光走査装置
【課題】支持壁の振動を抑制することができる光走査装置を提供する。
【解決手段】光走査装置１のケーシング１００は、ポリゴンミラー４０を支持する支持壁１１０と、支持壁１１０から延びて反射鏡７３Ａを支持する柱状の反射鏡支持部１３１Ａと、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０とが対向する対向方向から見て、ポリゴンミラー４０を挟んで反射鏡支持部１３１Ａとは反対側で支持壁１１０から延び、反射鏡７３Ｂを支持する柱状の反射鏡支持部１３１Ｂと、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間で支持壁１１０から延び、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとをつなぐ補強壁１５１とを有している。補強壁１５１は、光源装置２０Ａ，２０Ｂからポリゴンミラー４０に向けて出射されたレーザ光を通過させる開口１５３を有する。
【解決手段】光走査装置１のケーシング１００は、ポリゴンミラー４０を支持する支持壁１１０と、支持壁１１０から延びて反射鏡７３Ａを支持する柱状の反射鏡支持部１３１Ａと、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０とが対向する対向方向から見て、ポリゴンミラー４０を挟んで反射鏡支持部１３１Ａとは反対側で支持壁１１０から延び、反射鏡７３Ｂを支持する柱状の反射鏡支持部１３１Ｂと、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間で支持壁１１０から延び、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとをつなぐ補強壁１５１とを有している。補強壁１５１は、光源装置２０Ａ，２０Ｂからポリゴンミラー４０に向けて出射されたレーザ光を通過させる開口１５３を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の光源を備える光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数の感光体が並んで設けられたタンデム方式の画像形成装置には、感光体を露光するために、複数の光源から出射され、ポリゴンミラーなどの偏向器により偏向されたレーザ光を各感光体の表面（被走査面）上で走査する光走査装置が設けられている。
【０００３】
このような光走査装置としては、レーザ光を出射する複数の光源と、レーザ光を反射して主走査方向に偏向する偏向器と、偏向されたレーザ光を被走査面に向けて反射する複数の折り返しミラーと、光源や偏向器、折り返しミラーを収容するハウジング部材とを備えた構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２５１３０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、画像形成装置の印字速度の高速化など、光走査装置が設けられる機器の動作の高速化を目的として、レーザ光を偏向する偏向器も高速動作するものが採用されるようになっている。
【０００６】
しかしながら、偏向器が高速動作すると、ハウジング部材の偏向器を支持する支持壁が振動するので、これによって偏向器自身も振動し、偏向器で偏向（反射）されるレーザ光がぶれるおそれがあった。レーザ光がぶれると、被走査面に対するレーザ光の入射位置が安定しなくなるので、例えば、画像形成装置では、感光体の表面を良好に露光できなくなり、結果として、画質が低下するおそれがあった。
【０００７】
本発明は、以上の背景に鑑みてなされたものであり、支持壁の振動を抑制することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した目的を達成するため、本発明の光走査装置は、第１のレーザ光を出射する第１の光源と、第２のレーザ光を出射する第２の光源と、第１の光源および第２の光源と対向して配置され、第１のレーザ光および第２のレーザ光を反射して主走査方向に偏向する偏向器と、偏向された第１のレーザ光を被走査面に向けて反射する第１の反射鏡と、偏向された第２のレーザ光を被走査面に向けて反射する第２の反射鏡と、第１の光源、第２の光源、偏向器、第１の反射鏡および第２の反射鏡を収容するケーシングとを備えている。
ケーシングは、偏向器を支持する支持壁と、支持壁から延びて第１の反射鏡を支持する柱状の第１の反射鏡支持部と、第１の光源および第２の光源と偏向器とが対向する対向方向から見て、偏向器を挟んで第１の反射鏡支持部とは反対側で支持壁から延び、第２の反射鏡を支持する柱状の第２の反射鏡支持部と、第１の光源および第２の光源と偏向器との間で支持壁から延び、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁とを有している。
補強壁は、第１の光源および第２の光源から偏向器に向けて出射された第１のレーザ光および第２のレーザ光を通過させる少なくとも１つの開口を有する。
【０００９】
このような構成によれば、ケーシングは、偏向器を支持する支持壁から延びる柱状の第１の反射鏡支持部および第２の反射鏡支持部と、支持壁から延び、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁とを有しているので、支持壁の強度を向上させることができる。これにより、偏向器が高速動作した場合であっても、支持壁の振動を抑制することができる。
【００１０】
なお、補強壁は、第１の光源および第２の光源から偏向器に向けて出射された第１のレーザ光および第２のレーザ光を通過させる開口を有するので、第１の光源および第２の光源から出射されたレーザ光が、補強壁によって遮られることはない。
【００１１】
前記した光走査装置において、補強壁の開口は、第１のレーザ光または第２のレーザ光の幅を規定するアパーチャであることが好ましい。
【００１２】
このような構成によれば、別部品としてのアパーチャ部材を設ける必要がなくなるので、部品点数を削減することができ、光走査装置の組立性を向上させたり、コストを抑制したりすることができる。また、アパーチャとしての開口を通過しなかった光は、補強壁によって遮られ、偏向器や反射鏡には到達しないので、このような光が偏向器や反射鏡で反射されて被走査面に到達することを抑制することができる。
【００１３】
前記した各光走査装置において、第１の反射鏡支持部および第２の反射鏡支持部は、それぞれ、支持壁とは反対側の端部で第１の反射鏡または第２の反射鏡を支持している構成とすることができる。
この場合、補強壁は、支持壁から前記端部まで延びていることが好ましい。
【００１４】
このような構成によれば、補強壁によって、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とを支持壁側から当該支持壁とは反対側の端部までつなぐことができるので、第１の反射鏡支持部、第２の反射鏡支持部および支持壁の強度を向上させることができる。
【００１５】
前記した各光走査装置において、支持壁は、第１の反射鏡で反射して被走査面に向かう第１のレーザ光を通過させる第１の露光口と、第２の反射鏡で反射して被走査面に向かう第２のレーザ光を通過させる第２の露光口とを有する構成とすることができる。
【００１６】
このような支持壁がレーザ光を通過させる露光口を有する構成では、偏向器の高速動作により支持壁が振動しやすくなるが、本発明では、補強壁により支持壁が補強されているので、偏向器の高速動作の影響を抑えることができる。
【００１７】
前記した補強壁が支持壁から前記端部まで延びている光走査装置において、第１の反射鏡および第２の反射鏡は、前記対向方向から見て、偏向器を挟んで支持壁とは反対側に配置されていることが好ましい。
【００１８】
このような構成では、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部の高さが高くなるため、偏向器の高速動作により第１の反射鏡支持部および第２の反射鏡支持部が振動する可能性があるが、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とは、補強壁によって支持壁から前記した端部までつながれるので、その強度を向上させることができる。
【００１９】
前記した各光走査装置は、第３のレーザ光を出射する第３の光源を備えていてもよい。
この場合、第１の反射鏡支持部は、ケーシング内における第３のレーザ光の光路上において、第３の光源と偏向器との間に設けられており、第３のレーザ光を通過させる通過口を有する構成とすることができる。
【００２０】
このような構成によれば、第１の反射鏡支持部を避けて第３の光源を配置する必要がないので、第３の光源の配置の自由度を向上させることができる。これにより、光走査装置の小型化や部品点数の削減を図ることも可能となる。
【００２１】
前記した補強壁の開口がアパーチャである光走査装置は、第１のレーザ光および第２のレーザ光を偏向器の反射面上でそれぞれ結像させる少なくとも１つの結像レンズを備えていてもよい。
この場合、結像レンズは、補強壁と偏向器との間に配置されていることが好ましい。
【００２２】
このような構成によれば、結像レンズには、アパーチャにより幅が規定されたレーザ光が入射されることになるので、被走査面上におけるレーザ光の結像状態の調整を容易に行うことができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、支持壁から延び、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁により支持壁の強度を向上させることができるので、偏向器が高速動作した場合であっても、支持壁の振動を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実施形態に係る光走査装置の斜視図である。
【図２】光走査装置の平面図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ断面図である。
【図４】光源装置周辺の拡大斜視図である。
【図５】補強壁に形成された開口の機能の説明図である。
