基板処理装置
【課題】搬送ローラを処理槽の外部からより確実に、かつ安定的に駆動する。
【解決手段】 基板処理装置は、基板搬送用の複数の搬送ローラ３０を内部に備えた処理槽１０と、搬送ローラ３０のローラ軸３０ａと同一軸線上に並ぶように処理槽１０の側壁１０３を隔ててその外側に配置されると共に磁気的作用により搬送ローラ３０と一体に回転する駆動軸５０と、当該駆動軸５０を駆動することにより処理槽１０の外側から非接触で搬送ローラ３０を回転駆動するモータ４２等を含む駆動手段とを備え、駆動軸５０および駆動手段が、前記処理槽１０を支持するための支持台１１側に支持されている。
【解決手段】 基板処理装置は、基板搬送用の複数の搬送ローラ３０を内部に備えた処理槽１０と、搬送ローラ３０のローラ軸３０ａと同一軸線上に並ぶように処理槽１０の側壁１０３を隔ててその外側に配置されると共に磁気的作用により搬送ローラ３０と一体に回転する駆動軸５０と、当該駆動軸５０を駆動することにより処理槽１０の外側から非接触で搬送ローラ３０を回転駆動するモータ４２等を含む駆動手段とを備え、駆動軸５０および駆動手段が、前記処理槽１０を支持するための支持台１１側に支持されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、光ディスク用基板、フォトマスク用ガラス基板等の各種基板をローラ搬送しながら薬液処理や水洗処理といった主にウエット処理を施すのに好適な基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＬＣＤ用ガラス基板等の基板を処理槽内でローラ搬送しながら、当該基板に処理液を供給することによって現像、エッチング、剥離等のウエット処理を基板に施す基板処理装置が公知であるが、その一つとして、処理槽内の搬送ローラに対して処理槽外部から非接触で駆動力を伝達することにより、処理槽外部への処理液の漏洩を防止し得るようにしたものが知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
この種の装置は、処理槽の内部に支持される搬送ローラのローラ軸と同一軸線上に並ぶように処理槽の外部に駆動軸が支持され、ローラ軸及び駆動軸の端部にそれぞれ磁石を備えた駆動盤が処理槽の側壁を挟んで互いに対向するように組付けられた構成となっている。すなわち、駆動軸の回転駆動力を、当該駆動軸とローラ軸との磁気的作用により処理槽の外側から非接触で搬送ローラに伝達する構成となっている。
【０００４】
なお、駆動軸は処理槽内に配列される搬送ローラ毎に対応して設けられている。各駆動軸は、処理槽の側壁の外側面にブラケットを介して支持されており、同じくブラケットを介して処理槽の外側面に固定されたモータの駆動力を動力伝達機構により各駆動軸に伝達することによって各搬送ローラを駆動する構成となっている。
【特許文献１】実開平７−２７２９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような従来の装置では、各駆動軸は、１本毎に、又は数本毎にブラケットを介して処理槽の側壁に支持されており、また、モータは単独で、又は何れかの駆動軸と共にブラケットを介して前記側壁に支持される場合が多く、そのため次のような課題がある。
【０００６】
すなわち、ウエット処理を行う処理槽は、多くの場合、耐薬品性を確保するために樹脂材料や薄いＳＵＳ（ステンレス鋼）板から構成されており、そのため、大型の処理槽などでは、剛性との関係で処理槽の側面は完全なフラットではなく多少の波打ち（凹凸）が生じていたりする。従って、当該側面にブラケットを介して駆動軸等を支持する従来のような構成では、駆動軸同士に軸方向のずれが生じるなどして搬送ローラに対する動力伝達に支障を来すことが考えられる。
【０００７】
特に、動力伝達機構としてベルト伝動機構を採用した場合には、上記のような駆動軸同士の軸方向のずれにより走行中のベルトがプーリから脱落することも考えられる。また、モータの駆動直後などにベルトを介して駆動軸に力が働くと、これに伴い処理槽の側壁の変形を伴いながら駆動軸とブラケットが上下に変位し、その結果、ベルトに歯飛び現象が生じる等して動力伝達に支障を来すことも考えられる。
【０００８】
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、処理槽内に設けられた搬送ローラに対して処理槽の外部から非接触で回転駆動力を伝達するように構成された基板処理装置において、各搬送ローラを処理槽の外部からより確実に、かつ安定的に駆動することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、基板搬送用の回転可能な複数の搬送ローラを内部に備えた処理槽と、前記搬送ローラの回転中心軸と同一軸線上に並ぶように処理槽の側壁を隔ててその外側に配置されると共に磁気的作用により前記搬送ローラと一体に回転する駆動軸と、当該駆動軸を駆動することにより前記処理槽の外側から非接触で前記搬送ローラを回転駆動する駆動手段と、を備えた基板処理装置において、前記処理槽を支持するための支持部材が設けられ、この支持部材に前記駆動軸および駆動手段が支持されているものである。
【００１０】
この基板処理装置によれば、駆動軸およびその駆動手段が支持部材側に支持されることにより槽本体から切り離されているため、従来のように、処理槽の側壁の状態（波打ち）によって駆動軸同士に位置ずれが生じ、あるいは駆動時の側壁の変形に伴い駆動軸が変位するなどして駆動軸間の動力伝達に支承が生じるといった不都合を回避することができる。
【００１１】
より具体的な構成としては、前記支持部材は、前記処理槽の側方に位置しかつ当該処理槽の前記側壁に沿って前記搬送ローラの配列方向に延びる桟部を含み、この桟部に立設される軸支持部材に前記駆動軸が支持されているものである。
【００１２】
このように処理槽を支持できる強度を備えた支持部材に軸支持部材を設け、当該軸支持部材により駆動軸を支持する構成によれば、軸支持部材として強度的に有利な構成のものを設けて駆動軸を安定的に支持することが可能となる。
