られる偏光子（偏光板）は、従来のポリビニルアルコール系フィルムから得られる偏光子に比べて薄層のものが得られるにも拘らず、従来のポリビニルアルコール系フィルムのみを延伸することにより得られる偏光子に比べて、均一な延伸が可能であり、偏光子の配向性（吸収軸のバラツキ）を抑制でき、偏光子（偏光板）の特性を向上することができる。また、本発明の製造方法で得られる偏光板は、薄膜のポリビニルアルコール系フィルムを用いる代わりに、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体に対して延伸処理が施されるため、延伸処理時におけるフィルム切断等の問題を低減でき、従来の偏光子の製造方法に比べて、生産性を向上することができる。また、本発明で得られた偏光板は、親水性高分子層の片側には基材層を有するため、当該基材層をそのまま、偏光子の透明保護フィルムとして用いることができ、この点から偏光板の生産性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の偏光板の製造方法では、まず、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体を調製する。かかる積層体の調製は、基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、または、基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ｂ）、により行うことができる。
【００２１】
前記工程（１ａ）または工程（１ｂ）の基材層には、従来、偏光子の透明保護フィルムとして用いられていたものも用いることができる。前記基材層を構成する材料としては、例えば透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性などに優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびこれらの混合物があげられる。また前記基材層は、親水性高分子層との密着性を向上するため、プライマー層（下塗り層）等の薄層が形成されていてもよい。一方、前記工程（１ａ）乃至工程（３）、または工程（１ｂ）乃至工程（３）を施した後、得られた延伸積層体における親水性高分子層を、他の基材に転写する工程を施す場合には、前記基材層は、親水性高分子層との剥離を容易にするため、剥離層を形成することができる。
【００２２】
基材層には、前記材料の他に、任意の適切な添加剤が１種類以上含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などがあげられる。基材層中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００重量％、より好ましくは５０〜９９重量％、さらに好ましくは６０〜９８重量％、特に好ましくは７０〜９７重量％である。基材層中の上記熱可塑性樹脂の含有量が５０重量％以下の場合、熱可塑性樹脂が本来有する高透明性等が十分に発現できないおそれがある。
【００２３】
また、基材層の材料としては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、（Ａ）側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換および／または非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物があげられる。具体例としてはイソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムがあげられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。これらのフィルムは位相差が小さく、光弾性係数が小さいため偏光板の歪みによるムラなどの不具合を解消することができ、また透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。
【００２４】
基材層の厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍ程度である。特に１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。基材層の厚さは、５〜１５０μｍの場合に特に好適である。
【００２５】
本発明の基材層の材料としては、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂および（メタ）アクリル樹脂から選ばれるいずれか少なくとも１つを用いるのが好ましい。
【００２６】
セルロース樹脂は、セルロースと脂肪酸のエステルである。このようセルロースエステル系樹脂の具体例としでは、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネート等があげられる。これらのなかでも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルローストリアセテートは多くの製品が市販されており、入手容易性やコストの点でも有利である。セルローストリアセテートの市販品の例としては、富士写真フイルム社製の商品名「ＵＶ−５０」、「ＵＶ−８０」、「ＳＨ−８０」、「ＴＤ−８０U」、「ＴＤ−ＴＡＣ」、「ＵＺ−ＴＡＣ」や、コニカ社製の「ＫＣシリーズ」等があげられる。一般的にこれらセルローストリアセテートは、面内位相差（Ｒｅ）はほぼゼロであるが、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）は、〜６０ｎｍ程度を有している。
【００２７】
なお、厚み方向位相差が小さいセルロース樹脂フィルムは、例えば、上記セルロース樹脂を処理することにより得られる。例えばシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤を塗工したポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ステンレスなどの基材フィルムを、一般的なセルロース系フィルムに貼り合わせ、加熱乾燥（例えば８０〜１５０℃で３〜１０分間程度）した後、基材フィルムを剥離する方法；ノルボルネン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂などをシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤に溶解した溶液を一般的なセルロース樹脂フィルムに塗工し加熱乾燥（例えば８０〜１５０℃で３〜１０分間程度）した後、塗工フィルムを剥離する方法などがあげられる。
【００２８】
また、厚み方向位相差が小さいセルロース樹脂フィルムとしては、脂肪置換度を制御した脂肪酸セルロース系樹脂フィルムを用いることができる。一般的に用いられるトリアセチルセルロースでは酢酸置換度が２．８程度であるが、好ましくは酢酸置換度を１．８〜２．７に制御することによってＲｔｈを小さくすることができる。上記脂肪酸置換セルロース系樹脂に、ジブチルフタレート、ｐ−トルエンスルホンアニリド、クエン酸アセチルトリエチル等の可塑剤を添加することにより、Ｒｔｈを小さく制御することができる。可塑剤の添加量は、脂肪酸セルロース系樹脂１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下、より好ましくは１〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１５重量部である。
【００２９】
ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等があげられる。環状ポリオレフィン樹脂の具体的としては、好ましくはノルボルネン系樹脂である。環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１−２４０５１７号公報、特開平３−１４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報等に記載されている樹脂があげられる。具体例としては、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとその共重合体（代表的にはランダム共重合体）、および、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、ならびに、それらの水素化物などがあげられる。環状オレフィンの具体例としては、ノルボルネン系モノマーがあげられる。
