基板収容器
【課題】内部空間の雰囲気を仕切ることによって、相互汚染が生じるのを抑制することができる基板収容器を提供する。
【解決手段】ＦＯＵＰ１に仕切り板ＤＰ１を装着すると、収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができる。したがって、内部空間５の仕切られた各雰囲気を使い分けることにより、基板の相互汚染を抑制することができる。また、特殊なＦＯＵＰ１ではなく、規格化された標準的なＦＯＵＰ１を用いることができるので、コストの上昇を仕切り板ＤＰ１に相当する分だけですませることができる。したがって、ＦＯＵＰ１内における内部空間５の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【解決手段】ＦＯＵＰ１に仕切り板ＤＰ１を装着すると、収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができる。したがって、内部空間５の仕切られた各雰囲気を使い分けることにより、基板の相互汚染を抑制することができる。また、特殊なＦＯＵＰ１ではなく、規格化された標準的なＦＯＵＰ１を用いることができるので、コストの上昇を仕切り板ＤＰ１に相当する分だけですませることができる。したがって、ＦＯＵＰ１内における内部空間５の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）を複数枚収容する基板収容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、密閉した雰囲気に複数枚の基板を収容して搬送するための基板収容器が挙げられる。この基板収容器は、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）と呼ばれている。このＦＯＵＰは、ＦＯＵＰ本体と、開口部と、支持溝と、蓋とを備えている。ＦＯＵＰ本体は、一側面に開口部を備え、内部空間に多段の支持溝が形成されている。複数枚の基板が開口部から多段の支持溝に載置されて収納されると、蓋が開口部に取り付けられる。そして、複数枚の基板は、ＦＯＵＰごと所望の場所へ搬送される（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような構成のＦＯＵＰを用いると、ＦＯＵＰ内の僅かな内部空間の清浄度を高めることにより、工場全体を高清浄度のクリーンルーム化した場合と同様の効果を得ることができる。したがって、クリーンルーム全体を高清浄度化するのに要する設備投資やその維持費を削減して、効率的に生産を行うことができる。また、ＦＯＵＰの蓋を開放した状態で、窒素ガスを各基板に吹き付けて、各基板に付着している汚染物質を除去することも行われる。
【０００４】
ところで、多くの基板を同時に収容して搬送できるように、一般的にＦＯＵＰは、例えば、２５枚の基板を水平姿勢で積層して収容できるように構成されている。しかし、最近では、半導体デバイスの多様化に起因して、多品種少量生産の要望も増えている。そのような場合には、異なるデバイス用の基板が同一のＦＯＵＰ内に混在されて搬送されることもある。また、２５枚の内部空間のうち、半分程度（例えば、１２枚の基板）だけを使うこともある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−３２７９１１号公報（図１、図２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来のＦＯＵＰは、異なる種類の基板が混在すると、ＦＯＵＰ内において異種の基板の間で汚染が生じる相互汚染の恐れがある。例えば、銅を用いている基板から銅被膜の破片等が、アルミニウム配線の基板に付着すると、銅が基板上のデバイスに致命的な欠陥を与える恐れがある。
【０００７】
また、ＦＯＵＰの内部空間の半分程度を同種の基板で使用する場合、基板が処理前に汚染されていると、たとえ処理によって基板を清浄化したとしても、ＦＯＵＰの内部空間が汚染されているので、基板をＦＯＵＰに戻した際に、ＦＯＵＰを介しての基板の相互汚染が生じる恐れがある。したがって、従来のＦＯＵＰでは、たとえ窒素ガスを吹き付けるようにして、処理前の基板から汚染物を除去するようにしても基板の相互汚染を避けられない恐れがある。
【０００８】
なお、上記のような問題を回避するために、例えば、異種の基板や異なる金属材料を用いた基板を別々のＦＯＵＰで搬送することが考えられる。しかし、このような手法によると、ＦＯＵＰの個数が増大するのでコストアップにつながり、さらにＦＯＵＰの保管スペースも増大する別異の問題が生じる。また、基板をＦＯＵＰから取り出して処理している間に、ＦＯＵＰを洗浄することも考えられる。しかし、ＦＯＵＰの洗浄時間が基板の処理時間より長くなる場合には、処理済の基板にＦＯＵＰ待ちの時間が生じるので、スループットが低下するという別異の問題が生じることになる。したがって、上記の問題を解決することにはならない。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、内部空間の雰囲気を仕切ることによって、基板の相互汚染が生じるのを抑制することができる基板収容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、複数枚の基板を収容する基板収容器において、内部空間を有する収容器本体と、前記収容器本体に形成され、前記内部空間に連通した開口部と、前記収容器本体の内壁に設けられ、基板の端縁下面を当接支持する複数の支持溝と、前記開口部に着脱自在の蓋と、前記複数の支持溝に着脱自在に装着されて、前記内部空間を複数の雰囲気に仕切る仕切り板と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１１】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、仕切り板を支持溝に装着すると、収容器本体の内部空間を複数の雰囲気に仕切ることができる。したがって、内部空間を、異なる雰囲気ごとに使い分けることにより、収容器本体における基板の相互汚染を抑制することができる。
【００１２】
また、仕切り板は支持溝に着脱自在であり、特殊な基板収容器でなく、規格化された標準的な基板収容器を用いることができるので、既存の装置に容易に適用できるとともに、コストの上昇を仕切り板に相当する分だけですませることができる。したがって、内部空間の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【００１３】
なお、ここでいう「雰囲気を仕切る」とは、部材で空間を完全に分離するのではなく、空間の相互間で気体が容易に行き来するのを抑制する程度に空間を分けることをいう。
【００１４】
また、本発明において、前記仕切り板は、ダミー基板であることが好ましい（請求項２）。仕切り板を特殊な材料で構成することなく、処理する基板と同種のダミー基板とするので、仕切り板からの汚染を容易に低コストで抑制することができる。
【００１５】
また、本発明において、前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成されていることが好ましい（請求項３）。基板とは異なる板状部材で仕切り板を構成するので、仕切り板を基板収容器の内部空間に応じた形状にすることができる。したがって、仕切り板の形状を変えることにより、内部空間の気流を適切に抑制できるので、基板相互間の汚染をさらに抑制することができる。
【００１６】
また、本発明において、前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、前記板状部材は、内部空間の内壁に当接する端面と、内部空間の内壁から離間した端面とを備えていることが好ましい（請求項４）。基板とは異なる板状部材で仕切り板を構成し、板状部材は、端面が内部空間の内壁に当接する部分と、端面が内部空間の内壁から離間する部分とを有する。したがって、板状部材の形状に応じて、雰囲気を仕切る度合いを所望の度合いにすることができる。
【００１７】
なお、ここでいう「内部空間の内壁」とは、基板収容器の内側で内部空間を形成する面であり、内部空間の内壁に設けられた部材を含む。
【００１８】
また、本発明において、前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、前記板状部材は、周囲が内部空間の内壁に当接する端面を備えていることが好ましい（請求項５）。周囲が内部空間の内壁に当接する端面を備えた板状部材で仕切り板を構成するので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。したがって、基板の相互汚染の抑制度合いを高くすることができる。
【００１９】
なお、ここでいう「内部空間の内壁」とは、基板収容器の内側で内部空間を形成する面であり、内部空間の内壁に設けられた部材を含む。
【００２０】