【００１３】
なお、上記構成においては、前記搬送ローラの配列方向に並ぶように複数の前記軸支持部材が設けられ、前記複数の搬送ローラに対応する駆動軸が複数本ずつ前記各軸支持部材に分割して支持されているものであってもよい。
【００１４】
全ての駆動軸を単一の軸支持部材により支持するようにしてもよいが、上記のように複数の軸支持部材に分割して駆動軸を支持する構成によれば、軸支持部材単位で脱着、組立及び分解が可能となるため組立性およびメンテナンス性が向上する。
【００１５】
また、前記軸支持部材は、前記搬送ローラと前記駆動軸との間隔又は前記処理槽の側壁に沿った方向の前記駆動軸の位置が変更可能となるように前記桟部に対して設けられているのが好適である。
【００１６】
この構成によれば、搬送ローラと駆動軸との位置関係を調整することができるため、上記のように駆動軸およびその駆動手段を処理槽から切り離して設けるようにしながらも、搬送ローラと駆動軸との位置関係をより最適に保つことが可能となる。
【００１７】
なお、前記駆動手段が、駆動源としてのモータとその駆動力を前記各駆動軸に伝達するベルト伝動機構を含み、このベルト伝動機構が、前記駆動軸にそれぞれ掛け渡される駆動伝達ベルトと、この駆動伝達ベルトを案内する案内部材と、前記駆動伝達ベルトの張力を調整する調整部材とを含むものでは、前記案内部材および調整部材が前記軸支持部材に組付けられているのが好適である。
【００１８】
この構成によれば、駆動軸、案内部材及び調整部材が全て軸支持部材に組付けられているので、これら各部材相互間の位置関係を良好に確保することができる。従って、モータの駆動により駆動伝達ベルトをより円滑に走行させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の基板処理装置によれば、処理槽内の搬送ローラに対して処理槽の外部から非接触で駆動力を伝達する構成において、上記のように、搬送ローラを駆動するための駆動軸およびその駆動手段を、処理槽を支持する支持部材側で支持することにより処理槽から切り離しているため、従来のように、処理槽の側壁の形状や変形に起因して駆動軸間の動力伝達に支承が生じるといった不都合を未然に防止することができる。従って、各搬送ローラに対して処理槽の外部からより確実に、かつ安定的に駆動力を伝達できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２１】
この実施形態に係る基板処理装置は、基板を特定方向に搬送しながら、当該基板に対して薬液処理等の所定のウエット処理を施すものであり、図１に示されるような処理槽１０および支持台１１に、図２および図３に示されるような基板搬送機構が付加されることにより構成されている。
【００２２】
前記処理槽１０は、処理される基板Ｗ（図３に示す）を収容することができる形状、具体的には平面視矩形でかつ上下方向に扁平な箱形の形状を有しており、その全体がＳＵＳや硬質で耐薬品性の高い樹脂材料、例えば塩化ビニル等により構成されている。
【００２３】
当実施形態では、図２中に矢印で示すように、処理槽１０の側壁のうち一方側（同図左側）の側壁１０１から基板Ｗが処理槽１０内に搬入され、当該側壁１０１に対向する他方側の側壁１０２から基板Ｗが搬出されるようになっており、従って、当該各側壁１０１，１０２には、それぞれ横長スリット状の搬入口１２及び搬出口１４が形成されている。なお、これら搬入口１２及び搬出口１４は、処理槽１０に付加される図外のシャッタにより開閉可能となっている。
【００２４】
処理槽１０の下面には棒状部材が格子状に組まれた補強枠１８が固定されている。この補強枠１８はＳＵＳ又は樹脂材料から構成されている。
【００２５】
処理槽１０の内部には、基板Ｗを搬送するための後記搬送ローラ３０が設けられると共に、当該搬送ローラ３０により搬送される基板Ｗに処理液を供給するための複数のノズル部材１６が、基板Ｗの搬送方向に一定の間隔を隔てて配置されている。各ノズル部材１６は、それぞれ基板Ｗの搬送方向と直交する方向における複数の位置に処理液を噴射するための噴射口を備えており、各噴射口からシャワー状に処理液を噴射する。
【００２６】
上記処理槽１０は、その下方から支持台１１（本発明の支持部材に相当する）により支持されており、この支持台１１は、概略的には、格子状に縦桟２２及び横桟２４が組まれた支持枠２０と、この支持枠２０を支える支柱２６とを有し、支柱２６には適宜これを補強する補助桟２８等が組付けられている。
【００２７】
支持台１１を構成する前記縦桟２２等は、ＳＵＳや鉄から構成されており、例えば縦桟２２等はある程度の断面係数を確保しつつ軽量化を図るために中空構造とされている。
【００２８】
前記処理槽１０は、この支持台１１の前記支持枠２０上に支持されている。なお、支持枠２０は、図１に示すように、基板Ｗの搬送方向と直交する方向に傾いた状態で前記支柱２６により支持されており、これによって処理槽１０が同方向に傾斜した姿勢で支持台１１に支持されている。
【００２９】
前記基板搬送機構は、図２中に矢印示すように、処理槽１０内において基板Ｗを搬入口１２から搬出口１４に向けて搬送するものである。この基板搬送機構は、基板搬送方向に並ぶ複数本の搬送ローラ３０と、図３に示すように、特定の搬送ローラ３０の上方に設けられる押えローラ３２と、各搬送ローラ３０，３２を駆動する駆動系４０とを備えている。
【００３０】
各搬送ローラ３０は、ローラ軸３０ａと、このローラ軸３０ａに対してその長手方向の複数の位置に各々固定されるローラ本体３０ｂとを備えており、ローラ本体３０ｂにより基板Ｗを支持した状態で、前記駆動系４０によりローラ軸３０ａに回転駆動力が与えられることにより基板Ｗをローラ本体３０ｂの接線方向に搬送する。
【００３１】
各押えローラ３２も同様に、ローラ軸３２ａと、このローラ軸３２ａに対して固定されるローラ本体３２ｂとを備えている。但し、押えローラ３２のローラ本体３２ｂは、前記搬送ローラ３０のローラ本体３０ｂのうち最も外側のローラ本体３０ｂに対応する位置にのみ固定されている。つまり、各押えローラ３２は、基板Ｗの幅方向の端部を前記ローラ本体３２ｂにより上から押え込み、そして、前記搬送ローラ３０の回転に同期して回転することにより、基板Ｗの搬送を許容しながらその浮き上がりを抑制する。
