撮像装置及び撮像方法
【課題】 複数の測定光を被検査物に照射する撮像装置において、測定光の走査領域を制御性良くすることが好ましい。
【解決手段】 本発明に係る撮像装置は、複数の測定光の走査領域が重複する領域である重複領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する変更部（ファイバ端の位置調整器１１５や複数の測定光を走査する走査部１０３など）を有する。
【解決手段】 本発明に係る撮像装置は、複数の測定光の走査領域が重複する領域である重複領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する変更部（ファイバ端の位置調整器１１５や複数の測定光を走査する走査部１０３など）を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置及び撮像方法に関し、特に、複数の測定光を用いて被検査物を撮像する撮像装置及び撮像方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、低コヒーレンス光による干渉を利用した光干渉断層計（ＯＣＴ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）を用いて被検査物の断層画像（以下、光干渉断層画像とも呼ぶ。）を撮る撮像装置（以下、ＯＣＴ装置とも呼ぶ。）が、医療分野、特に眼科領域で用いられている。ＯＣＴ装置は、光の性質を利用するため、光の波長のオーダーであるマイクロメートル程度の高分解能で断層画像を取得することができる。
【０００３】
眼底などの被検眼を測定する場合、測定中に被験者の動きや瞬き、あるいはランダムに微動（固視微動）することがある。このため、ＯＣＴ装置で取得した被検眼の断層画像が歪んでしまうという課題がある。
【０００４】
ここで、瞳の３次元構造を高速に取得するために、複数の測定光を瞳（前眼部）に照射するＯＣＴ装置が、特許文献１に開示されている。測定光１つあたりの走査領域を狭くすることができるため、３次元構造を高速に撮像することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００８−５０８０６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このとき、複数の測定光を用いて被検眼を撮像する撮像装置において、使用者の簡便性の観点から、測定光の走査領域の制御性、特に、複数の測定光の走査領域が重複する領域である重複領域の大きさの制御性を良くすることが好ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する変更手段と、
を有することを特徴とする。
【０００８】
また、別の本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示手段により指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する変更手段と、
を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する走査工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１０】
また、別の本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する工程と、
を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
複数の測定光を用いて被検眼を撮像する撮像装置において、走査領域の大きさ、走査領域の中心間距離、走査領域の重複領域の大きさのうち少なくとも１つの値を設定することで、他の値を変更することができる。これにより、測定光の走査領域の大きさの制御性、特に、上記重複領域の大きさの制御性を良くすることができるので、使用者の簡便性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１の実施形態のＯＣＴ装置について説明するためのブロック図。
【図２】第１の実施形態のファイバ端の位置調整器について説明するための図。
【図３】第１の実施形態のセンサに結像される複数の光について説明するための図。
【図４】第１の実施形態のラスタースキャンについて説明するための図。
【図５】第１の実施形態の撮像方法について説明するためのフロー図。
【図６】第１の実施形態の光源の周波数特性とセンサの出力信号を説明するための図。
【図７】第２の実施形態のファイバ端の位置調整器について説明するための図。
【図８】第２の実施形態のラスタースキャンについて説明するための図。
【図９】第１の実施形態の画像合成を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に係る撮像装置は、複数の測定光の走査領域が重複する領域である重複領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更することができる。なお、上記走査領域の中心間距離は、被検眼などの被検査物における複数の測定光の照射位置間隔とも換言できる。上記走査領域の中心間距離の変更は、例えば、後述するファイバ端を移動させる移動部（ファイバ端の位置調整器１１５など）により実現することができる。また、上記走査領域の大きさの変更は、例えば、後述する複数の測定走を走査する走査部（走査角度を変更する走査ミラー１０３など）により実現することができる。また、本発明に係る撮像装置は、上記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更することができる。また、本発明に係る撮像装置は、上記走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更することができる。
【００１４】
以上により、複数の測定光を用いて被検査物を撮像する撮像装置において、測定光の走査領域を制御性良くすることができる。このとき、被検査物における全測定光の走査領域（全撮像範囲）を略一定にして、上記重複領域の大きさを変更するといった制御が可能となる。これは、例えば、被検眼の黄斑や視神経乳頭などの注目領域の大きさに応じて上記重複領域の大きさを変更できる。上記重複領域が上記注目領域になるように複数の測定光を走査すれば、該重複領域から取得した断層画像同士を平均化することで、該注目領域の高画質な断層画像を取得することができる。このとき、全撮像範囲を狭くしてしまうと、眼底全体における注目領域の位置などが分からなくなってしまう。また、全撮像範囲を広くしてしまうと、撮像時間が長くなり、被検眼の固視微動などにより撮像された画像が歪んでいる可能性が大きい。
【００１５】