また、本発明において、前記板状部材は、縦断面形状が起伏状に構成されていることが好ましい（請求項６）。板状部材の縦断面形状を起伏状にするので、仕切り板の上方に載置された基板からパーティクルが落下したとしても、山谷部分でパーティクルが移動しづらくできる。したがって、落下したパーティクルが搬送中に仕切り板を移動して、他の基板を汚染するような相互汚染を抑制することができる。
【００２１】
また、本発明において、前記板状部材は、平面視で中心部に一つの貫通穴が形成されていることが好ましい（請求項７）。平面視で中心部に一つの貫通穴を形成してあるので、板状部材の軽量化を図ることができる。貫通穴は、板状部材の中心部にだけ形成されているので、基板の端面と支持溝との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通穴を通してパーティクルが落下することによる相互汚染は抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通穴の大きさを変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００２２】
また、本発明において、前記板状部材は、平面視で中心領域に複数個の小さな貫通孔が形成されていることが好ましい（請求項８）。複数個の小さな貫通孔により板状部材の軽量化を図ることができる。貫通孔は、平面視で板状部材の中心領域にのみ形成されているので、基板の端面と支持溝との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通孔からパーティクルが落下することによる相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通孔の大きさや数を変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００２３】
また、本発明において、前記仕切り板は、複数枚の板状部材と、前記複数の支持溝の間隔で前記各板状部材を支持する支持部材とを備え、前記複数枚の板状部材は、複数個の小さな貫通孔が形成されており、前記複数個の小さな貫通孔は、平面視で、前記板状部材ごとに異なる領域に形成されていることが好ましい（請求項９）。複数枚の板状部材を支持部材で離間させて仕切り板が構成されているので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。さらに、複数枚の板状部材は複数個の貫通孔が形成されているので、板状部材が複数であっても重量の増加を抑制することができる。その上、各板状部材の貫通孔は、平面視で板状部材ごとに異なる領域に形成されているので、パーティクル等が上から下に落下しづらくできる。したがって、貫通孔を介しての基板の相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通孔の大きさや数を変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００２４】
また、本発明において、前記収容器本体は、前記内部空間の圧力と外部圧力とを一定に保つ機能を備えた吸入部と排気部とを備え、前記吸入部から不活性ガスを圧入されるとともに、前記排気部から前記内部空間内の気体が強制的に排気されることが好ましい（請求項１０）。吸入部から内部空間に不活性ガスを圧入し、排気部から内部空間の気体を強制的に排気することにより、内部空間を不活性ガスで満たすことができる。その際、仕切り板で内部空間を仕切っているので、不活性ガスの使用量を低減することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係る基板収容器によれば、仕切り板を装着すると、収容器本体の内部空間を複数の雰囲気に仕切ることができる。したがって、内部空間を、異なる雰囲気ごとに使い分けることにより、収容器本体における基板の相互汚染を抑制することができる。
【００２６】
また、仕切り板は支持溝に着脱自在であり、規格化された標準的な基板収容器を用いることができるので、既存の装置に容易に適用できるとともに、コストの上昇は、仕切り板だけですむ。したがって、内部空間の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】実施例１に係るＦＯＵＰの概略構成を示す縦断面図である。
【図２】実施例１に係る仕切り板を示す平面図である。
【図３】実施例１に係る仕切り板を示す正面図である。
【図４】実施例２に係る仕切り板を示す平面図である。
【図５】実施例３に係る仕切り板を示す平面図である。
【図６】実施例４に係る仕切り板を示す正面図である。
【図７】第１の変形例を示す平面図である。
【図８】第２の変形例を示す平面図である。
【図９】第３の変形例を示す平面図である。
【図１０】第３の変形例を示す縦断面図である。
【図１１】ＦＯＵＰの変形例を示す一部破断縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明に係る基板収容器としてＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を例にとって以下に説明する。
【実施例１】
【００２９】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係るＦＯＵＰの概略構成を示す縦断面図であり、図２は、実施例１に係る仕切り板を示す平面図であり、図３は、実施例１に係る仕切り板を示す正面図である。
【００３０】
本発明における「基板収容器」に相当するＦＯＵＰ１は、複数枚の基板Ｗを水平姿勢で積層して収納可能に構成されている。ＦＯＵＰ１は、収容器本体３を備えている。この収容器本体３は、内部空間５を備え、内部空間５の正面側には開口部７を備えている。収容器本体３は、例えば、ポリカーボネートなどで成形加工によって製造されている。内部空間５のうち、開口部７の両側面には、基板Ｗを載置するための支持部９が設けられている。また、内部空間５の奥側には、当接部１１が設けられている。
【００３１】
支持部９は、例えば、２５枚の基板Ｗを載置できるように、２５個の支持溝１３を備えている。支持溝１３は、上向き面にて基板Ｗの下面を当接して基板Ｗを水平姿勢に支持する。支持部９の奥側に位置する当接部１１は、基板Ｗの後側端面が当接し、基板Ｗの水平位置を固定する。
【００３２】
ＦＯＵＰ１の上面には、搬送機構（図示省略）が把持するための把持部１５を備えている。なお、図３では、図示の関係上、把持部１５を省略している。
【００３３】
開口部７は、蓋１７が着脱可能に構成されている。この蓋１７は、ロードポート（図示省略）にＦＯＵＰ１が載置された状態で、ロードポートが備える開閉機構（図示省略）によって開口部７に装着されたり、取り外されたりする。蓋１７が開口部７に装着されると、ＦＯＵＰ１の内部空間５が外部の雰囲気と遮断される。
【００３４】
支持部９のうち、例えば、高さ方向の中央部付近にある一つの支持溝１３には、仕切り板ＤＰ１が載置されている。この仕切り板ＤＰ１は、基板Ｗと同種の基板であってデバイスが形成されていないダミー基板である。例えば、図３のように支持部９の高さ方向における中央部（上から１３段目、下から１３段目）に仕切り板ＤＰ１を載置する。
【００３５】
このように仕切り板ＤＰ１を載置すると、仕切り板ＤＰ１によって上部の第１の空間ＳＰ１の雰囲気と、下部の第２の空間ＳＰ２の雰囲気とを分離することができる。仕切り板ＤＰ１は、内部空間５を二つの空間ＳＰ１，ＳＰ２に分離するが、分離したい空間の大きさに応じて支持部９の任意の位置に載置することができる。
【００３６】
なお、分離された二つの空間ＳＰ１，ＳＰ２は、次のように使い分かればよい。例えば、第２の空間ＳＰ２に洗浄処理前の基板Ｗを収容し、第１の空間ＳＰ１に洗浄処理後の基板Ｗを収容するようにＦＯＵＰ１の内部空間５を使い分ける。このようにすると、第２の空間ＳＰ２から搬出された基板Ｗは、洗浄処理により清浄化された後、第１の空間ＳＰ１に戻されるので、第２の空間ＳＰ２の支持溝１３に付着している恐れのあるパーティクル等が洗浄処理後の基板Ｗに再付着するのを抑制できる。
【００３７】
なお、パーティクル等が落下して下方に移動することを考慮すると、上述した使い分けが好適であるものの、第１の空間ＳＰ１に洗浄処理前の基板Ｗを収容し、第２の空間ＳＰ２に洗浄処理後の基板Ｗを収容するようにしてもよい。このようにしても、仕切り板ＤＰ１により雰囲気が遮断されているので、洗浄処理前に載置されていた元の支持溝１３に洗浄処理後の基板Ｗを戻す場合に比較して相互汚染を抑制できる。
【００３８】
また、例えば、第２の空間ＳＰ２に銅配線を形成した基板Ｗを収容し、第１の空間ＳＰ１にアルミニウム配線を形成した基板Ｗを収容するようにＦＯＵＰ１の内部空間５を使い分けてもよい。このようにすると、第２の空間ＳＰ２に収容された基板Ｗからの銅被膜の破片等が第１の空間に収容された基板Ｗに付着することを抑制できる。なお、銅は他の基板Ｗに付着すると、デバイスの性能を低下させて致命的な欠陥を生じる恐れがある。