【００３２】
各搬送ローラ３０および各押えローラ３２は、処理槽１０から外部に突出することなく当該処理槽１０の内部に支持されている。具体的には、処理槽１０の内部に支持板３４が支持されると共に当該支持板３４に軸受部材３６，３８が固定され、これら軸受部材３６，３８により前記各ローラ３０，３２のローラ軸３０ａ，３２ａが支持されている。
【００３３】
各ローラ３０，３２は、上記のように処理槽１０が傾斜姿勢で支持台１１に支持されている結果、図３に示すように、基板Ｗの搬送方向と直交する方向にその一方側から他方側に向かって傾斜しており、従って、各ローラ３０，３２は、基板Ｗをその搬送方向と直交する方向に傾斜させた状態で前記搬入口１２から搬出口１４に向かって搬送する。
【００３４】
なお、各搬送ローラ３０はさらに磁気連結板３０ｃを備えている。具体的には、各搬送ローラ３０は、ローラ軸３０ａの上位側（図３の右側）の端部が前記軸受部材３６を貫通して処理槽１０の上位側の側壁１０３の近傍に位置しており、ここに磁気連結板３０ｃが固定されている。
【００３５】
磁気連結板３０ｃは、前記駆動系４０からローラ軸３０ａに回転駆動力を伝達するためのものである。この磁気連結板３０ｃは、詳しく図示していないが、樹脂等の非磁性体からなる円盤状の母材に、その中心軸回りに並ぶように複数の永久磁石が固定されたもので、磁石の固定面側が側壁１０３に対向するようにローラ軸３０ａの端部に固定されている。
【００３６】
前記駆動系４０は、前記搬送ローラ３０を処理槽１０の外側から非接触で駆動するもので、処理槽１０の上位側の側壁１０３の外側に設けられている。
【００３７】
駆動系４０は、駆動源であるモータ４２と、前記各搬送ローラ３０にそれぞれ対応する複数の駆動軸５０と、モータ４２の出力する駆動力を各駆動軸５０に伝達するための駆動伝達機構等とを含む。なお、当実施形態では、モータ４２および駆動伝達機構が本発明にかかる駆動手段に相当する。
【００３８】
各駆動軸５０はそれぞれ、図２および図３に示すように、前記側壁１０３を挟んで各搬送ローラ３０のローラ軸３０ａ（回転中心軸）と同一軸線上に並ぶように配置されている。
【００３９】
各駆動軸５０は、軸本体５０ａと、その一端側に固定される磁気連結板５１とを備えたものであり、磁気連結板５１は、搬送ローラ３０に固定される前記磁気連結板３０ｃと同一構成のものである。
【００４０】
各駆動軸５０は、その磁気連結板５１が処理槽１０の側壁１０３を挟んで前記搬送ローラ３０の磁気連結板３０ｃと対向するように配列された状態で、支持台１１の上記支持枠２０に固定される軸支持部材６０によって支持されている。
【００４１】
詳しく説明すると、支持枠２０は、処理槽１０の側方に位置しかつ基板搬送方向に延びる横桟２４（桟部）を含んでおり、この横桟２４上に、前記軸支持部材６０が立設されている。この軸支持部材６０は、基板搬送方向に延びる中空かつ細長の軸支持部６２とこの軸支持部６２を支える一対の脚部６４とを備えている。前記軸支持部６２には軸受部材６１ａ，６１ｂが固定されており、駆動軸５０の前記軸本体５０ａが軸支持部６２を貫通した状態でこれら軸受部材６１ａ，６１ｂにより支持されている。つまり、搬送ローラ３０の磁気連結板３０ｃに駆動軸５０の磁気連結板５１が対向するように配置されることにより、磁気連結板３０ｃ，５１間に磁気的吸引力が生じて駆動軸５０の軸本体５０ａと搬送ローラ３０のローラ軸３０ａとが側壁１０３を隔てた非接触の状態で駆動伝達可能に連結されており、モータ４２の駆動力が駆動伝達機構により各駆動軸５０に伝達されることにより各搬送ローラ３０が回転するようになっている。
【００４２】
なお、当実施形態では、処理槽１０の側壁１０３に沿って基板搬送方向に並ぶ３つの軸支持部材６０が並設されており、前記複数の駆動軸５０は、各軸支持部材６０の軸支持部６２にそれぞれ数本ずつ（４本又は５本）分割されて支持されている。
【００４３】
駆動伝達機構は、モータ４２の出力軸に固定されるプーリ４４と、各駆動軸５０に固定されるプーリ５２と、各軸支持部材６０に支持されるアイドルプーリ５３（本発明の案内部材に相当する）及びテンションプーリ５４，５６（本発明の調整部材に相当する）と、これらプーリ４４等に巻き掛けられる駆動伝達ベルト４８とで構成され、モータ４２の回転駆動力を、駆動伝達ベルト４８等を介して各駆動軸５０に伝達する。
【００４４】
モータ４２は、前記軸支持部材６０のうち中間に位置する軸支持部材６０を挟んで処理槽１０とは反対側に配置されている。具体的には、前記支持枠２０の縦桟２２上にモータ支持部材４６が固定され、このモータ支持部材４６に対して出力軸（プーリ４４）の先端が軸支持部材６０側に位置するようにモータ４２が組付けられている。また、駆動軸５０のプーリ５２は、軸本体５０ａのうち磁気連結板５１とは反対側の端部に固定されることにより軸支持部材６０を挟んで処理槽１０とは反対側に配置されており、また、アイドルプーリ５３及びテンションプーリ５４，５６も同様に、軸支持部材６０のうち処理槽１０とは反対側の面に組付けられている。これにより軸支持部材６０を挟んで処理槽１０とは反対側の位置で各プーリ４４等に対して駆動伝達ベルト４８が巻き掛けられている。
【００４５】
軸支持部材６０の脚部６４は、それぞれ断面コ字型の形状を有し、かつ図４に示すように入れ子状に構成される外側部材６４ａ及び内側部材６４ｂからなる。
【００４６】
外側部材６４ａは溶接等により軸支持部６２の下面に固定されており、他方、内側部材６４ｂはボルト７０により支持枠２０の前記横桟２４に固定されている。外側部材６４ａと内側部材６４ｂとは図外の連結ボルトにより互いに締結されると共にこのボルトを緩めることにより内側部材６４ｂに対して外側部材６４ａを軸支持部６２と一体に上下方向にスライドできる構造となっている。
【００４７】