【００３０】
環状ポリオレフィン樹脂としては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン株式会社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学株式会社製の商品名「ＡＰＥＬ」があげられる。
【００３１】
（メタ）アクリル系樹脂としては、Ｔｇ（ガラス転移温度）が好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１２５℃以上、特に好ましくは１３０℃以上である。Ｔｇが１１５℃以上であることにより、偏光板の耐久性に優れたものとなりうる。上記（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定きれないが、成形性当の観点から、好ましくは１７０℃以下である。（メタ）アクリル系樹脂からは、面内位相差（Ｒｅ）、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）がほぼゼロものフィルムを得ることができる。
【００３２】
（メタ）アクリル系樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な（メタ）アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、脂環族炭化水素基を有する重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体など）があげられる。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキルがあげられる。より好ましくはメタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂があげられる。
【００３３】
（メタ）アクリル系樹脂の具体例として、例えば、三菱レイヨン株式会社製のアクリペットＶＨやアクリペットＶＲＬ２０Ａ、特開２００４−７０２９６号公報に記載の分子内に環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Ｔｇ（メタ）アクリル樹脂系があげられる。
【００３４】
（メタ）アクリル系樹脂としては、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いることもできる。ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報などに記載のものがあげられる。
【００３５】
また、（メタ）アクリル系樹脂としては、不飽和カルボン酸アルキルエステルの構造単位およびグルタル酸無水物の構造単位を有するアクリル樹脂を用いることができる。前記アクリル樹脂としては、特開２００４−７０２９０号公報、特開２００４−７０２９６号公報、特開２００４−１６３９２４号公報、特開２００４−２９２８１２号公報、特開２００５−３１４５３４号公報、特開２００６−１３１８９８号公報、特開２００６−２０６８８１号公報、特開２００６−２６５５３２号公報、特開２００６−２８３０１３号公報、特開２００６−２９９００５号公報、特開２００６−３３５９０２号公報などに記載のものがあげられる。
【００３６】
また、（メタ）アクリル系樹脂としては、グルタルイミド単位、（メタ）アクリル酸エステル単位、および芳香族ビニル単位を有する熱可塑性樹脂を用いることができる。当該熱可塑性樹脂としては、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報などに記載のものがあげられる。
【００３７】
前記工程（１ａ）または工程（１ｂ）の積層体の調製において、親水性高分子層の形成に用いる親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料があげられる。ポリビニルアルコール系材料としては、例えば、ポリビニルアルコールおよびその誘導体があげられる。ポリビニルアルコールの誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等があげられる他、エチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸そのアルキルエステル、アクリルアミド等で変性したものがあげられる。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜１００００程度が好ましく、１０００〜１００００がより好ましい。ケン化度は８０〜１００モル％程度のものが一般に用いられる。上記の他、親水性高分子としては、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等があげられる。前記親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料のなかでも、ポリビニルアルコールを用いるのが好ましい。
【００３８】
前記ポリビニルアルコール系樹脂中には、可塑剤、界面活性剤等の添加剤を含有することもできる。可塑剤としては、ポリオールおよびその縮合物等があげられ、たとえばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等があげられる。可塑剤等の使用量は、特に制限されないがポリビニルアルコール系樹脂中２０重量％以下とするのが好適である。
【００３９】
前記工程（１ａ）または工程（１ｂ）により調製される積層体は、前記基材層と親水性高分子層が積層されているものである。当該積層体における親水性高分子層の厚さは、当該積層物に、延伸工程（２）を施すことにより得られる延伸積層物における親水性高分子層（延伸物）の厚みに応じて適宜に設定することができる。前記延伸積層物における親水性高分子層（延伸物）の厚みは、偏光子を薄型として用いることを重視する観点から、０．５〜３０μｍであることが好ましく、さらには１〜２０μｍ、さらには２〜１０μｍである。親水性高分子層（延伸物）の厚みが０．５μｍ未満では、製造時の厚みバラツキの影響が大きくなり、外観不良が生じ易くなるので好ましくない。
【００４０】
積層体における親水性高分子層の厚さは、延伸処理により延伸または収縮が生じて、上記の厚さになる。従って、積層体における親水性高分子層の厚さは、通常、１〜５０μｍ程度、さらには２〜３０μｍとするのが好ましい。また、積層体における親水性高分子層は、水分率が、１〜２０重量％、さらには２〜１５重量％であるのが、当該積層体に延伸処理等を施すうえで好ましい。
【００４１】
なお、積層体、延伸積層体における親水性高分子層の厚さ、水分率の測定は、親水性高分子層を基材層から剥がした後に測定することができる。厚さの測定は、厚みゲージ等により行う。水分率の測定は、基材層から剥離した親水性高分子層を１００×１００ｍｍの大きさに切り出して、このサンプルの初期重量を測定した。続いて、このサンプルを１２０℃で２時間乾燥し、乾燥重量を測定して、下記式により水分率を測定した。水分率（重量％）＝{（初期重量−乾燥重量）／初期重量}×１００。重量の測定はそれぞれ３回ずつ行い、その平均値を用いた。
【００４２】
前記工程（１ａ）では、前記積層体を、基材層に、親水性高分子を含有する水溶液を塗工した後に、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成することにより得ることができる。かかる塗工により、基材層と親水性高分子層は、プライマー層もしくは剥離層を介して、または、基材層と親水性高分子層が、直接、積層し、基材層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体が得られる。前記水溶液は、親水性高分子の粉末または親水性高分子フィルムの粉砕物、切断物等を、適宜に加熱した水（熱水）に溶解することにより調製することができる。前記水溶液の基材層上への塗工は、塗工法は、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを適宜に選択して採用できる。基材層がプライマー層または剥離層を有する場合には当該プライマー層または剥離層に、プライマー層を有しない場合には基材層に、直接、前記水溶液を塗工する。なお、乾燥温度は、通常、５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０℃であり、乾燥時間は、通常、５〜３０分間程度である。
