燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置
【課題】燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度測定を経時的にかつ正確に行う。
【解決手段】燻蒸ガスを燻蒸庫Ｃ内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサ７０にて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得る。
【解決手段】燻蒸ガスを燻蒸庫Ｃ内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサ７０にて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置に関するものである。より詳しくは，燻蒸庫（燻蒸室）内に燻蒸対象物（例えば文化財，美術品等）を収納し，燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れて燻蒸対象物を燻蒸する際に，燻蒸庫内における燻蒸ガスの濃度を経時的に測定するための燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来，文化財等の燻蒸に使用される燻蒸ガスは臭化メチルと酸化エチレンとの混合ガス(商品名「エキボン」)が主流であった。この従来の燻蒸ガス（エキボン）は臭化メチル，酸化エチレン共に殺菌・殺虫能力を有しているため，従来は，燻蒸庫内に投入する「エキボン」の総量を測定することで滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握することができた。
このため，従来は，光干渉計式ガス濃度計を用いて前記混合ガス(商品名「エキボン」)の濃度を測定すれば，燻蒸庫内における滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握することができた。
【０００３】
ところが近年，オゾンホール対策として上記「エキボン」に含まれている臭化メチルの使用が制限されたことから，文化財等の燻蒸には，エキボン以外の数種類のガスが使用されるようになってきた。
酸化エチレンと希釈用ガスであるＨＦＣ１３４ａ（Ｒ１３４ａ）との混合ガス（商品名「エキヒューム」）はそれら文化財燻蒸ガスの代表例であり，現在，多くの博物館や美術館で使用されている。
【０００４】
ところで，上述したように酸化エチレンは殺菌・殺虫能力を有しているが，上記「エキヒューム」に含まれているＨＦＣ１３４ａ(化学式：ＣＨ２ＦＣＦ３)は殺菌・殺虫能力を有していない。
また，「エキヒューム」の酸化エチレンとＨＦＣ１３４ａとの濃度比は１：２．５でＨＦＣ１３４ａの方が多い。さらに，燻蒸時，酸化エチレンは燻蒸対象物に吸着されるがＨＦＣ１３４ａは殆ど吸着されない。このため，燻蒸庫内においては，経時的かつ相対的に，殺菌・殺虫能力を有していないＨＦＣ１３４ａの濃度が濃くなる。
したがって，光干渉計式ガス濃度計を用いて上記「エキヒューム」の濃度測定（総量測定）を行っても（仮に経時的に行ったとしても），燻蒸庫内の滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握することはできない。
【０００５】
このため，上記「エキヒューム」を用いて燻蒸を行う場合において燻蒸庫内の滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握するためには，燻蒸庫内空間における，ＨＦＣ１３４ａ共存下での酸化エチレン濃度を測定する必要が生じる。
「エキヒューム」を用いて文化財等の燻蒸を行う上での酸化エチレン濃度は，燻蒸初期時で１．５〜２．０％，２４時間後で１％以上が必要とされる。
一方，「エキヒューム」に含まれる酸化エチレンは可燃性ガスであるから，接触燃焼式(触媒燃焼式)センサで爆発下限界濃度（３％）迄の濃度測定が可能である。
そこで現在，接触燃焼式センサを有する検知部を用いて，燻蒸時における燻蒸庫内空間の酸化エチレン濃度を経時的に計測するということが行われている。
【０００６】
図８は，接触燃焼式センサを用いた検知部による濃度測定の原理を説明する原理図である。
同図に示すように，検知部１０には，可燃性ガスの酸化反応に対して高い触媒活性を持つ白金やパラジウムからなり，定電流にて比較的低温度に熱せられるガス検知素子（接触燃焼式センサ）ＤＳが組み込まれている。被検気体中の可燃性ガスは，このガス検知素子に触れると触媒作用によって燃焼(触媒燃焼)し，燃焼によって生じた熱がガス検知素子ＤＳの電気抵抗を増大させる。電気抵抗の増大量は被検ガス中の可燃性ガスの濃度に比例するので，電気回路中のメーターＭにより濃度を表示することができる（例えば特許文献１，０００７〜０００９段落参照）。
なお，電気回路中のＣＳは，ガスの接触燃焼以外の温度変化および圧力変動による測定誤差を補償するための，不感処理を施した温度補償素子であり，検知素子と同一構成の素子をガラスで被覆した構成となっている。
文化財等の燻蒸は，通常，燻蒸庫内を負圧に維持した状態で行われることから，上記のような圧力変動に対応した検知部を用いることが望ましい。
【０００７】
現在，一般的に，燻蒸時における燻蒸庫内空間の酸化エチレン濃度の経時的計測は，以上のような検知部を用いて連続的に（例えば２４時間燻蒸する場合には２４時間連続して）行っている。
現在，実用に供される上記検知部１０のガス検知素子（接触燃焼式センサ）の主成分はパラジウムである。
一方，文化財等の燻蒸に用いられる「エキヒューム」に共存するＨＦＣ１３４ａの化学式はＣＨ２ＦＣＦ３であることから，そのＦ成分(フッ素)が触媒毒として前記ガス検知素子の触媒(主成分パラジウム)の機能を低下させる。
【０００８】
現在一般に行われている燻蒸庫内酸化エチレン濃度の測定では，燻蒸中，連続的に測定がなされるので，ガス検知素子が測定ガスである燻蒸ガスに連続して略常時接触する（暴露される）。このため，ガス検知素子の感度が経時的に低下し，正確な濃度測定を行うことができなくなるという問題が生じている。
上述したように，「エキヒューム」の酸化エチレンとＨＦＣ１３４ａとの濃度比は１：２．５でＨＦＣ１３４ａの方が多く，また，燻蒸時，酸化エチレンが燻蒸対象物に吸着されるのに対してＨＦＣ１３４ａは殆ど吸着されないことで経時的かつ相対的にＨＦＣ１３４ａの濃度が濃くなり，さらにまた，燻蒸中に追加投薬がなされることがあると，同様の理由でＨＦＣ１３４ａの濃度が更に濃くなることから触媒毒作用が加速されて，酸化エチレン濃度の正確な測定がより一層困難になる。
【０００９】
そこで本件出願人は，特許文献２に見られるように，燻蒸庫内可燃性ガス（酸化エチレン）濃度の測定を経時的にかつ正確に行うことを目的として，間欠的に所定時間のみ接触燃焼式センサへ燻蒸ガスを導入し，当該燻蒸ガス中の可燃性ガスの濃度を測定した後，接触燃焼式ガスセンサへ燻蒸ガスを含ないエアを導入して当該センサ回りの燻蒸ガス（したがって触媒毒）を掃気するようにした燻蒸ガス濃度測定装置をすでに提案し，実施している。
このような装置によれば，接触燃焼式センサが燻蒸ガスに接触する（暴露される）時間を短くし，それによって接触燃焼式センサの感度低下を抑制して，燻蒸庫内可燃性ガス濃度の測定を経時的にかつ従来に比べて正確に行うことが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−３２１２１６号公報
【特許文献２】特開２００７−２５６１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述したように，特許文献２記載の装置によれば，接触燃焼式センサが燻蒸ガスに接触する時間を短くすることで，接触燃焼式センサの感度低下を抑制することが可能になった。
しかしながら，この装置であっても，長期間運用する（燻蒸作業を何度も行う）と，やはり接触燃焼式センサの感度が次第に低下してくるという課題は依然として残っている。
本発明の目的は，上記課題を解決し，燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度測定を経時的にかつより正確に行うことができる燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために本発明の燻蒸ガス濃度測定方法は，燻蒸庫内に燻蒸対象物を収納し，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスと，を含む燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れて燻蒸対象物を燻蒸するに際し，
燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，前記第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，前記接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得ることを特徴とする。
この燻蒸ガス濃度測定方法によれば，次のような作用効果が得られる。
殺菌・殺虫用ガスと希釈用ガスとの混合ガスである燻蒸ガスを用いて燻蒸作業を行う過程において，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度は，燻蒸過程の初期段階においては高いが，燻蒸が進むにつれて，殺菌・殺虫用ガスは燻蒸対象に吸収されてゆくから，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度は次第に低くなって行く。
本発明において用いる殺菌・殺虫用ガスは，希釈用ガスに比べて赤外線吸収性が強い（赤外線吸収度合いが高い）から，燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度は，赤外線式ガスセンサによって測定することが可能である。赤外線式ガスセンサは，ガス感度の安定性および再現性に優れており，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度が高いとき，殺菌・殺虫用ガスの濃度を正確に測定することが可能である。しかし，上記相対濃度が低くなると，燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を赤外線式ガスセンサで正確に測定することは困難になる。
一方，接触燃焼式ガスセンサは，可燃性ガスに対してはその濃度に比例した信号を出力する。本発明において用いる殺菌・殺虫用ガスは可燃性ガスであるから，接触燃焼式ガスセンサは，本発明において用いる殺菌・殺虫用ガスに対しては，その濃度に比例した信号を出力する。しかし，本発明において用いる燻蒸ガスは触媒毒として作用する希釈用ガスを含んでいるので，測定時間が総体的に長くなる（燻蒸作業を何度も行う）につれて，接触燃焼式ガスセンサの感度は次第に低下してゆく。
この発明では，燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得るから，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度が高い初期段階において，赤外線式ガスセンサにて正確に第１測定値を得ることができる。赤外線式ガスセンサは，ガス感度の安定性および再現性に優れているから，燻蒸作業を長期に亘って何度行ったとしても，第１測定値は，その度ごとに正確に得ることができる。
次いで，この発明では，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，前記第１測定値を第２測定値で割った補正値を得るが，このとき，接触燃焼式ガスセンサの感度が仮に低下していたとしても，上記第１測定値は正確に得られているから，補正値自体は正確に得ることができる。
その後，この発明では，経時的に，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得るから，仮に，接触燃焼式ガスセンサの感度が長期運用により低下していたとしても，燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を経時的に正確に測定することが可能となる。
上記の補正は，燻蒸作業が行われる度になされるから，長期に亘って，正確なガス濃度測定を行うことが可能となる。
