塗布装置および塗布方法

【課題】スリットコートにおいて用いるノズルのスリット部などに異物が挟まっているか否かを、実際に塗布作業をしなくても検出することができるようにする。
【解決手段】塗布装置１は、基板２を保持するための基板保持部としてのステージ３と、前記基板保持部に保持された基板２に向けて所定の処理液を吐出するための開口部としての線状開口部５を有するノズルヘッドとしてのスリットノズルヘッド４と、このスリットノズルヘッド４を基板２の表面に対向させた状態で、線状開口部５の長手方向に垂直な方向に、スリットノズルヘッド４を基板２に対して相対的に移動させるための移動機構６と、線状開口部５内に異物が挟まっているか否かを検出するための異物検出装置７と、この異物検出装置７が前記異物を検出したときに、その検出情報を外部に出力する出力装置８とを備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置および塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置、表示パネルなどの製造現場においては、基板の表面に処理液を塗布する工程がしばしば行なわれる。処理液としては、たとえばエッチングのレジスト材などがありうる。塗布の際には所望の表面に均一に確実に塗布することが求められる。
【０００３】
一般的に、基板の表面に処理液を塗布する方式としては、基板を回転させることによって遠心力を利用して処理液を拡散させる「スピンコート」という方式が知られている。基板を回転させにくい場合には、スピンコートに代わって「スリットコート」という方式が用いられる場合がある。特に基板が大型化しつつある表示パネルなどの製造現場においては、スピンコートを行なうことは物理的に困難であるので、スリットコートがしばしば採用されている。スリットコートは、スピンコートと異なり、スリット状の開口部を有するバー状のノズルを用いる方式であり、基板表面に向けられたこの開口部から処理液を吐出しながらノズルを基板表面に沿って走行させるものである。このようにして基板表面をスキャンすることによって、処理液を基板表面の所定領域に塗布することができる。
【０００４】
スリットコートにおいては、基板は平坦な上面を有するステージに載せられた状態でノズルが基板表面に近接して走行することとなるが、基板とステージとの間に異物が挟まっている場合、その部分だけ基板が盛り上がることとなるので、ノズルが基板に衝突してしまい、ノズルまたは基板の破損の原因となる。また、基板の表面に異物が付着している場合、この異物が基板とノズルとの間に噛み込まれてノズルや基板が破損したり、破損にまで至らなくても塗布不良の原因になったりする。これらの問題を回避するために、たとえば特開２００２−１１９５号公報（特許文献１）に記載されているような技術が提案されている。さらに、特許文献１に記載の技術の欠点を補うものとして、特開２００７−１７３３８７号公報（特許文献２）、特開２００７−１７３５３１号公報（特許文献３）に記載されているような技術も提案されている。
【特許文献１】特開２００２−１１９５号公報
【特許文献２】特開２００７−１７３３８７号公報
【特許文献３】特開２００７−１７３５３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１〜３に記載の技術を以ってすれば、基板とステージとの間に異物が挟まっている場合や基板の表面に異物が付着している場合には対処することができるが、図１５に示すようにノズル９１のスリット開口部９２またはスリット開口部９２に連通するスリット空間９３に異物９４が挟まっている場合には対処することができない。このような場所に異物が挟まっている場合、ノズルの走行によって塗布された基板表面に、異物に妨害されて処理液が塗布されなかった部分が筋状に現れる。このようになった場合、その基板は塗布不良となってしまう。
【０００６】
しかも、ノズルのスリット開口部またはスリット空間（以下「スリット部」という。）に異物が挟まっているかどうかは、実際に塗布作業を行なってみなければ確認できず、基板を何枚も塗布作業ラインに流して塗布作業をしてみて、得られた基板における筋の出現の有無を確認して初めて異物の存在がわかるという状況であった。その場合、流し始めてから異状の発見までにタイムラグがあるため、その間に塗布作業が行なわれた複数枚の基板が塗布不良となってしまう。
【０００７】
この類の塗布不良は、点状ではなく線状に現れるので、損失が大きい。たとえば図１６に示すように、１枚の大判基板１５１から切断線１５４に沿って切断することで多数の表示パネルに相当する小基板を切り出そうとする場合、その大判基板１５１において処理液が塗布されない筋１５２が１本でも現れた場合、その列１５３に属する小基板は全て廃棄せざるを得なくなる。なお、図１６に示す大判基板１５１を側方から見たところを図１７に示す。
