日焼け止め化粧料
【課題】光安定性に優れ、化粧料の安定性と優れた使用感を容易に確保できる日焼け止め化粧料の提供。
【解決手段】4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンと下記式（Ｉ）の特定油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。また、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルと下記式（Ｉ）の特定油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。
（Ｉ）
【解決手段】4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンと下記式（Ｉ）の特定油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。また、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルと下記式（Ｉ）の特定油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。
（Ｉ）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は日焼け止め化粧料に関する。さらに詳しくは、光暴露による紫外線吸収剤のＵＶ吸収能の低下を防ぎ、かつ化粧料の安定性と優れた使用感を容易に確保できる日焼け止め化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧料に紫外線吸収剤として配合されるジベンゾイルメタン誘導体は、光暴露による紫外線照射下でのＵＶ吸収能が低下する。この現象を抑制する光安定性を確保するため、ベンゾイルメタン誘導体と他の紫外線吸収剤であるα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレートとを併用する技術が開発されている（特許文献１）。
【０００３】
また、紫外線吸収剤の１，３，５−トリアジン誘導体とジベンゾイルメタン誘導体とを併用した化粧料においては、４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンが存在すると、紫外線照射により１，３，５−トリアジン誘導体が化学的に大きく劣化する。そのため、１，３，５−トリアジン誘導体とジベンゾイルメタン誘導体との光安定性を確保するため、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレートを併用する技術が開発されている（特許文献２）。
【０００４】
しかしながら、紫外線吸収剤の併用により紫外線吸収剤自体の光安定性を確保する技術には問題がある。なぜなら、紫外線吸収剤は化粧料基材である油分との相溶性が低く難溶のため、これを化粧料に安定配合するためには相溶性に優れた特定油分を多量に配合する必要が生じる。そして、そのような特定油分を多量に配合すると、化粧料の安定性（特に油中水型乳化化粧料の乳化安定性）の低下や使用感の低下を招く要因になってしまう。
【０００５】
一方、本発明に用いる式（Ｉ）の油分は、エモリエント剤として水中油型乳化化粧料に使用されている（特許文献３）。また、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルは周知の紫外線吸収剤であり、日焼け止め化粧料に配合されることが多い。
【０００６】
【特許文献１】特許第２９７５６８２号公報
【特許文献２】特許第３７１４６３２号公報
【特許文献３】米国特許第５３０２３７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者は上述した観点に鑑み、紫外線吸収剤の光安定性を確保する技術について鋭意研究を重ねた結果、光安定性の低い4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン及び／又はｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合した日焼け止め化粧料において、驚くべきことに、紫外線吸収剤を併用することなく単に特定の油分を配合することによって光安定性を確保できると同時に、化粧料としての安定性と使用感にも優れた日焼け止め化粧料を提供できることも見出し本発明を完成するに至った。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明は、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
【化１】
（Ｉ）
【０００９】
また、本発明は、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
【化２】
（Ｉ）
【００１０】
さらに、本発明は、前記日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分の配合量が日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
【化３】
（Ｉ）
【００１１】
また、本発明は、前記日焼け止め化粧料が、油中水型乳化化粧料であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
【００１２】
さらに、本発明は、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法を提供するものである。
【化４】
（Ｉ）
【００１３】
また、本発明は、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法を提供するものである。
【化５】
（Ｉ）
【発明の効果】
【００１４】
（１）本発明の日焼け止め化粧料は、特定油分との併用によって光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐことができる。光安定性に優れた日焼け止め化粧料である。
（２）本発明の日焼け止め化粧料は、紫外線吸収剤の併用により光安定性を確保する従来技術では困難となる化粧料自体の安定性と優れた使用感を容易に確保できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明について詳述する
＜紫外線吸収剤＞
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン及び／又はｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合する。