望ましくは，前記赤外線式ガスセンサによる測定は，燻蒸庫内空間の上下方向において２以上の箇所で行い，それらの測定値が一致したとき，該測定値を前記第１測定値とする。
このようにすると，第１測定値を，より正確に得ることができ，したがって，より正確な補正値を得ることができる。
また望ましくは，前記第２測定値自体に関しても，前記補正値を乗じて，燻蒸庫内におけるガス濃度値を得る。
このようにすると，接触燃焼式ガスセンサによる初回の測定値である前記第２測定値を，前記補正値を得るためだけでなく，接触燃焼式ガスセンサに基づく初回のガス濃度値を得るのに利用できる。
また上記目的を達成するために本発明の燻蒸ガス濃度測定装置は，請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法を用いたガス濃度測定装置であって，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを赤外線式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第１測定値を得る第１測定手段と，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを接触燃焼式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第２測定値を得る第２測定手段と，
前記第１測定値を前記第２測定値で割って前記補正値を得るとともに，その補正値を記憶し，その後の前記第２測定手段による測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として得る制御部と，
を備えていることを特徴とする。
この燻蒸ガス濃度測定装置によれば，請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法による作用効果と同様な作用効果が得られる。
望ましくは，前記赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，前記接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，共通の導入経路で構成する。
このように構成すると，前記補正値をより正確に得ることができる。
仮に，赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，個別に構成したとすると，赤外線式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態と，接触燃焼式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じるおそれが生じ，前記補正値を正確に得ることができなくなるおそれが大きくなる。
これに対し，赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを共通の導入経路で構成すると，赤外線式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態と，接触燃焼式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じないか生じたとしてもその差異は著しく小さくなる。したがって，前記補正値をより正確に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】燻蒸装置全体を示す図。
【図２】本発明に係る燻蒸ガス濃度測定装置の一実施の形態を示す配管及び回路図。
【図３】赤外線式ガスセンサによるガス濃度の測定原理を示す図。
【図４】赤外線式ガスセンサの回路図。
【図５】検知部および増幅回路の具体例を示す図。
【図６】測定シーケンスを示すフローチャート。
【図７】測定シーケンスを示すフローチャート。
【図８】接触燃焼式センサを用いた検知部による濃度測定の原理を説明する原理図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下，本発明に係る燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置の実施の形態について図面を参照して説明する。主として燻蒸ガス濃度測定装置について説明することで燻蒸ガス濃度測定方法についての説明ともする。
先ず，図１を参照して燻蒸装置およびその装置を用いた燻蒸作業の一例について説明し，次いで，燻蒸ガス濃度測定装置について説明する。
【００１５】
図１は燻蒸庫Ｃを含む燻蒸装置全体を示す図である。
図１に示す燻蒸装置１００は，燻蒸庫Ｃ内の温度を一定に保つための温度調整装置１０１と，燻蒸庫Ｃ内を負圧状態に保つための減圧装置１０２と，燻蒸ガスが充填されている燻蒸ガス容器１０３と，この燻蒸ガス容器１０３に配管１２１，燻蒸ガス元弁１２２，投薬速度調整弁１２３を介して接続されている気化器１０４と，燻蒸ガス容器１０３の重さを秤量する秤量器１０５と，気化器１０４からの燻蒸ガスを投薬弁１２４を介して燻蒸庫Ｃ内に供給するための配管１２５と，燻蒸庫Ｃ内のガス濃度を定期的に確認・記録するための燻蒸ガス濃度測定装置１と，庫内残留ガスを吸着装置１０７に送る排気装置１０６と，上記温度調整装置１０１，減圧装置１０２，気化器１０４，排気装置１０６，および投薬弁１２４の作動を制御する燻蒸制御盤１１０と，燻蒸庫Ｃ内の温度を測定するための温度計１１１と，燻蒸庫Ｃ内の気圧を測定するための圧力計１１２とを有している。温度計１１１，圧力計１１２はそれぞれ燻蒸制御盤１１０に接続されている。
【００１６】
燻蒸作業は，次のような投薬工程，燻蒸工程，および排気工程からなる。
投薬工程：
（１）燻蒸対象物（例えば文化財や美術品）Ｂを燻蒸庫Ｃに収納し，密閉する。
（２）燻蒸庫Ｃ内の温度を一定にする。
この工程は，温度計１１１の測定値に基づいて燻蒸制御盤１１０が温度調整装置１０１を制御することによって行われる。
（３）気化器１０４を一定温度に加温する
この工程は，気化器１０４に内蔵された図示しない温度センサの測定値に基づいて燻蒸制御盤１１０が気化器１０４を制御することによって行われる。
（４）燻蒸ガス容器１０３の重さを秤量器１０５で秤量する。
（５）燻蒸庫Ｃ内を適量減圧する。
この工程は，圧力計１１２の測定値に基づいて燻蒸制御盤１１０が減圧装置１０２を制御することによって行われる。
（６）投薬弁１２４，燻蒸ガス元弁１２２を開ける。
この作業は作業員によってなされる。投薬弁１２４は電磁弁であり，燻蒸制御盤１１０が備える図示しないスイッチを作業員が操作することで行われる。
（７）秤量器１０５を観測しながら投薬速度調整弁１２３にて燻蒸ガスを適量，適時間，気化器１０４に送る。
この作業は作業員によってなされる。この作業によって，燻蒸ガス容器１０３から適量の燻蒸ガスＧが，気化器１０４および配管１２５を経て燻蒸庫Ｃ内に供給（投薬）される。
例えば，燻蒸庫Ｃの容積が１０立方メートル＝１００００リットルであり，燻蒸ガスとして上述した「エキヒューム」を用いる場合，「エキヒューム」の有効滅菌剤は酸化エチレンであるから，燻蒸初期において酸化エチレンの濃度を例えば１．５％とするには，「エキヒューム」の投薬量は１９６４ｇとする。
なお，参考のために説明すると，この場合の上記投薬量は次のようにして算出することができる。
酸化エチレンの分子量は４４であり，酸化エチレン４４ｇが気化すると，２２．４リットルの容積になる。
この容積の，燻蒸庫Ｃの容積＝１００００リットルに対する割合は，
２２．４／１００００＝０．２２４％であるから，酸化エチレンの濃度を１．５％とするための倍率は１．５／０．２２４＝６．６９６倍となる。
そのときの酸化エチレン質量は６．６９６×４４＝２９４．６２４ｇであり，「エキヒューム」中の酸化エチレン割合は１５ｗｔ％であるから，
「エキヒューム投薬量」は２９４．６２４／０．１５＝１９６４ｇ
となる。
（８）燻蒸ガス元弁１２２，投薬弁１２４を閉じる。
（９）後に詳しく説明するように，燻蒸ガス濃度測定装置１にて燻蒸ガスＧが適量投薬されたことを確認する。
後述する上中下の測定結果が均等且つ所要の濃度に達していることを確認することで投薬工程が完了する。
【００１７】
燻蒸工程：
（１０）後に詳しく説明するように，燻蒸ガス濃度測定装置１にて燻蒸庫Ｃ内のガス濃度を定期的に確認・記録する。
【００１８】
排気工程：
（１１）排気装置１０６にて庫内残留ガスを吸着装置１０７に送る。
この作業は，燻蒸制御盤１１０が備える図示しない排気装置１０６作動用のスイッチを作業員が操作することで行われる。
（１２）後述する燻蒸ガス濃度測定装置１にて庫内残留ガス濃度が所定値以下になっていることを確認することで排気行程が終了し，燻蒸作業の全工程が完了する。。
【００１９】
図２は本発明に係る燻蒸ガス濃度測定方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置の一実施の形態を示す配管及び回路図である。
この燻蒸ガス濃度測定装置１は，上述したように，燻蒸庫Ｃ内に燻蒸対象物Ｂを収納し，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスと，を含む燻蒸ガスＧを燻蒸庫Ｃ内に入れて燻蒸対象物Ｂを燻蒸する際に，燻蒸庫Ｃ内における燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を経時的に測定するためのガス濃度測定装置である。
この実施の形態では，殺菌・殺虫用ガスとして酸化エチレンを，希釈用ガスとしてＨＦＣ１３４ａを有する「エキヒューム」を燻蒸ガスＧとして用いている。
【００２０】
図２に示すように，燻蒸ガス濃度測定装置１は，燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０に導入して燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得る第１測定手段Ｍ１と，
燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳに導入して燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得る第２測定手段Ｍ２と，
前記第１測定値を前記第２測定値で割って補正値を得るとともに，その補正値を記憶し，その後の前記第２測定手段Ｍ２による測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として得る制御部６０と，
を備えている。
【００２１】
第１測定手段Ｍ１は，赤外線式ガスセンサ７０と，この赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを導入する燻蒸ガス導入管２０およびこの燻蒸ガス導入管２０に介装された燻蒸ガス用電磁弁（ＳＶ１〜ＳＶ３）と，赤外線式ガスセンサ７０へ，燻蒸ガスＧを含ないエアＡを導入するエア導入管３０およびこのエア導入管３０に介装されたエア用電磁弁（ＳＶ４−１）と，を有している。
【００２２】
図３は赤外線式ガスセンサ７０によるガス濃度の測定原理を示す図である。
赤外線式ガスセンサ７０は，測定セル７１，赤外線源７２，検出ガスに対応したガス検出側帯域フィルタ７３ｆ，ガス検出側センサ７３ｓ，参照側帯域フィルタ７４ｆ，参照側センサ７４ｓ，およびこれらセンサの信号を増幅してガス濃度信号（測定信号）として出力する増幅器７５とを備えている。
赤外線源７２から放射された赤外線は，被検ガスにて吸収された波長以外が帯域フィルタで除去された後にガス検出側センサ７３ｓに到達する。
上記吸収の度合いがガス濃度に比例することから，濃度を知ることができる。
すなわち，赤外線式ガスセンサ７０は，赤外線がガスによって吸収される度合いがガス濃度に比例することを利用してガス濃度を測定するセンサである。
【００２３】
殺菌・殺虫用ガスと希釈用ガスとの混合ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を赤外線式ガスセンサ７０で測定するためには，測定対象である殺菌・殺虫用ガスの赤外線吸収度合い（赤外線吸収性）が希釈用ガスによる赤外線吸収度合いに比べて高い必要がある。この実施の形態で用いる酸化エチレンによる赤外線吸収度合い（赤外線吸収性）はＨＦＣ１３４ａによる赤外線吸収度合いに比べて数倍高いので，燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度を赤外線式ガスセンサ７０で測定することが可能である。