【０００８】
そこで、本発明は、スリットコートにおいて用いるノズルのスリット部に異物が挟まっているか否かを、実際に塗布作業をしなくても検出することができる塗布装置および、スリット部に挟まった異物に起因する筋の出現を防止することができる塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明に基づく塗布装置は、基板を保持するための基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板に向けて所定の処理液を吐出するための開口部を有するノズルヘッドと、前記ノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させるための移動機構と、前記開口部内に異物が挟まっているか否かを検出するための異物検出装置と、前記異物検出装置が前記異物を検出したときに、その検出情報を外部に出力する出力装置とを備える。
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に基づく塗布方法の第１の局面は、基板を保持し、開口部に連通する空間を有するノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させながら前記基板に向けて所定の処理液を吐出する第１工程と、前記空間内に異物が挟まっているか否かを検査する第２工程とを含み、前記第２工程は、もし異物を検出したときにはその検出情報を外部に出力するように検出装置を運用しながら行なうものであり、前記第２工程は、前記第１工程と並行して行なわれる。
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明に基づく塗布方法の第２の局面は、基板を保持し、開口部に連通する空間を有するノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させながら前記基板に向けて所定の処理液を吐出する第１工程と、前記空間内に異物が挟まっているか否かを検出するための検出装置を備え、前記ノズルヘッドを収容するためのヘッド収容ユニットに、前記ノズルヘッドを退避させる第２工程と、前記ヘッド収容ユニットに退避させた状態で、前記異物検出装置により前記空間内に異物が挟まっているか否かの検査を行なう第３工程と、前記ヘッド収容ユニットから前記第１工程の作業場所へ前記ノズルヘッドを移動させる第４工程とを含み、前記第１工程を一定回数繰り返すごとに、前記第２、第３、第４工程をこの順序に行なうことを繰り返す。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に基づく塗布装置では、スリット部などの異物有無を検査するための異物検出装置が備わっているので、実際に塗布作業をしなくてもスリット部などに挟まった異物の存在を検出することができる。
【００１３】
また、本発明に基づく塗布方法によれば、スリット部などに挟まった異物に起因する筋の出現を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（実施の形態１）
（構成）
図１〜図５を参照して、本発明に基づく実施の形態１における塗布装置について説明する。本実施の形態における塗布装置１の全体を図１に示す。この塗布装置１は、基板２を保持するための基板保持部としてのステージ３と、ステージ３に保持された基板２に向けて所定の処理液を吐出するための開口部としての線状開口部５を有するノズルヘッドとしてのスリットノズルヘッド４と、スリットノズルヘッド４を基板１の表面に対向させた状態で、線状開口部５の長手方向に垂直な方向に、スリットノズルヘッド４を基板１に対して相対的に移動させるための移動機構６と、線状開口部５内に異物が挟まっているか否かを検出するための異物検出装置７と、この異物検出装置７が前記異物を検出したときに、その検出情報を外部に出力する出力装置８とを備える。
【００１５】
これらの各部は基台２０の上に設置されている。移動機構６はスリットノズルヘッド４をスライドさせるレールを含んでいる。塗布装置１は、スリットノズルヘッド４が塗布作業を行なわないときに退避させておくための退避ユニット１４やスリットノズルヘッド４を洗浄するための洗浄ユニット１５をも備えている。この例では、退避ユニット１４および洗浄ユニット１５は、一体的な基台２０の上において、移動機構６によるスリットノズルヘッド４の移動経路の延長上にされている。退避ユニット１４は、スリットノズルヘッド４のスリットが乾燥することを防止するための構造を備えている。たとえばいわゆるシンナー置換を行なえるようになっている。「シンナー置換」とは、スリットノズルヘッド４のスリット内部に残存する処理液をシンナーで置き換えることをいう。スリット内部をシンナーで満たし、その状態を維持することによってスリットが乾燥することを防止することができる。