【図６】変形例に係る光走査装置の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明において、「主走査方向」とは、被走査面の一例としての感光体Ｄ（図３参照）の表面でのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の走査方向である。本明細書においては、この走査のためにレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を偏向する方向を（空間的に異なる方向であっても）すべて主走査方向とする。また、「副走査方向」とは、主走査方向およびレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の進行方向に直交する方向である。
【００２６】
また、以下の説明において、前後上下左右は、図１に示されている状態における前後上下左右をいうものとする。すなわち、以下の説明における前後上下左右は、必ずしも、光走査装置１が画像形成装置などに設けられたときの前後上下左右に対応するわけではない。
【００２７】
図１に示すように、光走査装置１は、光源装置２０（２０Ａ〜２０Ｄ）と、結像レンズの一例としての第１シリンドリカルレンズ３０（図２参照）と、偏向器の一例としてのポリゴンミラー４０と、ｆθレンズ５０と、第２シリンドリカルレンズ６０と、反射鏡７１〜７５と、ケーシング１００とを主に備えている。
【００２８】
光源装置２０（２０Ａ〜２０Ｄ）は、光束に変換したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を出射する装置であり、光走査装置１が走査露光する４つの感光体Ｄに対応して４つ設けられている。図２に示すように、光源装置２０Ａと光源装置２０Ｂは、左右方向に並んで配置されており、光源装置２０Ｃと光源装置２０Ｄは、左右方向において互いに向かい合った状態で、出射するレーザ光Ｌ３，Ｌ４が、光源装置２０Ａ，２０Ｂが出射するレーザ光Ｌ１，Ｌ２に対して略直交するように配置されている。
【００２９】
図４に示すように、各光源装置２０Ａ〜２０Ｄは、それぞれ、半導体レーザ２１と、コリメートレンズ２２と、フレーム２３とを主に備えている。
【００３０】
半導体レーザ２１（２１Ａ〜２１Ｄ）は、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４を出射する公知の素子である。なお、本実施形態において、半導体レーザ２１Ａは、第１の光源の一例であり、半導体レーザ２１Ｂは、第２の光源の一例であり、半導体レーザ２１Ｃは、第３の光源の一例である。
【００３１】
コリメートレンズ２２は、半導体レーザ２１からのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を集光して光束に変換するレンズである。なお、本発明において、コリメートレンズ２２によって変換されて得られた光束は、平行光、収束光および発散光のいずれであってもよい。
【００３２】
フレーム２３は、半導体レーザ２１とコリメートレンズ２２を支持する部材である。半導体レーザ２１は、フレーム２３の底壁から立設する壁に設けられた円筒状の取付部に圧入されることにより固定され、コリメートレンズ２２は、フレーム２３の底壁の１段高い部分に半導体レーザ２１と対向するように配置され、接着剤により固定されている。
【００３３】
図２に戻り、反射鏡７１は、光源装置２０Ｃからのレーザ光Ｌ３（第３のレーザ光）または光源装置２０Ｄからのレーザ光Ｌ４をポリゴンミラー４０に向けて反射する部材であり、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間に配置されている。なお、光源装置２０Ａからのレーザ光Ｌ１（第１のレーザ光）と光源装置２０Ｂからのレーザ光Ｌ２（第２のレーザ光）は、それぞれ、反射鏡７１の上を通過してポリゴンミラー４０に入射される。
【００３４】
第１シリンドリカルレンズ３０は、ポリゴンミラー４０の面倒れを補正するため、レーザ光Ｌ１，Ｌ３またはレーザ光Ｌ２，Ｌ４を屈折させて副走査方向に収束し、ポリゴンミラー４０の反射面上で主走査方向に長い線状に結像させるレンズである。この第１シリンドリカルレンズ３０は、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間、さらに言えば、ケーシング１００の後述する補強壁１５１とポリゴンミラー４０との間に配置されている。
【００３５】
ポリゴンミラー４０は、回転軸から等距離に設けられた６つのミラー面（反射面）を有し、ミラー面が回転軸を中心に一定速度で回転することで、第１シリンドリカルレンズ３０を通過したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を反射して主走査方向に偏向する。このポリゴンミラー４０は、ケーシング１００のほぼ中央で、前後方向において光源装置２０Ａ，２０Ｂと対向して配置されている。
【００３６】
ｆθレンズ５０は、ポリゴンミラー４０によって等角速度で走査されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を感光体Ｄの表面で主走査方向に等速度で走査するように変換するレンズであり、ポリゴンミラー４０の左右に１つずつ、合計２つ設けられている。
【００３７】
第２シリンドリカルレンズ６０は、ポリゴンミラー４０の面倒れを補正するため、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４を屈折させて副走査方向に収束し、感光体Ｄの表面上に結像させるレンズである。この第２シリンドリカルレンズ６０（６０Ａ〜６０Ｄ）は、４つの光源装置２０Ａ〜２０Ｄから出射されるレーザ光Ｌ１〜Ｌ４に対応して４つ設けられている。
【００３８】
図３に示すように、ポリゴンミラー４０で偏向され、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ１，Ｌ２が通過する第２シリンドリカルレンズ６０Ａ，６０Ｂは、ｆθレンズ５０の上方に配置されている。また、ポリゴンミラー４０で偏向され、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ３，Ｌ４が通過する第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄは、ｆθレンズ５０とケーシング１００の後述する側壁１２０との間で、側壁１２０と対向して配置されている。
【００３９】
反射鏡７２〜７５は、ポリゴンミラー４０で偏向され、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を反射する部材である。この反射鏡７２〜７５は、例えば、ガラス板の表面（反射面となる面）にアルミニウムなどの反射率が高い材料を蒸着することにより形成されている。
【００４０】
反射鏡７２（７２Ａ，７２Ｂ）は、ｆθレンズ５０と第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄとの間に配置されており、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ１，Ｌ２を第２シリンドリカルレンズ６０Ａ，６０Ｂに向けて反射する。また、反射鏡７３（７３Ａ，７３Ｂ）は、ｆθレンズ５０の上方に配置されており、第２シリンドリカルレンズ６０Ａ，６０Ｂを通過したレーザ光Ｌ１，Ｌ２を感光体Ｄの表面（被走査面）に向けて反射する。なお、本実施形態において、反射鏡７３Ａは、第１の反射鏡の一例であり、反射鏡７３Ｂは、第２の反射鏡の一例である。
【００４１】
反射鏡７４（７４Ｃ，７４Ｄ）は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄとケーシング１００の側壁１２０との間で、側壁１２０に沿うように配置されており、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄを通過したレーザ光Ｌ３，Ｌ４を反射鏡７５に向けて反射する。また、反射鏡７５（７５Ｃ，７５Ｄ）は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄの上方に配置されており、反射鏡７４で反射されたレーザ光Ｌ３，Ｌ４を感光体Ｄの表面に向けて反射する。
【００４２】
以上のような構成により、図２に示すように、光源装置２０Ａ，２０Ｂからのレーザ光Ｌ１，Ｌ２は、第１シリンドリカルレンズ３０を通過して、ポリゴンミラー４０で主走査方向に偏向される。また、光源装置２０Ｃ，２０Ｄからのレーザ光Ｌ３，Ｌ４は、反射鏡７１で反射されて進路をポリゴンミラー４０に向けた後、第１シリンドリカルレンズ３０を通過して、ポリゴンミラー４０で主走査方向に偏向される。
【００４３】
そして、図３に示すように、ポリゴンミラー４０で偏向されたレーザ光Ｌ１，Ｌ２は、ｆθレンズ５０を通過し、反射鏡７２で反射され、第２シリンドリカルレンズ６０を通過した後、反射鏡７３で反射されて感光体Ｄの表面を走査露光する。また、ポリゴンミラー４０で偏向されたレーザ光Ｌ３，Ｌ４は、ｆθレンズ５０および第２シリンドリカルレンズ６０を通過し、反射鏡７４で反射された後、反射鏡７５で反射されて感光体Ｄの表面を走査露光する。
【００４４】
図１に示すように、ケーシング１００は、光源装置２０やポリゴンミラー４０、第２シリンドリカルレンズ６０、反射鏡７１〜７５などを収容する部材である。このケーシング１００は、本発明の特徴部分に関わる構成として、支持壁１１０と、側壁１２０と、反射鏡支持部１３０，１４０と、補強壁１５１，１５２と、補強部１６１，１６２とを主に有している。
【００４５】
支持壁１１０は、ケーシング１００の下側の壁（底壁）であり、光源装置２０やポリゴンミラー４０、ｆθレンズ５０、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄ、反射鏡７２，７４などを支持している。図３に示すように、この支持壁１１０には、反射鏡７３，７５で反射して感光体Ｄの表面に向かうレーザ光Ｌ１〜Ｌ４をそれぞれ通過させる４つの露光口１１１〜１１４が形成されている。なお、本実施形態において、露光口１１１は、第１の露光口の一例であり、露光口１１２は、第２の露光口の一例である。
【００４６】
ちなみに、図３には示していないが、露光口１１１〜１１４には、ケーシング１００内への塵埃の侵入を抑制するため、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４を通過させるガラスやレンズなどが嵌められていてもよい。