図２に示す赤外線式ガスセンサ７０にて得られたガス濃度信号（ＩＲ Ｇａｓ ｓｉｇ）は制御部６０へ送出される。
なお，図４に赤外線式ガスセンサ７０の具体的な回路図の一例を示す。
【００２４】
図２に示すように，第２測定手段Ｍ２は，燻蒸ガスＧ中の可燃性ガスである酸化エチレンと接触して触媒燃焼を生じさせる触媒を有し，触媒燃焼による燃焼熱で電気抵抗値が変動する接触燃焼式ガスセンサＤＳと，この接触燃焼式ガスセンサＤＳの電気抵抗値の変動量を電気量に変換する電気回路とを有する検知部１０と，
燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入する燻蒸ガス導入管２０およびこの燻蒸ガス導入管２０に介装された燻蒸ガス用電磁弁（ＳＶ１〜ＳＶ３）と，
接触燃焼式ガスセンサＤＳへ，燻蒸ガスＧを含ないエアＡを導入するエア導入管３０およびこのエア導入管３０に介装されたエア用電磁弁（ＳＶ４−１）と，を有している。
【００２５】
接触燃焼式センサＤＳは，図８を参照して先に説明したセンサ（パラジウムを主成分としたセンサ）で構成されている。また，検知部１０は図８を参照して先に説明した原理に即した電気回路を有している。
１１は検知部１０からのセンサ出力を増幅するための増幅回路である。
【００２６】
図５に上記検知部１０および増幅回路１１の具体例を示す。
図５に示すように，この実施の形態では，ガスの接触燃焼以外の温度変化および圧力変動による測定誤差（すなわち燻蒸庫Ｃ内の温度変化および圧力変動による測定誤差）を補償すべく，温度補償素子ＣＳに対しても，接触燃焼式ガスセンサＤＳに対してと同様に，燻蒸ガスＧまたはエアＡを導入する。
【００２７】
この実施の形態における文化財等の燻蒸は，燻蒸庫Ｃ内を負圧に維持した状態で行われることから，上記のような圧力変動に対応した検知部１０を用いる。
図５において，ＤＳ１は接触燃焼式ガスセンサＤＳが収納され，燻蒸ガスＧまたはエアＡが導入されるガスチャンバ，ＣＳ１は温度補償素子ＣＳが収納され，燻蒸ガスＧまたはエアＡが導入されるガスチャンバである。
これらチャンバＤＳ１，ＣＳ１は連通路１２で連通している。チャンバＤＳ１の入り口に燻蒸ガス導入管２０（エア導入管３０でもある）が赤外線式ガスセンサ７０および連通管２０ｂを介して接続され，チャンバＣＳ１の出口に後述する排気管５１（図２参照）が接続される。
接触燃焼式ガスセンサＤＳを備えた検知部１０にて得られたガス濃度信号（ＣＣ Ｇａｓ ｓｉｇ）は制御部６０へ送出される。
【００２８】
図２に示すように，燻蒸ガス導入管２０は，その一端が赤外線式ガスセンサ７０に接続され，さらに赤外線式ガスセンサ７０から連通管２０ｂを介して接触燃焼式ガスセンサＤＳに接続されている。燻蒸ガス導入管２０の他端は，３本の採気管２１，２２，２３に分岐されて燻蒸庫Ｃに接続されている。
採気管２１は燻蒸庫Ｃの上部に接続されて燻蒸ガスの上部採気口２１ａを形成し，採気管２２は燻蒸庫Ｃの中程に接続されて燻蒸ガスの中部採気口２２ａを形成し，採気管２３は燻蒸庫Ｃの下部に接続されて燻蒸ガスの下部採気口２３ａを形成している。
採気管２１，２２，２３には，ぞれぞれ，前述した燻蒸ガス用電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３と，エアフィルタ２４と，手動操作バルブ２５とが介装されている。３つの手動操作バルブ２５は，燻蒸ガス濃度測定開始時に全て手動で開けられる。
【００２９】
エア導入管３０は，その一部が上記燻蒸ガス導入管２０と共通の管で構成されていて一端が赤外線式ガスセンサ７０に接続され，さらに赤外線式ガスセンサ７０から連通管２０ｂを介して接触燃焼式ガスセンサＤＳに接続されている。エア導入管３０の他端は，エアフィルタ３１を介して大気に開放されている。エア導入管３０には前述したエア用電磁弁ＳＶ４−１が介装されている。
【００３０】
燻蒸ガス導入管２０およびエア導入管３０の共通管部分にはポンプＰと第１切換弁（三方電磁弁）ＳＶ５とが介装されている。
以上から分かるように，赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを導入する導入経路とは，共通の導入経路で構成されている。
【００３１】
第１切換弁ＳＶ５にはバイパス管５０が接続されている。第１切換弁ＳＶ５は，通常，バイパス管５０側に切り替わっている（図中「ＮＯ」参照）。
接触燃焼式ガスセンサＤＳの他端には，排気管５１が接続され，この排気管５１と上記バイパス管５０とが，合流部５２で合流し，その合流管５３の先端に第２切換弁（三方電磁弁）ＳＶ４−２が設けられている。
【００３２】
第２切換弁ＳＶ４−２には，赤外線式ガスセンサ７０を通過し，接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後の燻蒸ガスＧを燻蒸庫Ｃ内へ戻すための燻蒸ガス戻し管５４が接続されている。燻蒸ガス戻し管５４には手動操作バルブ５５が設けられている。この手動操作バルブ５５は，燻蒸ガス濃度測定時に手動で開けられる。第２切換弁ＳＶ４−２は，通常，燻蒸ガス戻し管５４側を閉じている（図中「ＮＣ」参照）。この第２切換弁ＳＶ４−２は，後述するように，エア排気手段を構成する。
なお，排気管５１には，上記バイパス管５０との合流部５２と接触燃焼式ガスセンサＤＳの間において，逆止弁５６が設けられている。
【００３３】
制御部６０は，少なくとも赤外線式ガスセンサ７０にて得られた第１測定値と検知部１０にて得られた第２測定値を記憶する記憶手段（ＲＡＭ）８０と，第１測定値を第２測定値で割って補正値を得ることができる演算手段とを有している。その補正値は記憶手段８０に記憶される。演算手段は，第２測定手段Ｍ２による測定値に前記補正値を乗じた値を得ることができる演算手段である。
【００３４】
制御部６０は，上記第１測定値を得るための制御モードである投薬モードと，上記第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得るための制御モードである燻蒸モードとを備えており，これら投薬モードと燻蒸モードとを切り替えるモード切替スイッチ９０を有している。各モードによる制御については後述する。
【００３５】
制御部６０は，燻蒸ガス用電磁弁（ＳＶ１〜ＳＶ３）とエア用電磁弁（ＳＶ４−１）とを後述するように，間欠的に作動させて，所定時間のみ赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ燻蒸ガスＧを導入させて当該燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定させ，また，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへエアＡを導入させてこれらセンサ回りの燻蒸ガスＧを掃気させる，という動作を間欠的に繰り返し実行させる。なお，４０はその制御用中継基板である。
また，この実施の形態では，制御部６０は，測定結果等を表示するための表示部とプリンタを備えている。
【００３６】
上記電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３，ＳＶ４−１，第１切換弁ＳＶ５，第２切換弁ＳＶ４−２，およびポンプＰは，それぞれ制御部６０に電気的に接続されており，その作動が制御部６０によって後述するように制御される。
前述した赤外線式ガスセンサ７０，および増幅回路１１は制御部６０に接続されており，赤外線式ガスセンサ７０および増幅回路１１からの出力信号（ガス濃度信号）は，制御部６０が備えるＡ／Ｄ変換器にてそれぞれＡ／Ｄ変換され，所定の演算処理がなされて表示部に濃度測定結果としてデジタル表示される。なお，測定結果はプリンタにてプリントアウトすることが可能である。
【００３７】
制御部６０は，タイマ機能を備えており，このタイマ機構によって，この測定装置のユーザーが測定待機時間を設定することができるようになっている。制御部６０は，ユーザーによって設定された上記測定待機時間に基づき，上記電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３，ＳＶ４−１，第１切換弁ＳＶ５，第２切換弁ＳＶ４−２，およびポンプＰを後述のように作動させて燻蒸庫Ｃ内の酸化エチレン濃度を経時的に測定させる。なお，測定動作を行う際には，前述したように，手動操作バルブ２５，５５は予め開いておく。また，前述したように，第１切換弁ＳＶ５は，通常，バイパス管５０側に切り替わっており，第２切換弁ＳＶ４−２は，通常，燻蒸ガス戻し管５４側を閉じている。
制御部６０は，上述したような演算および制御を可能とする演算・制御プログラムが格納されたマイクロコントローラで構成されている。
【００３８】
以下，前述した燻蒸作業における各工程と対応させて，制御部６０による測定シーケンスについて説明する。
図６および図７は制御部６０による測定シーケンスを示すフローチャートである。
図６は投薬モードによるシーケンスを示しており，図７は燻蒸モードによるシーケンスを示している。なお，図７に示す燻蒸モードにおけるシーケンスは，制御部６０が備えるタイマーにより，６０分おきに燻蒸ガスＧの測定動作を３分間行うように設定された場合を示している。
【００３９】
燻蒸作業の前述した投薬工程を行う際に，当該投薬工程における上記（１）〜（８）の作業を行った後，すなわち燻蒸ガス元弁１２２，投薬弁１２４を閉じた後，（９）の作業すなわち，燻蒸ガス濃度測定装置１にて燻蒸ガスＧが適量投薬されたことの確認作業を行うべく，モード切替スイッチ９０を投薬モードに設定し，燻蒸ガス濃度測定装置１を作動させる。これにより，制御部６０は，図６に示す下記シーケンスを実行する。
【００４０】
（１）ステップＳＴ１で測定がスタートし，ステップＳＴ２〜７で採気管２１，２２，２３内のガス置換を以下のようにして行う。
（２）ステップＳＴ２で，ポンプＰを作動させるとともに，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，５８秒間，採気管２１を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを第１切換弁ＳＶ５まで吸引する。
この際，前述したように，第１切換弁ＳＶ５はバイパス管５０側に切り替わっており，第２切換弁ＳＶ４−２は燻蒸ガス戻し管５４側に切り替わっているので，採気管２１を通じて吸引された燻蒸ガスＧは，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されることなく，バイパス管５０，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
（３）ステップＳＴ３で，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＦＦ（閉）するとともに，ポンプＰを停止させる（これらの動作に２秒間かかる）。
【００４１】
（４）ステップＳＴ４で，ポンプＰを作動させるとともに，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＮ（開）し，５８秒間，採気管２２を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを第１切換弁ＳＶ５まで吸引する。
この際，前述したと同様，第１切換弁ＳＶ５はバイパス管５０側に切り替わっており，第２切換弁ＳＶ４−２は燻蒸ガス戻し管５４側に切り替わっているので，採気管２２を通じて吸引された燻蒸ガスＧは，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されることなく，バイパス管５０，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
（５）ステップＳＴ５で，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＦＦ（閉）するとともに，ポンプＰを停止させる（これらの動作に２秒間かかる）。
【００４２】
（６）ステップＳＴ６で，ポンプＰを作動させるとともに，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＮ（開）し，５８秒間採気管２３を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを第１切換弁ＳＶ５まで吸引する。