【００１６】
この例では、開口部は線状開口部であるものとしたが、線状以外の開口部、たとえば点状の開口部や網目状の開口部であっても本発明は適用できる。この例では、ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであるものとしたが、スリット状以外のノズルヘッドであっても本発明は適用できる。
【００１７】
この例では、ステージが静止していて移動機構がノズルヘッドを移動させる構造としたが、逆にノズルヘッドが静止していて移動機構がステージを移動させる構造であってもよい。あるいは、両方が移動する構造であってもよい。移動機構は、ステージ上の所望領域に対してノズルヘッドが相対的にスキャンできるように構成されていればよい。
【００１８】
本実施の形態では好ましいことに、開口部は線状開口部であり、ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであり、異物検出装置７は、スリットノズルヘッドの長手方向の一方の端に設けられた光源７ａと、他方の端に設けられた光検出装置７ｂとを含む。
【００１９】
この塗布装置における異物検出装置７と出力装置８との関係を模式的に図２に示す。異物検出装置７と出力装置８とは接続されている。この例では出力装置８は制御装置を兼ねており、異物検出装置７の光源７ａ、光検出装置７ｂの双方と接続されている。この例では図１に示したように出力装置８が基台２０の上面に設置されているものとしたが、出力装置８の大きさや設置態様はこれに限らない。
【００２０】
異物検出装置を設ける位置は図１、図２に示したものに限らない。本実施の形態では、あくまで一例として、異物検出装置がスリットノズルヘッド４の両端に配置されており、スリットノズルヘッド４とともに一体となって基板に対して相対的に移動するようになっているが、後述するように異物検出装置は別の位置に設けてもよい。
【００２１】
本実施の形態における塗布装置１において、スリットノズルヘッド４を単独で取り出したところを図３に示す。スリットノズルヘッド４の分解図を図４に示す。スリットノズルヘッド４は、部材４ａ，４ｂとシム板１０とを含んでいる。シム板１０はほぼコの字形をした板材であり、部材４ａ，４ｂはシム板１０を挟み込むようにして組み立てられる。したがって、シム板１０の厚みによって線状開口部５のギャップの大きさが決められる。シム板１０の両端には光源７ａと光検出装置７ｂとが配置されている。実際には部材４ａ，４ｂの内側に向く面のうち少なくとも一方には処理液を導くための凹部が設けられているが、図示省略している。
【００２２】
スリットノズルヘッド４の概念図を図５に示す。部材４ａ，４ｂの間には、シム板１０の厚みによってスリット空間１１が形成されている。スリット空間の下端は、線状開口部５である。このスリット空間１１内に異物が挟まっていると上述のような問題が生じるのである。異物検出装置７はこのスリット空間１１内の異物を検出するためのものである。
【００２３】
図５に示すように光源７ａからはスリット空間１１に向けて光１２が発せられる。光検出装置７ｂはスリット空間１１を通ってきた光１２を受けるように配置されている。
【００２４】
（動作）
本実施の形態における塗布装置の動作について説明する。スリット部内の異物の検査のためには、処理液がスリット空間１１に入っていない状態で、異物検出装置７の光源７ａからスリット空間１１に向けて光を発し、この光を光検出装置７ｂによって受ける。スリット空間１１内に異物がない場合に比べて、異物がある場合には、異物によって光が遮られることにより光検出装置７ｂで受ける光の量が小さくなる。この光の量の変化によって線状開口部５内またはスリット空間１１内すなわちスリット部内に異物が存在することを検出することができる。
【００２５】
（作用・効果）
本実施の形態における塗布装置では、異物検出装置が備わっているので、実際に塗布作業をしなくてもスリット空間を通した光の授受によってスリット部に挟まった異物の存在を検出することができる。もし異物を検出した場合には、スリットノズルヘッドのクリーニング作業を行なった後に再び異物検出装置による検査作業を行なえばよい。異物検出装置７による検査を行なっても異物の存在が検出されなくなるまでクリーニング作業は繰り返すべきである。このようにすることで、不良品を生産することなく、確実にスリット部の異物を排除することができる。
【００２６】
図５に示した例では、光源７ａ，光検出装置７ｂの各々の一部がシム板１０の途中に割り込んだ構成となっていたが、図６に示すように光源７ａ，光検出装置７ｂはシム板１０の下端に取り付けることとしてもよい。