外側部材６４ａの下端部には折曲部６５が形成され、当該折曲部６５に対してここを上下方向に貫通するように高さ調整用のボルト７２が設けられている。また、前記軸支持部６２には、図４に示すように、処理槽１０との間隔調整用のボルト７４が設けられている。つまり、前記ボルト７０を緩め、横桟２４に対して軸支持部材６０をずらすことで、処理槽１０と各軸支持部材６０との間隔、すなわち搬送ローラ３０と駆動軸５０との間隔を変更できるようになっており、その際、間隔調整用のボルト７４の突出寸法を所定長さに調整した上で、同図に示すようにボルト７４の先端を処理槽１０の側壁１０３に突当てて前記ボルト７０を締め込むことにより処理槽１０と各軸支持部材６０との間隔を所定間隔に揃えることができる。また、外側部材６４ａと内側部材６４ｂとを締結する前記連結ボルトを緩めた状態で、高さ調整用のボルト７２を回転させて外側部材６４ａを内側部材６４ｂに対してスライドさせることにより、搬送ローラ３０に対する駆動軸５０の高さ位置を調整できる。
【００４８】
なお、テンションプーリ５４は、図４に示すように、支持軸６６を一体に具備するテンションプレート６８の前記支持軸６６に装着されており、このテンションプレート６８が前記脚部６４にボルト固定されることにより軸支持部材６０に組付けられると共に、前記ボルトを緩めた状態でテンションプレート６８を脚部６４に沿って移動させることにより前記駆動伝達ベルト４８の張力調整が可能となっている。テンションプーリ５６についても同様の構成となっている。
【００４９】
以上説明した基板処理装置によれば、処理槽１０内に設けられた各搬送ローラ３０を処理槽１０の外側から非接触で駆動するが、上記の通りこの装置では、モータ４２や駆動軸５０を含む駆動系４０の全体が支持台１１側に支持されており、処理槽１０から完全に切り離された構造となっているため、従来のこの種の装置、つまり、処理槽の側壁に駆動軸やその駆動手段を固定している装置のように、処理槽の側壁の形状や変形に起因して駆動軸５０間の動力伝達に支承が生じるといった不都合を未然に回避することができる。従って、従来装置に比べると、各搬送ローラ３０に対して処理槽１０の外部からより確実に、かつ安定的に駆動力を伝達できるようになる。
【００５０】
特に、この基板処理装置では、支持台１１の支持枠２０に処理槽１０の側方に位置しかつ基板搬送方向に延びる横桟２４（桟部）を設けておき、この横桟２４上に軸支持部材６０を立設して、当該軸支持部材６０により各駆動軸５０を支持する構成であるため、軸支持部材６０として十分に強度を有するものを設けることができ、従って、駆動軸５０を含む駆動系４０の全体を高い安定性をもって支持することができる。
【００５１】
また、このように駆動系４０を支持台１１側で支持している結果、処理槽１０側の強度負担を軽減することができるという利点もある。
【００５２】
また、この基板処理装置では、複数の軸支持部材６０を設けることにより、各搬送ローラ３０に対応する複数の駆動軸５０を分割して支持する構成であるため、軸支持部材６０単位で組立、分解、脱着が可能となり、組立性およびメンテナンス性が良いという利点もある。
【００５３】
また、各軸支持部材６０は、搬送ローラ３０と駆動軸５０との間隔および処理槽１０の側壁１０３に沿った上下方向の駆動軸５０の位置が変更可能となるように構成されているので、上記のように駆動系４０を処理槽１０から切り離して設けるようにしながらも、搬送ローラ３０と駆動軸５０との位置関係を最適に保つことが可能となるという利点もある。
【００５４】
なお、上述した実施形態の基板処理装置は、本発明にかかる基板処理装置の好ましい実施形態の一例であって、その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板処理装置を示す側面図である。
【図２】図１のII矢視図である。
【図３】図２のIII−III線断面図である。
【図４】図２のIV−IV線断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０ 処理槽
１１ 支持台
２０ 支持枠
３０ 搬送ローラ
３０ｃ，５１ 磁気連結板
４０ 駆動系
４２ モータ
５０ 駆動軸
６０ 軸支持部材
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、光ディスク用基板、フォトマスク用ガラス基板等の各種基板をローラ搬送しながら薬液処理や水洗処理といった主にウエット処理を施すのに好適な基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＬＣＤ用ガラス基板等の基板を処理槽内でローラ搬送しながら、当該基板に処理液を供給することによって現像、エッチング、剥離等のウエット処理を基板に施す基板処理装置が公知であるが、その一つとして、処理槽内の搬送ローラに対して処理槽外部から非接触で駆動力を伝達することにより、処理槽外部への処理液の漏洩を防止し得るようにしたものが知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
この種の装置は、処理槽の内部に支持される搬送ローラのローラ軸と同一軸線上に並ぶように処理槽の外部に駆動軸が支持され、ローラ軸及び駆動軸の端部にそれぞれ磁石を備えた駆動盤が処理槽の側壁を挟んで互いに対向するように組付けられた構成となっている。すなわち、駆動軸の回転駆動力を、当該駆動軸とローラ軸との磁気的作用により処理槽の外側から非接触で搬送ローラに伝達する構成となっている。
【０００４】
なお、駆動軸は処理槽内に配列される搬送ローラ毎に対応して設けられている。各駆動軸は、処理槽の側壁の外側面にブラケットを介して支持されており、同じくブラケットを介して処理槽の外側面に固定されたモータの駆動力を動力伝達機構により各駆動軸に伝達することによって各搬送ローラを駆動する構成となっている。
【特許文献１】実開平７−２７２９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような従来の装置では、各駆動軸は、１本毎に、又は数本毎にブラケットを介して処理槽の側壁に支持されており、また、モータは単独で、又は何れかの駆動軸と共にブラケットを介して前記側壁に支持される場合が多く、そのため次のような課題がある。