この際，前述したと同様，採気管２３を通じて吸引された燻蒸ガスＧは，バイパス管５０，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
（７）ステップＳＴ７で，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＦＦ（閉）するとともに，ポンプＰを停止させる（これらの動作に２秒間かかる）。
【００４３】
以上のようなステップＳＴ２〜ＳＴ７の動作により，採気管２１，２２，２３内のガスが，燻蒸ガスＧで満たされる。なお，このステップＳＴ２〜ＳＴ７においては，燻蒸ガスＧは第１切換弁ＳＶ５までは導入されるが，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されることなく燻蒸庫Ｃ内へ戻されるので，燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定は行われない。
【００４４】
ステップＳＴ８以降で測定動作を行わせる。
この実施の形態では，先ずステップＳＴ８〜ＳＴ１７で，赤外線式ガスセンサ７０にて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで図７に示すステップＳＴ２０〜ＳＴ３７で，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に補正値を乗じた値を，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得る。
【００４５】
（８）ステップＳＴ８で，第１測定値を得るための測定動作を開始するが，先ず，ゼロ調整を行う。すなわち，ポンプＰを作動させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第１切換弁ＳＶ５を赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳ側に，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入する。赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，赤外線式ガスセンサ７０の測定セル７１を通過し連通管２０ｂを経て接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
ゼロ調整は，制御部６０が，このエア導入中において，赤外線式ガスセンサ７０の出力が安定した時点で，測定値をゼロに設定する（すなわち測定値をリセットする）ことにより行われる。
上記ゼロ調整後（すなわち３８秒経過後）エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。
【００４６】
（９）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ９で，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間，採気管２１を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガス（酸化エチレン）の濃度の測定を赤外線式ガスセンサ７０にて行う。これによって，燻蒸庫Ｃ内の上部における酸化エチレン濃度が測定される。
なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳにも燻蒸ガスＧは導入されるが，第１測定値が得られるまでは（ステップＳＴ１９までは），接触燃焼式ガスセンサＤＳによる測定は行わない（モード切替スイッチ９０が投薬モードになっているとき，接触燃焼式ガスセンサＤＳの信号は制御部６０において無視される）。
酸化エチレンの濃度測定は，制御部６０が，この燻蒸ガスＧの導入中において，赤外線式ガスセンサ７０の出力が安定した時点で，ガス濃度計算を行い，その結果を記憶手段８０に記憶させるとともに表示部（６０）に表示させることにより行われる。
なお，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後，排気管５１，合流管５３，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内（燻蒸庫Ｃの上部）へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ１をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１を閉じる（ＯＦＦする）。
（１０）上記電磁弁ＳＶ１を閉じるとともに，ステップＳＴ１０で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００４７】
（１１）ステップＳＴ１１でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ８同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを赤外線式ガスセンサ７０へ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入されたエアは，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
【００４８】
（１２）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ１２で，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間採気管２２を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０へ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定，記憶，表示を先と同様に行う。これによって，燻蒸庫Ｃ内の中程における酸化エチレン濃度が測定される。
なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様，燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ２をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２を閉じる（ＯＦＦする）。
（１３）上記電磁弁ＳＶ２を閉じるとともに，ステップＳＴ１３で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００４９】
（１４）ステップＳＴ１４でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ８同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを赤外線式ガスセンサ７０へ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入されたエアは，先と同様，大気中へ排出される。
【００５０】
（１５）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ１５で，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間，採気管２３を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０へ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定，記憶，表示を先と同様に行う。これによって，燻蒸庫Ｃ内の下部における酸化エチレン濃度が測定される。なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ３をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３を閉じる（ＯＦＦする）。
（１６）上記電磁弁ＳＶ３を閉じるとともに，ステップＳＴ１６で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００５１】
（１７）以上のステップＳＴ８〜ＳＴ１６で第１測定値に関する１回（１サイクル）の測定動作が終了する。ステップＳＴ１７では，上記ステップ９，１２，１５にて得られ記憶されていた測定値，すなわち，燻蒸庫Ｃにおける上部（ＣＨ．１），中部（ＣＨ．２），下部（ＣＨ．３）の測定値を比較し，それらの測定値が均等であるか否かを判断する。また，その測定値が所定値（この場合１．５％）に達しているか否かを判断する。
ＣＨ．１〜３の測定値が均等でないかあるいは所定値に達していない場合には，上記ステップＳＴ８〜１７を繰り返す。
ＣＨ．１〜３の測定値が均等で（測定値が一致し）かつ所定値に達している場合には，図７に示すステップＳＴ１８以降の燻蒸モードに進む。燻蒸モードへの切替は，モード切替スイッチ９０を切り替えることによってなされる。ステップＳＴ１７における判断およびモード切替スイッチ９０の切替動作は，作業者（人手）によって行うこともできるし，制御部６０が行うようにすることもできる。
なお，「測定値が一致（均等）」であるか否かは，測定精度との関係で適宜決定することができる。例えば本発明を実施する上で，また赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳの測定精度との関係で０．１％レベルでの一致が望ましい（求められる，あるいはそれで十分である）のであればそのように決定すればよいし，０．０１％レベルでの一致が望ましい（求められる，あるいはそれで十分である）のであればそのように決定すればよい。
【００５２】
（１８）モード切替スイッチ９０が燻蒸モードに切り替えられることで，ステップＳＴ１８で燻蒸モードに入る。
（１９）ステップＳＴ１９では，上記ステップＳＴ１７においてＣＨ．１〜３の測定値が均等で（測定値が一致し）かつ所定値に達していると判断された際の，その測定値を第１測定値として記憶手段８０に記憶させる。この実施の形態では，ＣＨ．１の測定値を第１測定値として記憶させるが，ＣＨ．１〜３の測定値は一致しているから，ＣＨ．２またはＣＨ．３の測定値を第１測定値として記憶させることもできる。
【００５３】
（２０）ステップＳＴ２０で，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値（酸化エチレン濃度値）を経時的に得るための測定動作を開始するが，先ず，ゼロ調整を行う。すなわち，ポンプＰを作動させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第１切換弁ＳＶ５を赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳ側に，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入する。接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
ゼロ調整は，制御部６０が，このエア導入中において，接触燃焼式ガスセンサＤＳの出力が安定した時点で，測定値をゼロに設定する（すなわち測定値をリセットする）ことにより行われる。
上記ゼロ調整後（すなわち３８秒経過後）エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。
【００５４】
（２１’）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ２１’で，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間，採気管２１を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定を行う。
なお，赤外線式ガスセンサ７０にも燻蒸ガスＧは導入されるが，上記第１測定値が得られた後（ステップＳＴ２０以降は），赤外線式ガスセンサ７０による測定は行わない（モード切替スイッチ９０が燻蒸モードになっているとき，赤外線式ガスセンサ７０の信号は制御部６０において無視される）。
接触燃焼式ガスセンサＤＳによる酸化エチレンの濃度測定値は，制御部６０が，燻蒸ガスＧの導入中において，接触燃焼式ガスセンサＤＳの出力が安定した時点で，ガス濃度計算を行うことによって得られる。