【００３９】
このように本実施例は、ＦＯＵＰ１に仕切り板ＤＰ１を装着すると、収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができる。したがって、内部空間５の仕切られた各雰囲気を使い分けることにより、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００４０】
また、特殊なＦＯＵＰ１ではなく、規格化された標準的なＦＯＵＰ１を用いることができるので、既存の装置に容易に適用できるとともに、コストの上昇を仕切り板ＤＰ１に相当する分だけですませることができる。したがって、ＦＯＵＰ１内における内部空間５の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【００４１】
また、仕切り板ＤＰ１を特殊な材料で構成することなく、処理する基板Ｗと同種のダミー基板としているので、仕切り板ＤＰ１からの汚染を容易に低コストで抑制することもできる。また、仕切り板ＤＰ１が破損した場合には、容易に他のダミー基板で代用することができる利点もある。
【実施例２】
【００４２】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図４は、実施例２に係る仕切り板を示す平面図である。なお、ＦＯＵＰ１の概略構成は、上述した実施例１と同様であるので、ここでは平面図だけを参照して説明する。
【００４３】
本実施例に係るＦＯＵＰ１は、基板Ｗとは異なる板状部材２１を仕切り板ＤＰ２として用いている点において上述した実施例１と相違する。
【００４４】
板状部材２１の材料としては、例えば、ポリカーボネート製の薄板が挙げられる。材料としては、ポリカーボネートに限定されるものではなく、基板Ｗに悪影響を与えないものであれば他のものでもよい。また、板状部材２１の厚さは、支持溝１３に載置でき、かつ、支持溝１３に載置した際に湾曲して、下方の基板Ｗに接触しない強度を備えている。板状部材２１は、内部空間５の内壁に当接する端面ｅｇ１と、内部空間５の内壁に当接せず離間した端面ｅｇ２とを有する。なお、ここでいう内部空間５の内壁は、内部空間５の内壁に設けられた支持部９や当接部１１を含む。
【００４５】
具体的には、左右の端面ｅｇ１及び後側の端面ｅｇ１は、支持溝１３または当接部１１に当接し、後側の角部にあたる端面ｅｇ２は、内部空間５のうち奥側角の内壁から離間している。これは、ＦＯＵＰ１の奥側の形状が異なるものであっても板状部材２１が仕切り板ＤＰ２として載置できるようにするためである。なお、板状部材２１は、その前側の端面ｅｇ３の位置が、蓋１７が開口部７に装着された際に、蓋１７で強く押圧されない寸法にしてある。蓋１７が開口部７に装着されると、基板Ｗを蓋１７で押し込み、基板Ｗの後側端面を当接部１１に押し当てることにより、基板ＷをＦＯＵＰ１内で固定するが、この動作を妨げないようにするためである。
【００４６】
本実施例によると、上述した実施例１と同様に収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（上記の第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができるので、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００４７】
また、本実施例は、基板Ｗとは異なる板状部材２１で仕切り板ＤＰ２を構成し、板状部材２１は、内部空間５の内壁に当接する端面ｅｇ１と、内部空間５の内壁から離間する端面ｅｇ２とを有する。したがって、板状部材２１の形状に応じて、雰囲気を仕切る度合いを所望の度合いにすることができる。
【００４８】
また、本実施例の仕切り板ＤＰ２は、固定的にＦＯＵＰ１に取り付けることも可能であるので、仕切り板ＤＰ２の装着忘れによる基板の相互汚染を防止することができる。
【実施例３】
【００４９】
次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。
図５は、実施例３に係る仕切り板を示す平面図である。なお、ＦＯＵＰ１の概略構成は、上述した実施例１と同様であるので、ここでは平面図だけを参照して説明する。
【００５０】
本実施例に係るＦＯＵＰ１は、基板Ｗとは異なる板状部材２１を仕切り板ＤＰ３として用いている点において上述した実施例１と相違し、上述した実施例２と似た構成である。
【００５１】
板状部材２３の材料や厚み等は、上述した実施例２と同様である。板状部材２３は、周囲が内部空間５の内壁に当接する端面ｅｇ４を有する。なお、ここでいう内部空間５の内壁は、内部空間５の内壁に設けられた支持部９や当接部１１を含む。
【００５２】
具体的には、左右及び後側の端面ｅｇ４は、内部空間５の内壁や、当接部１１、支持部９に当接している。また、板状部材２３は、その前側の端面ｅｇ５の位置が、蓋１７で押圧されない寸法にしてあるのは上述した実施例２と同様の理由による。
【００５３】
本実施例によると、上述した実施例１と同様に収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（上記の第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができるので、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００５４】
また、内部空間５のうち開口部７を除いた面に当接する端面を備えた板状部材２３で仕切り板ＤＰ３を構成するので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。したがって、基板の相互汚染の抑制度合いを高くすることができる。
【００５５】
また、本実施例の仕切り板ＤＰ３は、固定的にＦＯＵＰ１に取り付けることも可能であるので、仕切り板ＤＰ３の装着忘れによる相互汚染を防止することができる。
【実施例４】
【００５６】
次に、図面を参照して本発明の実施例４を説明する。
図６は、実施例４に係る仕切り板を示す正面図である。なお、ＦＯＵＰ１の概略構成は、上述した実施例１と同様であるので、ここでは正面図だけを参照して説明する。
【００５７】
本実施例に係るＦＯＵＰ１は、基板Ｗとは異なる板状部材２５を仕切り板ＤＰ４として用いている点において上述した実施例１と相違している。
【００５８】
板状部材２５は、縦断面形状が図６の一部拡大図に示すように起伏状に形成されている。なお、平面図は省略してあるが、板状部材２５は、その端面を上述した実施例２または実施例３のようにすればよい。板状部材２５の起伏状断面における山谷部分の高さは、支持溝１３に載置できる高さである。さらに、板状部材２５は、支持溝１３に載置した際に湾曲して、下方の基板Ｗに接触しない強度を備えている。起伏状の形状は、図６のような正弦波状に限定されるものではなく、矩形波、三角波、脈流状であってもよい。
【００５９】
本実施例によると、上述した実施例１と同様に収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（上記の第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができるので、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００６０】
また、板状部材２５の縦断面形状を起伏状に構成しているので、仕切り板ＤＰ４の上方に載置された基板Ｗからパーティクルが落下したとしても、山谷部分でパーティクルが移動しづらくできる。したがって、落下したパーティクルが搬送中に仕切り板ＤＰ４を移動して、他の基板Ｗを汚染するような相互汚染を抑制することができる。
【００６１】
＜第１の変形例＞
ここで図７を参照して、上述した実施例２の変形例について説明する。図７は、第１の変形例を示す平面図である。なお、以下の説明においては、仕切り板ＤＰ２ａだけを示して説明する。
【００６２】
この仕切り板ＤＰ２ａは、上述した実施例２における仕切り板ＤＰ２に一つの貫通穴３１を設けたものである。一つの貫通穴３１は、平面視で板状部材２１ａの中心部に形成されている。
【００６３】
この第１の変形例は、平面視で中心部に一つの貫通穴３１を形成してあるので、板状部材２１ａの軽量化を図ることができる。貫通穴３１は、板状部材２１ａの中心部にだけ形成されているので、基板Ｗの下面と支持溝１３との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通穴３１を通してパーティクルが落下することによる基板の相互汚染は抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも貫通穴３１を通して不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通穴３１の形状や位置を適宜に変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。なお、ここでいう中心部とは、板状部材２１ａの中心及び中心に近い部分をいう。