【００４３】
一方、前記工程（１ｂ）では、前記積層体を、基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により形成することができる。かかる共押出により基材層と親水性高分子層が一体化した状態の積層体が得られる。共押出にあたっては、基材層の材料および親水性高分子層の材料を、それぞれ各層の形成材として共押出機に仕込み、共押出される基材層および親水性高分子層の厚さが、前記範囲になるように制御することが好ましい。
【００４４】
本発明の偏光板の製造方法では、前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、を施す。延伸工程（２）により、延伸積層体が得られる。染色工程（３）により、当該延伸積層体の親水性高分子層に二色性物質による染色処理が施され、得られる親水性高分子層には二色性物質が吸着されて偏光子として機能するようになる。
【００４５】
延伸工程（２）は、前記積層体に、通常、一軸延伸を施すことにより行う。一軸延伸は、前記積層体の長手方向に対して行う縦延伸、前記積層体の幅方向に対して行う横延伸のいずれも採用することができる。本発明では横延伸により行うことが好ましい。横延伸では、幅方向に延伸を行いながら、長手方向に収縮させることもできる。横延伸方式としては、例えば、テンターを介して一端を固定した固定端一軸延伸方法や、一端を固定しない自由端一軸延伸方法等があげられる。縦延伸方式としては、ロール間延伸方法、圧縮延伸方法、テンターを用いた延伸方法等があげられる。延伸処理は多段で行うこともできる。また、延伸処理は、二軸延伸、斜め延伸などを施すことにより行うことができる。
【００４６】
また、延伸処理は、湿潤式延伸方法と乾式延伸方法のいずれも採用できるが、本発明では乾式延伸方法を用いるのが、前記積層体を延伸する際の温度範囲を広く設定することができる点で好ましい。乾式延伸方法では、通常、前記積層体を、５０〜２００℃程度、好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃に加熱した状態で延伸処理が行われる。
【００４７】
延伸処理では、前記積層体の元長に対して、総延伸倍率で１．５〜１７倍の範囲になるように行う。好ましくは１．５〜１０倍、さらに好ましくは１．５〜８倍である。なお、前記総延伸倍率は、延伸処理工程以外の工程等において延伸を伴う場合には、それらの工程における延伸を含めた累積の延伸倍率をいう。総延伸倍率は、他の工程等における延伸倍率を考慮して適宜に決定される。総延伸倍率が低いと、配向が不足して、高い光学特性（偏光度）の偏光子が得られにくい。一方、総延伸倍率が高すぎると延伸切れが生じ易くなり、また偏光子が薄くなりすぎて、続く工程での加工性が低下するおそれがある。
【００４８】
染色工程（３）は、前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させることより行う。二色性物質としては、例えば、ヨウ素や有機染料等があげられる。有機染料としては、例えば、レッドＢＲ、レッドＬＲ、レッドＲ、ピンクＬＢ、ルビンＢＬ、ボルドーＧＳ、スカイブルーＬＧ、レモンエロー、ブルーＢＲ、ブルー２Ｒ、ネイビーＲＹ、グリーンＬＧ、バイオレットＬＢ、バイオレットＢ、ブラックＨ、ブラックＢ、ブラックＧＳＰ、エロー３Ｇ、エローＲ、オレンジＬＲ、オレンジ３Ｒ、スカーレットＧＬ、スカーレットＫＧＬ、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットＢＫ、スプラブルーＧ、スプラブルーＧＬ、スプラオレンジＧＬ、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジＳ、ファーストブラック、等が使用できる。これらの二色性物質は、一種類でも良いし、二種類以上を併用して用いても良い。
【００４９】
染色処理は、例えば、前記二色性物質を含有する溶液（染色溶液）に、前記積層体を浸漬することにより行う。前記染色溶液としては、前記二色性物質を溶媒に溶解した溶液が使用できる。前記溶媒としては、水が一般的に使用されるが、水と相溶性のある有機溶媒がさらに添加されても良い。二色性物質の濃度としては、０．０１〜１０重量％の範囲にあることが好ましく、０．０２〜７重量％の範囲にあることがより好ましく、０．０２５〜５重量％であることが特に好ましい。
【００５０】
また、前記二色性物質としてヨウ素を使用する場合、染色効率をより一層向上できることから、さらにヨウ化物を添加することが好ましい。このヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらヨウ化物の添加割合は、前記染色溶液において、０．０１〜１０重量％であることが好ましく、０．１〜５重量％であることがより好ましい。これらのなかでも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましく、ヨウ素とヨウ化カリウムの割合（重量比）は、１：５〜１：１００の範囲にあることが好ましく、１：６〜１：８０の範囲にあることがより好ましく、１：７〜１：７０の範囲にあることが特に好ましい。
【００５１】
前記染色溶液への積層体の浸漬時間は、特に限定されないが、通常は、１５秒〜５分間の範囲であることが好ましく、１分〜３分間であることがより好ましい。また、染色溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜４０℃の範囲にあることがより好ましい。
【００５２】
また、染色処理としては、前述のような染色溶液に浸漬する方法以外に、例えば、二色性物質を含む溶液を前記積層体に塗工または噴霧する方法であってもよい。また、前記親水性高分子層を形成するための溶液または形成材に二色性物質をあらかじめ混ぜておいても良い。
【００５３】
染色処理は、前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させて、二色性物質を配向させる。前記染色工程（３）は、前記延伸工程（２）の前、同時または後に施すことができるが、親水性高分子層に吸着させた二色性物質を良好に配向させる点から、染色工程（３）は、前記積層体に延伸工程（２）を施した後に行うのが好ましい。
【００５４】
本発明の偏光板の製造方法では、前記延伸工程（２）および染色工程（３）に加えて、架橋工程（４）を施すことができる。架橋処理は、例えば、架橋剤を含む溶液（架橋溶液）中に前記積層体を浸漬してことにより行うことができる。架橋剤としては、従来公知の物質が使用できる。例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物や、グリオキザール、グルタルアルデヒド等があげられる。これらは一種類でも良いし、二種類以上を併用しても良い。
【００５５】
前記架橋溶液としては、前記架橋剤を溶媒に溶解した溶液が使用できる。前記溶媒としては、例えば水が使用できるが、さらに、水と相溶性のある有機溶媒を含んでも良い。前記溶液における架橋剤の濃度は、これに限定されるものではないが、１〜１０重量％の範囲にあることが好ましく、２〜６重量％であることがより好ましい。
【００５６】
前記架橋溶液中には、偏光子の面内の均一な特性が得られる点から、ヨウ化物を添加してもよい。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンがあげられ、この含有量は０．０５〜１５重量％、より好ましくは０．５〜８重量％である。
【００５７】
前記架橋溶液への前記積層体の浸漬時間は、通常、１５秒〜５分間であることが好ましく、３０秒〜３分間であることがより好ましい。また、架橋溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜５０℃の範囲にあることがより好ましい。
【００５８】
さらに、架橋工程（４）も染色工程（３）と同様に、架橋溶液を塗工または噴霧する方法を用いても行うことができる。架橋工程（４）は、前記架橋剤を染色溶液中に配合することにより、架橋工程（４）と前記染色工程（３）とを同時に行うことができる。また、架橋工程（４）を延伸工程（２）と行ってもよい。
【００５９】