このステップＳＴ２１’では，上のようにして接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた第１回目の測定値を第２測定値とし，この第２測定値で前記第１測定値を割った値を補正値として記憶手段８０に記憶させる。
上のようにして接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた第１回目の測定値が，例えば１．３％であったとしたら，この測定値＝１．３％を第２測定値とし，この第２測定値＝１．３％で前記第１測定値（例えば１．５％）を割った値である１．１５３８４６１５４を補正値として記憶手段８０に記憶させる。
またこのステップＳＴ２１’では，上記第１回目の測定値に上記補正値を乗じた１．５％を，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として表示部（６０）に表示させる。これによって，燻蒸庫Ｃ内の上部における酸化エチレン濃度（すなわち殺菌・殺虫能力）を把握することができる。
接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様，燻蒸庫Ｃ内（燻蒸庫Ｃの上部）へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ１をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１を閉じる（ＯＦＦする）。
【００５５】
なお，このステップＳＴ２１’は，接触燃焼式ガスセンサＤＳによる第１回目の測定時にのみ実行され，第２回目以降の測定時には実行されない。第２回目以降の測定時には，ステップＳＴ２１が実行される。
ステップＳＴ２１がステップＳＴ２１’と異なる点は，補正値を算出せず，したがってまた補正値を記憶させない点にあり，その他の点に変わりはない。
【００５６】
（２２）上記電磁弁ＳＶ１を閉じるとともに，ステップＳＴ２２で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００５７】
（２３）ステップＳＴ２３でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ２０同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
【００５８】
（２４）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ２４で，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間採気管２２を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定を先と同様に行う。
そして，その測定値に，上記ステップＳＴ２１’で得られた補正値（＝１．１５３８４６１５４）を乗じた値を算出し，その値を燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として表示部（６０）に表示させる。これによって，燻蒸庫Ｃ内の中程における酸化エチレン濃度（すなわち殺菌・殺虫能力）を把握することができる。
なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ２をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２を閉じる（ＯＦＦする）。
（２５）上記電磁弁ＳＶ２を閉じるとともに，ステップＳＴ１３で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００５９】
（２６）ステップＳＴ２６でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ２０同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，大気中へ排出される。
【００６０】
（２７）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ２７で，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間採気管２３を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定を先と同様に行う。
そして，その測定値に，上記ステップＳＴ２１’で得られた補正値（＝１．１５３８４６１５４）を乗じた値を算出し，その値を燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として表示部（６０）に表示させる。これによって，燻蒸庫Ｃ内の下部における酸化エチレン濃度（すなわち殺菌・殺虫能力）を把握することができる。
なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ３をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３を閉じる（ＯＦＦする）。
（２８）上記電磁弁ＳＶ３を閉じるとともに，ステップＳＴ２８で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００６１】
以上のステップＳＴ２０〜ＳＴ２８で接触燃焼式ガスセンサＤＳおよび補正値を用いた１回（１サイクル）の測定動作が終了するが，上記ステップ２８が終了した時点では，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸ガスＧが導入されたままであるので，これを放置すると，接触燃焼式ガスセンサＤＳが燻蒸ガスＧに含まれるＨＦＣ１３４ａ（触媒毒）との接触によって，感度低下を来す。
【００６２】
そこで，この実施の形態では，以下のステップＳＴ２９で掃気動作を行う。すなわち，
（２９）ステップＳＴ２９で，ポンプＰを作動させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して接触燃焼式ガスセンサＤＳのガスチャンバＤＳ１内（図５参照）および温度補償素子ＣＳのガスチャンバＣＳ１内を掃気する。上記チャンバ内を掃気したエアは，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
なお，上記掃気動作後，ポンプＰを停止させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。
【００６３】
（３０）その後，ステップＳＴ３０で上記ステップＳＴ２０〜ステップＳＴ２８で得られた測定結果，すなわち，補正値により補正されたガス濃度値とその測定時刻とをプリンタでプリントアウトさせる。
【００６４】
（３１）ステップＳＴ３１で待機状態に入る。
待機状態においては，ユーザーが設定した待機時間，上記測定動作が停止される。
待機時間は，例えば６０分ごとに上記測定動作を行う場合には，６０分から測定動作に要する時間（例えば７分）を引いた値（５３分）が設定される。
【００６５】
待機時間が経過した後，ステップＳＴ３２〜３７で採気管２１，２２，２３内のガス置換を行う。このガス置換動作は，前述したステップＳＴ２〜７による動作と同一であるので，その説明は省略する。
ステップＳＴ３２〜３７の動作により，採気管２１，２２，２３内のガスは，１サイクル経過後（上記の例では６０分経過後）の燻蒸ガスＧで満たされる。
その後，上記ステップＳＴ２０以降の制御を繰り返す。例えば，２４時間の測定が必要な場合には，２４時間経過するまで繰り返す。
その後，前述した排気行程がなされ，燻蒸作業が終了する。
【００６６】
以上のような燻蒸ガス濃度測定方法ないし燻蒸ガス濃度測定装置１によれば次のような作用効果が得られる。
（ａ）燻蒸ガスＧを燻蒸庫Ｃ内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサ７０にて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得るから（ステップＳＴ９参照），殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度が高い初期段階において，赤外線式ガスセンサ７０にて正確に第１測定値を得ることができる。赤外線式ガスセンサは，ガス感度の安定性および再現性に優れているから，燻蒸作業を長期に亘って何度行ったとしても，第１測定値は，その度ごとに正確に得ることができる。
次いで，接触燃焼式ガスセンサ７０にて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得るが，このとき，接触燃焼式ガスセンサＤＳの感度が仮に低下していたとしても，上記第１測定値は正確に得られているから，補正値自体は正確に得ることができる（ステップＳＴ２１’参照）。
その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得るから，仮に，接触燃焼式ガスセンサの感度が長期運用により低下していたとしても，燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を経時的に正確に測定することが可能となる（ステップＳＴ２０〜３０参照）。
上記の補正は，燻蒸作業が行われる度になされるから，長期に亘って，正確なガス濃度測定を行うことが可能となる。
（ｂ）赤外線式ガスセンサ７０による測定は，燻蒸庫内空間の上下方向において２以上の箇所（この実施の形態では上中下の３箇所）で行い，それらの測定値が一致したとき，該測定値を第１測定値とするから（ステップＳＴ１７参照），第１測定値を，より正確に得ることができ，したがって，より正確な補正値を得ることができる。
（ｃ）第２測定値自体に関しても，前記補正値を乗じて，燻蒸庫内におけるガス濃度値を得るから，接触燃焼式ガスセンサＤＳによる初回の測定値である第２測定値を，補正値を得るためだけでなく，接触燃焼式ガスセンサＤＳに基づく初回のガス濃度値を得るのに利用できる。
（ｄ）赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，共通の導入経路（燻蒸ガス導入管２０およびこれに介装された弁ＳＶ１〜３，フィルタ２４，弁２５，ポンプＰ，弁ＳＶ５）で構成したので，前記補正値をより正確に得ることができる。
仮に，赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，個別に構成したとすると，赤外線式ガスセンサ７０に導入される燻蒸ガスの状態（例えば，温度や混合状態）と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じるおそれが生じ，前記補正値を正確に得ることができなくなるおそれが大きくなる。
これに対し，この実施の形態によれば，赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを共通の導入経路で構成したので，赤外線式ガスセンサ７０に導入される燻蒸ガスの状態と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じないか生じたとしてもその差異は著しく小さくなる。したがって，前記補正値をより正確に得ることができる。
【００６７】
以上，本発明の実施の形態について説明したが，本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく，本発明の要旨の範囲内において適宜変形実施可能である。
例えば，使用する燻蒸ガスは「エキヒューム」に限らず，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスとを含む燻蒸ガスを使用する場合には，本発明を適用し得る。
なお，この実施の形態では，第１測定値を第２測定値で割った値を補正値として得，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた測定値に該補正値を乗じた値をガス濃度値として得るようにしたが，第２測定値を第１測定値で割った値を補正値として用い，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた測定値を該補正値で割っても同一の結果が得られるから，両者は実質的に同一であり，したがって，請求項１はそのように読み替えることが可能である。
【符号の説明】
【００６８】