【００４７】
側壁１２０は、支持壁１１０の露光口１１１〜１１４が並ぶ左右方向の両端部で支持壁１１０から立設するように設けられている。
【００４８】
図１に示すように、反射鏡支持部１３０（１３１Ａおよび１３２Ａ、１３１Ｂおよび１３２Ｂ）は、反射鏡７３（７３Ａ，７３Ｂ）を支持する部分であり、支持壁１１０から上方に向けて延びる略柱状に形成されている。
【００４９】
より詳細に、反射鏡支持部１３１Ａ，１３２Ａは、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０とが対向する対向方向（前後方向）から見て（図３も参照）、ポリゴンミラー４０の右側で、ｆθレンズ５０の前後に設けられている。また、反射鏡支持部１３１Ｂ，１３２Ｂは、前後方向から見て、ポリゴンミラー４０の左側（ポリゴンミラー４０を挟んで反射鏡支持部１３１Ａ，１３２Ａとは反対側）で、ｆθレンズ５０の前後に設けられている。
【００５０】
なお、以下の説明において、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、前側（光源装置２０が配置された側）に設けられたものを指すものとし、反射鏡支持部１３２Ａ，１３２Ｂは、後側に設けられたものを指すものとする。ちなみに、本実施形態において、反射鏡支持部１３１Ａは、第１の反射鏡支持部の一例であり、反射鏡支持部１３１Ｂは、第２の反射鏡支持部の一例である。
【００５１】
反射鏡支持部１３０は、支持壁１１０とは反対側の端部である上端部１３３（図４参照）で反射鏡７３を支持している。さらに述べると、反射鏡支持部１３０は、ポリゴンミラー４０よりも上まで延びており、上端部１３３はポリゴンミラー４０よりも上側に位置している。このような構成により、図３に示すように、反射鏡７３（７３Ａ，７３Ｂ）は、前後方向から見て、ポリゴンミラー４０を挟んで支持壁１１０とは反対側（ポリゴンミラー４０よりも支持壁１１０から離れた側）に配置されている。
【００５２】
図２に示すように、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、左右方向において互いに向かい合って配置されている光源装置２０Ｃと光源装置２０Ｄの間であって、反射鏡７１を挟むように設けられている。別の言い方をすると、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、光源装置２０Ｃ，２０Ｄから出射され、反射鏡７１で反射されてポリゴンミラー４０に向かう、略Ｌ形状のレーザ光Ｌ３，Ｌ４の光路上において、光源装置２０Ｃ，２０Ｄとポリゴンミラー４０との間に設けられている。
【００５３】
そのため、図４に示すように、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂには、それぞれ、レーザ光Ｌ３またはレーザ光Ｌ４を通過させる通過口１３４が形成されている。このような構成により、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂを避けて光源装置２０Ｃ，２０Ｄを配置する必要がないので、光源装置２０の配置の自由度を向上させることができるようになっている。また、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂを避けるため、４つの光源装置２０および反射鏡７１を図２に示す位置よりも前側にずらして配置する場合と比較して、支持壁１１０（ケーシング１００）の小型化を図ることができるので、光走査装置１の小型化が可能となっている。
【００５４】
図１に示すように、反射鏡支持部１４０は、反射鏡７５を支持する部分であり、支持壁１１０から上方に向けて延びる略柱状に形成されている。より詳細に、反射鏡支持部１４０は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄの前後に設けられている。この反射鏡支持部１４０も、前記した反射鏡支持部１３０と同様に、支持壁１１０とは反対側の端部である上端部（符号省略）で反射鏡７５を支持している。
【００５５】
補強壁１５１，１５２および補強部１６１，１６２は、ケーシング１００を補強するための部分である。
【００５６】
補強壁１５１は、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間、さらに言えば、反射鏡７１と第１シリンドリカルレンズ３０（図２参照）との間で支持壁１１０から上方に向けて延び、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとを連続的につないでいる。言い換えると、補強壁１５１は、支持壁１１０および反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂと一体に形成されている。
【００５７】
図４に示すように、この補強壁１５１は、支持壁１１０から反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの上端部１３３まで延びている。このような構成によれば、補強壁１５１によって、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとを支持壁１１０側から上端部１３３側までつなぐことができるので、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂおよび支持壁１１０の強度を向上させることができる。
【００５８】
補強壁１５１には、光源装置２０からポリゴンミラー４０（図４では図示省略）に向けて出射されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４をそれぞれ通過させる４つの開口１５３（貫通孔）が形成されている。この４つの開口１５３は、正面から見て略正方形状をなしており、図５に示すように、それぞれ、光源装置２０Ａ〜２０Ｄ（半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄ）から出射され、コリメートレンズ２２を通過したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の上下および左右の幅を規定するアパーチャとなっている。なお、図５では、半導体レーザ２１Ａ，２１Ｂから出射されたレーザ光Ｌ１，Ｌ２と図４に示した上側の開口１５３のみを図示している。
【００５９】
このような構成により、本実施形態では、別部品としてのアパーチャを設ける必要がなくなるので、光走査装置１の部品点数を削減することができ、組立性を向上させたり、コストを抑制したりすることができるようになっている。また、アパーチャとしての開口１５３を通過しなかった光は、補強壁１５１によって遮られるため、ポリゴンミラー４０や反射鏡７２〜７５に到達することはない。これにより、余計な光が、いわゆる迷光として、ポリゴンミラー４０や反射鏡７２〜７５で反射され、露光口１１１〜１１４を通って感光体Ｄの表面に到達することを抑制することができる。
【００６０】
なお、本実施形態では、第１シリンドリカルレンズ３０が補強壁１５１とポリゴンミラー４０との間に配置されているので、第１シリンドリカルレンズ３０には、アパーチャとして機能する開口１５３により幅が規定されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４が入射されることになる。これにより、感光体Ｄの表面（感光体Ｄの表面に対応する光学的な位置）上におけるレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の結像状態の調整を容易に行うことができるようになっている。
【００６１】
図１に示すように、補強壁１５２は、反射鏡支持部１３２Ａと反射鏡支持部１３２Ｂとの間で支持壁１１０から上方に向けて延び、反射鏡支持部１３２Ａと反射鏡支持部１３２Ｂとを連続的につないでいる。この補強壁１５２も、補強壁１５１と同様に、支持壁１１０および反射鏡支持部１３２Ａ，１３２Ｂと一体に形成されている。
【００６２】
補強部１６１，１６２は、支持壁１１０から上方に向けて延び、前後方向に厚い壁状に形成されている。補強部１６１は、反射鏡支持部１３１Ａとその右側の反射鏡支持部１４０、または、反射鏡支持部１３１Ｂとその左側の反射鏡支持部１４０とをつないでいる。また、補強部１６２は、反射鏡支持部１３２Ａとその右側の反射鏡支持部１４０、または、反射鏡支持部１３２Ｂとその左側の反射鏡支持部１４０とをつないでいる。この補強部１６１，１６２もまた、補強壁１５１，１５２と同様に、支持壁１１０および反射鏡支持部１３０，１４０と一体に形成されている。
【００６３】
以上によれば、本実施形態において以下のような作用効果を得ることができる。
ケーシング１００は、支持壁１１０から延びる反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂと、支持壁１１０から延び、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとをつなぐ補強壁１５１とを有しているので、支持壁１１０の強度を向上させることができる。これにより、ポリゴンミラー４０が高速回転した場合であっても、支持壁１１０の振動を抑制することができる。
【００６４】
その結果、例えば、光走査装置１がレーザプリンタなどの画像形成装置に設けられる場合には、ポリゴンミラー４０が高速回転しても感光体Ｄの表面を良好に走査露光することができるので、画像形成装置の印字速度を高速化しつつ、画質の低下を抑制することができる。
【００６５】
なお、補強壁１５１は、光源装置２０からポリゴンミラー４０に向けて出射されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を通過させる開口１５３を有するので、光源装置２０から出射されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４が、補強壁１５１によって遮られることはない。
【００６６】
また、本実施形態では、ケーシング１００の支持壁１１０がレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を通過させる露光口１１１〜１１４を有するので、ポリゴンミラー４０の高速回転により支持壁１１０が振動しやすくなっている。しかし、補強壁１５１，１５２や補強部１６１，１６２により支持壁１１０が補強されているので、ポリゴンミラー４０の高速回転の影響を良好に抑えることができる。すなわち、本発明は、ケーシング１００の支持壁１１０（底壁）が露光口１１１〜１１４を有する構成において特に有効である。