本発明の偏光板には、前記処理の他に、金属イオン処理を施すことができる。金属イオン処理は、金属塩を含む水溶液に、前記積層体を浸漬することにより行う。金属イオン処理により、種々の金属イオンを前記積層体の親水性高分子層中に含有させることができる。
【００６０】
金属イオンとしては、特に色調調整や耐久性付与の点からコバルト、ニッケル、亜鉛、クロム、アルミニウム、銅、マンガン、鉄などの遷移金属の金属イオンが好ましく用いられる。これら金属イオンのなかでも、色調調整や耐熱性付与などの点から亜鉛イオンが好ましい。亜鉛塩としては、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などがあげられる。
【００６１】
金属イオン含浸処理には、金属塩溶液が用いられる。金属塩溶液中の亜鉛イオンの濃度は、０．１〜１０重量％程度、好ましくは０．３〜７重量％の範囲である。また、金属円溶液はヨウ化カリウム等のヨウ化物を含有させた水溶液を用いるのが金属イオンを含浸させやすく好ましい。金属塩溶液中のヨウ化物濃度は０．１〜１０重量％程度、さらには０．２〜５重量％とするのが好ましい。
【００６２】
金属イオン含浸処理にあたり、金属塩溶液の温度は、通常１５〜８５℃程度、好ましくは２５〜７０℃である。浸漬時間は通常１〜１２０秒程度、好ましくは３〜９０秒間の範囲である。金属イオン含浸処理の段階は特に制限されず、染色溶液および／または架橋溶液中に亜鉛塩を共存させておいて、染色工程（３）および／または架橋工程（４）と同時に行ってもよい。また延伸工程（２）と同時に行うこともできる。
【００６３】
前記処理が施された後には、得られた延伸積層体に、洗浄処理を施すことができる。洗浄処理は、ヨウ化カリウム等のヨウ化物溶液により行うことができる。前記ヨウ化物溶液中のヨウ化物ム濃度は、通常、０．５〜１０重量％程度、さらには０．５〜８重量％、さらには１〜６重量％の範囲である。
【００６４】
ヨウ化物溶液による洗浄処理にあたり、その処理温度は、通常１５〜６０℃程度、好ましくは２５〜４０℃である。浸漬時間は通常１〜１２０秒程度、好ましくは３〜９０秒間の範囲である。ヨウ化物溶液による洗浄処理の段階は、乾燥処理前であれば特に制限はない。
【００６５】
また、洗浄処理としては、水洗浄処理を施すことができる。水洗浄処理は、通常、イオン交換水、蒸留水などの純水に前記延伸積層体を浸漬することにより行うことができる。水洗浄温度は、通常、５〜５０℃、好ましくは１０〜４５℃、さらに好ましくは１５〜４０℃の範囲である。浸漬時間は、通常、１０〜３００秒間、好ましくは２０〜２４０秒間程度である。
【００６６】
前記水洗浄処理は、ヨウ化物溶液による洗浄処理と水洗浄処理を組み合わせてもよく、適宜にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、プロパノール等の液体アルコールを配合した溶液を用いることもできる。
【００６７】
前記洗浄処理の後には乾燥処理を施すことができる。乾燥処理は、任意の適切な方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用されうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常、２０〜８０℃程度であり、乾燥時間は、通常、１〜１０分間程度である。以上のようにして偏光子が得られる。
【００６８】
なお、本発明において用いる偏光板（延伸積層体）における偏光子（親水性高分子層）は、水分率が好ましくは２０重量％以下、より好ましくは０〜１５重量％、さらに好ましくは１〜１５重量％である。水分率が２０重量％より大きいと、得られた偏光板の寸法変化が大きくなり、高温下あるいは高温高湿下における寸法変化が大きくなってしまうという問題が生じるおそれがある。
【００６９】
本発明の製造法で得られた偏光板（延伸積層体）は、親水性高分子層（偏光子）の片側に、基材層を有する。基材層は、偏光板の透明保護フィルムとして、そのまま用いることができる。一方、親水性高分子層における基材層のない側には、透明保護フィルムを貼り合わせることができる。また、親水性高分子層を基材層から剥離した後に、当該親水性高分子層の両側に透明保護フィルムを貼り合わせることができる。また、得られた延伸積層体における親水性高分子層は、他の基材に転写することができる。転写は、親水性高分子層に他の基材（例えば、透明保護フィルム）を貼り合わせた後に、基材層を剥離することにより行うことができ、また、基材層から親水性高分子層を剥離した後に、当該親水性高分子層を他の基材に貼り合わすことにより行うことができる。
【００７０】
透明保護フィルムとしては、前記基材層として例示したものと同様の材料を用いることができうる。透明保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍ程度である。特に１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。透明保護フィルムは、５〜１５０μｍの場合に特に好適である。
【００７１】
なお、親水性高分子層（偏光子）の両側に透明保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる透明保護フィルム（基材層を含めて）を用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる透明保護フィルムを用いてもよい。
【００７２】
前記透明保護フィルムは、正面位相差が４０ｎｍ未満、かつ、厚み方向位相差が８０ｎｍ未満であるものが、通常、用いられる。正面位相差Ｒｅは、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、で表わされる。厚み方向位相差Ｒｔｈは、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄ、で表される。また、Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）、で表される。［ただし、フィルムの遅相軸方向、進相軸方向及び厚さ方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）はフィルムの厚みとする。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率の最大となる方向とする。］。なお、透明保護フィルムは、できるだけ色付きがないことが好ましい。厚み方向の位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍである保護フィルムが好ましく用いられる。かかる厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍのものを使用することにより、透明保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）をほぼ解消することができる。厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍ、特に−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。
【００７３】
一方、前記透明保護フィルムとして、正面位相差が４０ｎｍ以上および／または、厚み方向位相差が８０ｎｍ以上の位相差を有する位相差板を用いることができる。正面位相差は、通常、４０〜２００ｎｍの範囲に、厚み方向位相差は、通常、８０〜３００ｎｍの範囲に制御される。透明保護フィルムとして位相差板を用いる場合には、当該位相差板が透明保護フィルムとしても機能するため、薄型化を図ることができる。
【００７４】
位相差板としては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板の厚さも特に制限されないが、２０〜１５０μｍ程度が一般的である。
【００７５】
高分子素材としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などがあげられる。これらの高分子素材は延伸等により配向物（延伸フィルム）となる。前記高分子素材のなかでも、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等は、非液晶性材料によって、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ（二軸性フィルム）、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ（ネガティブＣプレート）を形成することができる。