【００６４】
＜第２の変形例＞
ここで図８を参照して、上述した実施例２の変形例について説明する。図８は、第２の変形例を示す平面図である。なお、以下の説明においては、仕切り板ＤＰ２ｂだけを示して説明する。
【００６５】
この仕切り板ＤＰ２ｂは、上述した実施例２における仕切り板ＤＰ２に複数個の貫通穴３３を設けたものである。ここでは、一例として、２５個の貫通孔３３が、平面視で板状部材２１ｂの中心領域に形成されている。
【００６６】
この第２の変形例は、複数個の小さな貫通孔３３により板状部材２１ｂの軽量化を図ることができる。複数個の小さな貫通孔３３は、平面視で板状部材２１ｂの中心領域にのみ形成されているので、基板Ｗの端面と支持溝１３との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通孔３３からパーティクルが落下することによる基板の相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通孔３３の形状と数と位置を適宜に変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００６７】
＜第３の変形例＞
ここで図９，図１０を参照して、上述した実施例２の変形例について説明する。図９は、第３の変形例を示す平面図であり、図１０は、第３の変形例を示す縦断面図である。
【００６８】
この仕切り板ＤＰ２ｃは、三枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄを備えている。板状部材２１ｂは、平面視で中央領域に複数個の貫通孔３３を形成されている。また、板状部材２１ｃは、平面視で奥側に複数個の貫通孔３３を形成され、板状部材２１ｄは、平面視で手前側に複数個の貫通孔３３を形成されている。仕切り板ＤＰ２ｃは、図１０に示すように、下から板状部材２１ｄ、板状部２１ｂ、板状部材２１ｃの順で配置され、支持部材３５によって離間して支持されている。この離間距離は、支持溝１３の間隔に設定されている。したがって、三枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄを備えた仕切り板ＤＰ２ｃであっても、支持部９に装着することができる。
【００６９】
この第３の変形例によると、３枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄを支持部材３５で離間させて仕切り板ＤＰ２ｃが構成されているので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。さらに、３枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄは複数個の貫通孔３３が形成されているので、板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄが３枚であっても重量の増加を抑制することができる。その上、各板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄの貫通孔３３は、平面視で板状部材ごとに異なる領域に形成されているので、パーティクル等が上から下に落下しづらくできる。したがって、貫通孔３３を介しての基板の相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。
【００７０】
なお、板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄの三枚で仕切り板ＤＰ２ｃを構成するのではなく、二枚の板状部材や、４枚以上の板状部材で仕切り板ＤＰ２ｃを構成してもよい。また、貫通孔３３の形状と数と位置を適宜に変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００７１】
＜ＦＯＵＰの変形例＞
ところで、上述したＦＯＵＰ１は、次のような構成であってもよい。ここで、図１１を参照する。図１１は、ＦＯＵＰの変形例を示す一部破断縦断面図である。
【００７２】
このＦＯＵＰ１は、収容器本体３の底部に圧入部４１と排気部４３とを備えている。圧入部４１と排気部４３とは、内部空間５の圧力と外部圧力とを一定に保つブレスフィルタ（図示省略）を備え、ＦＯＵＰ１の搬送中に大気圧が変化してもＦＯＵＰ１の収縮や膨張を防ぐことができる。また、圧入部４１からパーティクルが内部空間５に侵入するのを防止する。
【００７３】
ＦＯＵＰ１が載置されるロードポート（図示省略）は、ガス供給部５１と強制排気部５３とを備えている。ガス供給部５１は、気体を所定の圧力で供給する機能を有する。気体としては、不活性ガス、例えば、窒素ガスが挙げられる。強制排気部５３は、真空ポンプや真空イジェクタ（Vacuum ejector）によって、内部空間５内の気体を強制的に排出する機能を有する。
【００７４】
ＦＯＵＰ１は、ガス供給部５１から窒素ガスを供給されるとともに、強制排気部５３により内部空間５の気体が排出される、いわゆる窒素ガスパージが行われることがある。この窒素ガスパージは、ＦＯＵＰ１内の基板Ｗが搬送される際に、水分やケミカルガスによる汚染から保護するために行われる。
【００７５】
このような窒素ガスパージを行う場合、上述した実施例１〜４は、内部空間５を仕切り板ＤＰ１〜４で仕切っているので、窒素ガスの使用量を低減することができる。
【００７６】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００７７】
（１）上述した各実施例１〜４では、第１の空間ＳＰ１と第２の空間ＳＰ２の二つに内部空間５を仕切ることを例示した。しかし、本発明は、二枚以上の仕切り板によって内部空間５を三つ以上に仕切るようにしてもよい。
【００７８】
（２）上述した各実施例１〜４及び第１〜第３変形例では、既存のＦＯＵＰ１に仕切り板を取り付けるように説明したが、複数の支持溝１３のうちのいずれかに代えて仕切り板を一体的に形成した支持部９を採用してもよい。これにより仕切り板の装着忘れによる基板の相互汚染を防止できる。
【符号の説明】
【００７９】
１ … ＦＯＵＰ
３ … 収容器本体
５ … 内部空間
７ … 開口部
９ … 支持部
１３ … 支持溝
１７ … 蓋
２１ … 板状部材
ＤＰ１ … 仕切り板
ＳＰ１ … 第１の空間
ＳＰ２ … 第２の空間
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）を複数枚収容する基板収容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、密閉した雰囲気に複数枚の基板を収容して搬送するための基板収容器が挙げられる。この基板収容器は、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）と呼ばれている。このＦＯＵＰは、ＦＯＵＰ本体と、開口部と、支持溝と、蓋とを備えている。ＦＯＵＰ本体は、一側面に開口部を備え、内部空間に多段の支持溝が形成されている。複数枚の基板が開口部から多段の支持溝に載置されて収納されると、蓋が開口部に取り付けられる。そして、複数枚の基板は、ＦＯＵＰごと所望の場所へ搬送される（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような構成のＦＯＵＰを用いると、ＦＯＵＰ内の僅かな内部空間の清浄度を高めることにより、工場全体を高清浄度のクリーンルーム化した場合と同様の効果を得ることができる。したがって、クリーンルーム全体を高清浄度化するのに要する設備投資やその維持費を削減して、効率的に生産を行うことができる。また、ＦＯＵＰの蓋を開放した状態で、窒素ガスを各基板に吹き付けて、各基板に付着している汚染物質を除去することも行われる。
【０００４】
ところで、多くの基板を同時に収容して搬送できるように、一般的にＦＯＵＰは、例えば、２５枚の基板を水平姿勢で積層して収容できるように構成されている。しかし、最近では、半導体デバイスの多様化に起因して、多品種少量生産の要望も増えている。そのような場合には、異なるデバイス用の基板が同一のＦＯＵＰ内に混在されて搬送されることもある。また、２５枚の内部空間のうち、半分程度（例えば、１２枚の基板）だけを使うこともある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−３２７９１１号公報（図１、図２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来のＦＯＵＰは、異なる種類の基板が混在すると、ＦＯＵＰ内において異種の基板の間で汚染が生じる相互汚染の恐れがある。例えば、銅を用いている基板から銅被膜の破片等が、アルミニウム配線の基板に付着すると、銅が基板上のデバイスに致命的な欠陥を与える恐れがある。