【００６７】
また、本実施形態では、反射鏡７３がポリゴンミラー４０の上側に配置されているので、反射鏡７３を支持する反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの高さが高くなるため、ポリゴンミラー４０の高速回転により反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂが振動する可能性がある。しかし、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとは、補強壁１５１によって支持壁１１０から上端部１３３まで連続してつながれるので、その強度を向上させることができ、ポリゴンミラー４０の高速回転したときの振動を抑制することが可能となっている。これにより、支持壁１１０の強度もさらに向上させることができるので、ポリゴンミラー４０が高速回転した場合の支持壁１１０の振動もより確実に抑制することができる。
【００６８】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではない。具体的な構成については、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。
【００６９】
前記実施形態では、光源装置２０Ａ（半導体レーザ２１Ａ）と光源装置２０Ｂ（半導体レーザ２１Ｂ）を並べて配置し、光源装置２０Ｃ，２０Ｄ（半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄ）を互いに向かい合った状態で、レーザ光Ｌ３，Ｌ４がレーザ光Ｌ１，Ｌ２に対して略直交するように配置したが、特に半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄの配置はこれに限定されるものではない。例えば、図６に示すように、レーザ光の出射面をポリゴンミラー４０に向けた状態で、４つの半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄを左右方向に並べて配置してもよい。
【００７０】
なお、図６に示す構成では、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、ケーシング１００内におけるレーザ光Ｌ３，Ｌ４の光路上において半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄとポリゴンミラー４０との間に設けられているため、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂにはレーザ光Ｌ３，Ｌ４を通過させる通過口１３４が形成されている。これによれば、前記実施形態と同様に、半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄの配置の自由度を向上させることができる。また、図６に示す構成では、前記実施形態で説明した反射鏡７１を省略することができるので、光走査装置１の部品点数を削減することができる。
【００７１】
前記実施形態では、補強壁１５１が支持壁１１０から反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの上端部１３３まで延びていたが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、補強壁の高さは、前記実施形態の支持壁１１０から反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの上端部１３３までの高さよりも高くてもよいし、低くてもよい。
【００７２】
前記実施形態では、アパーチャとして機能する開口１５３が、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の上下および左右の幅を規定するもの（形状）であったが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、アパーチャとして機能する開口は、レーザ光の上下の幅だけを規定する形状であってもよいし、レーザ光の左右の幅だけを規定する形状であってもよい。
【００７３】
前記実施形態では、補強壁１５１の開口１５３が、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の幅を規定するアパーチャとして機能するものであったが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、補強壁の開口は、レーザ光を遮らないためのレーザ光の径よりも大きな開口であってもよい。この場合、別途、アパーチャ部材を設けることが好ましい。
【００７４】
前記実施形態では、補強壁１５１に、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４をそれぞれ通過させる４つの開口１５３が形成された構成を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明において、補強壁の開口の数は特に限定されるものではない。例えば、前記実施形態において、開口は、レーザ光Ｌ１，Ｌ２を通過させるものと、レーザ光Ｌ３，Ｌ４を通過させるものの２つであってもよい。また、開口は１つであってもよい。
【００７５】
前記実施形態では、第１シリンドリカルレンズ３０（結像レンズ）を２つ備える構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、前記実施形態（図２参照）において、結像レンズは１つだけであってもよい。また、図６に示したような構成においては、４つの光源（半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄ）に対応させて結像レンズを４つ設けてもよい。
【００７６】
前記実施形態では、ケーシング１００の底壁である支持壁１１０に露光口１１１〜１１４が形成されていたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ケーシングに設けられた光学部品を覆うようにケーシングに取り付けられて、ケーシングと共に光走査装置の筐体を構成するカバーに露光口が形成されていてもよい。
【００７７】
前記実施形態では、光源として、単一のレーザ光を出射する半導体レーザ２１を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、複数の発光点を有し、複数のレーザ光を出射する光源であってもよい。
【００７８】
前記実施形態では、偏向器としてのポリゴンミラー４０が６つのミラー面を有していたが、本発明はこれに限定されず、例えば、ミラー面は４つであってもよい。また、前記実施形態では、偏向器として、回転することでレーザ光を偏向するポリゴンミラー４０を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、揺動することで光を偏向する振動ミラーなどであってもよい。
【００７９】
前記実施形態では、本発明の光走査装置１をレーザプリンタなどの画像形成装置に設けた例を示したが、本発明は、これに限定されず、例えば、測定装置や検査装置などに設けてもよい。
【符号の説明】
【００８０】
１ 光走査装置
２１Ａ 半導体レーザ
２１Ｂ 半導体レーザ
２１Ｃ 半導体レーザ
３０ 第１シリンドリカルレンズ
４０ ポリゴンミラー
７３Ａ 反射鏡
７３Ｂ 反射鏡
１００ ケーシング
１１０ 支持壁
１１１ 露光口
１１２ 露光口
１３１Ａ 反射鏡支持部
１３１Ｂ 反射鏡支持部
１３３ 上端部
１３４ 通過口
１５１ 補強壁
１５３ 開口
Ｄ 感光体
Ｌ１ レーザ光
Ｌ２ レーザ光
Ｌ３ レーザ光
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の光源を備える光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数の感光体が並んで設けられたタンデム方式の画像形成装置には、感光体を露光するために、複数の光源から出射され、ポリゴンミラーなどの偏向器により偏向されたレーザ光を各感光体の表面（被走査面）上で走査する光走査装置が設けられている。
【０００３】
このような光走査装置としては、レーザ光を出射する複数の光源と、レーザ光を反射して主走査方向に偏向する偏向器と、偏向されたレーザ光を被走査面に向けて反射する複数の折り返しミラーと、光源や偏向器、折り返しミラーを収容するハウジング部材とを備えた構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２５１３０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、画像形成装置の印字速度の高速化など、光走査装置が設けられる機器の動作の高速化を目的として、レーザ光を偏向する偏向器も高速動作するものが採用されるようになっている。
【０００６】
しかしながら、偏向器が高速動作すると、ハウジング部材の偏向器を支持する支持壁が振動するので、これによって偏向器自身も振動し、偏向器で偏向（反射）されるレーザ光がぶれるおそれがあった。レーザ光がぶれると、被走査面に対するレーザ光の入射位置が安定しなくなるので、例えば、画像形成装置では、感光体の表面を良好に露光できなくなり、結果として、画質が低下するおそれがあった。
【０００７】
本発明は、以上の背景に鑑みてなされたものであり、支持壁の振動を抑制することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した目的を達成するため、本発明の光走査装置は、第１のレーザ光を出射する第１の光源と、第２のレーザ光を出射する第２の光源と、第１の光源および第２の光源と対向して配置され、第１のレーザ光および第２のレーザ光を反射して主走査方向に偏向する偏向器と、偏向された第１のレーザ光を被走査面に向けて反射する第１の反射鏡と、偏向された第２のレーザ光を被走査面に向けて反射する第２の反射鏡と、第１の光源、第２の光源、偏向器、第１の反射鏡および第２の反射鏡を収容するケーシングとを備えている。