【０００６】
すなわち、ウエット処理を行う処理槽は、多くの場合、耐薬品性を確保するために樹脂材料や薄いＳＵＳ（ステンレス鋼）板から構成されており、そのため、大型の処理槽などでは、剛性との関係で処理槽の側面は完全なフラットではなく多少の波打ち（凹凸）が生じていたりする。従って、当該側面にブラケットを介して駆動軸等を支持する従来のような構成では、駆動軸同士に軸方向のずれが生じるなどして搬送ローラに対する動力伝達に支障を来すことが考えられる。
【０００７】
特に、動力伝達機構としてベルト伝動機構を採用した場合には、上記のような駆動軸同士の軸方向のずれにより走行中のベルトがプーリから脱落することも考えられる。また、モータの駆動直後などにベルトを介して駆動軸に力が働くと、これに伴い処理槽の側壁の変形を伴いながら駆動軸とブラケットが上下に変位し、その結果、ベルトに歯飛び現象が生じる等して動力伝達に支障を来すことも考えられる。
【０００８】
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、処理槽内に設けられた搬送ローラに対して処理槽の外部から非接触で回転駆動力を伝達するように構成された基板処理装置において、各搬送ローラを処理槽の外部からより確実に、かつ安定的に駆動することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、基板搬送用の回転可能な複数の搬送ローラを内部に備えた処理槽と、前記搬送ローラの回転中心軸と同一軸線上に並ぶように処理槽の側壁を隔ててその外側に配置されると共に磁気的作用により前記搬送ローラと一体に回転する駆動軸と、当該駆動軸を駆動することにより前記処理槽の外側から非接触で前記搬送ローラを回転駆動する駆動手段と、を備えた基板処理装置において、前記処理槽を支持するための支持部材が設けられ、この支持部材に前記駆動軸および駆動手段が支持されているものである。
【００１０】
この基板処理装置によれば、駆動軸およびその駆動手段が支持部材側に支持されることにより槽本体から切り離されているため、従来のように、処理槽の側壁の状態（波打ち）によって駆動軸同士に位置ずれが生じ、あるいは駆動時の側壁の変形に伴い駆動軸が変位するなどして駆動軸間の動力伝達に支承が生じるといった不都合を回避することができる。
【００１１】
より具体的な構成としては、前記支持部材は、前記処理槽の側方に位置しかつ当該処理槽の前記側壁に沿って前記搬送ローラの配列方向に延びる桟部を含み、この桟部に立設される軸支持部材に前記駆動軸が支持されているものである。
【００１２】
このように処理槽を支持できる強度を備えた支持部材に軸支持部材を設け、当該軸支持部材により駆動軸を支持する構成によれば、軸支持部材として強度的に有利な構成のものを設けて駆動軸を安定的に支持することが可能となる。
【００１３】
なお、上記構成においては、前記搬送ローラの配列方向に並ぶように複数の前記軸支持部材が設けられ、前記複数の搬送ローラに対応する駆動軸が複数本ずつ前記各軸支持部材に分割して支持されているものであってもよい。
【００１４】
全ての駆動軸を単一の軸支持部材により支持するようにしてもよいが、上記のように複数の軸支持部材に分割して駆動軸を支持する構成によれば、軸支持部材単位で脱着、組立及び分解が可能となるため組立性およびメンテナンス性が向上する。
【００１５】
また、前記軸支持部材は、前記搬送ローラと前記駆動軸との間隔又は前記処理槽の側壁に沿った方向の前記駆動軸の位置が変更可能となるように前記桟部に対して設けられているのが好適である。
【００１６】
この構成によれば、搬送ローラと駆動軸との位置関係を調整することができるため、上記のように駆動軸およびその駆動手段を処理槽から切り離して設けるようにしながらも、搬送ローラと駆動軸との位置関係をより最適に保つことが可能となる。
【００１７】
なお、前記駆動手段が、駆動源としてのモータとその駆動力を前記各駆動軸に伝達するベルト伝動機構を含み、このベルト伝動機構が、前記駆動軸にそれぞれ掛け渡される駆動伝達ベルトと、この駆動伝達ベルトを案内する案内部材と、前記駆動伝達ベルトの張力を調整する調整部材とを含むものでは、前記案内部材および調整部材が前記軸支持部材に組付けられているのが好適である。
【００１８】
この構成によれば、駆動軸、案内部材及び調整部材が全て軸支持部材に組付けられているので、これら各部材相互間の位置関係を良好に確保することができる。従って、モータの駆動により駆動伝達ベルトをより円滑に走行させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の基板処理装置によれば、処理槽内の搬送ローラに対して処理槽の外部から非接触で駆動力を伝達する構成において、上記のように、搬送ローラを駆動するための駆動軸およびその駆動手段を、処理槽を支持する支持部材側で支持することにより処理槽から切り離しているため、従来のように、処理槽の側壁の形状や変形に起因して駆動軸間の動力伝達に支承が生じるといった不都合を未然に防止することができる。従って、各搬送ローラに対して処理槽の外部からより確実に、かつ安定的に駆動力を伝達できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２１】
この実施形態に係る基板処理装置は、基板を特定方向に搬送しながら、当該基板に対して薬液処理等の所定のウエット処理を施すものであり、図１に示されるような処理槽１０および支持台１１に、図２および図３に示されるような基板搬送機構が付加されることにより構成されている。
【００２２】
前記処理槽１０は、処理される基板Ｗ（図３に示す）を収容することができる形状、具体的には平面視矩形でかつ上下方向に扁平な箱形の形状を有しており、その全体がＳＵＳや硬質で耐薬品性の高い樹脂材料、例えば塩化ビニル等により構成されている。
【００２３】