これらは周知の紫外線吸収剤でありいずれも市販品を使用できる。例えば4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンは「ＰＡＲＳＯＬ １７８９」（ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）が市販され、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルは「ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ」（ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）が市販されている。
【００１６】
その配合量は限定されず適宜決定される。通常、日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％である。
本発明では紫外線吸収剤を多量に配合してもその析出や臭い変化に対して安定である（即ち化粧料自体の安定性に優れている）ので、その配合量は６質量％〜３０質量％であっても好ましい。なお特許文献１での4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンの配合量は１〜５質量％に限定されている。
【００１７】
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンとｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルとを組み合わせて配合しても良い。その場合の配合量も、通常、日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％である。
上記以外の他の紫外線吸収剤を適宜配合しても良い。また、上記以外の他の紫外線吸収剤は配合する必要もない。配合する紫外線吸収剤は4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンのみ、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルのみであっても好ましい。
【００１８】
＜式（Ｉ）で示される油分＞
下記式（Ｉ）で示される油分は公知の化粧料油分である。化学名はトリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸である。この油分は、例えば特許文献３にてハンドローションやヘアコンディショナーにエモリエント剤として配合されている。本発明においては、紫外線吸収剤の光安定剤として顕著な効果を発揮する油分であり、この油分によって、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防いでいる。
Ｔｒｉｍｏｌｌｉｅｎｔ ＢＣ（ＣＲＯＤＡ）等の市販品を使用できる。
【化６】
（Ｉ）
【００１９】
上記の特定油分の配合量は限定されず適宜決定される。通常、日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％である。好ましくは１〜２０質量％であり、さらに好ましくは１〜１０質量％であり、最も好ましくは３〜７質量％である。この特定油分の配合量は多量である必要はない。したがって、本発明においては、特定油分の多量配合による化粧料の乳化安定性や使用感に及ぼす悪影響を排除できる。特に油中水型乳化化粧料の乳化安定性を確保し易い。
【００２０】
本発明の日焼け止め化粧料には、上記必須成分以外に、化粧料に通常用いられる成分、例えば、美白剤、保湿剤、酸化防止剤、油性成分、その他の紫外線吸収剤、界面活性剤、増粘剤、アルコール類、粉末成分、色剤、水性成分、水、各種皮膚栄養剤等を必要に応じて適宜配合して常法により製造することができる。例えば配合成分としては次のようなものが挙げられる。
【００２１】
アボカド油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、オリーブ油、ナタネ油、月見草油、ヒマシ油、ヒマワリ油、茶実油、コメヌカ油、ホホバ油、カカオ脂、ヤシ油、スクワレン、牛脂、モクロウ、ミツロウ、キャンデリラロウ、カルナバロウ、鯨ロウ、ラノリン、流動パラフィン、ポリオキシエチレン（８モル）オレイルアルコールエーテル、モノオレイン酸グリセリル、シクロメチコン、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンなどの油分。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、１，３−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル（エチルパラベン、ブチルパラベンなど）、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸（例えばラウロイルサルコシンナトリウム）、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンＡ及びその誘導体、ビタミンＢ６塩酸塩、ビタミンＢ６トリパルミテート、ビタミンＢ６ジオクタノエート、ビタミンＢ２及びその誘導体、ビタミンＢ１２、ビタミンＢ１５及びその誘導体などのビタミンＢ類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル（塩）、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンＣ類、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、ビタミンＥアセテート、ビタミンＥニコチネートなどのビタミンＥ類、ビタミンＤ類、ビタミンＨ、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ−オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸（塩）、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類（サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど）、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。
【００２２】