【０００７】
また、ＦＯＵＰの内部空間の半分程度を同種の基板で使用する場合、基板が処理前に汚染されていると、たとえ処理によって基板を清浄化したとしても、ＦＯＵＰの内部空間が汚染されているので、基板をＦＯＵＰに戻した際に、ＦＯＵＰを介しての基板の相互汚染が生じる恐れがある。したがって、従来のＦＯＵＰでは、たとえ窒素ガスを吹き付けるようにして、処理前の基板から汚染物を除去するようにしても基板の相互汚染を避けられない恐れがある。
【０００８】
なお、上記のような問題を回避するために、例えば、異種の基板や異なる金属材料を用いた基板を別々のＦＯＵＰで搬送することが考えられる。しかし、このような手法によると、ＦＯＵＰの個数が増大するのでコストアップにつながり、さらにＦＯＵＰの保管スペースも増大する別異の問題が生じる。また、基板をＦＯＵＰから取り出して処理している間に、ＦＯＵＰを洗浄することも考えられる。しかし、ＦＯＵＰの洗浄時間が基板の処理時間より長くなる場合には、処理済の基板にＦＯＵＰ待ちの時間が生じるので、スループットが低下するという別異の問題が生じることになる。したがって、上記の問題を解決することにはならない。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、内部空間の雰囲気を仕切ることによって、基板の相互汚染が生じるのを抑制することができる基板収容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、複数枚の基板を収容する基板収容器において、内部空間を有する収容器本体と、前記収容器本体に形成され、前記内部空間に連通した開口部と、前記収容器本体の内壁に設けられ、基板の端縁下面を当接支持する複数の支持溝と、前記開口部に着脱自在の蓋と、前記複数の支持溝に着脱自在に装着されて、前記内部空間を複数の雰囲気に仕切る仕切り板と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１１】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、仕切り板を支持溝に装着すると、収容器本体の内部空間を複数の雰囲気に仕切ることができる。したがって、内部空間を、異なる雰囲気ごとに使い分けることにより、収容器本体における基板の相互汚染を抑制することができる。
【００１２】
また、仕切り板は支持溝に着脱自在であり、特殊な基板収容器でなく、規格化された標準的な基板収容器を用いることができるので、既存の装置に容易に適用できるとともに、コストの上昇を仕切り板に相当する分だけですませることができる。したがって、内部空間の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【００１３】
なお、ここでいう「雰囲気を仕切る」とは、部材で空間を完全に分離するのではなく、空間の相互間で気体が容易に行き来するのを抑制する程度に空間を分けることをいう。
【００１４】
また、本発明において、前記仕切り板は、ダミー基板であることが好ましい（請求項２）。仕切り板を特殊な材料で構成することなく、処理する基板と同種のダミー基板とするので、仕切り板からの汚染を容易に低コストで抑制することができる。
【００１５】
また、本発明において、前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成されていることが好ましい（請求項３）。基板とは異なる板状部材で仕切り板を構成するので、仕切り板を基板収容器の内部空間に応じた形状にすることができる。したがって、仕切り板の形状を変えることにより、内部空間の気流を適切に抑制できるので、基板相互間の汚染をさらに抑制することができる。
【００１６】
また、本発明において、前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、前記板状部材は、内部空間の内壁に当接する端面と、内部空間の内壁から離間した端面とを備えていることが好ましい（請求項４）。基板とは異なる板状部材で仕切り板を構成し、板状部材は、端面が内部空間の内壁に当接する部分と、端面が内部空間の内壁から離間する部分とを有する。したがって、板状部材の形状に応じて、雰囲気を仕切る度合いを所望の度合いにすることができる。
【００１７】
なお、ここでいう「内部空間の内壁」とは、基板収容器の内側で内部空間を形成する面であり、内部空間の内壁に設けられた部材を含む。
【００１８】
また、本発明において、前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、前記板状部材は、周囲が内部空間の内壁に当接する端面を備えていることが好ましい（請求項５）。周囲が内部空間の内壁に当接する端面を備えた板状部材で仕切り板を構成するので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。したがって、基板の相互汚染の抑制度合いを高くすることができる。
【００１９】
なお、ここでいう「内部空間の内壁」とは、基板収容器の内側で内部空間を形成する面であり、内部空間の内壁に設けられた部材を含む。
【００２０】
また、本発明において、前記板状部材は、縦断面形状が起伏状に構成されていることが好ましい（請求項６）。板状部材の縦断面形状を起伏状にするので、仕切り板の上方に載置された基板からパーティクルが落下したとしても、山谷部分でパーティクルが移動しづらくできる。したがって、落下したパーティクルが搬送中に仕切り板を移動して、他の基板を汚染するような相互汚染を抑制することができる。
【００２１】
また、本発明において、前記板状部材は、平面視で中心部に一つの貫通穴が形成されていることが好ましい（請求項７）。平面視で中心部に一つの貫通穴を形成してあるので、板状部材の軽量化を図ることができる。貫通穴は、板状部材の中心部にだけ形成されているので、基板の端面と支持溝との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通穴を通してパーティクルが落下することによる相互汚染は抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通穴の大きさを変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００２２】
また、本発明において、前記板状部材は、平面視で中心領域に複数個の小さな貫通孔が形成されていることが好ましい（請求項８）。複数個の小さな貫通孔により板状部材の軽量化を図ることができる。貫通孔は、平面視で板状部材の中心領域にのみ形成されているので、基板の端面と支持溝との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通孔からパーティクルが落下することによる相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通孔の大きさや数を変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００２３】
また、本発明において、前記仕切り板は、複数枚の板状部材と、前記複数の支持溝の間隔で前記各板状部材を支持する支持部材とを備え、前記複数枚の板状部材は、複数個の小さな貫通孔が形成されており、前記複数個の小さな貫通孔は、平面視で、前記板状部材ごとに異なる領域に形成されていることが好ましい（請求項９）。複数枚の板状部材を支持部材で離間させて仕切り板が構成されているので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。さらに、複数枚の板状部材は複数個の貫通孔が形成されているので、板状部材が複数であっても重量の増加を抑制することができる。その上、各板状部材の貫通孔は、平面視で板状部材ごとに異なる領域に形成されているので、パーティクル等が上から下に落下しづらくできる。したがって、貫通孔を介しての基板の相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通孔の大きさや数を変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００２４】
また、本発明において、前記収容器本体は、前記内部空間の圧力と外部圧力とを一定に保つ機能を備えた吸入部と排気部とを備え、前記吸入部から不活性ガスを圧入されるとともに、前記排気部から前記内部空間内の気体が強制的に排気されることが好ましい（請求項１０）。吸入部から内部空間に不活性ガスを圧入し、排気部から内部空間の気体を強制的に排気することにより、内部空間を不活性ガスで満たすことができる。その際、仕切り板で内部空間を仕切っているので、不活性ガスの使用量を低減することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係る基板収容器によれば、仕切り板を装着すると、収容器本体の内部空間を複数の雰囲気に仕切ることができる。したがって、内部空間を、異なる雰囲気ごとに使い分けることにより、収容器本体における基板の相互汚染を抑制することができる。