当実施形態では、図２中に矢印で示すように、処理槽１０の側壁のうち一方側（同図左側）の側壁１０１から基板Ｗが処理槽１０内に搬入され、当該側壁１０１に対向する他方側の側壁１０２から基板Ｗが搬出されるようになっており、従って、当該各側壁１０１，１０２には、それぞれ横長スリット状の搬入口１２及び搬出口１４が形成されている。なお、これら搬入口１２及び搬出口１４は、処理槽１０に付加される図外のシャッタにより開閉可能となっている。
【００２４】
処理槽１０の下面には棒状部材が格子状に組まれた補強枠１８が固定されている。この補強枠１８はＳＵＳ又は樹脂材料から構成されている。
【００２５】
処理槽１０の内部には、基板Ｗを搬送するための後記搬送ローラ３０が設けられると共に、当該搬送ローラ３０により搬送される基板Ｗに処理液を供給するための複数のノズル部材１６が、基板Ｗの搬送方向に一定の間隔を隔てて配置されている。各ノズル部材１６は、それぞれ基板Ｗの搬送方向と直交する方向における複数の位置に処理液を噴射するための噴射口を備えており、各噴射口からシャワー状に処理液を噴射する。
【００２６】
上記処理槽１０は、その下方から支持台１１（本発明の支持部材に相当する）により支持されており、この支持台１１は、概略的には、格子状に縦桟２２及び横桟２４が組まれた支持枠２０と、この支持枠２０を支える支柱２６とを有し、支柱２６には適宜これを補強する補助桟２８等が組付けられている。
【００２７】
支持台１１を構成する前記縦桟２２等は、ＳＵＳや鉄から構成されており、例えば縦桟２２等はある程度の断面係数を確保しつつ軽量化を図るために中空構造とされている。
【００２８】
前記処理槽１０は、この支持台１１の前記支持枠２０上に支持されている。なお、支持枠２０は、図１に示すように、基板Ｗの搬送方向と直交する方向に傾いた状態で前記支柱２６により支持されており、これによって処理槽１０が同方向に傾斜した姿勢で支持台１１に支持されている。
【００２９】
前記基板搬送機構は、図２中に矢印示すように、処理槽１０内において基板Ｗを搬入口１２から搬出口１４に向けて搬送するものである。この基板搬送機構は、基板搬送方向に並ぶ複数本の搬送ローラ３０と、図３に示すように、特定の搬送ローラ３０の上方に設けられる押えローラ３２と、各搬送ローラ３０，３２を駆動する駆動系４０とを備えている。
【００３０】
各搬送ローラ３０は、ローラ軸３０ａと、このローラ軸３０ａに対してその長手方向の複数の位置に各々固定されるローラ本体３０ｂとを備えており、ローラ本体３０ｂにより基板Ｗを支持した状態で、前記駆動系４０によりローラ軸３０ａに回転駆動力が与えられることにより基板Ｗをローラ本体３０ｂの接線方向に搬送する。
【００３１】
各押えローラ３２も同様に、ローラ軸３２ａと、このローラ軸３２ａに対して固定されるローラ本体３２ｂとを備えている。但し、押えローラ３２のローラ本体３２ｂは、前記搬送ローラ３０のローラ本体３０ｂのうち最も外側のローラ本体３０ｂに対応する位置にのみ固定されている。つまり、各押えローラ３２は、基板Ｗの幅方向の端部を前記ローラ本体３２ｂにより上から押え込み、そして、前記搬送ローラ３０の回転に同期して回転することにより、基板Ｗの搬送を許容しながらその浮き上がりを抑制する。
【００３２】
各搬送ローラ３０および各押えローラ３２は、処理槽１０から外部に突出することなく当該処理槽１０の内部に支持されている。具体的には、処理槽１０の内部に支持板３４が支持されると共に当該支持板３４に軸受部材３６，３８が固定され、これら軸受部材３６，３８により前記各ローラ３０，３２のローラ軸３０ａ，３２ａが支持されている。
【００３３】
各ローラ３０，３２は、上記のように処理槽１０が傾斜姿勢で支持台１１に支持されている結果、図３に示すように、基板Ｗの搬送方向と直交する方向にその一方側から他方側に向かって傾斜しており、従って、各ローラ３０，３２は、基板Ｗをその搬送方向と直交する方向に傾斜させた状態で前記搬入口１２から搬出口１４に向かって搬送する。
【００３４】
なお、各搬送ローラ３０はさらに磁気連結板３０ｃを備えている。具体的には、各搬送ローラ３０は、ローラ軸３０ａの上位側（図３の右側）の端部が前記軸受部材３６を貫通して処理槽１０の上位側の側壁１０３の近傍に位置しており、ここに磁気連結板３０ｃが固定されている。
【００３５】
磁気連結板３０ｃは、前記駆動系４０からローラ軸３０ａに回転駆動力を伝達するためのものである。この磁気連結板３０ｃは、詳しく図示していないが、樹脂等の非磁性体からなる円盤状の母材に、その中心軸回りに並ぶように複数の永久磁石が固定されたもので、磁石の固定面側が側壁１０３に対向するようにローラ軸３０ａの端部に固定されている。
【００３６】
前記駆動系４０は、前記搬送ローラ３０を処理槽１０の外側から非接触で駆動するもので、処理槽１０の上位側の側壁１０３の外側に設けられている。
【００３７】
駆動系４０は、駆動源であるモータ４２と、前記各搬送ローラ３０にそれぞれ対応する複数の駆動軸５０と、モータ４２の出力する駆動力を各駆動軸５０に伝達するための駆動伝達機構等とを含む。なお、当実施形態では、モータ４２および駆動伝達機構が本発明にかかる駆動手段に相当する。
【００３８】
各駆動軸５０はそれぞれ、図２および図３に示すように、前記側壁１０３を挟んで各搬送ローラ３０のローラ軸３０ａ（回転中心軸）と同一軸線上に並ぶように配置されている。
【００３９】
各駆動軸５０は、軸本体５０ａと、その一端側に固定される磁気連結板５１とを備えたものであり、磁気連結板５１は、搬送ローラ３０に固定される前記磁気連結板３０ｃと同一構成のものである。
【００４０】
各駆動軸５０は、その磁気連結板５１が処理槽１０の側壁１０３を挟んで前記搬送ローラ３０の磁気連結板３０ｃと対向するように配列された状態で、支持台１１の上記支持枠２０に固定される軸支持部材６０によって支持されている。
【００４１】