本発明の日焼け止め化粧料に配合される好ましい基剤は、デカメチルシクロペンタシロキサン、イソノナン酸イソノニル、ジメチルポリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、トリメチルシロキシケイ酸、流動パラフィン、スクワラン、イソオクタン酸セチル、イソオクタン酸トリグリセライド、コハク酸ジ２−エチルヘキシルの油分である。これらの油分の一種または二種以上を、式（Ｉ）で示される油分と共に配合されることが好ましい。本発明は、特にデカメチルシクロペンタシロキサンを主成分基剤とする日焼け止め化粧料に好ましく利用される。
【００２３】
本発明の日焼け止め化粧料は油中水型乳化化粧料（Ｗ／Ｏエマルジョン）であることが好ましく、日焼け止めクリーム、日焼け止めエマルジョン、日焼け止めローション等として好ましく使用できる。
【実施例】
【００２４】
実施例により本発明を具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。
配合量は特に断りのない限り質量％である。
【００２５】
「表１」に示す紫外線吸収剤を油分に溶解し、光照射して紫外線吸収特性の劣化を検討した。その結果を図１に示す。なお、測定のため比較例にて用いた油分は、各紫外線吸収剤との相溶性に優れた化粧料油分のイソヘキサデカンである。
【００２６】
［表１］
----------------------------------------
実施例１ 比較例１
----------------------------------------
Ａ ２．５質量％ ２．５質量％
Ｂ ５質量％ ５質量％
Ｃ ９２．５質量％ −
Ｄ − ９２．５質量％
----------------------------------------
＜紫外線吸収剤＞
Ａ：4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
Ｂ：ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシル
＜油分＞
Ｃ：式（Ｉ）の油分
Ｄ：イソヘキサデカン
【００２７】
「測定方法及び条件」
表１のサンプル５０μＬをナイロン製の膜（５×５ｃｍ）に均一に２ｍｇ／ｃｍ2の割合で塗布し、１５分放置後、分光光度計（Ｕ−３５００：日立製作所）により吸光度を測定した。測定後、ＳＵＮＴＥＳＴ ＸＬＳ＋（Ａｔｌａｓ社製）により紫外線を２ｈ照射（３９６０ｋＪ／ｍ2）して再度吸光度を測定した。
【００２８】
図１から実施例１では光暴露によってＵＶ吸収能の低下が顕著に抑制されていることが分かる。
【００２９】
次に本発明の日焼け止め化粧料を挙げる。いずれも優れた紫外線吸収を有し、また、化粧料の乳化安定性と使用感に優れたものである。
【００３０】
実施例２：油中水型乳化日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）デカメチルシクロペンタシロキサン １５
（２）ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 １
（３）オレフィンオリゴマー １０
（４）ジメチルポリシロキサン ２
（５）香料 適量
（６）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
５
（７）セバシン酸ジイソプロピル ５
（８）４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン ２．５
（９）有機変性粘土鉱物 ０．１
（１０）疎水化処理（シラン処理）・カチオン処理酸化亜鉛 １５
（１１）ガンツパール（ガンツ化成製） ３
（１２）イオン交換水 残余
（１３）グリセリン ３
（１４）エデト酸塩 適量
（１５）フェノキシエタノール ０．５
製造方法：（７）、（８）を８０℃で混合溶解し、（１）〜（６）の油相に添加する。次に、（９）〜（１１）を加え、ディスパーで分散混合する。（１２）〜（１５）を混合溶解してから油相へディスパーで攪拌しながら徐々に添加し、十分均一に混合溶解して目的の日焼け止め乳液を得た。
【００３１】
実施例３：油中水型乳化日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）メチルフェニルポリシロキサン １２
（２）ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 １
（３）オレフィンオリゴマー １０
（４）ジメチルポリシロキサン ２
（５）香料 適量
（６）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
３
（７）セバシン酸ジイソプロピル ５
（８）４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン １
（９）トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル １０
（１０）ガンツパール（ガンツ化成製） ５
（１１）イオン交換水 残余
（１２）グリセリン ３
（１３）エデト酸塩 適量
（１４）フェノキシエタノール ０．５
製造方法：（７）〜（９）を８０℃で混合溶解し、（１）〜（６）の油相に添加する。次に、（１０）を加え、ディスパーで分散混合する。（１１）〜（１４）を混合溶解してから油相へディスパーで攪拌しながら徐々に添加し、十分均一に混合溶解して目的の日焼け止め乳液を得た。
【００３２】
実施例４：水中油型乳化日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）ポリオキシエチレン硬化ひまし油 １
（２）ジメチコンコポリオール ０．５
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン １０
（４）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
３
（５）イソステアリン酸 ０．５
（６）フェニルトリメチコン １
（７）疎水化処理酸化チタン ５
（８）ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシル ３
（９）サンスフェアーL-51（旭硝子製） ５
（１０）クエン酸 ３
（１１）クエン酸ナトリウム ０．０１
（１２）パラベン ０．０９
（１３）フェノキシエタノール 適量
（１４）アルコール 適量
（１５）ダイナマイトグリセリン ５
（１６）サクシノグルカン １
（１７）セルロースガム ０．２
（１８）イオン交換水 残余
製造方法：（９）〜（１８）の水相を調製後、（１）〜（８）の油相に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。