なお、本発明の撮像装置は、使用者の簡便性の観点から、上記重複領域の大きさ、上記走査領域の中心間距離、上記走査領域の大きさのうち少なくとも１つを指示する指示部を有することが好ましい。このとき、本発明に係る撮像装置は、指示部の機能を有する画像（アイコンやスライダなど。表示部に表示されているカーソルによりクリックやドラッグされると、予め設定されている機能を動作させることが可能な形態であれば何でも良い。）をモニタなどの表示部に表示する表示制御部を有することが好ましい。なお、表示部は、装置と一体の形態でも良いし、装置と着脱可能な形態でも良いし、装置と有線や無線で通信可能な形態でも良い。
【００１６】
以下、本発明を実施するための形態について、図面を用いて説明する。
【００１７】
（第１の実施形態）
本実施形態の撮像装置について図１を用いて説明する。図１は、本実施形態のＯＣＴ装置について説明するためのブロック図である。ここでは、被検眼などの被検査物に照射する複数の測定光として、４つの測定光を用いるＯＣＴ装置について説明する。なお、図を簡略化するため、４つの測定光はまとめて１本の光線として描いている。また、本実施形態は、複数の測定光を伝送する際に、光ファイバを用いているが、本発明はこれに限らない。また、本実施形態は、ＳＤ−ＯＣＴであるが、本発明は他の種類のＯＣＴ（ＴＤ−ＯＣＴやＳＳ−ＯＣＴ）やＳＬＯなども適用することができる。
【００１８】
まず、光源１０１から出射した４本の光は、ビームスプリッタ１０２によって参照光１１２と測定光１１１とにそれぞれ分割される。ファイバ端（測定光を被検査物に照射する照射部とも呼ぶ。）の位置調整器１１５（ファイバ端の移動部とも呼ぶ。）により４本の測定光１１１を射出するファイバ端の位置が調整される。この後、測定光１１１はレンズ１１６を介してＸＹミラー１０３（走査部とも呼ぶ。）に照射される。ＸＹミラー１０３は、本装置全体の制御を司るＣＰＵの命令に応じて測定光１１１を観察対象である眼の眼底をラスタースキャンするように往復回転する。ＸＹミラー１０３で反射された４本の測定光１１１は、観察対象である眼１０５にそれぞれ照射される。眼１０５に照射された測定光１１１は、眼底での反射や散乱により戻り光１１３となって戻された後、レンズ１１６を介してビームスプリッタ１０２に照射され、ビームスプリッタ１０２によって、参照光１１２と合波されて４本の干渉光１１４（あるいは合成光とも呼ぶ。）となる。４本の干渉光１１４は、レンズ１１８を介して回折格子１０７に入射され、回折格子１０７によりそれぞれ分光され、レンズ１０８によりラインセンサ１０９上にそれぞれ結像される。ここでは、４本の光電変換素子列を有する４ラインセンサを用いるが、エリアセンサでも代用できる。ラインセンサ１０９で光電変換された４本の干渉光に対する４つの画像情報は、画像情報処理部１１０において、それぞれＡ／Ｄ変換された後、フーリエ変換される。更には、４つの画像情報を合成することにより、眼１０５の眼底の断層画像（光干渉断層画像とも呼ぶ。）を取得する。本実施形態では、眼底の１０ｍｍ四方の領域を上下左右に４分割し、それぞれの領域に測定光１１１を１本づつ照射することにより、１０ｍｍ四方の眼底を撮像する。
【００１９】
次に、光源１０１の周辺について説明する。光源１０１は代表的な低コヒーレント光源であるＳＬＤ（Ｓｕｐｅｒ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ）である。波長は８４０ｎｍ、バンド幅５０ｎｍである。ここで、バンド幅は、得られる断層画像の光軸方向の分解能に影響するため、重要なパラメータである。また、光源の種類は、ここではＳＬＤを選択したが、低コヒーレント光が出射できればよく、ＡＳＥ（Ａｍｐｌｉｆｉｅｄ Ｓｐｏｎｔａｎｅｏｕｓ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）等も用いることができる。また、光源の波長は眼を測定することを鑑みると、近赤外光が適している。更には、得られる断層像の横方向の分解能に影響するため、なるべく短波長であることが望ましい。そこで、ここでは、８４０ｎｍの波長を有する光源を使用する。観察対象の測定部位によっては、他の波長を選んでももちろん構わない。
【００２０】
また、ビームスプリッタ１０２によって分割された参照光１１２は、ミラー１０６により反射され、ビームスプリッタ１０２に戻る。この光路長を測定光１１１と同じ長さにすることにより、参照光と測定光を干渉させることができる。
【００２１】
ここで、測定光１１１の光路について説明する。図２はファイバ端の位置調整器１１５を説明するための図である。図２（ａ）は、ファイバ端の位置調整器１１５を光ファイバ端側から見た断面図である。２０２は４本の光である。４本の光ファイバ２０２は、それぞれファイバ固定部材２０３で固定されている。４本の光ファイバは２本ずつ、２組のファイバユニット２０１にまとめられた構成となっている。図２（ｂ）は、２本の光ファイバをまとめたファイバユニット２０１の断面図である。また、図２（ｃ）は、ファイバ端の位置調整器１１５を一点破線２０９を通り、光ファイバ２０２に対して平行に切りとった断面図である。図２（ｃ）に示すように、光ファイバ２０２を介してファイバ端の位置調整器１１５に入射された測定光１１１は、ファイバ端２０８からレンズ１１６に向かって照射される。また、ファイバ固定ユニット２０１は中央の壁２０４により２つの空間に分かれている。各空間にはファイバ固定部材２０３が収まっている。ファイバ固定部材２０３は、ファイバユニット２０１内の空間を左右方向に自由に移動できるような構成となっているが、ネジ２０６とバネ２０５の圧力により、空間内で固定されている。ネジ２０６には不示図のモータが接続されており、本装置を制御するＣＰＵからの命令により回転する。
【００２２】
また、図２（ａ）に示すように、ファイバ端の位置調整器１１５内は壁２０７により２つの空間に分かれており、２つのファイバユニット２０１は、ファイバ端の位置調整器１１５内の２つの空間にそれぞれ収まっている。ファイバユニット２０１は、ファイバ端の位置調整器１１５内の空間を上下方向に自由に移動できるような構成となっているが、ネジ２０６とバネ２０５の圧力により、空間内で固定されている。ネジ２０６には不示図のモータが接続されており、本装置を制御するＣＰＵからの命令により回転する。通常、４本の光ファイバ２０２は、ファイバ端の位置調整器１１５の中心２０８に対して、上下左右等間隔に配置されている。４本の光ファイバ２０２の間隔ｄは、ＣＰＵの命令により、ネジ２０６に接続されたモータを回転し、変更することが可能である。即ち、ファイバ端の位置調整器１１５により眼底上に照射される４つの測定光１１１の間隔を変更することが可能となっている。
【００２３】