【００２７】
（実施の形態２）
（構成）
図７、図８を参照して、本発明に基づく実施の形態２における塗布装置について説明する。本実施の形態における塗布装置は基本的には実施の形態１で説明したものと同様であるが、異物検出装置が異なる。図７に示すように、本実施の形態における塗布装置１ｈは異物検出装置７ｉを備える。この異物検出装置７ｉは、スリットノズルヘッド４の長手方向の一方の端に設けられた音波発振源７ｃと、他方の端に設けられた音波検出装置７ｄとを含む。図８に示すように、音波発振源７ｃはスリット空間１１に向けて音波１３を発することができ、音波検出装置７ｄはスリット空間１１を通ってきた音波１３を受けるように配置されている。
【００２８】
（作用・効果）
本実施の形態における塗布装置では、異物検出装置が備わっているので、実際に塗布作業をしなくてもスリット空間を通した音波の授受によってスリット間の異物の存在を検出することができる。もし異物を検出した場合の対処方法および効果は実施の形態１で述べたのと同様である。
【００２９】
本実施の形態では、光ではなく音波によって異物の検出を行なうので、異物検出装置をスリット空間１１に直接露出させない構成とすることもできる。たとえば図８に示すように、音波発振源７ｃおよび音波検出装置７ｄはシム板１０の外側に配置してもよい。このようにしても音波はシム板１０を通して伝わることができるので、異物の検出をすることができる。本実施の形態によれば、シム板に加工を施さなくても異物検出装置を取り付けられるので好都合である。
【００３０】
（実施の形態３）
（構成）
図９〜図１２を参照して、本発明に基づく実施の形態３における塗布装置について説明する。本実施の形態における塗布装置は基本的には実施の形態１で説明したものと同様であるが、異物検出装置が異なる。図９に示すように、本実施の形態における塗布装置１ｊは、基台２０上に検査ユニット１６を備える。検査ユニット１６はスリットノズルヘッドを収容するためのヘッド収容ユニットの一種である。「ヘッド収容ユニット」とは、スリットノズルヘッドを完全に包み隠して収容することまでは必要でなく、スリットノズルヘッド４の先端部分すなわち線状開口部５が設けられている部分を受け入れる程度の構造のものであればよい。退避ユニット１４もヘッド収容ユニットの一種である。検査ユニット１６は、退避ユニット１４と兼用するものとしてもよいが、ここでは別のものとして設置した例を示している。
【００３１】
図９に示すように、本実施の形態における塗布装置１ｊは、基板２に対する処理液の塗布作業を行なわないときにスリットノズルヘッド４を収容するためのヘッド収容ユニットとしての検査ユニット１６を備え、異物検出装置７ｊは、このヘッド収容ユニットに設置されている。
【００３２】
スリットノズルヘッド４が検査ユニット１６に収容され、線状開口部５と異物検出装置７ｊとが対向する様子を図１０に横断面図で示す。スリットノズルヘッド４と異物検出装置７ｊとだけを取り出して位置関係を図１１に示す。異物検出装置７ｊおよび光源移動機構１７だけを取り出して図１２に概念的に示す。
【００３３】
異物検出装置７ｊは、線状開口部５の内部に向けて光１２を照射する光源７ｊａと、線状開口部５の内部から反射して返ってくる光を検出するための光検出装置７ｊｂとを含む。異物検出装置７ｊは、検査ユニット１６内においてスリットノズルヘッド４に対向して配置されており、スリットノズルヘッド４の長手方向に沿って走行することができる。本実施の形態における塗布装置では、線状開口部５の内部に向けて光源７ｊａから光１２を照射し、線状開口部５の内部から反射して返ってくる光を光検出装置７ｊｂを受けてその光量の変化を監視することによってスリット部内の異物の有無を検査することができる。
【００３４】
本実施の形態における塗布装置１ｊは、異物検出装置を備えるヘッド収容ユニットにおいて光源７ｊａを線状開口部５に沿って走査させるための光源移動機構１７（図１２参照）を備えることが好ましい。光源移動機構は光源のみを移動させるためのものではなく、図１２に示した例のように光検出装置も含めた異物検出装置を移動させるためのものであることが好ましい。図１２に示した例では、光源移動機構１７はレール状のものとなっているが、光源移動機構は他の形態のものであってもよい。光源７ｊａによる照射および光検出装置７ｊｂによる受光を行ないながら異物検出装置７ｊをスリットノズルヘッド４の長手方向に沿って走行させれば、細長く延在するスリット部の全体にわたって異物の有無を検出することができる。
【００３５】
（作用・効果）
本実施の形態における塗布装置では、検査ユニット１６に異物検出装置７ｊが備わっているので、実際に塗布作業をしなくても、スリットノズルヘッド４を検査ユニット１６へと移動させ、異物検出装置７ｊによる検査を行なうことによってスリット部の異物の存在を検出することができる。もし異物を検出した場合の対処方法および効果は実施の形態１で述べたのと同様である。