【００３３】
実施例５：多相日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）ポリオキシエチレン硬化ひまし油 ０．５
（２）イソステアリン酸 ０．２
（３）セバシン酸ジイソプロピル ５
（４）４−(１，１−ジメチルエチル)−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２
（５）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
５
（６）デカメチルシクロペンタシロキサン ２５
（７）ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール ２
（８）ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト ０．５
（９）疎水化処理酸化チタン １０
（１０）トスパール２０００Ｂ（GE・東芝シリコーン製） ２
（１１）クエン酸 ０．０４
（１２）クエン酸ナトリウム ０．０６
（１３）ジプロピレングリコール ２．０
（１４）メチルグルコース １．０
（１５）ダイナマイトグリセリン １．０
（１６）食塩 ０．１
（１７）メチルパラベン 適量
（１８）フェノキシエタノール 適量
（１９）イオン交換水 残余
製造方法：（１）〜（４）の油相を（１１）〜（１９）の水相に徐々に添加してＯ／Ｗ製剤を得た。この製剤を（５）〜（１０）の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的のサンプルを得た。
【産業上の利用可能性】
【００３４】
本発明によれば、光暴露による紫外線吸収剤のＵＶ吸収能の低下を防ぎ、化粧料の安定性と優れた使用感を容易に確保できる日焼け止め化粧料を提供できる。本発明は油中水型乳化日焼け止め化粧料として特に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】実施例１と比較例１の紫外線照射前後の吸光度曲線である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は日焼け止め化粧料に関する。さらに詳しくは、光暴露による紫外線吸収剤のＵＶ吸収能の低下を防ぎ、かつ化粧料の安定性と優れた使用感を容易に確保できる日焼け止め化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧料に紫外線吸収剤として配合されるジベンゾイルメタン誘導体は、光暴露による紫外線照射下でのＵＶ吸収能が低下する。この現象を抑制する光安定性を確保するため、ベンゾイルメタン誘導体と他の紫外線吸収剤であるα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレートとを併用する技術が開発されている（特許文献１）。
【０００３】
また、紫外線吸収剤の１，３，５−トリアジン誘導体とジベンゾイルメタン誘導体とを併用した化粧料においては、４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンが存在すると、紫外線照射により１，３，５−トリアジン誘導体が化学的に大きく劣化する。そのため、１，３，５−トリアジン誘導体とジベンゾイルメタン誘導体との光安定性を確保するため、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレートを併用する技術が開発されている（特許文献２）。
【０００４】
しかしながら、紫外線吸収剤の併用により紫外線吸収剤自体の光安定性を確保する技術には問題がある。なぜなら、紫外線吸収剤は化粧料基材である油分との相溶性が低く難溶のため、これを化粧料に安定配合するためには相溶性に優れた特定油分を多量に配合する必要が生じる。そして、そのような特定油分を多量に配合すると、化粧料の安定性（特に油中水型乳化化粧料の乳化安定性）の低下や使用感の低下を招く要因になってしまう。
【０００５】
一方、本発明に用いる式（Ｉ）の油分は、エモリエント剤として水中油型乳化化粧料に使用されている（特許文献３）。また、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルは周知の紫外線吸収剤であり、日焼け止め化粧料に配合されることが多い。
【０００６】
【特許文献１】特許第２９７５６８２号公報
【特許文献２】特許第３７１４６３２号公報
【特許文献３】米国特許第５３０２３７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者は上述した観点に鑑み、紫外線吸収剤の光安定性を確保する技術について鋭意研究を重ねた結果、光安定性の低い4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン及び／又はｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合した日焼け止め化粧料において、驚くべきことに、紫外線吸収剤を併用することなく単に特定の油分を配合することによって光安定性を確保できると同時に、化粧料としての安定性と使用感にも優れた日焼け止め化粧料を提供できることも見出し本発明を完成するに至った。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明は、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
【化１】
（Ｉ）
【０００９】
また、本発明は、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
【化２】
（Ｉ）
【００１０】
さらに、本発明は、前記日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分の配合量が日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
【化３】
（Ｉ）
【００１１】
また、本発明は、前記日焼け止め化粧料が、油中水型乳化化粧料であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
【００１２】
さらに、本発明は、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法を提供するものである。
【化４】
（Ｉ）
【００１３】
また、本発明は、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法を提供するものである。