【００７６】
液晶ポリマーとしては、例えば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどをあげられる。主鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサー部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサー部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これらの液晶ポリマーは、例えば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化ケイ素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。
【００７７】
位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであって良く、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであっても良い。
【００７８】
位相差板は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、の関係を満足するものが、各種用途に応じて選択して用いられる。なお、ｎｙ＝ｎｚとは、ｎｙとｎｚが完全に同一である場合だけでなく、実質的にｎｙとｎｚが同じ場合も含む。
【００７９】
例えば、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、を満足する位相差板では、正面位相差は４０〜１００ｎｍ、厚み方向位相差は１００〜３２０ｎｍ、Ｎｚ係数は１．８〜４．５を満足するものを用いるのが好ましい。例えば、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、を満足する位相差板（ポジティブＡプレート）では、正面位相差は１００〜２００ｎｍを満足するものを用いるのが好ましい。例えば、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙ、を満足する位相差板（ネガティブＡプレート）では、正面位相差は１００〜２００ｎｍを満足するものを用いるのが好ましい。例えば、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、を満足する位相差板では、正面位相差は１５０〜３００ｎｍ、Ｎｚ係数は０を超え〜０．７を満足するものを用いるのが好ましい。また、上記の通り、例えば、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ、またはｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、を満足する用いることができる。
【００８０】
透明保護フィルムは、適用される液晶表示装置に応じて適宜に選択できる。例えば、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ，ＭＶＡ，ＰＶＡ含む）の場合は、偏光板の少なくとも片方（セル側）の透明保護フィルムが位相差を有している方が望ましい。具体的な位相差として、Ｒｅ＝０〜２４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝０〜５００ｎｍの範囲である事が望ましい。三次元屈折率で言うと、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの場合が望ましい。液晶セルの上下に偏光板を使用する際、液晶セルの上下共に、位相差を有している、または上下いずれかの透明保護フィルムが位相差を有していてもよい。
【００８１】
例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌaｎe Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＦＦＳ含む）の場合、偏光板の片方の透明保護フィルムが位相差を有している場合、有していない場合のいずれも使用できる。例えば、位相差を有していない場合は、液晶セルの上下（セル側）ともに位相差を有していない場合が望ましい。位相差を有している場合は、液晶セルの上下ともに位相差を有している場合、上下のいずれかが位相差を有している場合が望ましい（例えば、上側にＺ化、下側に位相差なしの場合や、上側にＡプレート、下側にポジティブＣプレートの場合）。位相差を有している場合、Ｒｅ＝−５００〜５００ｎｍ、Ｒｔｈ＝−５００〜５００ｎｍの範囲が望ましい。三次元屈折率で言うと、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙが望ましい。
【００８２】
なお、前記位相差を有するフィルムは、位相差を有しない透明保護フィルムに、別途、貼り合せて上記機能を付与することができる。
【００８３】
前記親水性高分子層（偏光子）に、透明保護フィルムは、通常、接着剤により貼り合わされるが、前記接着剤を塗工する前に、表面改質処理を行ってもよい。具体的な処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、ケン化処理、カップリング剤による処理などがあげられる。
【００８４】
前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであってもよい。
【００８５】
ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層（例えば、バックライト側の拡散板）との密着防止を目的に施される。
【００８６】
またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて透明保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜７０重量部程度であり、５〜５０重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
【００８７】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。
【００８８】
前記ハードコート層としては、鉛筆硬度が４Ｈ以上となるハードコート層が好ましい。当該ハードコート層の材料としては、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含むハードコート層形成用樹脂を用いて形成されたものが挙げられる。かかるハードコート層については、本出願人による特願２００６−２３９１３７号に記載されている。
（Ａ）成分：ウレタンアクリレートおよびウレタンメタクリレートの少なくとも一方。
（Ｂ）成分：ポリオールアクリレートおよびポリオールメタクリレートの少なくとも一方
（Ｃ）成分：下記（Ｃ１）及び下記（Ｃ２）の少なくとも一方から形成されるポリマー若しくはコポリマー又は前記ポリマーとコポリマーの混合ポリマー。
（Ｃ１）：水酸基及びアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキルアクリレート。
（Ｃ２）：水酸基及びアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキルメタクリレート。
【００８９】
前記偏光子と透明保護フィルムとの接着処理には、接着剤が用いられる。接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリエステル等を例示できる。前記接着剤は、通常、水溶液からなる接着剤として用いられ、通常、０．５〜６０重量％の固形分を含有してなる。上記の他、偏光子と透明保護フィルムとの接着剤としては、紫外硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等があげられる。電子線硬化型偏光板用接着剤は、上記各種の透明保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。特に、接着性を満足することが困難であったアクリル樹脂に対しても良好な接着性を示す。また本発明で用いる接着剤には、金属化合物フィラーを含有させることができる。
【００９０】