ビームスプリッタ１０２によって分割された測定光１１１は、ＸＹミラー１０３のミラーに入射される。ここでは、図を簡略化するため、ＸＹミラー１０３は一つのミラーとして記したが、実際にはＸスキャン用ミラーとＹスキャン用ミラーとの２枚のミラーが近接して配置され、レンズ１０４を介して眼１０５の網膜上を光軸に垂直な方向にラスタースキャンするものでもよい。レンズ１０４は網膜上に測定光１１１を集光するものである。これらの光学系により、測定光１１１は眼１０５に入射すると、眼１０５の網膜からの反射や散乱により戻り光１１３となる。
【００２４】
図４は、眼底を４本の測定光１１１を用いてラスタースキャンする方法を説明する図である。図４（ａ）は、眼底の１０ｍｍ四方を上下左右に４つに分割し、４本の測定光１１１をそれぞれ眼底上で５ｍｍ幅でラスタースキャンする様子を示している。図中の４つの黒丸４０１は、各測定光がそれぞれの走査領域をラスタースキャンする上での中心を示している。つまり、ＸＹミラー１０３が基準位置、即ち回転の中心位置にいるときの測定光１１１の照射位置を示している。
【００２５】
ラスタースキャンする幅、即ち眼底上の走査領域は、ＸＹミラー１０３を回転する角度を本装置の制御を司るＣＰＵを介して変更することにより、容易に変更することが可能である。
【００２６】
図４（ｂ）は、ラスタースキャンの幅を７．５ｍｍに広げた場合の眼底上の走査領域を表わす図である。図中４０２で表わされる中心の領域は、４本の測定光が全て走査した領域を表わしており、面積は６．２５ｍｍ２となっている。また、４０３は２本づつの測定光が走査した領域を表わしており、面積は５０ｍｍ２。最終的には、４本の測定光で撮影した眼底像は、画像処理部１１０で合成されることになるが、４０２で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の４倍の情報量を持つことになり、ＳＮ比が向上することになる。同様に、４０３で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の２倍の情報量を持つことになる。
【００２７】
また、干渉光１１４は、回折格子１０７により分光される。この分光された光は、光源の中心波長やバンド幅と同じ波長条件で分光を行う。すなわち、図６（ａ）に示すように、周波数特性の光を、回折格子１０７、レンズ１０８を介してラインセンサ１０９の光電変換素子列１０９−１〜４（後述）に照射することになる。すると、図６（ｂ）に示すように、図６（ａ）の横軸である光の波長がラインセンサ１０９の光電変換素子列１０９−１〜４の０〜１０２３の画素位置（図６（ｂ）の横軸）となる。なお、１１７は、４本の干渉光１１４を回折格子１０７に入射する位置を固定するためのファイバ端の固定部である。
【００２８】
また、図３（ａ）は、ラインセンサ１０９に結像される４本の干渉光１１４の様子を説明する図である。ファイバ端固定部１１７には、４本の干渉光１１４をそれぞれ伝送するための４本の光ファイバが固定されている。ラインセンサ１０９は、４本の光電変換素子列１０９−１〜４を有している。ファイバ端固定部１１７に固定された光ファイバ１１７−１〜４から照射される干渉光１１４は、レンズ１１８、回折格子１０７、レンズ１０８を介し、それぞれ光電変換素子列１０９−１〜４上に結像される。
なお、上記各ユニット等の動作は図１に不図示のＣＰＵで制御されている。
【００２９】
測定光１１１のラスタースキャンの幅を広げることにより、中心領域の画質を向上させることが可能であることは既に説明した。更に、ファイバ端の位置調整器１１５により、測定光１１１の眼底上の照射位置間隔の変更を組み合わせることにより、撮像時間をあまり伸ばさずに画質向上を実現することも可能である。
【００３０】
図４（ｃ）は、ラスタースキャンの幅を５ｍｍから７．５ｍｍに広げたうえ、ファイバ端の位置調整器１１５により４つのファイバ端の位置を中心方向に縦横１．２５ ｍｍ移動した場合の眼底上の走査領域を表わす図である。図４（ｂ）と同様に、４０２で表わされた領域は、４本の測定光が全て走査した領域を表わし、面積は２５ｍｍ２となっている。また、４０３で表わされた領域は２本づつの測定光が走査した領域を表わし、面積は５０ｍｍ２となっている。
【００３１】
ラスタースキャンの幅は５ｍｍから７．５ｍｍに１．５倍に広げることにより、走査時間、即ち撮像時間は二乗である２．２５倍と長くなるが、４倍の情報量を持つ領域が全領域の１／４となり、高画質を求められる撮像には大変有効な撮像方法となる。
【００３２】
以上のような構成のＯＣＴ装置において本発明の動作を図５のフローチャートに従い説明する。ここでは、被測定者の眼底に対して検診用の撮像を行い、検診用の画像から疾患の可能性があると判断された場合に、より高画質な撮像を行う場合について説明する。
【００３３】
最初に、検診用の第一の撮像モードの設定を行う（ステップ５０１、以下Ｓ５０１）。即ち、図４（ａ）に示すように、眼底の１０ｍｍ四方を上下左右に４等分し、それぞれの領域を測定光１１１が重なり無く５ｍｍ四方をラスタースキャンするように、ファイバ端の位置調整器１１５、及びＸＹミラー１０３を設定・制御する。次に、Ｓ２０１で設定された第一の撮像モードにおいて、被測定者の眼底像を測定光１１１でラスタースキャンすることにより、眼底像を撮像する（Ｓ５０２）。続いて、画像処理部１１０において、４本のラインセンサ１０９出力をフーリエ変換、画像合成を行い、眼底の断層像を生成する（Ｓ５０３）。
【００３４】
Ｓ５０３で生成された眼底の断層像を、ディスプレイ等の表示装置に表示し、被測定者に目の疾患がある可能性があるか否かを判断する（Ｓ５０４）。ここでは、ディスプレイに表示された眼底の断層像を、医師が目視で確認することにより、疾患の可能性の有無を判断しても良いし、眼底の断層像をコンピュータで解析することにより疾患の可能性の有無を判断しても良い。Ｓ５０４で被測定者に眼底の疾患が無いと判断された場合には、測定は終了となる。また、Ｓ５０４で被測定者に眼底の疾患が有ると判断された場合には、詳細な撮像用の第２の撮像モードを設定する（Ｓ５０５）。即ち、ファイバ端の位置調整器１１５に接続された不図示のモータをＣＰＵを用いて制御し、ＸＹミラー１０３が基準位置、即ち回転の中心位置にいるときの測定光１１１の照射位置を変更する。具体的には、図４（ｂ）に示したように、４本の測定光１１１をそれぞれ上下左右方向ともに０．６２５ｍｍ中央方向に移動させる。
【００３５】
次に、ラスタースキャン幅を変更するために、ＸＹミラー１０３の回転角度を変更する。具体的には、各測定光１１１が眼底上でラスタースキャンする幅が６．２５ｍｍとなるようにＸＹミラー１０３を制御する設定を施す。ここでは、患者の眼底の疾患の疑いがある箇所が眼底像の中央にある場合を想定して説明したが、疾患の疑いがある箇所が眼底の中央に無い場合には、被測定者の目の向きを変更するときに用いる固視灯の位置を変更することにより対応すれば良い。次に、Ｓ５０５で設定されたモードにおいて、被測定者の眼底像を測定光１１１でラスタースキャンすることにより、眼底像を撮像する（Ｓ５０６）。続いて、画像処理部１１０において、４本のラインセンサ１０９出力をフーリエ変換、画像合成を行い、眼底の断層像を生成し（Ｓ５０７）、被測定者の眼底の撮像を終了する。