【化５】
（Ｉ）
【発明の効果】
【００１４】
（１）本発明の日焼け止め化粧料は、特定油分との併用によって光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐことができる。光安定性に優れた日焼け止め化粧料である。
（２）本発明の日焼け止め化粧料は、紫外線吸収剤の併用により光安定性を確保する従来技術では困難となる化粧料自体の安定性と優れた使用感を容易に確保できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明について詳述する
＜紫外線吸収剤＞
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン及び／又はｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合する。
これらは周知の紫外線吸収剤でありいずれも市販品を使用できる。例えば4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンは「ＰＡＲＳＯＬ １７８９」（ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）が市販され、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルは「ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ」（ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）が市販されている。
【００１６】
その配合量は限定されず適宜決定される。通常、日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％である。
本発明では紫外線吸収剤を多量に配合してもその析出や臭い変化に対して安定である（即ち化粧料自体の安定性に優れている）ので、その配合量は６質量％〜３０質量％であっても好ましい。なお特許文献１での4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンの配合量は１〜５質量％に限定されている。
【００１７】
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンとｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルとを組み合わせて配合しても良い。その場合の配合量も、通常、日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％である。
上記以外の他の紫外線吸収剤を適宜配合しても良い。また、上記以外の他の紫外線吸収剤は配合する必要もない。配合する紫外線吸収剤は4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンのみ、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルのみであっても好ましい。
【００１８】
＜式（Ｉ）で示される油分＞
下記式（Ｉ）で示される油分は公知の化粧料油分である。化学名はトリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸である。この油分は、例えば特許文献３にてハンドローションやヘアコンディショナーにエモリエント剤として配合されている。本発明においては、紫外線吸収剤の光安定剤として顕著な効果を発揮する油分であり、この油分によって、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防いでいる。
Ｔｒｉｍｏｌｌｉｅｎｔ ＢＣ（ＣＲＯＤＡ）等の市販品を使用できる。
【化６】
（Ｉ）
【００１９】
上記の特定油分の配合量は限定されず適宜決定される。通常、日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％である。好ましくは１〜２０質量％であり、さらに好ましくは１〜１０質量％であり、最も好ましくは３〜７質量％である。この特定油分の配合量は多量である必要はない。したがって、本発明においては、特定油分の多量配合による化粧料の乳化安定性や使用感に及ぼす悪影響を排除できる。特に油中水型乳化化粧料の乳化安定性を確保し易い。
【００２０】
本発明の日焼け止め化粧料には、上記必須成分以外に、化粧料に通常用いられる成分、例えば、美白剤、保湿剤、酸化防止剤、油性成分、その他の紫外線吸収剤、界面活性剤、増粘剤、アルコール類、粉末成分、色剤、水性成分、水、各種皮膚栄養剤等を必要に応じて適宜配合して常法により製造することができる。例えば配合成分としては次のようなものが挙げられる。
【００２１】
アボカド油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、オリーブ油、ナタネ油、月見草油、ヒマシ油、ヒマワリ油、茶実油、コメヌカ油、ホホバ油、カカオ脂、ヤシ油、スクワレン、牛脂、モクロウ、ミツロウ、キャンデリラロウ、カルナバロウ、鯨ロウ、ラノリン、流動パラフィン、ポリオキシエチレン（８モル）オレイルアルコールエーテル、モノオレイン酸グリセリル、シクロメチコン、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンなどの油分。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、１，３−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル（エチルパラベン、ブチルパラベンなど）、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸（例えばラウロイルサルコシンナトリウム）、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンＡ及びその誘導体、ビタミンＢ６塩酸塩、ビタミンＢ６トリパルミテート、ビタミンＢ６ジオクタノエート、ビタミンＢ２及びその誘導体、ビタミンＢ１２、ビタミンＢ１５及びその誘導体などのビタミンＢ類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル（塩）、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンＣ類、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、ビタミンＥアセテート、ビタミンＥニコチネートなどのビタミンＥ類、ビタミンＤ類、ビタミンＨ、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ−オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸（塩）、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類（サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど）、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。