【００３６】
本実施の形態では、異物検出装置７ｊは小型の装置がスリットノズルヘッド４の長手方向に沿って走行するものとしたが、異物検出装置をスリットノズルヘッド４と同様の長い装置として、走行しなくてもスリットノズルヘッド４の全体に向けて一括して光を照射することができるようにしてもよい。その場合、異物検出装置を走行させなくても迅速に異物の有無の検査を行なうことができる。
【００３７】
なお、本実施の形態の塗布装置において、異物検出装置は、ノズルヘッドに向けて音波を発する音波発振源と、ノズルヘッドから反射して返ってくる音波を検出するための音波検出装置とを含むものであってもよい。この場合、光の照射および受光の代わりに音波の発振および受信によって異物の有無を検査することができる。異物の探査に光を用いた場合、光は正確に線状開口部５の内部に照射する必要があり、線状開口部５の中に入ることなく縁の部分に当たって反射して戻ってくる光はノイズの原因となる。しかし、スリット部の異物の探査に音波を使用した場合、音波は、直接的に線状開口部５の内部に入らなくてもスリットノズルヘッドの部材を通じてスリット空間内にまで到達することができるので、音波を使用した方が好都合である場合がある。この場合も、異物検出装置は小型の装置がスリットノズルヘッドの長手方向に沿って走行するものとしたが、異物検出装置をスリットノズルヘッドと同様の長い装置として、走行しなくてもスリットノズルヘッド４の全体に向けて音波を発することができるようにしてもよい。
【００３８】
上述したように、検査ユニット１６は、退避ユニット１４と兼用するものとしてもよい。すなわち、異物検出装置を設置するヘッド収容ユニットは退避ユニットであってもよい。
【００３９】
（実施の形態４）
（方法）
図１３を参照して、本発明に基づく実施の形態４における塗布方法について説明する。本実施の形態における塗布方法で用いる塗布装置は実施の形態１〜３のいずれかで説明したものであってよい。
【００４０】
本実施の形態における塗布方法は、基板を保持し、開口部に連通する空間を有するノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させながら前記基板に向けて所定の処理液を吐出する第１工程Ｓ１と、前記空間内に異物が挟まっているか否かを検査する第２工程Ｓ２とを含み、第２工程Ｓ２は、もし異物を検出したときにはその検出情報を外部に出力するように検出装置を運用しながら行なうものであり、第２工程Ｓ２は、第１工程Ｓ１と並行して行なわれる。
【００４１】
前記開口部は線状開口部であってよく、ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであってよく、前記異物検出装置は、前記スリットノズルヘッドの長手方向の一方の端に設けられた光源と、他方の端に設けられた光検出装置とを含むものであってもよい。
【００４２】
あるいは、前記開口部は線状開口部であってよく、ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであってよく、前記異物検出装置は、前記スリットノズルヘッドの長手方向の一方の端に設けられた音波発振源と、他方の端に設けられた音波検出装置とを含むものであってもよい。
【００４３】
（作用・効果）
本実施の形態における塗布方法によれば、基板に向けて処理液を吐出する第１工程を行いながら並行して、スリット部などの異物有無を検査する第２工程を行なうことができるので、スリット部などに異物が挟まったとしても迅速に発見することができ、スリット部などに挟まった異物に起因する筋の出現を防止することができる。
【００４４】
（実施の形態５）
（方法）
図１４を参照して、本発明に基づく実施の形態５における塗布方法について説明する。本実施の形態における塗布方法で用いる塗布装置は実施の形態１〜３のいずれかで説明したものであってよい。
【００４５】
本実施の形態における塗布方法は、基板を保持し、開口部に連通する空間を有するノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させながら前記基板に向けて所定の処理液を吐出する第１工程Ｓ１と、前記空間内に異物が挟まっているか否かを検出するための検出装置を備え、前記ノズルヘッドを収容するためのヘッド収容ユニットに、前記ノズルヘッドを前記ヘッド収容ユニットに退避させる第２工程Ｓ１１と、前記ヘッド収容ユニットに退避させた状態で、前記異物検出装置により前記空間内に異物が挟まっているか否かの検査を行なう第３工程Ｓ２と、前記ヘッド収容ユニットから前記第１工程の作業場所へ前記ノズルヘッドを移動させる第４工程Ｓ１２とを含み、第１工程Ｓ１を一定回数繰り返すごとに、前記第２工程Ｓ１１、前記第３工程Ｓ２、前記第４工程Ｓ１２をこの順序に行なうことを繰り返す。