【００３６】
図９は、本実施形態における画像合成を説明するための図である。１１０２〜１１０５はで示した図４（ｃ）で示した走査領域１１０１を、各測定光１１１で走査する領域をそれぞれ下方向から見た状態を表わしている。ここで画像合成とは、各測定光１１１で撮像した領域を各画素ごとに加算平均することを意味している。１１０６は、１１０１の（Ａ）で表わされた領域の加算平均後の状態を示しており、１１０７は、１１０１の（Ｂ）で表わされた領域の加算平均後の状態を示している。つまり、Ｓ５０６での撮像は、Ｓ５０２での検診モードでの撮像に対して、図４（ｃ）に示すように中央部４０２の画像情報は４倍、４０３で示した領域は２倍の情報量となり、Ｓ５０７で生成される眼底の断層画像は、高画質な画像となる。
【００３７】
（第２の実施形態）
第１の実施形態では、２×２＝４本の測定光を用いて眼底の断層画像を撮る撮像方法であった。一方、本実施形態では、３×３＝９本の測定光により眼底の断層画像を撮る撮像方法である。図８は、眼底を９本の測定光１１１を用いたラスタースキャンを説明する図である。図８（ａ）は、眼底の１０ｍｍ四方を上下左右に９つに分割し、９本の測定光１１１をそれぞれ眼底上で３．３ｍｍ幅でラスタースキャンする様子を示している。図中の９つの黒丸８０１は、各測定光がそれぞれの走査領域をラスタースキャンする上での中心を示している。つまり、ＸＹミラー１０３が基準位置、即ち回転の中心位置にいるときの測定光１１１の照射位置を示している。
【００３８】
図８（ｂ）は、ラスタースキャンの幅を５ｍｍに広げた場合の眼底上の走査領域を表わす図である。図中８０２で表わされる中心の領域は、９本の測定光の内、４本の測定光が走査した領域を表わし、面積は２５ｍｍ２となっている。また、８０３は２本の測定光が走査した領域を表わし、面積は５０ｍｍ２となっている。最終的には、９本の測定光で撮影した眼底像は、画像処理部１１０で合成されることになるが、８０２で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の４倍の情報量を持つことになり、ＳＮ比が向上することになる。同様に、８０３で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の２倍の情報量を持つことになる。
【００３９】
ラスタースキャンの幅は３．３ｍｍから５ｍｍに１．５倍に広げることにより、走査時間、即ち撮像時間は二乗である２．２５倍と長くなるが、４倍の情報量を持つ領域が全領域の１／４となり、高画質を求められる撮像には大変有効な撮像方法となる。
【００４０】
なお、上記実施形態では、ファイバ端の位置調整器１１５を、図７に示すように、９本のファイバ端を調整できる機構としている。また、センサの構成も、図３（ｂ）に示すように、３ラインセンサーの３つの光電変換素子列にそれぞれ３つの分光された干渉光を並べて照射する構成としている。なお、ブロック図や動作シーケンスなどについては、測定光の本数によって何ら変更する必要がないため、ここでは説明を省略する。
【００４１】
（その他の実施形態）
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。
【符号の説明】
【００４２】
１０１ 光源
１０３ ＸＹミラー
１０５ 眼
１０６ ミラー
１０７ 回折格子
１０９ ラインセンサ
１１０ 画像情報処理部
１１１ 測定光
１１２ 参照光
１１３ 戻り光
１１４ 干渉光
１１５ ファイバ端の位置調整器
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置及び撮像方法に関し、特に、複数の測定光を用いて被検査物を撮像する撮像装置及び撮像方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、低コヒーレンス光による干渉を利用した光干渉断層計（ＯＣＴ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）を用いて被検査物の断層画像（以下、光干渉断層画像とも呼ぶ。）を撮る撮像装置（以下、ＯＣＴ装置とも呼ぶ。）が、医療分野、特に眼科領域で用いられている。ＯＣＴ装置は、光の性質を利用するため、光の波長のオーダーであるマイクロメートル程度の高分解能で断層画像を取得することができる。
【０００３】
眼底などの被検眼を測定する場合、測定中に被験者の動きや瞬き、あるいはランダムに微動（固視微動）することがある。このため、ＯＣＴ装置で取得した被検眼の断層画像が歪んでしまうという課題がある。
【０００４】
ここで、瞳の３次元構造を高速に取得するために、複数の測定光を瞳（前眼部）に照射するＯＣＴ装置が、特許文献１に開示されている。測定光１つあたりの走査領域を狭くすることができるため、３次元構造を高速に撮像することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００８−５０８０６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このとき、複数の測定光を用いて被検眼を撮像する撮像装置において、使用者の簡便性の観点から、測定光の走査領域の制御性、特に、複数の測定光の走査領域が重複する領域である重複領域の大きさの制御性を良くすることが好ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する変更手段と、
を有することを特徴とする。
【０００８】
また、別の本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示手段により指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する変更手段と、
を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する走査工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１０】
また、別の本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する工程と、
を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