【００２２】
本発明の日焼け止め化粧料に配合される好ましい基剤は、デカメチルシクロペンタシロキサン、イソノナン酸イソノニル、ジメチルポリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、トリメチルシロキシケイ酸、流動パラフィン、スクワラン、イソオクタン酸セチル、イソオクタン酸トリグリセライド、コハク酸ジ２−エチルヘキシルの油分である。これらの油分の一種または二種以上を、式（Ｉ）で示される油分と共に配合されることが好ましい。本発明は、特にデカメチルシクロペンタシロキサンを主成分基剤とする日焼け止め化粧料に好ましく利用される。
【００２３】
本発明の日焼け止め化粧料は油中水型乳化化粧料（Ｗ／Ｏエマルジョン）であることが好ましく、日焼け止めクリーム、日焼け止めエマルジョン、日焼け止めローション等として好ましく使用できる。
【実施例】
【００２４】
実施例により本発明を具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。
配合量は特に断りのない限り質量％である。
【００２５】
「表１」に示す紫外線吸収剤を油分に溶解し、光照射して紫外線吸収特性の劣化を検討した。その結果を図１に示す。なお、測定のため比較例にて用いた油分は、各紫外線吸収剤との相溶性に優れた化粧料油分のイソヘキサデカンである。
【００２６】
［表１］
----------------------------------------
実施例１ 比較例１
----------------------------------------
Ａ ２．５質量％ ２．５質量％
Ｂ ５質量％ ５質量％
Ｃ ９２．５質量％ −
Ｄ − ９２．５質量％
----------------------------------------
＜紫外線吸収剤＞
Ａ：4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
Ｂ：ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシル
＜油分＞
Ｃ：式（Ｉ）の油分
Ｄ：イソヘキサデカン
【００２７】
「測定方法及び条件」
表１のサンプル５０μＬをナイロン製の膜（５×５ｃｍ）に均一に２ｍｇ／ｃｍ2の割合で塗布し、１５分放置後、分光光度計（Ｕ−３５００：日立製作所）により吸光度を測定した。測定後、ＳＵＮＴＥＳＴ ＸＬＳ＋（Ａｔｌａｓ社製）により紫外線を２ｈ照射（３９６０ｋＪ／ｍ2）して再度吸光度を測定した。
【００２８】
図１から実施例１では光暴露によってＵＶ吸収能の低下が顕著に抑制されていることが分かる。
【００２９】
次に本発明の日焼け止め化粧料を挙げる。いずれも優れた紫外線吸収を有し、また、化粧料の乳化安定性と使用感に優れたものである。
【００３０】
実施例２：油中水型乳化日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）デカメチルシクロペンタシロキサン １５
（２）ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 １
（３）オレフィンオリゴマー １０
（４）ジメチルポリシロキサン ２
（５）香料 適量
（６）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
５
（７）セバシン酸ジイソプロピル ５
（８）４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン ２．５
（９）有機変性粘土鉱物 ０．１
（１０）疎水化処理（シラン処理）・カチオン処理酸化亜鉛 １５
（１１）ガンツパール（ガンツ化成製） ３
（１２）イオン交換水 残余
（１３）グリセリン ３
（１４）エデト酸塩 適量
（１５）フェノキシエタノール ０．５
製造方法：（７）、（８）を８０℃で混合溶解し、（１）〜（６）の油相に添加する。次に、（９）〜（１１）を加え、ディスパーで分散混合する。（１２）〜（１５）を混合溶解してから油相へディスパーで攪拌しながら徐々に添加し、十分均一に混合溶解して目的の日焼け止め乳液を得た。
【００３１】
実施例３：油中水型乳化日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）メチルフェニルポリシロキサン １２
（２）ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 １
（３）オレフィンオリゴマー １０
（４）ジメチルポリシロキサン ２
（５）香料 適量
（６）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
３
（７）セバシン酸ジイソプロピル ５
（８）４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン １
（９）トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル １０
（１０）ガンツパール（ガンツ化成製） ５
（１１）イオン交換水 残余
（１２）グリセリン ３
（１３）エデト酸塩 適量
（１４）フェノキシエタノール ０．５
製造方法：（７）〜（９）を８０℃で混合溶解し、（１）〜（６）の油相に添加する。次に、（１０）を加え、ディスパーで分散混合する。（１１）〜（１４）を混合溶解してから油相へディスパーで攪拌しながら徐々に添加し、十分均一に混合溶解して目的の日焼け止め乳液を得た。
【００３２】
実施例４：水中油型乳化日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）ポリオキシエチレン硬化ひまし油 １
（２）ジメチコンコポリオール ０．５
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン １０