詳しく説明すると、支持枠２０は、処理槽１０の側方に位置しかつ基板搬送方向に延びる横桟２４（桟部）を含んでおり、この横桟２４上に、前記軸支持部材６０が立設されている。この軸支持部材６０は、基板搬送方向に延びる中空かつ細長の軸支持部６２とこの軸支持部６２を支える一対の脚部６４とを備えている。前記軸支持部６２には軸受部材６１ａ，６１ｂが固定されており、駆動軸５０の前記軸本体５０ａが軸支持部６２を貫通した状態でこれら軸受部材６１ａ，６１ｂにより支持されている。つまり、搬送ローラ３０の磁気連結板３０ｃに駆動軸５０の磁気連結板５１が対向するように配置されることにより、磁気連結板３０ｃ，５１間に磁気的吸引力が生じて駆動軸５０の軸本体５０ａと搬送ローラ３０のローラ軸３０ａとが側壁１０３を隔てた非接触の状態で駆動伝達可能に連結されており、モータ４２の駆動力が駆動伝達機構により各駆動軸５０に伝達されることにより各搬送ローラ３０が回転するようになっている。
【００４２】
なお、当実施形態では、処理槽１０の側壁１０３に沿って基板搬送方向に並ぶ３つの軸支持部材６０が並設されており、前記複数の駆動軸５０は、各軸支持部材６０の軸支持部６２にそれぞれ数本ずつ（４本又は５本）分割されて支持されている。
【００４３】
駆動伝達機構は、モータ４２の出力軸に固定されるプーリ４４と、各駆動軸５０に固定されるプーリ５２と、各軸支持部材６０に支持されるアイドルプーリ５３（本発明の案内部材に相当する）及びテンションプーリ５４，５６（本発明の調整部材に相当する）と、これらプーリ４４等に巻き掛けられる駆動伝達ベルト４８とで構成され、モータ４２の回転駆動力を、駆動伝達ベルト４８等を介して各駆動軸５０に伝達する。
【００４４】
モータ４２は、前記軸支持部材６０のうち中間に位置する軸支持部材６０を挟んで処理槽１０とは反対側に配置されている。具体的には、前記支持枠２０の縦桟２２上にモータ支持部材４６が固定され、このモータ支持部材４６に対して出力軸（プーリ４４）の先端が軸支持部材６０側に位置するようにモータ４２が組付けられている。また、駆動軸５０のプーリ５２は、軸本体５０ａのうち磁気連結板５１とは反対側の端部に固定されることにより軸支持部材６０を挟んで処理槽１０とは反対側に配置されており、また、アイドルプーリ５３及びテンションプーリ５４，５６も同様に、軸支持部材６０のうち処理槽１０とは反対側の面に組付けられている。これにより軸支持部材６０を挟んで処理槽１０とは反対側の位置で各プーリ４４等に対して駆動伝達ベルト４８が巻き掛けられている。
【００４５】
軸支持部材６０の脚部６４は、それぞれ断面コ字型の形状を有し、かつ図４に示すように入れ子状に構成される外側部材６４ａ及び内側部材６４ｂからなる。
【００４６】
外側部材６４ａは溶接等により軸支持部６２の下面に固定されており、他方、内側部材６４ｂはボルト７０により支持枠２０の前記横桟２４に固定されている。外側部材６４ａと内側部材６４ｂとは図外の連結ボルトにより互いに締結されると共にこのボルトを緩めることにより内側部材６４ｂに対して外側部材６４ａを軸支持部６２と一体に上下方向にスライドできる構造となっている。
【００４７】
外側部材６４ａの下端部には折曲部６５が形成され、当該折曲部６５に対してここを上下方向に貫通するように高さ調整用のボルト７２が設けられている。また、前記軸支持部６２には、図４に示すように、処理槽１０との間隔調整用のボルト７４が設けられている。つまり、前記ボルト７０を緩め、横桟２４に対して軸支持部材６０をずらすことで、処理槽１０と各軸支持部材６０との間隔、すなわち搬送ローラ３０と駆動軸５０との間隔を変更できるようになっており、その際、間隔調整用のボルト７４の突出寸法を所定長さに調整した上で、同図に示すようにボルト７４の先端を処理槽１０の側壁１０３に突当てて前記ボルト７０を締め込むことにより処理槽１０と各軸支持部材６０との間隔を所定間隔に揃えることができる。また、外側部材６４ａと内側部材６４ｂとを締結する前記連結ボルトを緩めた状態で、高さ調整用のボルト７２を回転させて外側部材６４ａを内側部材６４ｂに対してスライドさせることにより、搬送ローラ３０に対する駆動軸５０の高さ位置を調整できる。
【００４８】
なお、テンションプーリ５４は、図４に示すように、支持軸６６を一体に具備するテンションプレート６８の前記支持軸６６に装着されており、このテンションプレート６８が前記脚部６４にボルト固定されることにより軸支持部材６０に組付けられると共に、前記ボルトを緩めた状態でテンションプレート６８を脚部６４に沿って移動させることにより前記駆動伝達ベルト４８の張力調整が可能となっている。テンションプーリ５６についても同様の構成となっている。
【００４９】
以上説明した基板処理装置によれば、処理槽１０内に設けられた各搬送ローラ３０を処理槽１０の外側から非接触で駆動するが、上記の通りこの装置では、モータ４２や駆動軸５０を含む駆動系４０の全体が支持台１１側に支持されており、処理槽１０から完全に切り離された構造となっているため、従来のこの種の装置、つまり、処理槽の側壁に駆動軸やその駆動手段を固定している装置のように、処理槽の側壁の形状や変形に起因して駆動軸５０間の動力伝達に支承が生じるといった不都合を未然に回避することができる。従って、従来装置に比べると、各搬送ローラ３０に対して処理槽１０の外部からより確実に、かつ安定的に駆動力を伝達できるようになる。
【００５０】
特に、この基板処理装置では、支持台１１の支持枠２０に処理槽１０の側方に位置しかつ基板搬送方向に延びる横桟２４（桟部）を設けておき、この横桟２４上に軸支持部材６０を立設して、当該軸支持部材６０により各駆動軸５０を支持する構成であるため、軸支持部材６０として十分に強度を有するものを設けることができ、従って、駆動軸５０を含む駆動系４０の全体を高い安定性をもって支持することができる。
【００５１】
また、このように駆動系４０を支持台１１側で支持している結果、処理槽１０側の強度負担を軽減することができるという利点もある。
【００５２】
また、この基板処理装置では、複数の軸支持部材６０を設けることにより、各搬送ローラ３０に対応する複数の駆動軸５０を分割して支持する構成であるため、軸支持部材６０単位で組立、分解、脱着が可能となり、組立性およびメンテナンス性が良いという利点もある。
【００５３】