【００４６】
前記異物検出装置は、前記開口部の内部に向けて光を照射する光源と、前記開口部の内部から反射して返ってくる光を検出するための光検出装置とを含むものであってもよい。
【００４７】
あるいは、前記異物検出装置は、前記ノズルヘッドに向けて音波を発する音波発振源と、前記ノズルヘッドから反射して返ってくる音波を検出するための音波検出装置とを含むものであってもよい。
【００４８】
（作用・効果）
本実施の形態における塗布方法によれば、基板に向けて処理液を吐出する第１工程Ｓ１を一定回数繰り返すごとに、ヘッド収容ユニットにおいてスリット部などの異物有無を検査する第３工程Ｓ２を行なうことができるので、スリット部などに異物が挟まったとしても迅速に発見することができ、スリット部などに挟まった異物に起因する筋の出現を防止することができる。特に、本実施の形態における塗布方法の場合、スリット部などの異物有無の検査を行なう場所は作業場所ではなくヘッド収容ユニットであるので、作業場所に新たに検査装置を組み込む必要がない。既存の装置においてノズルヘッド内部に改造を施す必要もない。本実施の形態における塗布方法の場合、異物検査のためのヘッド収容ユニットを追加するだけで適用することができる。既存の装置があって、大規模な改造をしにくい場合であっても、本実施の形態における塗布方法は簡便に適用することができるので好都合である。
【００４９】
ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであってもよく、他の形状のノズルヘッドであっても本発明は適用可能である。開口部は線状開口部であってもよく、点状、網目状などの他の形状の開口部であっても本発明は適用可能である。
【００５０】
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明に基づく実施の形態１における塗布装置の全体の斜視図である。
【図２】本発明に基づく実施の形態１における塗布装置の異物検出装置と出力装置との関係の説明図である。
【図３】本発明に基づく実施の形態１における塗布装置のスリットノズルヘッドの斜視図である。
【図４】本発明に基づく実施の形態１における塗布装置のスリットノズルヘッドの分解図である。
【図５】本発明に基づく実施の形態１における塗布装置のスリットノズルヘッドの内部構造の概念図である。
【図６】本発明に基づく実施の形態１における塗布装置のスリットノズルヘッドの内部構造の変形例の概念図である。
【図７】本発明に基づく実施の形態２における塗布装置の全体の斜視図である。
【図８】本発明に基づく実施の形態２における塗布装置のスリットノズルヘッドの内部構造の概念図である。
【図９】本発明に基づく実施の形態３における塗布装置の全体の斜視図である。
【図１０】本発明に基づく実施の形態３における塗布装置の異物検出装置近傍の説明図である。
【図１１】本発明に基づく実施の形態３における塗布装置の異物検出装置の移動の様子の説明図である。
【図１２】本発明に基づく実施の形態３における塗布装置の異物検出装置および光源移動機構の説明図である。
【図１３】本発明に基づく実施の形態４における塗布方法のフローチャートである。
【図１４】本発明に基づく実施の形態５における塗布方法のフローチャートである。
【図１５】従来技術に基づく塗布装置においてスリット部に異物が挟まっている状態の説明図である。
【図１６】従来技術に基づく塗布装置において大判基板に処理液が塗布されない筋が現れた例の平面図である。
【図１７】従来技術に基づく塗布装置において大判基板に処理液が塗布されない筋が現れた例の断面図である。
【符号の説明】
【００５２】
１，１ｉ，１ｊ塗布装置、２基板、３ステージ、４スリットノズルヘッド、４ａ，４ｂ部材、５線状開口部、６移動機構、７，７ｉ，７ｊ異物検出装置、７ａ，７ｊａ光源、７ｂ，７ｊｂ光検出装置、７ｃ音波発振源、７ｄ音波検出装置、８出力装置、１０シム板、１１スリット空間、１２光、１３音波、１４退避ユニット、１５洗浄ユニット、１６検査ユニット、１７光源移動機構、２０基台、９１ノズル、９２スリット開口部、９３スリット空間、９４異物、１５１大判基板、１５２筋、１５３列、１５４切断線。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するための基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板に向けて所定の処理液を吐出するための開口部を有するノズルヘッドと、
前記ノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させるための移動機構と、