Ｃ 燻蒸庫
１ 燻蒸ガス濃度測定装置
Ｍ１ 第１測定手段
Ｍ２ 第２測定手段
２０ 燻蒸ガス導入管（導入経路）
６０ 制御部
７０ 赤外線式ガスセンサ
ＤＳ 接触燃焼式ガスセンサ
【技術分野】
【０００１】
本発明は，燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置に関するものである。より詳しくは，燻蒸庫（燻蒸室）内に燻蒸対象物（例えば文化財，美術品等）を収納し，燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れて燻蒸対象物を燻蒸する際に，燻蒸庫内における燻蒸ガスの濃度を経時的に測定するための燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来，文化財等の燻蒸に使用される燻蒸ガスは臭化メチルと酸化エチレンとの混合ガス(商品名「エキボン」)が主流であった。この従来の燻蒸ガス（エキボン）は臭化メチル，酸化エチレン共に殺菌・殺虫能力を有しているため，従来は，燻蒸庫内に投入する「エキボン」の総量を測定することで滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握することができた。
このため，従来は，光干渉計式ガス濃度計を用いて前記混合ガス(商品名「エキボン」)の濃度を測定すれば，燻蒸庫内における滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握することができた。
【０００３】
ところが近年，オゾンホール対策として上記「エキボン」に含まれている臭化メチルの使用が制限されたことから，文化財等の燻蒸には，エキボン以外の数種類のガスが使用されるようになってきた。
酸化エチレンと希釈用ガスであるＨＦＣ１３４ａ（Ｒ１３４ａ）との混合ガス（商品名「エキヒューム」）はそれら文化財燻蒸ガスの代表例であり，現在，多くの博物館や美術館で使用されている。
【０００４】
ところで，上述したように酸化エチレンは殺菌・殺虫能力を有しているが，上記「エキヒューム」に含まれているＨＦＣ１３４ａ(化学式：ＣＨ２ＦＣＦ３)は殺菌・殺虫能力を有していない。
また，「エキヒューム」の酸化エチレンとＨＦＣ１３４ａとの濃度比は１：２．５でＨＦＣ１３４ａの方が多い。さらに，燻蒸時，酸化エチレンは燻蒸対象物に吸着されるがＨＦＣ１３４ａは殆ど吸着されない。このため，燻蒸庫内においては，経時的かつ相対的に，殺菌・殺虫能力を有していないＨＦＣ１３４ａの濃度が濃くなる。
したがって，光干渉計式ガス濃度計を用いて上記「エキヒューム」の濃度測定（総量測定）を行っても（仮に経時的に行ったとしても），燻蒸庫内の滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握することはできない。
【０００５】
このため，上記「エキヒューム」を用いて燻蒸を行う場合において燻蒸庫内の滅菌（殺菌・殺虫）能力の程度を把握するためには，燻蒸庫内空間における，ＨＦＣ１３４ａ共存下での酸化エチレン濃度を測定する必要が生じる。
「エキヒューム」を用いて文化財等の燻蒸を行う上での酸化エチレン濃度は，燻蒸初期時で１．５〜２．０％，２４時間後で１％以上が必要とされる。
一方，「エキヒューム」に含まれる酸化エチレンは可燃性ガスであるから，接触燃焼式(触媒燃焼式)センサで爆発下限界濃度（３％）迄の濃度測定が可能である。
そこで現在，接触燃焼式センサを有する検知部を用いて，燻蒸時における燻蒸庫内空間の酸化エチレン濃度を経時的に計測するということが行われている。
【０００６】
図８は，接触燃焼式センサを用いた検知部による濃度測定の原理を説明する原理図である。
同図に示すように，検知部１０には，可燃性ガスの酸化反応に対して高い触媒活性を持つ白金やパラジウムからなり，定電流にて比較的低温度に熱せられるガス検知素子（接触燃焼式センサ）ＤＳが組み込まれている。被検気体中の可燃性ガスは，このガス検知素子に触れると触媒作用によって燃焼(触媒燃焼)し，燃焼によって生じた熱がガス検知素子ＤＳの電気抵抗を増大させる。電気抵抗の増大量は被検ガス中の可燃性ガスの濃度に比例するので，電気回路中のメーターＭにより濃度を表示することができる（例えば特許文献１，０００７〜０００９段落参照）。
なお，電気回路中のＣＳは，ガスの接触燃焼以外の温度変化および圧力変動による測定誤差を補償するための，不感処理を施した温度補償素子であり，検知素子と同一構成の素子をガラスで被覆した構成となっている。
文化財等の燻蒸は，通常，燻蒸庫内を負圧に維持した状態で行われることから，上記のような圧力変動に対応した検知部を用いることが望ましい。
【０００７】
現在，一般的に，燻蒸時における燻蒸庫内空間の酸化エチレン濃度の経時的計測は，以上のような検知部を用いて連続的に（例えば２４時間燻蒸する場合には２４時間連続して）行っている。
現在，実用に供される上記検知部１０のガス検知素子（接触燃焼式センサ）の主成分はパラジウムである。
一方，文化財等の燻蒸に用いられる「エキヒューム」に共存するＨＦＣ１３４ａの化学式はＣＨ２ＦＣＦ３であることから，そのＦ成分(フッ素)が触媒毒として前記ガス検知素子の触媒(主成分パラジウム)の機能を低下させる。
【０００８】
現在一般に行われている燻蒸庫内酸化エチレン濃度の測定では，燻蒸中，連続的に測定がなされるので，ガス検知素子が測定ガスである燻蒸ガスに連続して略常時接触する（暴露される）。このため，ガス検知素子の感度が経時的に低下し，正確な濃度測定を行うことができなくなるという問題が生じている。
上述したように，「エキヒューム」の酸化エチレンとＨＦＣ１３４ａとの濃度比は１：２．５でＨＦＣ１３４ａの方が多く，また，燻蒸時，酸化エチレンが燻蒸対象物に吸着されるのに対してＨＦＣ１３４ａは殆ど吸着されないことで経時的かつ相対的にＨＦＣ１３４ａの濃度が濃くなり，さらにまた，燻蒸中に追加投薬がなされることがあると，同様の理由でＨＦＣ１３４ａの濃度が更に濃くなることから触媒毒作用が加速されて，酸化エチレン濃度の正確な測定がより一層困難になる。
【０００９】
そこで本件出願人は，特許文献２に見られるように，燻蒸庫内可燃性ガス（酸化エチレン）濃度の測定を経時的にかつ正確に行うことを目的として，間欠的に所定時間のみ接触燃焼式センサへ燻蒸ガスを導入し，当該燻蒸ガス中の可燃性ガスの濃度を測定した後，接触燃焼式ガスセンサへ燻蒸ガスを含ないエアを導入して当該センサ回りの燻蒸ガス（したがって触媒毒）を掃気するようにした燻蒸ガス濃度測定装置をすでに提案し，実施している。
このような装置によれば，接触燃焼式センサが燻蒸ガスに接触する（暴露される）時間を短くし，それによって接触燃焼式センサの感度低下を抑制して，燻蒸庫内可燃性ガス濃度の測定を経時的にかつ従来に比べて正確に行うことが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−３２１２１６号公報
【特許文献２】特開２００７−２５６１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述したように，特許文献２記載の装置によれば，接触燃焼式センサが燻蒸ガスに接触する時間を短くすることで，接触燃焼式センサの感度低下を抑制することが可能になった。
しかしながら，この装置であっても，長期間運用する（燻蒸作業を何度も行う）と，やはり接触燃焼式センサの感度が次第に低下してくるという課題は依然として残っている。
本発明の目的は，上記課題を解決し，燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度測定を経時的にかつより正確に行うことができる燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために本発明の燻蒸ガス濃度測定方法は，燻蒸庫内に燻蒸対象物を収納し，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスと，を含む燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れて燻蒸対象物を燻蒸するに際し，
燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，前記第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，前記接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得ることを特徴とする。
この燻蒸ガス濃度測定方法によれば，次のような作用効果が得られる。
殺菌・殺虫用ガスと希釈用ガスとの混合ガスである燻蒸ガスを用いて燻蒸作業を行う過程において，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度は，燻蒸過程の初期段階においては高いが，燻蒸が進むにつれて，殺菌・殺虫用ガスは燻蒸対象に吸収されてゆくから，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度は次第に低くなって行く。
本発明において用いる殺菌・殺虫用ガスは，希釈用ガスに比べて赤外線吸収性が強い（赤外線吸収度合いが高い）から，燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度は，赤外線式ガスセンサによって測定することが可能である。赤外線式ガスセンサは，ガス感度の安定性および再現性に優れており，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度が高いとき，殺菌・殺虫用ガスの濃度を正確に測定することが可能である。しかし，上記相対濃度が低くなると，燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を赤外線式ガスセンサで正確に測定することは困難になる。
一方，接触燃焼式ガスセンサは，可燃性ガスに対してはその濃度に比例した信号を出力する。本発明において用いる殺菌・殺虫用ガスは可燃性ガスであるから，接触燃焼式ガスセンサは，本発明において用いる殺菌・殺虫用ガスに対しては，その濃度に比例した信号を出力する。しかし，本発明において用いる燻蒸ガスは触媒毒として作用する希釈用ガスを含んでいるので，測定時間が総体的に長くなる（燻蒸作業を何度も行う）につれて，接触燃焼式ガスセンサの感度は次第に低下してゆく。
この発明では，燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得るから，殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度が高い初期段階において，赤外線式ガスセンサにて正確に第１測定値を得ることができる。赤外線式ガスセンサは，ガス感度の安定性および再現性に優れているから，燻蒸作業を長期に亘って何度行ったとしても，第１測定値は，その度ごとに正確に得ることができる。
次いで，この発明では，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，前記第１測定値を第２測定値で割った補正値を得るが，このとき，接触燃焼式ガスセンサの感度が仮に低下していたとしても，上記第１測定値は正確に得られているから，補正値自体は正確に得ることができる。
その後，この発明では，経時的に，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得るから，仮に，接触燃焼式ガスセンサの感度が長期運用により低下していたとしても，燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を経時的に正確に測定することが可能となる。
上記の補正は，燻蒸作業が行われる度になされるから，長期に亘って，正確なガス濃度測定を行うことが可能となる。
望ましくは，前記赤外線式ガスセンサによる測定は，燻蒸庫内空間の上下方向において２以上の箇所で行い，それらの測定値が一致したとき，該測定値を前記第１測定値とする。
このようにすると，第１測定値を，より正確に得ることができ，したがって，より正確な補正値を得ることができる。
また望ましくは，前記第２測定値自体に関しても，前記補正値を乗じて，燻蒸庫内におけるガス濃度値を得る。
このようにすると，接触燃焼式ガスセンサによる初回の測定値である前記第２測定値を，前記補正値を得るためだけでなく，接触燃焼式ガスセンサに基づく初回のガス濃度値を得るのに利用できる。