ケーシングは、偏向器を支持する支持壁と、支持壁から延びて第１の反射鏡を支持する柱状の第１の反射鏡支持部と、第１の光源および第２の光源と偏向器とが対向する対向方向から見て、偏向器を挟んで第１の反射鏡支持部とは反対側で支持壁から延び、第２の反射鏡を支持する柱状の第２の反射鏡支持部と、第１の光源および第２の光源と偏向器との間で支持壁から延び、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁とを有している。
補強壁は、第１の光源および第２の光源から偏向器に向けて出射された第１のレーザ光および第２のレーザ光を通過させる少なくとも１つの開口を有する。
【０００９】
このような構成によれば、ケーシングは、偏向器を支持する支持壁から延びる柱状の第１の反射鏡支持部および第２の反射鏡支持部と、支持壁から延び、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁とを有しているので、支持壁の強度を向上させることができる。これにより、偏向器が高速動作した場合であっても、支持壁の振動を抑制することができる。
【００１０】
なお、補強壁は、第１の光源および第２の光源から偏向器に向けて出射された第１のレーザ光および第２のレーザ光を通過させる開口を有するので、第１の光源および第２の光源から出射されたレーザ光が、補強壁によって遮られることはない。
【００１１】
前記した光走査装置において、補強壁の開口は、第１のレーザ光または第２のレーザ光の幅を規定するアパーチャであることが好ましい。
【００１２】
このような構成によれば、別部品としてのアパーチャ部材を設ける必要がなくなるので、部品点数を削減することができ、光走査装置の組立性を向上させたり、コストを抑制したりすることができる。また、アパーチャとしての開口を通過しなかった光は、補強壁によって遮られ、偏向器や反射鏡には到達しないので、このような光が偏向器や反射鏡で反射されて被走査面に到達することを抑制することができる。
【００１３】
前記した各光走査装置において、第１の反射鏡支持部および第２の反射鏡支持部は、それぞれ、支持壁とは反対側の端部で第１の反射鏡または第２の反射鏡を支持している構成とすることができる。
この場合、補強壁は、支持壁から前記端部まで延びていることが好ましい。
【００１４】
このような構成によれば、補強壁によって、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とを支持壁側から当該支持壁とは反対側の端部までつなぐことができるので、第１の反射鏡支持部、第２の反射鏡支持部および支持壁の強度を向上させることができる。
【００１５】
前記した各光走査装置において、支持壁は、第１の反射鏡で反射して被走査面に向かう第１のレーザ光を通過させる第１の露光口と、第２の反射鏡で反射して被走査面に向かう第２のレーザ光を通過させる第２の露光口とを有する構成とすることができる。
【００１６】
このような支持壁がレーザ光を通過させる露光口を有する構成では、偏向器の高速動作により支持壁が振動しやすくなるが、本発明では、補強壁により支持壁が補強されているので、偏向器の高速動作の影響を抑えることができる。
【００１７】
前記した補強壁が支持壁から前記端部まで延びている光走査装置において、第１の反射鏡および第２の反射鏡は、前記対向方向から見て、偏向器を挟んで支持壁とは反対側に配置されていることが好ましい。
【００１８】
このような構成では、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部の高さが高くなるため、偏向器の高速動作により第１の反射鏡支持部および第２の反射鏡支持部が振動する可能性があるが、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とは、補強壁によって支持壁から前記した端部までつながれるので、その強度を向上させることができる。
【００１９】
前記した各光走査装置は、第３のレーザ光を出射する第３の光源を備えていてもよい。
この場合、第１の反射鏡支持部は、ケーシング内における第３のレーザ光の光路上において、第３の光源と偏向器との間に設けられており、第３のレーザ光を通過させる通過口を有する構成とすることができる。
【００２０】
このような構成によれば、第１の反射鏡支持部を避けて第３の光源を配置する必要がないので、第３の光源の配置の自由度を向上させることができる。これにより、光走査装置の小型化や部品点数の削減を図ることも可能となる。
【００２１】
前記した補強壁の開口がアパーチャである光走査装置は、第１のレーザ光および第２のレーザ光を偏向器の反射面上でそれぞれ結像させる少なくとも１つの結像レンズを備えていてもよい。
この場合、結像レンズは、補強壁と偏向器との間に配置されていることが好ましい。
【００２２】
このような構成によれば、結像レンズには、アパーチャにより幅が規定されたレーザ光が入射されることになるので、被走査面上におけるレーザ光の結像状態の調整を容易に行うことができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、支持壁から延び、第１の反射鏡支持部と第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁により支持壁の強度を向上させることができるので、偏向器が高速動作した場合であっても、支持壁の振動を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実施形態に係る光走査装置の斜視図である。
【図２】光走査装置の平面図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ断面図である。
【図４】光源装置周辺の拡大斜視図である。
【図５】補強壁に形成された開口の機能の説明図である。
【図６】変形例に係る光走査装置の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明において、「主走査方向」とは、被走査面の一例としての感光体Ｄ（図３参照）の表面でのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の走査方向である。本明細書においては、この走査のためにレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を偏向する方向を（空間的に異なる方向であっても）すべて主走査方向とする。また、「副走査方向」とは、主走査方向およびレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の進行方向に直交する方向である。
【００２６】
また、以下の説明において、前後上下左右は、図１に示されている状態における前後上下左右をいうものとする。すなわち、以下の説明における前後上下左右は、必ずしも、光走査装置１が画像形成装置などに設けられたときの前後上下左右に対応するわけではない。
【００２７】
図１に示すように、光走査装置１は、光源装置２０（２０Ａ〜２０Ｄ）と、結像レンズの一例としての第１シリンドリカルレンズ３０（図２参照）と、偏向器の一例としてのポリゴンミラー４０と、ｆθレンズ５０と、第２シリンドリカルレンズ６０と、反射鏡７１〜７５と、ケーシング１００とを主に備えている。
【００２８】
光源装置２０（２０Ａ〜２０Ｄ）は、光束に変換したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を出射する装置であり、光走査装置１が走査露光する４つの感光体Ｄに対応して４つ設けられている。図２に示すように、光源装置２０Ａと光源装置２０Ｂは、左右方向に並んで配置されており、光源装置２０Ｃと光源装置２０Ｄは、左右方向において互いに向かい合った状態で、出射するレーザ光Ｌ３，Ｌ４が、光源装置２０Ａ，２０Ｂが出射するレーザ光Ｌ１，Ｌ２に対して略直交するように配置されている。
【００２９】
図４に示すように、各光源装置２０Ａ〜２０Ｄは、それぞれ、半導体レーザ２１と、コリメートレンズ２２と、フレーム２３とを主に備えている。
【００３０】
半導体レーザ２１（２１Ａ〜２１Ｄ）は、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４を出射する公知の素子である。なお、本実施形態において、半導体レーザ２１Ａは、第１の光源の一例であり、半導体レーザ２１Ｂは、第２の光源の一例であり、半導体レーザ２１Ｃは、第３の光源の一例である。
【００３１】
コリメートレンズ２２は、半導体レーザ２１からのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を集光して光束に変換するレンズである。なお、本発明において、コリメートレンズ２２によって変換されて得られた光束は、平行光、収束光および発散光のいずれであってもよい。
【００３２】
フレーム２３は、半導体レーザ２１とコリメートレンズ２２を支持する部材である。半導体レーザ２１は、フレーム２３の底壁から立設する壁に設けられた円筒状の取付部に圧入されることにより固定され、コリメートレンズ２２は、フレーム２３の底壁の１段高い部分に半導体レーザ２１と対向するように配置され、接着剤により固定されている。
【００３３】
図２に戻り、反射鏡７１は、光源装置２０Ｃからのレーザ光Ｌ３（第３のレーザ光）または光源装置２０Ｄからのレーザ光Ｌ４をポリゴンミラー４０に向けて反射する部材であり、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間に配置されている。なお、光源装置２０Ａからのレーザ光Ｌ１（第１のレーザ光）と光源装置２０Ｂからのレーザ光Ｌ２（第２のレーザ光）は、それぞれ、反射鏡７１の上を通過してポリゴンミラー４０に入射される。
【００３４】
第１シリンドリカルレンズ３０は、ポリゴンミラー４０の面倒れを補正するため、レーザ光Ｌ１，Ｌ３またはレーザ光Ｌ２，Ｌ４を屈折させて副走査方向に収束し、ポリゴンミラー４０の反射面上で主走査方向に長い線状に結像させるレンズである。この第１シリンドリカルレンズ３０は、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間、さらに言えば、ケーシング１００の後述する補強壁１５１とポリゴンミラー４０との間に配置されている。
【００３５】