前記開口部内に異物が挟まっているか否かを検出するための異物検出装置と、
前記異物検出装置が前記異物を検出したときに、その検出情報を外部に出力する出力装置とを備える、塗布装置。
【請求項２】
前記開口部は線状開口部であり、前記ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであり、前記異物検出装置は、前記スリットノズルヘッドの長手方向の一方の端に設けられた光源と、他方の端に設けられた光検出装置とを含む、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記開口部は線状開口部であり、前記ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであり、前記異物検出装置は、前記スリットノズルヘッドの長手方向の一方の端に設けられた音波発振源と、他方の端に設けられた音波検出装置とを含む、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記基板に対する前記処理液の塗布作業を行なわないときに前記ノズルヘッドを収容するためのヘッド収容ユニットを備え、
前記異物検出装置は、前記ヘッド収容ユニットに設置されている、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記異物検出装置は、前記開口部の内部に向けて光を照射する光源と、前記開口部の内部から反射して返ってくる光を検出するための光検出装置とを含む、請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記異物検出装置は、前記ノズルヘッドに向けて音波を発する音波発振源と、前記ノズルヘッドから反射して返ってくる音波を検出するための音波検出装置とを含む、請求項４に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記ヘッド収容ユニットは退避ユニットである、請求項４から６のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記開口部は線状開口部であり、前記ヘッド収容ユニットにおいて前記光源を前記線状開口部に沿って走査させるための光源移動機構を備える、請求項５に記載の塗布装置。
【請求項９】
基板を保持し、開口部に連通する空間を有するノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させながら前記基板に向けて所定の処理液を吐出する第１工程と、
前記空間内に異物が挟まっているか否かを検査する第２工程とを含み、
前記第２工程は、もし異物を検出したときにはその検出情報を外部に出力するように検出装置を運用しながら行なうものであり、
前記第２工程は、前記第１工程と並行して行なわれる、塗布方法。
【請求項１０】
前記開口部は線状開口部であり、前記ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであり、前記異物検出装置は、前記スリットノズルヘッドの長手方向の一方の端に設けられた光源と、他方の端に設けられた光検出装置とを含む、請求項９に記載の塗布方法。
【請求項１１】
前記開口部は線状開口部であり、前記ノズルヘッドはスリットノズルヘッドであり、前記異物検出装置は、前記スリットノズルヘッドの長手方向の一方の端に設けられた音波発振源と、他方の端に設けられた音波検出装置とを含む、請求項９に記載の塗布方法。
【請求項１２】
基板を保持し、開口部に連通する空間を有するノズルヘッドを前記基板の表面に対向させた状態で、前記ノズルヘッドを前記基板に対して相対的に移動させながら前記基板に向けて所定の処理液を吐出する第１工程と、
前記空間内に異物が挟まっているか否かを検出するための検出装置を備え、前記ノズルヘッドを収容するためのヘッド収容ユニットに、前記ノズルヘッドを退避させる第２工程と、
前記ヘッド収容ユニットに退避させた状態で、前記異物検出装置により前記空間内に異物が挟まっているか否かの検査を行なう第３工程と、
前記ヘッド収容ユニットから前記第１工程の作業場所へ前記ノズルヘッドを移動させる第４工程とを含み、
前記第１工程を一定回数繰り返すごとに、前記第２、第３、第４工程をこの順序に行なうことを繰り返す、塗布方法。
【請求項１３】
前記異物検出装置は、前記開口部の内部に向けて光を照射する光源と、前記開口部の内部から反射して返ってくる光を検出するための光検出装置とを含む、請求項１２に記載の塗布方法。
【請求項１４】
前記異物検出装置は、前記ノズルヘッドに向けて音波を発する音波発振源と、前記ノズルヘッドから反射して返ってくる音波を検出するための音波検出装置とを含む、請求項１２に記載の塗布方法。

【図１】