【００２６】
また、仕切り板は支持溝に着脱自在であり、規格化された標準的な基板収容器を用いることができるので、既存の装置に容易に適用できるとともに、コストの上昇は、仕切り板だけですむ。したがって、内部空間の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】実施例１に係るＦＯＵＰの概略構成を示す縦断面図である。
【図２】実施例１に係る仕切り板を示す平面図である。
【図３】実施例１に係る仕切り板を示す正面図である。
【図４】実施例２に係る仕切り板を示す平面図である。
【図５】実施例３に係る仕切り板を示す平面図である。
【図６】実施例４に係る仕切り板を示す正面図である。
【図７】第１の変形例を示す平面図である。
【図８】第２の変形例を示す平面図である。
【図９】第３の変形例を示す平面図である。
【図１０】第３の変形例を示す縦断面図である。
【図１１】ＦＯＵＰの変形例を示す一部破断縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明に係る基板収容器としてＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を例にとって以下に説明する。
【実施例１】
【００２９】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係るＦＯＵＰの概略構成を示す縦断面図であり、図２は、実施例１に係る仕切り板を示す平面図であり、図３は、実施例１に係る仕切り板を示す正面図である。
【００３０】
本発明における「基板収容器」に相当するＦＯＵＰ１は、複数枚の基板Ｗを水平姿勢で積層して収納可能に構成されている。ＦＯＵＰ１は、収容器本体３を備えている。この収容器本体３は、内部空間５を備え、内部空間５の正面側には開口部７を備えている。収容器本体３は、例えば、ポリカーボネートなどで成形加工によって製造されている。内部空間５のうち、開口部７の両側面には、基板Ｗを載置するための支持部９が設けられている。また、内部空間５の奥側には、当接部１１が設けられている。
【００３１】
支持部９は、例えば、２５枚の基板Ｗを載置できるように、２５個の支持溝１３を備えている。支持溝１３は、上向き面にて基板Ｗの下面を当接して基板Ｗを水平姿勢に支持する。支持部９の奥側に位置する当接部１１は、基板Ｗの後側端面が当接し、基板Ｗの水平位置を固定する。
【００３２】
ＦＯＵＰ１の上面には、搬送機構（図示省略）が把持するための把持部１５を備えている。なお、図３では、図示の関係上、把持部１５を省略している。
【００３３】
開口部７は、蓋１７が着脱可能に構成されている。この蓋１７は、ロードポート（図示省略）にＦＯＵＰ１が載置された状態で、ロードポートが備える開閉機構（図示省略）によって開口部７に装着されたり、取り外されたりする。蓋１７が開口部７に装着されると、ＦＯＵＰ１の内部空間５が外部の雰囲気と遮断される。
【００３４】
支持部９のうち、例えば、高さ方向の中央部付近にある一つの支持溝１３には、仕切り板ＤＰ１が載置されている。この仕切り板ＤＰ１は、基板Ｗと同種の基板であってデバイスが形成されていないダミー基板である。例えば、図３のように支持部９の高さ方向における中央部（上から１３段目、下から１３段目）に仕切り板ＤＰ１を載置する。
【００３５】
このように仕切り板ＤＰ１を載置すると、仕切り板ＤＰ１によって上部の第１の空間ＳＰ１の雰囲気と、下部の第２の空間ＳＰ２の雰囲気とを分離することができる。仕切り板ＤＰ１は、内部空間５を二つの空間ＳＰ１，ＳＰ２に分離するが、分離したい空間の大きさに応じて支持部９の任意の位置に載置することができる。
【００３６】
なお、分離された二つの空間ＳＰ１，ＳＰ２は、次のように使い分かればよい。例えば、第２の空間ＳＰ２に洗浄処理前の基板Ｗを収容し、第１の空間ＳＰ１に洗浄処理後の基板Ｗを収容するようにＦＯＵＰ１の内部空間５を使い分ける。このようにすると、第２の空間ＳＰ２から搬出された基板Ｗは、洗浄処理により清浄化された後、第１の空間ＳＰ１に戻されるので、第２の空間ＳＰ２の支持溝１３に付着している恐れのあるパーティクル等が洗浄処理後の基板Ｗに再付着するのを抑制できる。
【００３７】
なお、パーティクル等が落下して下方に移動することを考慮すると、上述した使い分けが好適であるものの、第１の空間ＳＰ１に洗浄処理前の基板Ｗを収容し、第２の空間ＳＰ２に洗浄処理後の基板Ｗを収容するようにしてもよい。このようにしても、仕切り板ＤＰ１により雰囲気が遮断されているので、洗浄処理前に載置されていた元の支持溝１３に洗浄処理後の基板Ｗを戻す場合に比較して相互汚染を抑制できる。
【００３８】
また、例えば、第２の空間ＳＰ２に銅配線を形成した基板Ｗを収容し、第１の空間ＳＰ１にアルミニウム配線を形成した基板Ｗを収容するようにＦＯＵＰ１の内部空間５を使い分けてもよい。このようにすると、第２の空間ＳＰ２に収容された基板Ｗからの銅被膜の破片等が第１の空間に収容された基板Ｗに付着することを抑制できる。なお、銅は他の基板Ｗに付着すると、デバイスの性能を低下させて致命的な欠陥を生じる恐れがある。
【００３９】
このように本実施例は、ＦＯＵＰ１に仕切り板ＤＰ１を装着すると、収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができる。したがって、内部空間５の仕切られた各雰囲気を使い分けることにより、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００４０】
また、特殊なＦＯＵＰ１ではなく、規格化された標準的なＦＯＵＰ１を用いることができるので、既存の装置に容易に適用できるとともに、コストの上昇を仕切り板ＤＰ１に相当する分だけですませることができる。したがって、ＦＯＵＰ１内における内部空間５の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。
【００４１】
また、仕切り板ＤＰ１を特殊な材料で構成することなく、処理する基板Ｗと同種のダミー基板としているので、仕切り板ＤＰ１からの汚染を容易に低コストで抑制することもできる。また、仕切り板ＤＰ１が破損した場合には、容易に他のダミー基板で代用することができる利点もある。
【実施例２】
【００４２】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図４は、実施例２に係る仕切り板を示す平面図である。なお、ＦＯＵＰ１の概略構成は、上述した実施例１と同様であるので、ここでは平面図だけを参照して説明する。
【００４３】
本実施例に係るＦＯＵＰ１は、基板Ｗとは異なる板状部材２１を仕切り板ＤＰ２として用いている点において上述した実施例１と相違する。
【００４４】
板状部材２１の材料としては、例えば、ポリカーボネート製の薄板が挙げられる。材料としては、ポリカーボネートに限定されるものではなく、基板Ｗに悪影響を与えないものであれば他のものでもよい。また、板状部材２１の厚さは、支持溝１３に載置でき、かつ、支持溝１３に載置した際に湾曲して、下方の基板Ｗに接触しない強度を備えている。板状部材２１は、内部空間５の内壁に当接する端面ｅｇ１と、内部空間５の内壁に当接せず離間した端面ｅｇ２とを有する。なお、ここでいう内部空間５の内壁は、内部空間５の内壁に設けられた支持部９や当接部１１を含む。
【００４５】
具体的には、左右の端面ｅｇ１及び後側の端面ｅｇ１は、支持溝１３または当接部１１に当接し、後側の角部にあたる端面ｅｇ２は、内部空間５のうち奥側角の内壁から離間している。これは、ＦＯＵＰ１の奥側の形状が異なるものであっても板状部材２１が仕切り板ＤＰ２として載置できるようにするためである。なお、板状部材２１は、その前側の端面ｅｇ３の位置が、蓋１７が開口部７に装着された際に、蓋１７で強く押圧されない寸法にしてある。蓋１７が開口部７に装着されると、基板Ｗを蓋１７で押し込み、基板Ｗの後側端面を当接部１１に押し当てることにより、基板ＷをＦＯＵＰ１内で固定するが、この動作を妨げないようにするためである。
【００４６】
本実施例によると、上述した実施例１と同様に収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（上記の第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができるので、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００４７】
また、本実施例は、基板Ｗとは異なる板状部材２１で仕切り板ＤＰ２を構成し、板状部材２１は、内部空間５の内壁に当接する端面ｅｇ１と、内部空間５の内壁から離間する端面ｅｇ２とを有する。したがって、板状部材２１の形状に応じて、雰囲気を仕切る度合いを所望の度合いにすることができる。