ポリゴンミラー４０は、回転軸から等距離に設けられた６つのミラー面（反射面）を有し、ミラー面が回転軸を中心に一定速度で回転することで、第１シリンドリカルレンズ３０を通過したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を反射して主走査方向に偏向する。このポリゴンミラー４０は、ケーシング１００のほぼ中央で、前後方向において光源装置２０Ａ，２０Ｂと対向して配置されている。
【００３６】
ｆθレンズ５０は、ポリゴンミラー４０によって等角速度で走査されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を感光体Ｄの表面で主走査方向に等速度で走査するように変換するレンズであり、ポリゴンミラー４０の左右に１つずつ、合計２つ設けられている。
【００３７】
第２シリンドリカルレンズ６０は、ポリゴンミラー４０の面倒れを補正するため、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４を屈折させて副走査方向に収束し、感光体Ｄの表面上に結像させるレンズである。この第２シリンドリカルレンズ６０（６０Ａ〜６０Ｄ）は、４つの光源装置２０Ａ〜２０Ｄから出射されるレーザ光Ｌ１〜Ｌ４に対応して４つ設けられている。
【００３８】
図３に示すように、ポリゴンミラー４０で偏向され、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ１，Ｌ２が通過する第２シリンドリカルレンズ６０Ａ，６０Ｂは、ｆθレンズ５０の上方に配置されている。また、ポリゴンミラー４０で偏向され、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ３，Ｌ４が通過する第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄは、ｆθレンズ５０とケーシング１００の後述する側壁１２０との間で、側壁１２０と対向して配置されている。
【００３９】
反射鏡７２〜７５は、ポリゴンミラー４０で偏向され、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を反射する部材である。この反射鏡７２〜７５は、例えば、ガラス板の表面（反射面となる面）にアルミニウムなどの反射率が高い材料を蒸着することにより形成されている。
【００４０】
反射鏡７２（７２Ａ，７２Ｂ）は、ｆθレンズ５０と第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄとの間に配置されており、ｆθレンズ５０を通過したレーザ光Ｌ１，Ｌ２を第２シリンドリカルレンズ６０Ａ，６０Ｂに向けて反射する。また、反射鏡７３（７３Ａ，７３Ｂ）は、ｆθレンズ５０の上方に配置されており、第２シリンドリカルレンズ６０Ａ，６０Ｂを通過したレーザ光Ｌ１，Ｌ２を感光体Ｄの表面（被走査面）に向けて反射する。なお、本実施形態において、反射鏡７３Ａは、第１の反射鏡の一例であり、反射鏡７３Ｂは、第２の反射鏡の一例である。
【００４１】
反射鏡７４（７４Ｃ，７４Ｄ）は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄとケーシング１００の側壁１２０との間で、側壁１２０に沿うように配置されており、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄを通過したレーザ光Ｌ３，Ｌ４を反射鏡７５に向けて反射する。また、反射鏡７５（７５Ｃ，７５Ｄ）は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄの上方に配置されており、反射鏡７４で反射されたレーザ光Ｌ３，Ｌ４を感光体Ｄの表面に向けて反射する。
【００４２】
以上のような構成により、図２に示すように、光源装置２０Ａ，２０Ｂからのレーザ光Ｌ１，Ｌ２は、第１シリンドリカルレンズ３０を通過して、ポリゴンミラー４０で主走査方向に偏向される。また、光源装置２０Ｃ，２０Ｄからのレーザ光Ｌ３，Ｌ４は、反射鏡７１で反射されて進路をポリゴンミラー４０に向けた後、第１シリンドリカルレンズ３０を通過して、ポリゴンミラー４０で主走査方向に偏向される。
【００４３】
そして、図３に示すように、ポリゴンミラー４０で偏向されたレーザ光Ｌ１，Ｌ２は、ｆθレンズ５０を通過し、反射鏡７２で反射され、第２シリンドリカルレンズ６０を通過した後、反射鏡７３で反射されて感光体Ｄの表面を走査露光する。また、ポリゴンミラー４０で偏向されたレーザ光Ｌ３，Ｌ４は、ｆθレンズ５０および第２シリンドリカルレンズ６０を通過し、反射鏡７４で反射された後、反射鏡７５で反射されて感光体Ｄの表面を走査露光する。
【００４４】
図１に示すように、ケーシング１００は、光源装置２０やポリゴンミラー４０、第２シリンドリカルレンズ６０、反射鏡７１〜７５などを収容する部材である。このケーシング１００は、本発明の特徴部分に関わる構成として、支持壁１１０と、側壁１２０と、反射鏡支持部１３０，１４０と、補強壁１５１，１５２と、補強部１６１，１６２とを主に有している。
【００４５】
支持壁１１０は、ケーシング１００の下側の壁（底壁）であり、光源装置２０やポリゴンミラー４０、ｆθレンズ５０、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄ、反射鏡７２，７４などを支持している。図３に示すように、この支持壁１１０には、反射鏡７３，７５で反射して感光体Ｄの表面に向かうレーザ光Ｌ１〜Ｌ４をそれぞれ通過させる４つの露光口１１１〜１１４が形成されている。なお、本実施形態において、露光口１１１は、第１の露光口の一例であり、露光口１１２は、第２の露光口の一例である。
【００４６】
ちなみに、図３には示していないが、露光口１１１〜１１４には、ケーシング１００内への塵埃の侵入を抑制するため、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４を通過させるガラスやレンズなどが嵌められていてもよい。
【００４７】
側壁１２０は、支持壁１１０の露光口１１１〜１１４が並ぶ左右方向の両端部で支持壁１１０から立設するように設けられている。
【００４８】
図１に示すように、反射鏡支持部１３０（１３１Ａおよび１３２Ａ、１３１Ｂおよび１３２Ｂ）は、反射鏡７３（７３Ａ，７３Ｂ）を支持する部分であり、支持壁１１０から上方に向けて延びる略柱状に形成されている。
【００４９】
より詳細に、反射鏡支持部１３１Ａ，１３２Ａは、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０とが対向する対向方向（前後方向）から見て（図３も参照）、ポリゴンミラー４０の右側で、ｆθレンズ５０の前後に設けられている。また、反射鏡支持部１３１Ｂ，１３２Ｂは、前後方向から見て、ポリゴンミラー４０の左側（ポリゴンミラー４０を挟んで反射鏡支持部１３１Ａ，１３２Ａとは反対側）で、ｆθレンズ５０の前後に設けられている。
【００５０】
なお、以下の説明において、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、前側（光源装置２０が配置された側）に設けられたものを指すものとし、反射鏡支持部１３２Ａ，１３２Ｂは、後側に設けられたものを指すものとする。ちなみに、本実施形態において、反射鏡支持部１３１Ａは、第１の反射鏡支持部の一例であり、反射鏡支持部１３１Ｂは、第２の反射鏡支持部の一例である。
【００５１】
反射鏡支持部１３０は、支持壁１１０とは反対側の端部である上端部１３３（図４参照）で反射鏡７３を支持している。さらに述べると、反射鏡支持部１３０は、ポリゴンミラー４０よりも上まで延びており、上端部１３３はポリゴンミラー４０よりも上側に位置している。このような構成により、図３に示すように、反射鏡７３（７３Ａ，７３Ｂ）は、前後方向から見て、ポリゴンミラー４０を挟んで支持壁１１０とは反対側（ポリゴンミラー４０よりも支持壁１１０から離れた側）に配置されている。
【００５２】
図２に示すように、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、左右方向において互いに向かい合って配置されている光源装置２０Ｃと光源装置２０Ｄの間であって、反射鏡７１を挟むように設けられている。別の言い方をすると、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、光源装置２０Ｃ，２０Ｄから出射され、反射鏡７１で反射されてポリゴンミラー４０に向かう、略Ｌ形状のレーザ光Ｌ３，Ｌ４の光路上において、光源装置２０Ｃ，２０Ｄとポリゴンミラー４０との間に設けられている。
【００５３】
そのため、図４に示すように、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂには、それぞれ、レーザ光Ｌ３またはレーザ光Ｌ４を通過させる通過口１３４が形成されている。このような構成により、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂを避けて光源装置２０Ｃ，２０Ｄを配置する必要がないので、光源装置２０の配置の自由度を向上させることができるようになっている。また、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂを避けるため、４つの光源装置２０および反射鏡７１を図２に示す位置よりも前側にずらして配置する場合と比較して、支持壁１１０（ケーシング１００）の小型化を図ることができるので、光走査装置１の小型化が可能となっている。
【００５４】
図１に示すように、反射鏡支持部１４０は、反射鏡７５を支持する部分であり、支持壁１１０から上方に向けて延びる略柱状に形成されている。より詳細に、反射鏡支持部１４０は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｃ，６０Ｄの前後に設けられている。この反射鏡支持部１４０も、前記した反射鏡支持部１３０と同様に、支持壁１１０とは反対側の端部である上端部（符号省略）で反射鏡７５を支持している。
【００５５】
補強壁１５１，１５２および補強部１６１，１６２は、ケーシング１００を補強するための部分である。
【００５６】