また、各軸支持部材６０は、搬送ローラ３０と駆動軸５０との間隔および処理槽１０の側壁１０３に沿った上下方向の駆動軸５０の位置が変更可能となるように構成されているので、上記のように駆動系４０を処理槽１０から切り離して設けるようにしながらも、搬送ローラ３０と駆動軸５０との位置関係を最適に保つことが可能となるという利点もある。
【００５４】
なお、上述した実施形態の基板処理装置は、本発明にかかる基板処理装置の好ましい実施形態の一例であって、その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板処理装置を示す側面図である。
【図２】図１のII矢視図である。
【図３】図２のIII−III線断面図である。
【図４】図２のIV−IV線断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０ 処理槽
１１ 支持台
２０ 支持枠
３０ 搬送ローラ
３０ｃ，５１ 磁気連結板
４０ 駆動系
４２ モータ
５０ 駆動軸
６０ 軸支持部材
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送用の回転可能な複数の搬送ローラを内部に備えた処理槽と、前記搬送ローラの回転中心軸と同一軸線上に並ぶように処理槽の側壁を隔ててその外側に配置されると共に磁気的作用により前記搬送ローラと一体に回転する駆動軸と、当該駆動軸を駆動することにより前記処理槽の外側から非接触で前記搬送ローラを回転駆動する駆動手段と、を備えた基板処理装置において、
前記処理槽を支持するための支持部材が設けられ、この支持部材に前記駆動軸および駆動手段が支持されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記支持部材は、前記処理槽の側方に位置しかつ当該処理槽の前記側壁に沿って前記搬送ローラの配列方向に延びる桟部を含み、この桟部に立設される軸支持部材に前記駆動軸が支持されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記搬送ローラの配列方向に並ぶように複数の前記軸支持部材が設けられ、前記複数の搬送ローラに対応する駆動軸が複数本ずつ前記各軸支持部材に分割して支持されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の基板処理装置において、
前記軸支持部材は、前記搬送ローラと前記駆動軸との間隔又は前記処理槽の側壁に沿った方向の前記駆動軸の位置が変更可能となるように前記桟部に対して設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項２乃至４の何れか一項に記載の基板処理装置において、
前記駆動手段は、駆動源としてのモータとその駆動力を前記各駆動軸に伝達するベルト伝動機構とを含み、このベルト伝動機構は、前記駆動軸にそれぞれ掛け渡される駆動伝達ベルトと、この駆動伝達ベルトを案内する案内部材と、前記駆動伝達ベルトの張力を調整する調整部材とを含み、前記案内部材および調整部材が前記軸支持部材に組付けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１】
基板搬送用の回転可能な複数の搬送ローラを内部に備えた処理槽と、前記搬送ローラの回転中心軸と同一軸線上に並ぶように処理槽の側壁を隔ててその外側に配置されると共に磁気的作用により前記搬送ローラと一体に回転する駆動軸と、当該駆動軸を駆動することにより前記処理槽の外側から非接触で前記搬送ローラを回転駆動する駆動手段と、を備えた基板処理装置において、
前記処理槽を支持するための支持部材が設けられ、この支持部材に前記駆動軸および駆動手段が支持されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記支持部材は、前記処理槽の側方に位置しかつ当該処理槽の前記側壁に沿って前記搬送ローラの配列方向に延びる桟部を含み、この桟部に立設される軸支持部材に前記駆動軸が支持されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記搬送ローラの配列方向に並ぶように複数の前記軸支持部材が設けられ、前記複数の搬送ローラに対応する駆動軸が複数本ずつ前記各軸支持部材に分割して支持されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の基板処理装置において、
前記軸支持部材は、前記搬送ローラと前記駆動軸との間隔又は前記処理槽の側壁に沿った方向の前記駆動軸の位置が変更可能となるように前記桟部に対して設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項２乃至４の何れか一項に記載の基板処理装置において、
前記駆動手段は、駆動源としてのモータとその駆動力を前記各駆動軸に伝達するベルト伝動機構とを含み、このベルト伝動機構は、前記駆動軸にそれぞれ掛け渡される駆動伝達ベルトと、この駆動伝達ベルトを案内する案内部材と、前記駆動伝達ベルトの張力を調整する調整部材とを含み、前記案内部材および調整部材が前記軸支持部材に組付けられていることを特徴とする基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１０−１０５７８４（Ｐ２０１０−１０５７８４Ａ）
【公開日】平成２２年５月１３日（２０１０．５．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２７９８９２（Ｐ２００８−２７９８９２）
【出願日】平成２０年１０月３０日（２００８．１０．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年５月１３日（２０１０．５．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１０月３０日（２００８．１０．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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