【００４８】
また、本実施例の仕切り板ＤＰ２は、固定的にＦＯＵＰ１に取り付けることも可能であるので、仕切り板ＤＰ２の装着忘れによる基板の相互汚染を防止することができる。
【実施例３】
【００４９】
次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。
図５は、実施例３に係る仕切り板を示す平面図である。なお、ＦＯＵＰ１の概略構成は、上述した実施例１と同様であるので、ここでは平面図だけを参照して説明する。
【００５０】
本実施例に係るＦＯＵＰ１は、基板Ｗとは異なる板状部材２１を仕切り板ＤＰ３として用いている点において上述した実施例１と相違し、上述した実施例２と似た構成である。
【００５１】
板状部材２３の材料や厚み等は、上述した実施例２と同様である。板状部材２３は、周囲が内部空間５の内壁に当接する端面ｅｇ４を有する。なお、ここでいう内部空間５の内壁は、内部空間５の内壁に設けられた支持部９や当接部１１を含む。
【００５２】
具体的には、左右及び後側の端面ｅｇ４は、内部空間５の内壁や、当接部１１、支持部９に当接している。また、板状部材２３は、その前側の端面ｅｇ５の位置が、蓋１７で押圧されない寸法にしてあるのは上述した実施例２と同様の理由による。
【００５３】
本実施例によると、上述した実施例１と同様に収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（上記の第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができるので、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００５４】
また、内部空間５のうち開口部７を除いた面に当接する端面を備えた板状部材２３で仕切り板ＤＰ３を構成するので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。したがって、基板の相互汚染の抑制度合いを高くすることができる。
【００５５】
また、本実施例の仕切り板ＤＰ３は、固定的にＦＯＵＰ１に取り付けることも可能であるので、仕切り板ＤＰ３の装着忘れによる相互汚染を防止することができる。
【実施例４】
【００５６】
次に、図面を参照して本発明の実施例４を説明する。
図６は、実施例４に係る仕切り板を示す正面図である。なお、ＦＯＵＰ１の概略構成は、上述した実施例１と同様であるので、ここでは正面図だけを参照して説明する。
【００５７】
本実施例に係るＦＯＵＰ１は、基板Ｗとは異なる板状部材２５を仕切り板ＤＰ４として用いている点において上述した実施例１と相違している。
【００５８】
板状部材２５は、縦断面形状が図６の一部拡大図に示すように起伏状に形成されている。なお、平面図は省略してあるが、板状部材２５は、その端面を上述した実施例２または実施例３のようにすればよい。板状部材２５の起伏状断面における山谷部分の高さは、支持溝１３に載置できる高さである。さらに、板状部材２５は、支持溝１３に載置した際に湾曲して、下方の基板Ｗに接触しない強度を備えている。起伏状の形状は、図６のような正弦波状に限定されるものではなく、矩形波、三角波、脈流状であってもよい。
【００５９】
本実施例によると、上述した実施例１と同様に収容器本体３の内部空間５を複数の雰囲気（上記の第１の空間ＳＰ１，第２の空間ＳＰ２）に仕切ることができるので、基板の相互汚染を抑制することができる。
【００６０】
また、板状部材２５の縦断面形状を起伏状に構成しているので、仕切り板ＤＰ４の上方に載置された基板Ｗからパーティクルが落下したとしても、山谷部分でパーティクルが移動しづらくできる。したがって、落下したパーティクルが搬送中に仕切り板ＤＰ４を移動して、他の基板Ｗを汚染するような相互汚染を抑制することができる。
【００６１】
＜第１の変形例＞
ここで図７を参照して、上述した実施例２の変形例について説明する。図７は、第１の変形例を示す平面図である。なお、以下の説明においては、仕切り板ＤＰ２ａだけを示して説明する。
【００６２】
この仕切り板ＤＰ２ａは、上述した実施例２における仕切り板ＤＰ２に一つの貫通穴３１を設けたものである。一つの貫通穴３１は、平面視で板状部材２１ａの中心部に形成されている。
【００６３】
この第１の変形例は、平面視で中心部に一つの貫通穴３１を形成してあるので、板状部材２１ａの軽量化を図ることができる。貫通穴３１は、板状部材２１ａの中心部にだけ形成されているので、基板Ｗの下面と支持溝１３との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通穴３１を通してパーティクルが落下することによる基板の相互汚染は抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも貫通穴３１を通して不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通穴３１の形状や位置を適宜に変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。なお、ここでいう中心部とは、板状部材２１ａの中心及び中心に近い部分をいう。
【００６４】
＜第２の変形例＞
ここで図８を参照して、上述した実施例２の変形例について説明する。図８は、第２の変形例を示す平面図である。なお、以下の説明においては、仕切り板ＤＰ２ｂだけを示して説明する。
【００６５】
この仕切り板ＤＰ２ｂは、上述した実施例２における仕切り板ＤＰ２に複数個の貫通穴３３を設けたものである。ここでは、一例として、２５個の貫通孔３３が、平面視で板状部材２１ｂの中心領域に形成されている。
【００６６】
この第２の変形例は、複数個の小さな貫通孔３３により板状部材２１ｂの軽量化を図ることができる。複数個の小さな貫通孔３３は、平面視で板状部材２１ｂの中心領域にのみ形成されているので、基板Ｗの端面と支持溝１３との摺動によってパーティクルが発生しても、貫通孔３３からパーティクルが落下することによる基板の相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。さらに、貫通孔３３の形状と数と位置を適宜に変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００６７】
＜第３の変形例＞
ここで図９，図１０を参照して、上述した実施例２の変形例について説明する。図９は、第３の変形例を示す平面図であり、図１０は、第３の変形例を示す縦断面図である。
【００６８】
この仕切り板ＤＰ２ｃは、三枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄを備えている。板状部材２１ｂは、平面視で中央領域に複数個の貫通孔３３を形成されている。また、板状部材２１ｃは、平面視で奥側に複数個の貫通孔３３を形成され、板状部材２１ｄは、平面視で手前側に複数個の貫通孔３３を形成されている。仕切り板ＤＰ２ｃは、図１０に示すように、下から板状部材２１ｄ、板状部２１ｂ、板状部材２１ｃの順で配置され、支持部材３５によって離間して支持されている。この離間距離は、支持溝１３の間隔に設定されている。したがって、三枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄを備えた仕切り板ＤＰ２ｃであっても、支持部９に装着することができる。
【００６９】
この第３の変形例によると、３枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄを支持部材３５で離間させて仕切り板ＤＰ２ｃが構成されているので、雰囲気の分離度合いを高くすることができる。さらに、３枚の板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄは複数個の貫通孔３３が形成されているので、板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄが３枚であっても重量の増加を抑制することができる。その上、各板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄの貫通孔３３は、平面視で板状部材ごとに異なる領域に形成されているので、パーティクル等が上から下に落下しづらくできる。したがって、貫通孔３３を介しての基板の相互汚染を抑制できる。また、不活性ガスなどを注入する際に、仕切られた複数の雰囲気にも不活性ガスを送り込むことができる。
【００７０】
なお、板状部材２１ｂ、２１ｃ、２１ｄの三枚で仕切り板ＤＰ２ｃを構成するのではなく、二枚の板状部材や、４枚以上の板状部材で仕切り板ＤＰ２ｃを構成してもよい。また、貫通孔３３の形状と数と位置を適宜に変えることにより、不活性ガスの気流を調整することができる。
【００７１】
＜ＦＯＵＰの変形例＞