複数の測定光を用いて被検眼を撮像する撮像装置において、走査領域の大きさ、走査領域の中心間距離、走査領域の重複領域の大きさのうち少なくとも１つの値を設定することで、他の値を変更することができる。これにより、測定光の走査領域の大きさの制御性、特に、上記重複領域の大きさの制御性を良くすることができるので、使用者の簡便性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１の実施形態のＯＣＴ装置について説明するためのブロック図。
【図２】第１の実施形態のファイバ端の位置調整器について説明するための図。
【図３】第１の実施形態のセンサに結像される複数の光について説明するための図。
【図４】第１の実施形態のラスタースキャンについて説明するための図。
【図５】第１の実施形態の撮像方法について説明するためのフロー図。
【図６】第１の実施形態の光源の周波数特性とセンサの出力信号を説明するための図。
【図７】第２の実施形態のファイバ端の位置調整器について説明するための図。
【図８】第２の実施形態のラスタースキャンについて説明するための図。
【図９】第１の実施形態の画像合成を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に係る撮像装置は、複数の測定光の走査領域が重複する領域である重複領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更することができる。なお、上記走査領域の中心間距離は、被検眼などの被検査物における複数の測定光の照射位置間隔とも換言できる。上記走査領域の中心間距離の変更は、例えば、後述するファイバ端を移動させる移動部（ファイバ端の位置調整器１１５など）により実現することができる。また、上記走査領域の大きさの変更は、例えば、後述する複数の測定走を走査する走査部（走査角度を変更する走査ミラー１０３など）により実現することができる。また、本発明に係る撮像装置は、上記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更することができる。また、本発明に係る撮像装置は、上記走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更することができる。
【００１４】
以上により、複数の測定光を用いて被検査物を撮像する撮像装置において、測定光の走査領域を制御性良くすることができる。このとき、被検査物における全測定光の走査領域（全撮像範囲）を略一定にして、上記重複領域の大きさを変更するといった制御が可能となる。これは、例えば、被検眼の黄斑や視神経乳頭などの注目領域の大きさに応じて上記重複領域の大きさを変更できる。上記重複領域が上記注目領域になるように複数の測定光を走査すれば、該重複領域から取得した断層画像同士を平均化することで、該注目領域の高画質な断層画像を取得することができる。このとき、全撮像範囲を狭くしてしまうと、眼底全体における注目領域の位置などが分からなくなってしまう。また、全撮像範囲を広くしてしまうと、撮像時間が長くなり、被検眼の固視微動などにより撮像された画像が歪んでいる可能性が大きい。
【００１５】
なお、本発明の撮像装置は、使用者の簡便性の観点から、上記重複領域の大きさ、上記走査領域の中心間距離、上記走査領域の大きさのうち少なくとも１つを指示する指示部を有することが好ましい。このとき、本発明に係る撮像装置は、指示部の機能を有する画像（アイコンやスライダなど。表示部に表示されているカーソルによりクリックやドラッグされると、予め設定されている機能を動作させることが可能な形態であれば何でも良い。）をモニタなどの表示部に表示する表示制御部を有することが好ましい。なお、表示部は、装置と一体の形態でも良いし、装置と着脱可能な形態でも良いし、装置と有線や無線で通信可能な形態でも良い。
【００１６】
以下、本発明を実施するための形態について、図面を用いて説明する。
【００１７】
（第１の実施形態）
本実施形態の撮像装置について図１を用いて説明する。図１は、本実施形態のＯＣＴ装置について説明するためのブロック図である。ここでは、被検眼などの被検査物に照射する複数の測定光として、４つの測定光を用いるＯＣＴ装置について説明する。なお、図を簡略化するため、４つの測定光はまとめて１本の光線として描いている。また、本実施形態は、複数の測定光を伝送する際に、光ファイバを用いているが、本発明はこれに限らない。また、本実施形態は、ＳＤ−ＯＣＴであるが、本発明は他の種類のＯＣＴ（ＴＤ−ＯＣＴやＳＳ−ＯＣＴ）やＳＬＯなども適用することができる。
【００１８】
まず、光源１０１から出射した４本の光は、ビームスプリッタ１０２によって参照光１１２と測定光１１１とにそれぞれ分割される。ファイバ端（測定光を被検査物に照射する照射部とも呼ぶ。）の位置調整器１１５（ファイバ端の移動部とも呼ぶ。）により４本の測定光１１１を射出するファイバ端の位置が調整される。この後、測定光１１１はレンズ１１６を介してＸＹミラー１０３（走査部とも呼ぶ。）に照射される。ＸＹミラー１０３は、本装置全体の制御を司るＣＰＵの命令に応じて測定光１１１を観察対象である眼の眼底をラスタースキャンするように往復回転する。ＸＹミラー１０３で反射された４本の測定光１１１は、観察対象である眼１０５にそれぞれ照射される。眼１０５に照射された測定光１１１は、眼底での反射や散乱により戻り光１１３となって戻された後、レンズ１１６を介してビームスプリッタ１０２に照射され、ビームスプリッタ１０２によって、参照光１１２と合波されて４本の干渉光１１４（あるいは合成光とも呼ぶ。）となる。４本の干渉光１１４は、レンズ１１８を介して回折格子１０７に入射され、回折格子１０７によりそれぞれ分光され、レンズ１０８によりラインセンサ１０９上にそれぞれ結像される。ここでは、４本の光電変換素子列を有する４ラインセンサを用いるが、エリアセンサでも代用できる。ラインセンサ１０９で光電変換された４本の干渉光に対する４つの画像情報は、画像情報処理部１１０において、それぞれＡ／Ｄ変換された後、フーリエ変換される。更には、４つの画像情報を合成することにより、眼１０５の眼底の断層画像（光干渉断層画像とも呼ぶ。）を取得する。本実施形態では、眼底の１０ｍｍ四方の領域を上下左右に４分割し、それぞれの領域に測定光１１１を１本づつ照射することにより、１０ｍｍ四方の眼底を撮像する。
【００１９】
次に、光源１０１の周辺について説明する。光源１０１は代表的な低コヒーレント光源であるＳＬＤ（Ｓｕｐｅｒ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ）である。波長は８４０ｎｍ、バンド幅５０ｎｍである。ここで、バンド幅は、得られる断層画像の光軸方向の分解能に影響するため、重要なパラメータである。また、光源の種類は、ここではＳＬＤを選択したが、低コヒーレント光が出射できればよく、ＡＳＥ（Ａｍｐｌｉｆｉｅｄ Ｓｐｏｎｔａｎｅｏｕｓ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）等も用いることができる。また、光源の波長は眼を測定することを鑑みると、近赤外光が適している。更には、得られる断層像の横方向の分解能に影響するため、なるべく短波長であることが望ましい。そこで、ここでは、８４０ｎｍの波長を有する光源を使用する。観察対象の測定部位によっては、他の波長を選んでももちろん構わない。