（４）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
３
（５）イソステアリン酸 ０．５
（６）フェニルトリメチコン １
（７）疎水化処理酸化チタン ５
（８）ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシル ３
（９）サンスフェアーL-51（旭硝子製） ５
（１０）クエン酸 ３
（１１）クエン酸ナトリウム ０．０１
（１２）パラベン ０．０９
（１３）フェノキシエタノール 適量
（１４）アルコール 適量
（１５）ダイナマイトグリセリン ５
（１６）サクシノグルカン １
（１７）セルロースガム ０．２
（１８）イオン交換水 残余
製造方法：（９）〜（１８）の水相を調製後、（１）〜（８）の油相に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。
【００３３】
実施例５：多相日焼け止め乳液
配合成分 質量％
（１）ポリオキシエチレン硬化ひまし油 ０．５
（２）イソステアリン酸 ０．２
（３）セバシン酸ジイソプロピル ５
（４）４−(１，１−ジメチルエチル)−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２
（５）トリス（ポリプロピレングリコール−３ベンジルエーテル）クエン酸
５
（６）デカメチルシクロペンタシロキサン ２５
（７）ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール ２
（８）ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト ０．５
（９）疎水化処理酸化チタン １０
（１０）トスパール２０００Ｂ（GE・東芝シリコーン製） ２
（１１）クエン酸 ０．０４
（１２）クエン酸ナトリウム ０．０６
（１３）ジプロピレングリコール ２．０
（１４）メチルグルコース １．０
（１５）ダイナマイトグリセリン １．０
（１６）食塩 ０．１
（１７）メチルパラベン 適量
（１８）フェノキシエタノール 適量
（１９）イオン交換水 残余
製造方法：（１）〜（４）の油相を（１１）〜（１９）の水相に徐々に添加してＯ／Ｗ製剤を得た。この製剤を（５）〜（１０）の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的のサンプルを得た。
【産業上の利用可能性】
【００３４】
本発明によれば、光暴露による紫外線吸収剤のＵＶ吸収能の低下を防ぎ、化粧料の安定性と優れた使用感を容易に確保できる日焼け止め化粧料を提供できる。本発明は油中水型乳化日焼け止め化粧料として特に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】実施例１と比較例１の紫外線照射前後の吸光度曲線である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。
【化１】
（Ｉ）
【請求項２】
ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。
【化２】
（Ｉ）
【請求項３】
前記日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分の配合量が日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％であることを特徴とする請求項１又は２記載の日焼け止め化粧料。
【化３】
（Ｉ）
【請求項４】
前記日焼け止め化粧料が、油中水型乳化化粧料であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項記載の日焼け止め化粧料。
【請求項５】
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法。
【化４】
（Ｉ）
【請求項６】
ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法。
【化５】
（Ｉ）
【請求項１】
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。
【化１】
（Ｉ）
【請求項２】
ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルと、下記式（Ｉ）で示される油分とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料。
【化２】
（Ｉ）
【請求項３】
前記日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分の配合量が日焼け止め化粧料全量に対して１〜３０質量％であることを特徴とする請求項１又は２記載の日焼け止め化粧料。
【化３】
（Ｉ）
【請求項４】
前記日焼け止め化粧料が、油中水型乳化化粧料であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項記載の日焼け止め化粧料。
【請求項５】
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法。
【化４】
（Ｉ）
【請求項６】
ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合する日焼け止め化粧料において、下記式（Ｉ）で示される油分を配合することにより、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルの光暴露によるＵＶ吸収能の低下を防ぐ方法。
【化５】
（Ｉ）
【図１】
【公開番号】特開２０１０−１５０１７２（Ｐ２０１０−１５０１７２Ａ）
【公開日】平成２２年７月８日（２０１０．７．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３２９０７４（Ｐ２００８−３２９０７４）
【出願日】平成２０年１２月２５日（２００８．１２．２５）
【出願人】（０００００１９５９）株式会社資生堂 (1,748)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年７月８日（２０１０．７．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月２５日（２００８．１２．２５）
【出願人】（０００００１９５９）株式会社資生堂 (1,748)
【Ｆターム（参考）】
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