補強壁１５１は、光源装置２０Ａ，２０Ｂとポリゴンミラー４０との間、さらに言えば、反射鏡７１と第１シリンドリカルレンズ３０（図２参照）との間で支持壁１１０から上方に向けて延び、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとを連続的につないでいる。言い換えると、補強壁１５１は、支持壁１１０および反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂと一体に形成されている。
【００５７】
図４に示すように、この補強壁１５１は、支持壁１１０から反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの上端部１３３まで延びている。このような構成によれば、補強壁１５１によって、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとを支持壁１１０側から上端部１３３側までつなぐことができるので、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂおよび支持壁１１０の強度を向上させることができる。
【００５８】
補強壁１５１には、光源装置２０からポリゴンミラー４０（図４では図示省略）に向けて出射されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４をそれぞれ通過させる４つの開口１５３（貫通孔）が形成されている。この４つの開口１５３は、正面から見て略正方形状をなしており、図５に示すように、それぞれ、光源装置２０Ａ〜２０Ｄ（半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄ）から出射され、コリメートレンズ２２を通過したレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の上下および左右の幅を規定するアパーチャとなっている。なお、図５では、半導体レーザ２１Ａ，２１Ｂから出射されたレーザ光Ｌ１，Ｌ２と図４に示した上側の開口１５３のみを図示している。
【００５９】
このような構成により、本実施形態では、別部品としてのアパーチャを設ける必要がなくなるので、光走査装置１の部品点数を削減することができ、組立性を向上させたり、コストを抑制したりすることができるようになっている。また、アパーチャとしての開口１５３を通過しなかった光は、補強壁１５１によって遮られるため、ポリゴンミラー４０や反射鏡７２〜７５に到達することはない。これにより、余計な光が、いわゆる迷光として、ポリゴンミラー４０や反射鏡７２〜７５で反射され、露光口１１１〜１１４を通って感光体Ｄの表面に到達することを抑制することができる。
【００６０】
なお、本実施形態では、第１シリンドリカルレンズ３０が補強壁１５１とポリゴンミラー４０との間に配置されているので、第１シリンドリカルレンズ３０には、アパーチャとして機能する開口１５３により幅が規定されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４が入射されることになる。これにより、感光体Ｄの表面（感光体Ｄの表面に対応する光学的な位置）上におけるレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の結像状態の調整を容易に行うことができるようになっている。
【００６１】
図１に示すように、補強壁１５２は、反射鏡支持部１３２Ａと反射鏡支持部１３２Ｂとの間で支持壁１１０から上方に向けて延び、反射鏡支持部１３２Ａと反射鏡支持部１３２Ｂとを連続的につないでいる。この補強壁１５２も、補強壁１５１と同様に、支持壁１１０および反射鏡支持部１３２Ａ，１３２Ｂと一体に形成されている。
【００６２】
補強部１６１，１６２は、支持壁１１０から上方に向けて延び、前後方向に厚い壁状に形成されている。補強部１６１は、反射鏡支持部１３１Ａとその右側の反射鏡支持部１４０、または、反射鏡支持部１３１Ｂとその左側の反射鏡支持部１４０とをつないでいる。また、補強部１６２は、反射鏡支持部１３２Ａとその右側の反射鏡支持部１４０、または、反射鏡支持部１３２Ｂとその左側の反射鏡支持部１４０とをつないでいる。この補強部１６１，１６２もまた、補強壁１５１，１５２と同様に、支持壁１１０および反射鏡支持部１３０，１４０と一体に形成されている。
【００６３】
以上によれば、本実施形態において以下のような作用効果を得ることができる。
ケーシング１００は、支持壁１１０から延びる反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂと、支持壁１１０から延び、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとをつなぐ補強壁１５１とを有しているので、支持壁１１０の強度を向上させることができる。これにより、ポリゴンミラー４０が高速回転した場合であっても、支持壁１１０の振動を抑制することができる。
【００６４】
その結果、例えば、光走査装置１がレーザプリンタなどの画像形成装置に設けられる場合には、ポリゴンミラー４０が高速回転しても感光体Ｄの表面を良好に走査露光することができるので、画像形成装置の印字速度を高速化しつつ、画質の低下を抑制することができる。
【００６５】
なお、補強壁１５１は、光源装置２０からポリゴンミラー４０に向けて出射されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を通過させる開口１５３を有するので、光源装置２０から出射されたレーザ光Ｌ１〜Ｌ４が、補強壁１５１によって遮られることはない。
【００６６】
また、本実施形態では、ケーシング１００の支持壁１１０がレーザ光Ｌ１〜Ｌ４を通過させる露光口１１１〜１１４を有するので、ポリゴンミラー４０の高速回転により支持壁１１０が振動しやすくなっている。しかし、補強壁１５１，１５２や補強部１６１，１６２により支持壁１１０が補強されているので、ポリゴンミラー４０の高速回転の影響を良好に抑えることができる。すなわち、本発明は、ケーシング１００の支持壁１１０（底壁）が露光口１１１〜１１４を有する構成において特に有効である。
【００６７】
また、本実施形態では、反射鏡７３がポリゴンミラー４０の上側に配置されているので、反射鏡７３を支持する反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの高さが高くなるため、ポリゴンミラー４０の高速回転により反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂが振動する可能性がある。しかし、反射鏡支持部１３１Ａと反射鏡支持部１３１Ｂとは、補強壁１５１によって支持壁１１０から上端部１３３まで連続してつながれるので、その強度を向上させることができ、ポリゴンミラー４０の高速回転したときの振動を抑制することが可能となっている。これにより、支持壁１１０の強度もさらに向上させることができるので、ポリゴンミラー４０が高速回転した場合の支持壁１１０の振動もより確実に抑制することができる。
【００６８】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではない。具体的な構成については、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。
【００６９】
前記実施形態では、光源装置２０Ａ（半導体レーザ２１Ａ）と光源装置２０Ｂ（半導体レーザ２１Ｂ）を並べて配置し、光源装置２０Ｃ，２０Ｄ（半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄ）を互いに向かい合った状態で、レーザ光Ｌ３，Ｌ４がレーザ光Ｌ１，Ｌ２に対して略直交するように配置したが、特に半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄの配置はこれに限定されるものではない。例えば、図６に示すように、レーザ光の出射面をポリゴンミラー４０に向けた状態で、４つの半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄを左右方向に並べて配置してもよい。
【００７０】
なお、図６に示す構成では、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂは、ケーシング１００内におけるレーザ光Ｌ３，Ｌ４の光路上において半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄとポリゴンミラー４０との間に設けられているため、反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂにはレーザ光Ｌ３，Ｌ４を通過させる通過口１３４が形成されている。これによれば、前記実施形態と同様に、半導体レーザ２１Ｃ，２１Ｄの配置の自由度を向上させることができる。また、図６に示す構成では、前記実施形態で説明した反射鏡７１を省略することができるので、光走査装置１の部品点数を削減することができる。
【００７１】
前記実施形態では、補強壁１５１が支持壁１１０から反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの上端部１３３まで延びていたが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、補強壁の高さは、前記実施形態の支持壁１１０から反射鏡支持部１３１Ａ，１３１Ｂの上端部１３３までの高さよりも高くてもよいし、低くてもよい。
【００７２】
前記実施形態では、アパーチャとして機能する開口１５３が、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の上下および左右の幅を規定するもの（形状）であったが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、アパーチャとして機能する開口は、レーザ光の上下の幅だけを規定する形状であってもよいし、レーザ光の左右の幅だけを規定する形状であってもよい。
【００７３】
前記実施形態では、補強壁１５１の開口１５３が、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の幅を規定するアパーチャとして機能するものであったが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、補強壁の開口は、レーザ光を遮らないためのレーザ光の径よりも大きな開口であってもよい。この場合、別途、アパーチャ部材を設けることが好ましい。