【００２０】
また、ビームスプリッタ１０２によって分割された参照光１１２は、ミラー１０６により反射され、ビームスプリッタ１０２に戻る。この光路長を測定光１１１と同じ長さにすることにより、参照光と測定光を干渉させることができる。
【００２１】
ここで、測定光１１１の光路について説明する。図２はファイバ端の位置調整器１１５を説明するための図である。図２（ａ）は、ファイバ端の位置調整器１１５を光ファイバ端側から見た断面図である。２０２は４本の光である。４本の光ファイバ２０２は、それぞれファイバ固定部材２０３で固定されている。４本の光ファイバは２本ずつ、２組のファイバユニット２０１にまとめられた構成となっている。図２（ｂ）は、２本の光ファイバをまとめたファイバユニット２０１の断面図である。また、図２（ｃ）は、ファイバ端の位置調整器１１５を一点破線２０９を通り、光ファイバ２０２に対して平行に切りとった断面図である。図２（ｃ）に示すように、光ファイバ２０２を介してファイバ端の位置調整器１１５に入射された測定光１１１は、ファイバ端２０８からレンズ１１６に向かって照射される。また、ファイバ固定ユニット２０１は中央の壁２０４により２つの空間に分かれている。各空間にはファイバ固定部材２０３が収まっている。ファイバ固定部材２０３は、ファイバユニット２０１内の空間を左右方向に自由に移動できるような構成となっているが、ネジ２０６とバネ２０５の圧力により、空間内で固定されている。ネジ２０６には不示図のモータが接続されており、本装置を制御するＣＰＵからの命令により回転する。
【００２２】
また、図２（ａ）に示すように、ファイバ端の位置調整器１１５内は壁２０７により２つの空間に分かれており、２つのファイバユニット２０１は、ファイバ端の位置調整器１１５内の２つの空間にそれぞれ収まっている。ファイバユニット２０１は、ファイバ端の位置調整器１１５内の空間を上下方向に自由に移動できるような構成となっているが、ネジ２０６とバネ２０５の圧力により、空間内で固定されている。ネジ２０６には不示図のモータが接続されており、本装置を制御するＣＰＵからの命令により回転する。通常、４本の光ファイバ２０２は、ファイバ端の位置調整器１１５の中心２０８に対して、上下左右等間隔に配置されている。４本の光ファイバ２０２の間隔ｄは、ＣＰＵの命令により、ネジ２０６に接続されたモータを回転し、変更することが可能である。即ち、ファイバ端の位置調整器１１５により眼底上に照射される４つの測定光１１１の間隔を変更することが可能となっている。
【００２３】
ビームスプリッタ１０２によって分割された測定光１１１は、ＸＹミラー１０３のミラーに入射される。ここでは、図を簡略化するため、ＸＹミラー１０３は一つのミラーとして記したが、実際にはＸスキャン用ミラーとＹスキャン用ミラーとの２枚のミラーが近接して配置され、レンズ１０４を介して眼１０５の網膜上を光軸に垂直な方向にラスタースキャンするものでもよい。レンズ１０４は網膜上に測定光１１１を集光するものである。これらの光学系により、測定光１１１は眼１０５に入射すると、眼１０５の網膜からの反射や散乱により戻り光１１３となる。
【００２４】
図４は、眼底を４本の測定光１１１を用いてラスタースキャンする方法を説明する図である。図４（ａ）は、眼底の１０ｍｍ四方を上下左右に４つに分割し、４本の測定光１１１をそれぞれ眼底上で５ｍｍ幅でラスタースキャンする様子を示している。図中の４つの黒丸４０１は、各測定光がそれぞれの走査領域をラスタースキャンする上での中心を示している。つまり、ＸＹミラー１０３が基準位置、即ち回転の中心位置にいるときの測定光１１１の照射位置を示している。
【００２５】
ラスタースキャンする幅、即ち眼底上の走査領域は、ＸＹミラー１０３を回転する角度を本装置の制御を司るＣＰＵを介して変更することにより、容易に変更することが可能である。
【００２６】
図４（ｂ）は、ラスタースキャンの幅を７．５ｍｍに広げた場合の眼底上の走査領域を表わす図である。図中４０２で表わされる中心の領域は、４本の測定光が全て走査した領域を表わしており、面積は６．２５ｍｍ２となっている。また、４０３は２本づつの測定光が走査した領域を表わしており、面積は５０ｍｍ２。最終的には、４本の測定光で撮影した眼底像は、画像処理部１１０で合成されることになるが、４０２で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の４倍の情報量を持つことになり、ＳＮ比が向上することになる。同様に、４０３で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の２倍の情報量を持つことになる。
【００２７】
また、干渉光１１４は、回折格子１０７により分光される。この分光された光は、光源の中心波長やバンド幅と同じ波長条件で分光を行う。すなわち、図６（ａ）に示すように、周波数特性の光を、回折格子１０７、レンズ１０８を介してラインセンサ１０９の光電変換素子列１０９−１〜４（後述）に照射することになる。すると、図６（ｂ）に示すように、図６（ａ）の横軸である光の波長がラインセンサ１０９の光電変換素子列１０９−１〜４の０〜１０２３の画素位置（図６（ｂ）の横軸）となる。なお、１１７は、４本の干渉光１１４を回折格子１０７に入射する位置を固定するためのファイバ端の固定部である。
【００２８】
また、図３（ａ）は、ラインセンサ１０９に結像される４本の干渉光１１４の様子を説明する図である。ファイバ端固定部１１７には、４本の干渉光１１４をそれぞれ伝送するための４本の光ファイバが固定されている。ラインセンサ１０９は、４本の光電変換素子列１０９−１〜４を有している。ファイバ端固定部１１７に固定された光ファイバ１１７−１〜４から照射される干渉光１１４は、レンズ１１８、回折格子１０７、レンズ１０８を介し、それぞれ光電変換素子列１０９−１〜４上に結像される。
なお、上記各ユニット等の動作は図１に不図示のＣＰＵで制御されている。
【００２９】
測定光１１１のラスタースキャンの幅を広げることにより、中心領域の画質を向上させることが可能であることは既に説明した。更に、ファイバ端の位置調整器１１５により、測定光１１１の眼底上の照射位置間隔の変更を組み合わせることにより、撮像時間をあまり伸ばさずに画質向上を実現することも可能である。
【００３０】
図４（ｃ）は、ラスタースキャンの幅を５ｍｍから７．５ｍｍに広げたうえ、ファイバ端の位置調整器１１５により４つのファイバ端の位置を中心方向に縦横１．２５ ｍｍ移動した場合の眼底上の走査領域を表わす図である。図４（ｂ）と同様に、４０２で表わされた領域は、４本の測定光が全て走査した領域を表わし、面積は２５ｍｍ２となっている。また、４０３で表わされた領域は２本づつの測定光が走査した領域を表わし、面積は５０ｍｍ２となっている。