本発明の偏光板は、実用に際して他の光学層と積層した光学フィルムとして用いることができる。その光学層については特に限定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／２や１／４等の波長板を含む）、視角補償フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層を１層または２層以上用いることができる。特に、本発明の偏光板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。
【００９１】
反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【００９２】
反射型偏光板の具体例としては、必要に応じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。また前記透明保護フィルムに微粒子を含有させて表面微細凹凸構造とし、その上に微細凹凸構造の反射層を有するものなどもあげられる。前記した微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させて指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点などを有する。また微粒子含有の透明保護フィルムは、入射光及びその反射光がそれを透過する際に拡散されて明暗ムラをより抑制しうる利点なども有している。透明保護フィルムの表面微細凹凸構造を反映させた微細凹凸構造の反射層の形成は、例えば真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式などの適宜な方式で金属を透明保護層の表面に直接付設する方法などにより行うことができる。
【００９３】
反射板は前記の偏光板の透明保護フィルムに直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお反射層は、通常、金属からなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などより好ましい。
【００９４】
なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。
【００９５】
偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える位相差板としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板とも言う）が用いられる。１／２波長板（λ／２板とも言う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。
【００９６】
楕円偏光板はスーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色（青又は黄）を補償（防止）して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）することができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。上記した位相差板の具体例としては、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。
【００９７】
また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板は、偏光板又は反射型偏光板と位相差板を適宜な組み合わせで積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射型）偏光板と位相差板の組み合わせとなるようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっても形成しうるが、前記の如く予め楕円偏光板等の光学フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点がある。
【００９８】
視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるためのフィルムである。このような視角補償位相差板としては、例えば位相差フィルム、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いうる。
【００９９】
また良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリアセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いうる。
【０１００】
偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部又は全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るような偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。
【０１０１】
輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にもどす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。
【０１０２】
前記の輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。
【０１０３】
従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を透過するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。
【０１０４】
可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの淡色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層又は２層以上の位相差層からなるものであってよい。
【０１０５】
なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層又は３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。
【０１０６】
また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と２層又は３層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。
【０１０７】
偏光板に前記光学層を積層した光学フィルムは、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学フィルムとしたものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板やその他の光学フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。
【０１０８】
前述した偏光板や、偏光板を少なくとも１層積層されている光学フィルムには、液晶セル等の他部材と接着するための粘着層を設けることもできる。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
【０１０９】
また上記に加えて、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層が好ましい。
【０１１０】
粘着層は、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層などであってもよい。
【０１１１】
偏光板や光学フィルムの片面又は両面への粘着層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解又は分散させた１０〜４０重量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で偏光板上または光学フィルム上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれを偏光板上または光学フィルム上に移着する方式などがあげられる。
【０１１２】