【００７４】
前記実施形態では、補強壁１５１に、レーザ光Ｌ１〜Ｌ４をそれぞれ通過させる４つの開口１５３が形成された構成を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明において、補強壁の開口の数は特に限定されるものではない。例えば、前記実施形態において、開口は、レーザ光Ｌ１，Ｌ２を通過させるものと、レーザ光Ｌ３，Ｌ４を通過させるものの２つであってもよい。また、開口は１つであってもよい。
【００７５】
前記実施形態では、第１シリンドリカルレンズ３０（結像レンズ）を２つ備える構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、前記実施形態（図２参照）において、結像レンズは１つだけであってもよい。また、図６に示したような構成においては、４つの光源（半導体レーザ２１Ａ〜２１Ｄ）に対応させて結像レンズを４つ設けてもよい。
【００７６】
前記実施形態では、ケーシング１００の底壁である支持壁１１０に露光口１１１〜１１４が形成されていたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ケーシングに設けられた光学部品を覆うようにケーシングに取り付けられて、ケーシングと共に光走査装置の筐体を構成するカバーに露光口が形成されていてもよい。
【００７７】
前記実施形態では、光源として、単一のレーザ光を出射する半導体レーザ２１を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、複数の発光点を有し、複数のレーザ光を出射する光源であってもよい。
【００７８】
前記実施形態では、偏向器としてのポリゴンミラー４０が６つのミラー面を有していたが、本発明はこれに限定されず、例えば、ミラー面は４つであってもよい。また、前記実施形態では、偏向器として、回転することでレーザ光を偏向するポリゴンミラー４０を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、揺動することで光を偏向する振動ミラーなどであってもよい。
【００７９】
前記実施形態では、本発明の光走査装置１をレーザプリンタなどの画像形成装置に設けた例を示したが、本発明は、これに限定されず、例えば、測定装置や検査装置などに設けてもよい。
【符号の説明】
【００８０】
１ 光走査装置
２１Ａ 半導体レーザ
２１Ｂ 半導体レーザ
２１Ｃ 半導体レーザ
３０ 第１シリンドリカルレンズ
４０ ポリゴンミラー
７３Ａ 反射鏡
７３Ｂ 反射鏡
１００ ケーシング
１１０ 支持壁
１１１ 露光口
１１２ 露光口
１３１Ａ 反射鏡支持部
１３１Ｂ 反射鏡支持部
１３３ 上端部
１３４ 通過口
１５１ 補強壁
１５３ 開口
Ｄ 感光体
Ｌ１ レーザ光
Ｌ２ レーザ光
Ｌ３ レーザ光
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のレーザ光を出射する第１の光源と、
第２のレーザ光を出射する第２の光源と、
前記第１の光源および前記第２の光源と対向して配置され、第１のレーザ光および第２のレーザ光を反射して主走査方向に偏向する偏向器と、
偏向された第１のレーザ光を被走査面に向けて反射する第１の反射鏡と、
偏向された第２のレーザ光を被走査面に向けて反射する第２の反射鏡と、
前記第１の光源、前記第２の光源、前記偏向器、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡を収容するケーシングと、を備え、
前記ケーシングは、
前記偏向器を支持する支持壁と、
前記支持壁から延びて前記第１の反射鏡を支持する柱状の第１の反射鏡支持部と、
前記第１の光源および前記第２の光源と前記偏向器とが対向する対向方向から見て、前記偏向器を挟んで前記第１の反射鏡支持部とは反対側で前記支持壁から延び、前記第２の反射鏡を支持する柱状の第２の反射鏡支持部と、
前記第１の光源および前記第２の光源と前記偏向器との間で前記支持壁から延び、前記第１の反射鏡支持部と前記第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁と、を有し、
前記補強壁は、前記第１の光源および前記第２の光源から前記偏向器に向けて出射された第１のレーザ光および第２のレーザ光を通過させる少なくとも１つの開口を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記開口は、第１のレーザ光または第２のレーザ光の幅を規定するアパーチャであることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１の反射鏡支持部および前記第２の反射鏡支持部は、それぞれ、前記支持壁とは反対側の端部で前記第１の反射鏡または前記第２の反射鏡を支持しており、
前記補強壁は、前記支持壁から前記端部まで延びていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記支持壁は、前記第１の反射鏡で反射して被走査面に向かう第１のレーザ光を通過させる第１の露光口と、前記第２の反射鏡で反射して被走査面に向かう第２のレーザ光を通過させる第２の露光口とを有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡は、前記対向方向から見て、前記偏向器を挟んで前記支持壁とは反対側に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【請求項６】
第３のレーザ光を出射する第３の光源を備え、
前記第１の反射鏡支持部は、前記ケーシング内における第３のレーザ光の光路上において、前記第３の光源と前記偏向器との間に設けられており、前記第３のレーザ光を通過させる通過口を有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
第１のレーザ光および第２のレーザ光を前記偏向器の反射面上でそれぞれ結像させる少なくとも１つの結像レンズを備え、
前記結像レンズは、前記補強壁と前記偏向器との間に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【請求項１】
第１のレーザ光を出射する第１の光源と、
第２のレーザ光を出射する第２の光源と、
前記第１の光源および前記第２の光源と対向して配置され、第１のレーザ光および第２のレーザ光を反射して主走査方向に偏向する偏向器と、
偏向された第１のレーザ光を被走査面に向けて反射する第１の反射鏡と、
偏向された第２のレーザ光を被走査面に向けて反射する第２の反射鏡と、
前記第１の光源、前記第２の光源、前記偏向器、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡を収容するケーシングと、を備え、
前記ケーシングは、
前記偏向器を支持する支持壁と、
前記支持壁から延びて前記第１の反射鏡を支持する柱状の第１の反射鏡支持部と、
前記第１の光源および前記第２の光源と前記偏向器とが対向する対向方向から見て、前記偏向器を挟んで前記第１の反射鏡支持部とは反対側で前記支持壁から延び、前記第２の反射鏡を支持する柱状の第２の反射鏡支持部と、
前記第１の光源および前記第２の光源と前記偏向器との間で前記支持壁から延び、前記第１の反射鏡支持部と前記第２の反射鏡支持部とをつなぐ補強壁と、を有し、
前記補強壁は、前記第１の光源および前記第２の光源から前記偏向器に向けて出射された第１のレーザ光および第２のレーザ光を通過させる少なくとも１つの開口を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記開口は、第１のレーザ光または第２のレーザ光の幅を規定するアパーチャであることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１の反射鏡支持部および前記第２の反射鏡支持部は、それぞれ、前記支持壁とは反対側の端部で前記第１の反射鏡または前記第２の反射鏡を支持しており、
前記補強壁は、前記支持壁から前記端部まで延びていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記支持壁は、前記第１の反射鏡で反射して被走査面に向かう第１のレーザ光を通過させる第１の露光口と、前記第２の反射鏡で反射して被走査面に向かう第２のレーザ光を通過させる第２の露光口とを有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡は、前記対向方向から見て、前記偏向器を挟んで前記支持壁とは反対側に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【請求項６】
第３のレーザ光を出射する第３の光源を備え、
前記第１の反射鏡支持部は、前記ケーシング内における第３のレーザ光の光路上において、前記第３の光源と前記偏向器との間に設けられており、前記第３のレーザ光を通過させる通過口を有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
第１のレーザ光および第２のレーザ光を前記偏向器の反射面上でそれぞれ結像させる少なくとも１つの結像レンズを備え、
前記結像レンズは、前記補強壁と前記偏向器との間に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１２−２５２１２６（Ｐ２０１２−２５２１２６Ａ）
【公開日】平成２４年１２月２０日（２０１２．１２．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１２４０９５（Ｐ２０１１−１２４０９５）
【出願日】平成２３年６月２日（２０１１．６．２）
【出願人】（０００００５２６７）ブラザー工業株式会社 (13,856)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月２０日（２０１２．１２．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月２日（２０１１．６．２）
【出願人】（０００００５２６７）ブラザー工業株式会社 (13,856)
【Ｆターム（参考）】
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