【００３１】
ラスタースキャンの幅は５ｍｍから７．５ｍｍに１．５倍に広げることにより、走査時間、即ち撮像時間は二乗である２．２５倍と長くなるが、４倍の情報量を持つ領域が全領域の１／４となり、高画質を求められる撮像には大変有効な撮像方法となる。
【００３２】
以上のような構成のＯＣＴ装置において本発明の動作を図５のフローチャートに従い説明する。ここでは、被測定者の眼底に対して検診用の撮像を行い、検診用の画像から疾患の可能性があると判断された場合に、より高画質な撮像を行う場合について説明する。
【００３３】
最初に、検診用の第一の撮像モードの設定を行う（ステップ５０１、以下Ｓ５０１）。即ち、図４（ａ）に示すように、眼底の１０ｍｍ四方を上下左右に４等分し、それぞれの領域を測定光１１１が重なり無く５ｍｍ四方をラスタースキャンするように、ファイバ端の位置調整器１１５、及びＸＹミラー１０３を設定・制御する。次に、Ｓ２０１で設定された第一の撮像モードにおいて、被測定者の眼底像を測定光１１１でラスタースキャンすることにより、眼底像を撮像する（Ｓ５０２）。続いて、画像処理部１１０において、４本のラインセンサ１０９出力をフーリエ変換、画像合成を行い、眼底の断層像を生成する（Ｓ５０３）。
【００３４】
Ｓ５０３で生成された眼底の断層像を、ディスプレイ等の表示装置に表示し、被測定者に目の疾患がある可能性があるか否かを判断する（Ｓ５０４）。ここでは、ディスプレイに表示された眼底の断層像を、医師が目視で確認することにより、疾患の可能性の有無を判断しても良いし、眼底の断層像をコンピュータで解析することにより疾患の可能性の有無を判断しても良い。Ｓ５０４で被測定者に眼底の疾患が無いと判断された場合には、測定は終了となる。また、Ｓ５０４で被測定者に眼底の疾患が有ると判断された場合には、詳細な撮像用の第２の撮像モードを設定する（Ｓ５０５）。即ち、ファイバ端の位置調整器１１５に接続された不図示のモータをＣＰＵを用いて制御し、ＸＹミラー１０３が基準位置、即ち回転の中心位置にいるときの測定光１１１の照射位置を変更する。具体的には、図４（ｂ）に示したように、４本の測定光１１１をそれぞれ上下左右方向ともに０．６２５ｍｍ中央方向に移動させる。
【００３５】
次に、ラスタースキャン幅を変更するために、ＸＹミラー１０３の回転角度を変更する。具体的には、各測定光１１１が眼底上でラスタースキャンする幅が６．２５ｍｍとなるようにＸＹミラー１０３を制御する設定を施す。ここでは、患者の眼底の疾患の疑いがある箇所が眼底像の中央にある場合を想定して説明したが、疾患の疑いがある箇所が眼底の中央に無い場合には、被測定者の目の向きを変更するときに用いる固視灯の位置を変更することにより対応すれば良い。次に、Ｓ５０５で設定されたモードにおいて、被測定者の眼底像を測定光１１１でラスタースキャンすることにより、眼底像を撮像する（Ｓ５０６）。続いて、画像処理部１１０において、４本のラインセンサ１０９出力をフーリエ変換、画像合成を行い、眼底の断層像を生成し（Ｓ５０７）、被測定者の眼底の撮像を終了する。
【００３６】
図９は、本実施形態における画像合成を説明するための図である。１１０２〜１１０５はで示した図４（ｃ）で示した走査領域１１０１を、各測定光１１１で走査する領域をそれぞれ下方向から見た状態を表わしている。ここで画像合成とは、各測定光１１１で撮像した領域を各画素ごとに加算平均することを意味している。１１０６は、１１０１の（Ａ）で表わされた領域の加算平均後の状態を示しており、１１０７は、１１０１の（Ｂ）で表わされた領域の加算平均後の状態を示している。つまり、Ｓ５０６での撮像は、Ｓ５０２での検診モードでの撮像に対して、図４（ｃ）に示すように中央部４０２の画像情報は４倍、４０３で示した領域は２倍の情報量となり、Ｓ５０７で生成される眼底の断層画像は、高画質な画像となる。
【００３７】
（第２の実施形態）
第１の実施形態では、２×２＝４本の測定光を用いて眼底の断層画像を撮る撮像方法であった。一方、本実施形態では、３×３＝９本の測定光により眼底の断層画像を撮る撮像方法である。図８は、眼底を９本の測定光１１１を用いたラスタースキャンを説明する図である。図８（ａ）は、眼底の１０ｍｍ四方を上下左右に９つに分割し、９本の測定光１１１をそれぞれ眼底上で３．３ｍｍ幅でラスタースキャンする様子を示している。図中の９つの黒丸８０１は、各測定光がそれぞれの走査領域をラスタースキャンする上での中心を示している。つまり、ＸＹミラー１０３が基準位置、即ち回転の中心位置にいるときの測定光１１１の照射位置を示している。
【００３８】
図８（ｂ）は、ラスタースキャンの幅を５ｍｍに広げた場合の眼底上の走査領域を表わす図である。図中８０２で表わされる中心の領域は、９本の測定光の内、４本の測定光が走査した領域を表わし、面積は２５ｍｍ２となっている。また、８０３は２本の測定光が走査した領域を表わし、面積は５０ｍｍ２となっている。最終的には、９本の測定光で撮影した眼底像は、画像処理部１１０で合成されることになるが、８０２で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の４倍の情報量を持つことになり、ＳＮ比が向上することになる。同様に、８０３で表わされた領域は、走査領域を広げずにラスタースキャンしたときの画像情報の２倍の情報量を持つことになる。
【００３９】
ラスタースキャンの幅は３．３ｍｍから５ｍｍに１．５倍に広げることにより、走査時間、即ち撮像時間は二乗である２．２５倍と長くなるが、４倍の情報量を持つ領域が全領域の１／４となり、高画質を求められる撮像には大変有効な撮像方法となる。
【００４０】
なお、上記実施形態では、ファイバ端の位置調整器１１５を、図７に示すように、９本のファイバ端を調整できる機構としている。また、センサの構成も、図３（ｂ）に示すように、３ラインセンサーの３つの光電変換素子列にそれぞれ３つの分光された干渉光を並べて照射する構成としている。なお、ブロック図や動作シーケンスなどについては、測定光の本数によって何ら変更する必要がないため、ここでは説明を省略する。
【００４１】
（その他の実施形態）
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。
【符号の説明】
【００４２】
１０１ 光源
１０３ ＸＹミラー
１０５ 眼
１０６ ミラー
１０７ 回折格子
１０９ ラインセンサ
１１０ 画像情報処理部
１１１ 測定光
１１２ 参照光
１１３ 戻り光
１１４ 干渉光
１１５ ファイバ端の位置調整器