粘着層は、異なる組成又は種類等のものの重畳層として偏光板や光学フィルムの片面又は両面に設けることもできる。また両面に設ける場合に、偏光板や光学フィルムの表裏において異なる組成や種類や厚さ等の粘着層とすることもできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、一般には１〜４０μｍであり、５〜３０μｍが好ましく、特に１０〜２５μｍが好ましい。１μｍより薄いと耐久性が悪くなり、また４０μｍより厚いと発泡などによる浮きや剥がれが生じやすく外観不良となる、
【０１１３】
粘着層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚さ条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。
【０１１４】
偏光板と粘着剤層との間の密着性を向上させるために、その層間にアンカー層を設けることもできる。
【０１１５】
上記アンカー層の形成材としては、好ましくは、ポリウレタン、ポリエステル、分子中にアミノ基を含むポリマー類から選ばれるアンカー剤が用いられ、特に好ましくは、分子中にアミノ基を含んだポリマー類である。分子中にアミノ基を含むポリマー類は、分子中のアミノ基が粘着剤中のカルボキシル基等と反応またはイオン性相互作用などの相互作用を示すため、良好な密着性が確保される。
【０１１６】
分子中にアミノ基を含むポリマー類としては、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリビニルピリジン、ポリビニルピロリジン、ジメチルアミノエチルアクリレート等の含アミノ基含有モノマーの重合体などをあげることができる。
【０１１７】
上記アンカー層には、帯電防止性を付与するために、帯電防止剤を添加することもできる。帯電防止性付与のための帯電防止剤としては、イオン性界面活性剤系、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリキノキサリン等の導電性ポリマー系、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム等の金属酸化物系などがあげられるが、特に光学特性、外観、帯電防止効果、および帯電防止効果の加熱、加湿時での安定性という観点から、導電性ポリマー系が好ましく使用される。この中でも、ポリアニリン、ポリチオフェンなどの水溶性導電性ポリマー、もしくは水分散性導電性ポリマーが特に好ましく使用される。帯電防止層の形成材料として水溶性導電性ポリマーや水分散性導電性ポリマーを用いた場合、塗工に際して有機溶剤による光学フィルム基材への変質を抑えることができる。
【０１１８】
なお本発明において、上記した偏光板を形成する偏光子や透明保護フィルムや光学フィルム等、また粘着層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。
【０１１９】
本発明の偏光板または光学フィルムは液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと偏光板または光学フィルム、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による偏光板または光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、などの任意なタイプのものを用いうる。
【０１２０】
液晶セルの片側又は両側に偏光板または光学フィルムを配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による偏光板または光学フィルムは液晶セルの片側又は両側に設置することができる。両側に偏光板または光学フィルムを設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。
【０１２１】
次いで有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
【０１２２】
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１２３】
有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【０１２４】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
【０１２５】
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。
【０１２６】
位相差板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０１２７】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が１／４波長板でしかも偏光板と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【０１２８】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【実施例】
【０１２９】
以下に、本発明の実施例を記載するが、本発明の実施形態はこれらに限定されない。
【０１３０】
＜位相差値の測定＞
位相差値の測定は、平行ニコル回転法を原理とする位相差計〔王子計測機器（株）製，製品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」〕を用いて、波長５９０ｎｍの値について測定した、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの値と、フィルム厚み（ｄ）から、正面位相差Ｒｅ、厚み方向位相差Ｒｔｈ、Ｎｚを求めた。［ただし、フィルムの遅相軸方向、進相軸方向及び厚さ方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）はフィルムの厚みとする。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率の最大となる方向とする。］。
【０１３１】
実施例１
（親水性高分子を含有する水溶液の調製）
（株）クラレ製のポリビニルアルコールフィルム（平均重合度２４００，ケン化度９９モル％、商品名：ＶＦ‐ＰＳ２４００）を、１辺が５ｍｍ以下の小片に裁断し、９５℃の熱水中に溶解して、濃度１０重量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。
【０１３２】
（積層体の作成：親水性高分子層の形成）
基材層として、厚み４０μｍのアクリル系樹脂フィルム（ラクトン化ポリメチルメタクリレートフィルム，Ｒｅ＝２ｎｍ，Ｒｔｈ＝０ｎｍ）を用いた。当該アクリル系樹脂フィルムは、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂[共重合モノマーの重量比：メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２；ラクトン環化率約１００％]９０重量部とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ ＡＳ２０，東洋スチレン(株)製｝１０重量部の混合物（（株）日本触媒製）を溶融押出成膜した後、縦２．０倍、横２．４倍に延伸することにより得た。
【０１３３】
上記アクリル系樹脂フィルムに、上記ポリビニルアルコール水溶液を塗工した後、１２０℃で１０分間乾燥させて、親水性高分子層として、厚み５μｍのポリビニルアルコール塗膜を形成した積層体を得た。
【０１３４】
（延伸処理）
上記積層体を、１４３℃の加熱下で、テンター装置を用いて、自由端一軸延伸により、幅方向に、延伸倍率５倍まで延伸して延伸積層体とした。このとき、チャック間距離は１００ｍｍ、延伸速度は２ｍｍ／ｓｅｃとした。この延伸処理後において、ポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１３５】
（染色処理）
次いで、前記延伸積層体を、張力を保持した状態で、３０℃のヨウ素溶液（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝１／１０／１００）に６０秒間浸漬した。その後、６０℃で４分間乾燥を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１３６】
実施例２
実施例１において、延伸処理における延伸倍率を３倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１３７】