ところで、上述したＦＯＵＰ１は、次のような構成であってもよい。ここで、図１１を参照する。図１１は、ＦＯＵＰの変形例を示す一部破断縦断面図である。
【００７２】
このＦＯＵＰ１は、収容器本体３の底部に圧入部４１と排気部４３とを備えている。圧入部４１と排気部４３とは、内部空間５の圧力と外部圧力とを一定に保つブレスフィルタ（図示省略）を備え、ＦＯＵＰ１の搬送中に大気圧が変化してもＦＯＵＰ１の収縮や膨張を防ぐことができる。また、圧入部４１からパーティクルが内部空間５に侵入するのを防止する。
【００７３】
ＦＯＵＰ１が載置されるロードポート（図示省略）は、ガス供給部５１と強制排気部５３とを備えている。ガス供給部５１は、気体を所定の圧力で供給する機能を有する。気体としては、不活性ガス、例えば、窒素ガスが挙げられる。強制排気部５３は、真空ポンプや真空イジェクタ（Vacuum ejector）によって、内部空間５内の気体を強制的に排出する機能を有する。
【００７４】
ＦＯＵＰ１は、ガス供給部５１から窒素ガスを供給されるとともに、強制排気部５３により内部空間５の気体が排出される、いわゆる窒素ガスパージが行われることがある。この窒素ガスパージは、ＦＯＵＰ１内の基板Ｗが搬送される際に、水分やケミカルガスによる汚染から保護するために行われる。
【００７５】
このような窒素ガスパージを行う場合、上述した実施例１〜４は、内部空間５を仕切り板ＤＰ１〜４で仕切っているので、窒素ガスの使用量を低減することができる。
【００７６】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００７７】
（１）上述した各実施例１〜４では、第１の空間ＳＰ１と第２の空間ＳＰ２の二つに内部空間５を仕切ることを例示した。しかし、本発明は、二枚以上の仕切り板によって内部空間５を三つ以上に仕切るようにしてもよい。
【００７８】
（２）上述した各実施例１〜４及び第１〜第３変形例では、既存のＦＯＵＰ１に仕切り板を取り付けるように説明したが、複数の支持溝１３のうちのいずれかに代えて仕切り板を一体的に形成した支持部９を採用してもよい。これにより仕切り板の装着忘れによる基板の相互汚染を防止できる。
【符号の説明】
【００７９】
１ … ＦＯＵＰ
３ … 収容器本体
５ … 内部空間
７ … 開口部
９ … 支持部
１３ … 支持溝
１７ … 蓋
２１ … 板状部材
ＤＰ１ … 仕切り板
ＳＰ１ … 第１の空間
ＳＰ２ … 第２の空間
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の基板を収容する基板収容器において、
内部空間を有する収容器本体と、
前記収容器本体に形成され、前記内部空間に連通した開口部と、
前記収容器本体の内壁に設けられ、基板の端縁下面を当接支持する複数の支持溝と、
前記開口部に着脱自在の蓋と、
前記複数の支持溝に着脱自在に装着されて、前記内部空間を複数の雰囲気に仕切る仕切り板と、
を備えていることを特徴とする基板収容器。
【請求項２】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、ダミー基板であることを特徴とする基板収容器。
【請求項３】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項４】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、
前記板状部材は、内部空間の内壁に当接する端面と、内部空間の内壁から離間した端面とを備えていることを特徴とする基板収容器。
【請求項５】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、
前記板状部材は、周囲が内部空間の内壁に当接する端面を備えていることを特徴とする基板収容器。
【請求項６】
請求項３から５のいずれかに記載の基板収容器において、
前記板状部材は、縦断面形状が起伏状に構成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項７】
請求項３から５のいずれかに記載の基板収容器において、
前記板状部材は、平面視で中心部に一つの貫通穴が形成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項８】
請求項３から５のいずれかに記載の基板収容器において、
前記板状部材は、平面視で中心領域に複数個の小さな貫通孔が形成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項９】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、複数枚の板状部材と、前記複数の支持溝の間隔で前記各板状部材を支持する支持部材とを備え、
前記複数枚の板状部材は、複数個の小さな貫通孔が形成されており、
前記複数個の小さな貫通孔は、平面視で、前記板状部材ごとに異なる領域に形成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の基板収容器において、
前記収容器本体は、前記内部空間の圧力と外部圧力とを一定に保つ機能を備えた吸入部と排気部とを備え、
前記吸入部から不活性ガスを圧入されるとともに、前記排気部から前記内部空間内の気体が強制的に排気されることを特徴とする基板収容器。
【請求項１】
複数枚の基板を収容する基板収容器において、
内部空間を有する収容器本体と、
前記収容器本体に形成され、前記内部空間に連通した開口部と、
前記収容器本体の内壁に設けられ、基板の端縁下面を当接支持する複数の支持溝と、
前記開口部に着脱自在の蓋と、
前記複数の支持溝に着脱自在に装着されて、前記内部空間を複数の雰囲気に仕切る仕切り板と、
を備えていることを特徴とする基板収容器。
【請求項２】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、ダミー基板であることを特徴とする基板収容器。
【請求項３】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項４】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、
前記板状部材は、内部空間の内壁に当接する端面と、内部空間の内壁から離間した端面とを備えていることを特徴とする基板収容器。
【請求項５】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、基板とは異なる板状部材で構成され、
前記板状部材は、周囲が内部空間の内壁に当接する端面を備えていることを特徴とする基板収容器。
【請求項６】
請求項３から５のいずれかに記載の基板収容器において、
前記板状部材は、縦断面形状が起伏状に構成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項７】
請求項３から５のいずれかに記載の基板収容器において、
前記板状部材は、平面視で中心部に一つの貫通穴が形成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項８】
請求項３から５のいずれかに記載の基板収容器において、
前記板状部材は、平面視で中心領域に複数個の小さな貫通孔が形成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項９】
請求項１に記載の基板収容器において、
前記仕切り板は、複数枚の板状部材と、前記複数の支持溝の間隔で前記各板状部材を支持する支持部材とを備え、
前記複数枚の板状部材は、複数個の小さな貫通孔が形成されており、
前記複数個の小さな貫通孔は、平面視で、前記板状部材ごとに異なる領域に形成されていることを特徴とする基板収容器。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の基板収容器において、
前記収容器本体は、前記内部空間の圧力と外部圧力とを一定に保つ機能を備えた吸入部と排気部とを備え、
前記吸入部から不活性ガスを圧入されるとともに、前記排気部から前記内部空間内の気体が強制的に排気されることを特徴とする基板収容器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１２−１９９３０２（Ｐ２０１２−１９９３０２Ａ）
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−６１１５５（Ｐ２０１１−６１１５５）
【出願日】平成２３年３月１８日（２０１１．３．１８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月１８日（２０１１．３．１８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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