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する変更手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示手段により指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する変更手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
前記走査領域の中心間距離の変更が、前記被検査物における前記複数の測定光の照射位置間隔の変更であることを特徴とする請求項１あるいは２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記照射手段が、前記複数の測定光を前記被検査物に射出する複数のファイバ端を有し、
前記変更手段が、前記複数のファイバ端を移動させる移動手段を有することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記走査手段が、走査ミラーを有し、
前記走査領域の大きさの変更が、前記走査手段の走査角度を変更することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記指示手段の機能を有する画像を表示手段に表示する表示制御手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
複数の測定光を照射した前記被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光と、をそれぞれ合成した複数の合成光に基づく該被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する走査工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項９】
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項１０】
複数の測定光を照射した前記被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光と、をそれぞれ合成した複数の合成光に基づく該被検査物の光干渉断層画像を取得する工程を含むことを特徴とする請求項８あるいは９に記載の撮像方法。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の撮像方法をコンピュータで実行するプログラム。
【請求項１】
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する変更手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段により指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示手段により指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する変更手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
前記走査領域の中心間距離の変更が、前記被検査物における前記複数の測定光の照射位置間隔の変更であることを特徴とする請求項１あるいは２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記照射手段が、前記複数の測定光を前記被検査物に射出する複数のファイバ端を有し、
前記変更手段が、前記複数のファイバ端を移動させる移動手段を有することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記走査手段が、走査ミラーを有し、
前記走査領域の大きさの変更が、前記走査手段の走査角度を変更することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記指示手段の機能を有する画像を表示手段に表示する表示制御手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
複数の測定光を照射した前記被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光と、をそれぞれ合成した複数の合成光に基づく該被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する走査工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の重複領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記重複領域の大きさに応じて前記走査領域の中心間距離あるいは該走査領域の大きさを変更する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項９】
複数の測定光を被検査物に照射する工程と、
前記複数の測定光を走査する工程と、
前記被検査物における前記複数の測定光の走査領域の中心間距離、あるいは該走査領域の大きさを指示する工程と、
前記指示された前記走査領域の中心間距離に応じて該走査領域の大きさを変更、あるいは該指示された該走査領域の大きさに応じて該走査領域の中心間距離を変更する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項１０】
複数の測定光を照射した前記被検査物からの複数の戻り光と、該複数の測定光にそれぞれ対応する複数の参照光と、をそれぞれ合成した複数の合成光に基づく該被検査物の光干渉断層画像を取得する工程を含むことを特徴とする請求項８あるいは９に記載の撮像方法。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の撮像方法をコンピュータで実行するプログラム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−２１２２０６（Ｐ２０１１−２１２２０６Ａ）
【公開日】平成２３年１０月２７日（２０１１．１０．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８２８１５（Ｐ２０１０−８２８１５）
【出願日】平成２２年３月３１日（２０１０．３．３１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月２７日（２０１１．１０．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月３１日（２０１０．３．３１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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