実施例３
実施例１において、基材層として、厚み５０μｍのポリプロピレンフィルムを用いたこと、延伸処理における延伸倍率を２．４倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１３８】
実施例４
実施例１において、基材層として、厚み５０μｍのノルボルネン系樹脂フィルム（ＪＳＲ（株）製，商品名：アートンフィルム）を用いたこと、親水性高分子層として形成したポリビニルアルコール塗膜の厚みを１５μｍにしたこと、延伸処理における延伸倍率を１．５倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１３９】
実施例５
実施例１において、基材層として、厚み５０μｍのノルボルネン系樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製，商品名：ゼオノアフィルム）を用いたこと、親水性高分子層として形成したポリビニルアルコール塗膜の厚みを１５μｍにしたこと、延伸処理における延伸倍率を３．３倍に変えたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１４０】
実施例６
実施例１において、延伸処理における延伸倍率を３倍に変えたこと、染色処理を施した後に、さらに、３０℃の３重量％のホウ酸および３重量％のヨウ化カリウムを含有する水溶液に３０秒間浸漬する処理を施した後に、６０℃で４分間乾燥を行ったこと以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは３μｍであった。
【０１４１】
実施例７
実施例１において、延伸処理を、１４３℃の加熱下で、テンター装置を用いて、固定端（幅方向をチャックした状態）で一軸延伸により、幅方向に、延伸倍率２．２倍まで延伸して延伸積層体としたこと（このとき、チャック間距離は１００ｍｍ、延伸速度は２ｍｍ／ｓｅｃとした。延伸処理後のポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。）以外は実施例１と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１４２】
実施例８
実施例７において、延伸処理における延伸倍率を２．４倍に変えたこと以外は実施例７と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板（延伸積層体）におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは２μｍであった。
【０１４３】
［評価］
実施例で得られた、偏光板について下記評価を行った。なお、実施例で得られた偏光板は、その片側（偏光子層表面：ポリビニルアルコール塗膜の表面）には、透明保護フィルムとして、厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤により貼り合わせたものを評価に供した。結果を表１に示す。
【０１４４】
（光学特性測定方法）
得られた偏光板の光学特性を、積分球付き分光光度計（日本分光株式会社製のＶ７１００）にて測定した。各直線偏光に対する透過率はグランテラ‐プリズム偏光子を通して得られた完全偏光を１００％として測定した。単体透過率（Ｔｓ）、平行透過率（Ｈ0）および直交透過率（Ｈ90）を、波長５５０ｎｍで測定し、その値から下記式により偏光度（Ｐ）を求めた。なお、これらの透過率は、ＪｌＳＺ ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により、視感度補正を行ったＹ値である。
偏光度（％）＝｛（Ｈ0−Ｈ90）／（Ｈ0＋Ｈ90）｝1/2×１００
単体透過率（Ｔｓ）は、４０％以上、偏光度は９９％以上であるのが、液晶表示装置に適用できる目標値として設定される。実施例で得られた偏光板は、前記単体透過率（Ｔｓ）、偏光度の目標値を満足するものであった。
【０１４５】
【表１】
【０１４６】
実施例で得られた偏光板は、偏光子（ポリビニルアルコール塗膜）が薄型であるにも拘らず、カールの発生が抑えられているものであった。また、延伸処理における、切断等の不具合が認められなかった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２】
基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ｂ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項３】
親水性高分子層を形成する親水性高分子が、ポリビニルアルコール系樹脂であることを特徴とする請求項１または２記載の偏光板の製造方法。
【請求項４】
延伸積層体における親水性高分子層の厚みが、０．５〜３０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項５】
さらに、前記積層体の親水性高分子層に、架橋処理を施す工程（４）を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項６】
前記工程（１ａ）乃至工程（３）、または工程（１ｂ）乃至工程（３）を施した後、得られた延伸積層体における親水性高分子層を、他の基材に転写する工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法により得られた偏光板。
【請求項８】
請求項７記載の偏光板が、少なくとも１枚積層されていることを特徴とする光学フィルム。
【請求項９】
請求項７記載の偏光板または請求項８記載の光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１】
基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ａ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２】
基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程（１ｂ）、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程（２）、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程（３）、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項３】
親水性高分子層を形成する親水性高分子が、ポリビニルアルコール系樹脂であることを特徴とする請求項１または２記載の偏光板の製造方法。
【請求項４】
延伸積層体における親水性高分子層の厚みが、０．５〜３０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項５】
さらに、前記積層体の親水性高分子層に、架橋処理を施す工程（４）を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項６】
前記工程（１ａ）乃至工程（３）、または工程（１ｂ）乃至工程（３）を施した後、得られた延伸積層体における親水性高分子層を、他の基材に転写する工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法により得られた偏光板。
【請求項８】
請求項７記載の偏光板が、少なくとも１枚積層されていることを特徴とする光学フィルム。
【請求項９】
請求項７記載の偏光板または請求項８記載の光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置。
【公開番号】特開２００９−９３０７４（Ｐ２００９−９３０７４Ａ）
【公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２６５６８３（Ｐ２００７−２６５６８３）
【出願日】平成１９年１０月１１日（２００７．１０．１１）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１０月１１日（２００７．１０．１１）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
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