また上記目的を達成するために本発明の燻蒸ガス濃度測定装置は，請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法を用いたガス濃度測定装置であって，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを赤外線式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第１測定値を得る第１測定手段と，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを接触燃焼式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第２測定値を得る第２測定手段と，
前記第１測定値を前記第２測定値で割って前記補正値を得るとともに，その補正値を記憶し，その後の前記第２測定手段による測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として得る制御部と，
を備えていることを特徴とする。
この燻蒸ガス濃度測定装置によれば，請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法による作用効果と同様な作用効果が得られる。
望ましくは，前記赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，前記接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，共通の導入経路で構成する。
このように構成すると，前記補正値をより正確に得ることができる。
仮に，赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，個別に構成したとすると，赤外線式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態と，接触燃焼式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じるおそれが生じ，前記補正値を正確に得ることができなくなるおそれが大きくなる。
これに対し，赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを共通の導入経路で構成すると，赤外線式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態と，接触燃焼式ガスセンサに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じないか生じたとしてもその差異は著しく小さくなる。したがって，前記補正値をより正確に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】燻蒸装置全体を示す図。
【図２】本発明に係る燻蒸ガス濃度測定装置の一実施の形態を示す配管及び回路図。
【図３】赤外線式ガスセンサによるガス濃度の測定原理を示す図。
【図４】赤外線式ガスセンサの回路図。
【図５】検知部および増幅回路の具体例を示す図。
【図６】測定シーケンスを示すフローチャート。
【図７】測定シーケンスを示すフローチャート。
【図８】接触燃焼式センサを用いた検知部による濃度測定の原理を説明する原理図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下，本発明に係る燻蒸ガス濃度測定方法およびその方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置の実施の形態について図面を参照して説明する。主として燻蒸ガス濃度測定装置について説明することで燻蒸ガス濃度測定方法についての説明ともする。
先ず，図１を参照して燻蒸装置およびその装置を用いた燻蒸作業の一例について説明し，次いで，燻蒸ガス濃度測定装置について説明する。
【００１５】
図１は燻蒸庫Ｃを含む燻蒸装置全体を示す図である。
図１に示す燻蒸装置１００は，燻蒸庫Ｃ内の温度を一定に保つための温度調整装置１０１と，燻蒸庫Ｃ内を負圧状態に保つための減圧装置１０２と，燻蒸ガスが充填されている燻蒸ガス容器１０３と，この燻蒸ガス容器１０３に配管１２１，燻蒸ガス元弁１２２，投薬速度調整弁１２３を介して接続されている気化器１０４と，燻蒸ガス容器１０３の重さを秤量する秤量器１０５と，気化器１０４からの燻蒸ガスを投薬弁１２４を介して燻蒸庫Ｃ内に供給するための配管１２５と，燻蒸庫Ｃ内のガス濃度を定期的に確認・記録するための燻蒸ガス濃度測定装置１と，庫内残留ガスを吸着装置１０７に送る排気装置１０６と，上記温度調整装置１０１，減圧装置１０２，気化器１０４，排気装置１０６，および投薬弁１２４の作動を制御する燻蒸制御盤１１０と，燻蒸庫Ｃ内の温度を測定するための温度計１１１と，燻蒸庫Ｃ内の気圧を測定するための圧力計１１２とを有している。温度計１１１，圧力計１１２はそれぞれ燻蒸制御盤１１０に接続されている。
【００１６】
燻蒸作業は，次のような投薬工程，燻蒸工程，および排気工程からなる。
投薬工程：
（１）燻蒸対象物（例えば文化財や美術品）Ｂを燻蒸庫Ｃに収納し，密閉する。
（２）燻蒸庫Ｃ内の温度を一定にする。
この工程は，温度計１１１の測定値に基づいて燻蒸制御盤１１０が温度調整装置１０１を制御することによって行われる。
（３）気化器１０４を一定温度に加温する
この工程は，気化器１０４に内蔵された図示しない温度センサの測定値に基づいて燻蒸制御盤１１０が気化器１０４を制御することによって行われる。
（４）燻蒸ガス容器１０３の重さを秤量器１０５で秤量する。
（５）燻蒸庫Ｃ内を適量減圧する。
この工程は，圧力計１１２の測定値に基づいて燻蒸制御盤１１０が減圧装置１０２を制御することによって行われる。
（６）投薬弁１２４，燻蒸ガス元弁１２２を開ける。
この作業は作業員によってなされる。投薬弁１２４は電磁弁であり，燻蒸制御盤１１０が備える図示しないスイッチを作業員が操作することで行われる。
（７）秤量器１０５を観測しながら投薬速度調整弁１２３にて燻蒸ガスを適量，適時間，気化器１０４に送る。
この作業は作業員によってなされる。この作業によって，燻蒸ガス容器１０３から適量の燻蒸ガスＧが，気化器１０４および配管１２５を経て燻蒸庫Ｃ内に供給（投薬）される。
例えば，燻蒸庫Ｃの容積が１０立方メートル＝１００００リットルであり，燻蒸ガスとして上述した「エキヒューム」を用いる場合，「エキヒューム」の有効滅菌剤は酸化エチレンであるから，燻蒸初期において酸化エチレンの濃度を例えば１．５％とするには，「エキヒューム」の投薬量は１９６４ｇとする。
なお，参考のために説明すると，この場合の上記投薬量は次のようにして算出することができる。
酸化エチレンの分子量は４４であり，酸化エチレン４４ｇが気化すると，２２．４リットルの容積になる。
この容積の，燻蒸庫Ｃの容積＝１００００リットルに対する割合は，
２２．４／１００００＝０．２２４％であるから，酸化エチレンの濃度を１．５％とするための倍率は１．５／０．２２４＝６．６９６倍となる。
そのときの酸化エチレン質量は６．６９６×４４＝２９４．６２４ｇであり，「エキヒューム」中の酸化エチレン割合は１５ｗｔ％であるから，
「エキヒューム投薬量」は２９４．６２４／０．１５＝１９６４ｇ
となる。
（８）燻蒸ガス元弁１２２，投薬弁１２４を閉じる。
（９）後に詳しく説明するように，燻蒸ガス濃度測定装置１にて燻蒸ガスＧが適量投薬されたことを確認する。
後述する上中下の測定結果が均等且つ所要の濃度に達していることを確認することで投薬工程が完了する。
【００１７】
燻蒸工程：
（１０）後に詳しく説明するように，燻蒸ガス濃度測定装置１にて燻蒸庫Ｃ内のガス濃度を定期的に確認・記録する。
【００１８】
排気工程：
（１１）排気装置１０６にて庫内残留ガスを吸着装置１０７に送る。
この作業は，燻蒸制御盤１１０が備える図示しない排気装置１０６作動用のスイッチを作業員が操作することで行われる。
（１２）後述する燻蒸ガス濃度測定装置１にて庫内残留ガス濃度が所定値以下になっていることを確認することで排気行程が終了し，燻蒸作業の全工程が完了する。。
【００１９】
図２は本発明に係る燻蒸ガス濃度測定方法を用いた燻蒸ガス濃度測定装置の一実施の形態を示す配管及び回路図である。
この燻蒸ガス濃度測定装置１は，上述したように，燻蒸庫Ｃ内に燻蒸対象物Ｂを収納し，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスと，を含む燻蒸ガスＧを燻蒸庫Ｃ内に入れて燻蒸対象物Ｂを燻蒸する際に，燻蒸庫Ｃ内における燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を経時的に測定するためのガス濃度測定装置である。
この実施の形態では，殺菌・殺虫用ガスとして酸化エチレンを，希釈用ガスとしてＨＦＣ１３４ａを有する「エキヒューム」を燻蒸ガスＧとして用いている。
【００２０】
図２に示すように，燻蒸ガス濃度測定装置１は，燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０に導入して燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得る第１測定手段Ｍ１と，
燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳに導入して燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得る第２測定手段Ｍ２と，
前記第１測定値を前記第２測定値で割って補正値を得るとともに，その補正値を記憶し，その後の前記第２測定手段Ｍ２による測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として得る制御部６０と，
を備えている。
【００２１】
第１測定手段Ｍ１は，赤外線式ガスセンサ７０と，この赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを導入する燻蒸ガス導入管２０およびこの燻蒸ガス導入管２０に介装された燻蒸ガス用電磁弁（ＳＶ１〜ＳＶ３）と，赤外線式ガスセンサ７０へ，燻蒸ガスＧを含ないエアＡを導入するエア導入管３０およびこのエア導入管３０に介装されたエア用電磁弁（ＳＶ４−１）と，を有している。
【００２２】
図３は赤外線式ガスセンサ７０によるガス濃度の測定原理を示す図である。
赤外線式ガスセンサ７０は，測定セル７１，赤外線源７２，検出ガスに対応したガス検出側帯域フィルタ７３ｆ，ガス検出側センサ７３ｓ，参照側帯域フィルタ７４ｆ，参照側センサ７４ｓ，およびこれらセンサの信号を増幅してガス濃度信号（測定信号）として出力する増幅器７５とを備えている。
赤外線源７２から放射された赤外線は，被検ガスにて吸収された波長以外が帯域フィルタで除去された後にガス検出側センサ７３ｓに到達する。
上記吸収の度合いがガス濃度に比例することから，濃度を知ることができる。
すなわち，赤外線式ガスセンサ７０は，赤外線がガスによって吸収される度合いがガス濃度に比例することを利用してガス濃度を測定するセンサである。
【００２３】
殺菌・殺虫用ガスと希釈用ガスとの混合ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を赤外線式ガスセンサ７０で測定するためには，測定対象である殺菌・殺虫用ガスの赤外線吸収度合い（赤外線吸収性）が希釈用ガスによる赤外線吸収度合いに比べて高い必要がある。この実施の形態で用いる酸化エチレンによる赤外線吸収度合い（赤外線吸収性）はＨＦＣ１３４ａによる赤外線吸収度合いに比べて数倍高いので，燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度を赤外線式ガスセンサ７０で測定することが可能である。
図２に示す赤外線式ガスセンサ７０にて得られたガス濃度信号（ＩＲ Ｇａｓ ｓｉｇ）は制御部６０へ送出される。
なお，図４に赤外線式ガスセンサ７０の具体的な回路図の一例を示す。
【００２４】
図２に示すように，第２測定手段Ｍ２は，燻蒸ガスＧ中の可燃性ガスである酸化エチレンと接触して触媒燃焼を生じさせる触媒を有し，触媒燃焼による燃焼熱で電気抵抗値が変動する接触燃焼式ガスセンサＤＳと，この接触燃焼式ガスセンサＤＳの電気抵抗値の変動量を電気量に変換する電気回路とを有する検知部１０と，
燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入する燻蒸ガス導入管２０およびこの燻蒸ガス導入管２０に介装された燻蒸ガス用電磁弁（ＳＶ１〜ＳＶ３）と，
接触燃焼式ガスセンサＤＳへ，燻蒸ガスＧを含ないエアＡを導入するエア導入管３０およびこのエア導入管３０に介装されたエア用電磁弁（ＳＶ４−１）と，を有している。
【００２５】
接触燃焼式センサＤＳは，図８を参照して先に説明したセンサ（パラジウムを主成分としたセンサ）で構成されている。また，検知部１０は図８を参照して先に説明した原理に即した電気回路を有している。
１１は検知部１０からのセンサ出力を増幅するための増幅回路である。
【００２６】
図５に上記検知部１０および増幅回路１１の具体例を示す。
図５に示すように，この実施の形態では，ガスの接触燃焼以外の温度変化および圧力変動による測定誤差（すなわち燻蒸庫Ｃ内の温度変化および圧力変動による測定誤差）を補償すべく，温度補償素子ＣＳに対しても，接触燃焼式ガスセンサＤＳに対してと同様に，燻蒸ガスＧまたはエアＡを導入する。
【００２７】
この実施の形態における文化財等の燻蒸は，燻蒸庫Ｃ内を負圧に維持した状態で行われることから，上記のような圧力変動に対応した検知部１０を用いる。
図５において，ＤＳ１は接触燃焼式ガスセンサＤＳが収納され，燻蒸ガスＧまたはエアＡが導入されるガスチャンバ，ＣＳ１は温度補償素子ＣＳが収納され，燻蒸ガスＧまたはエアＡが導入されるガスチャンバである。
これらチャンバＤＳ１，ＣＳ１は連通路１２で連通している。チャンバＤＳ１の入り口に燻蒸ガス導入管２０（エア導入管３０でもある）が赤外線式ガスセンサ７０および連通管２０ｂを介して接続され，チャンバＣＳ１の出口に後述する排気管５１（図２参照）が接続される。
接触燃焼式ガスセンサＤＳを備えた検知部１０にて得られたガス濃度信号（ＣＣ Ｇａｓ ｓｉｇ）は制御部６０へ送出される。
【００２８】
図２に示すように，燻蒸ガス導入管２０は，その一端が赤外線式ガスセンサ７０に接続され，さらに赤外線式ガスセンサ７０から連通管２０ｂを介して接触燃焼式ガスセンサＤＳに接続されている。燻蒸ガス導入管２０の他端は，３本の採気管２１，２２，２３に分岐されて燻蒸庫Ｃに接続されている。
採気管２１は燻蒸庫Ｃの上部に接続されて燻蒸ガスの上部採気口２１ａを形成し，採気管２２は燻蒸庫Ｃの中程に接続されて燻蒸ガスの中部採気口２２ａを形成し，採気管２３は燻蒸庫Ｃの下部に接続されて燻蒸ガスの下部採気口２３ａを形成している。
採気管２１，２２，２３には，ぞれぞれ，前述した燻蒸ガス用電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３と，エアフィルタ２４と，手動操作バルブ２５とが介装されている。３つの手動操作バルブ２５は，燻蒸ガス濃度測定開始時に全て手動で開けられる。
【００２９】
エア導入管３０は，その一部が上記燻蒸ガス導入管２０と共通の管で構成されていて一端が赤外線式ガスセンサ７０に接続され，さらに赤外線式ガスセンサ７０から連通管２０ｂを介して接触燃焼式ガスセンサＤＳに接続されている。エア導入管３０の他端は，エアフィルタ３１を介して大気に開放されている。エア導入管３０には前述したエア用電磁弁ＳＶ４−１が介装されている。
【００３０】
燻蒸ガス導入管２０およびエア導入管３０の共通管部分にはポンプＰと第１切換弁（三方電磁弁）ＳＶ５とが介装されている。
以上から分かるように，赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを導入する導入経路とは，共通の導入経路で構成されている。
【００３１】
第１切換弁ＳＶ５にはバイパス管５０が接続されている。第１切換弁ＳＶ５は，通常，バイパス管５０側に切り替わっている（図中「ＮＯ」参照）。
接触燃焼式ガスセンサＤＳの他端には，排気管５１が接続され，この排気管５１と上記バイパス管５０とが，合流部５２で合流し，その合流管５３の先端に第２切換弁（三方電磁弁）ＳＶ４−２が設けられている。
【００３２】
第２切換弁ＳＶ４−２には，赤外線式ガスセンサ７０を通過し，接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後の燻蒸ガスＧを燻蒸庫Ｃ内へ戻すための燻蒸ガス戻し管５４が接続されている。燻蒸ガス戻し管５４には手動操作バルブ５５が設けられている。この手動操作バルブ５５は，燻蒸ガス濃度測定時に手動で開けられる。第２切換弁ＳＶ４−２は，通常，燻蒸ガス戻し管５４側を閉じている（図中「ＮＣ」参照）。この第２切換弁ＳＶ４−２は，後述するように，エア排気手段を構成する。
なお，排気管５１には，上記バイパス管５０との合流部５２と接触燃焼式ガスセンサＤＳの間において，逆止弁５６が設けられている。
【００３３】
制御部６０は，少なくとも赤外線式ガスセンサ７０にて得られた第１測定値と検知部１０にて得られた第２測定値を記憶する記憶手段（ＲＡＭ）８０と，第１測定値を第２測定値で割って補正値を得ることができる演算手段とを有している。その補正値は記憶手段８０に記憶される。演算手段は，第２測定手段Ｍ２による測定値に前記補正値を乗じた値を得ることができる演算手段である。
【００３４】
制御部６０は，上記第１測定値を得るための制御モードである投薬モードと，上記第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得るための制御モードである燻蒸モードとを備えており，これら投薬モードと燻蒸モードとを切り替えるモード切替スイッチ９０を有している。各モードによる制御については後述する。
【００３５】
制御部６０は，燻蒸ガス用電磁弁（ＳＶ１〜ＳＶ３）とエア用電磁弁（ＳＶ４−１）とを後述するように，間欠的に作動させて，所定時間のみ赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ燻蒸ガスＧを導入させて当該燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定させ，また，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへエアＡを導入させてこれらセンサ回りの燻蒸ガスＧを掃気させる，という動作を間欠的に繰り返し実行させる。なお，４０はその制御用中継基板である。
また，この実施の形態では，制御部６０は，測定結果等を表示するための表示部とプリンタを備えている。
【００３６】
上記電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３，ＳＶ４−１，第１切換弁ＳＶ５，第２切換弁ＳＶ４−２，およびポンプＰは，それぞれ制御部６０に電気的に接続されており，その作動が制御部６０によって後述するように制御される。
前述した赤外線式ガスセンサ７０，および増幅回路１１は制御部６０に接続されており，赤外線式ガスセンサ７０および増幅回路１１からの出力信号（ガス濃度信号）は，制御部６０が備えるＡ／Ｄ変換器にてそれぞれＡ／Ｄ変換され，所定の演算処理がなされて表示部に濃度測定結果としてデジタル表示される。なお，測定結果はプリンタにてプリントアウトすることが可能である。
【００３７】
制御部６０は，タイマ機能を備えており，このタイマ機構によって，この測定装置のユーザーが測定待機時間を設定することができるようになっている。制御部６０は，ユーザーによって設定された上記測定待機時間に基づき，上記電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３，ＳＶ４−１，第１切換弁ＳＶ５，第２切換弁ＳＶ４−２，およびポンプＰを後述のように作動させて燻蒸庫Ｃ内の酸化エチレン濃度を経時的に測定させる。なお，測定動作を行う際には，前述したように，手動操作バルブ２５，５５は予め開いておく。また，前述したように，第１切換弁ＳＶ５は，通常，バイパス管５０側に切り替わっており，第２切換弁ＳＶ４−２は，通常，燻蒸ガス戻し管５４側を閉じている。
制御部６０は，上述したような演算および制御を可能とする演算・制御プログラムが格納されたマイクロコントローラで構成されている。
【００３８】
以下，前述した燻蒸作業における各工程と対応させて，制御部６０による測定シーケンスについて説明する。
図６および図７は制御部６０による測定シーケンスを示すフローチャートである。
図６は投薬モードによるシーケンスを示しており，図７は燻蒸モードによるシーケンスを示している。なお，図７に示す燻蒸モードにおけるシーケンスは，制御部６０が備えるタイマーにより，６０分おきに燻蒸ガスＧの測定動作を３分間行うように設定された場合を示している。
【００３９】
燻蒸作業の前述した投薬工程を行う際に，当該投薬工程における上記（１）〜（８）の作業を行った後，すなわち燻蒸ガス元弁１２２，投薬弁１２４を閉じた後，（９）の作業すなわち，燻蒸ガス濃度測定装置１にて燻蒸ガスＧが適量投薬されたことの確認作業を行うべく，モード切替スイッチ９０を投薬モードに設定し，燻蒸ガス濃度測定装置１を作動させる。これにより，制御部６０は，図６に示す下記シーケンスを実行する。
【００４０】
（１）ステップＳＴ１で測定がスタートし，ステップＳＴ２〜７で採気管２１，２２，２３内のガス置換を以下のようにして行う。
（２）ステップＳＴ２で，ポンプＰを作動させるとともに，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，５８秒間，採気管２１を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを第１切換弁ＳＶ５まで吸引する。
この際，前述したように，第１切換弁ＳＶ５はバイパス管５０側に切り替わっており，第２切換弁ＳＶ４−２は燻蒸ガス戻し管５４側に切り替わっているので，採気管２１を通じて吸引された燻蒸ガスＧは，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されることなく，バイパス管５０，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
（３）ステップＳＴ３で，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＦＦ（閉）するとともに，ポンプＰを停止させる（これらの動作に２秒間かかる）。
【００４１】
（４）ステップＳＴ４で，ポンプＰを作動させるとともに，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＮ（開）し，５８秒間，採気管２２を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを第１切換弁ＳＶ５まで吸引する。
この際，前述したと同様，第１切換弁ＳＶ５はバイパス管５０側に切り替わっており，第２切換弁ＳＶ４−２は燻蒸ガス戻し管５４側に切り替わっているので，採気管２２を通じて吸引された燻蒸ガスＧは，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されることなく，バイパス管５０，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
（５）ステップＳＴ５で，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＦＦ（閉）するとともに，ポンプＰを停止させる（これらの動作に２秒間かかる）。
【００４２】
（６）ステップＳＴ６で，ポンプＰを作動させるとともに，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＮ（開）し，５８秒間採気管２３を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを第１切換弁ＳＶ５まで吸引する。
この際，前述したと同様，採気管２３を通じて吸引された燻蒸ガスＧは，バイパス管５０，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
（７）ステップＳＴ７で，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＦＦ（閉）するとともに，ポンプＰを停止させる（これらの動作に２秒間かかる）。
【００４３】
以上のようなステップＳＴ２〜ＳＴ７の動作により，採気管２１，２２，２３内のガスが，燻蒸ガスＧで満たされる。なお，このステップＳＴ２〜ＳＴ７においては，燻蒸ガスＧは第１切換弁ＳＶ５までは導入されるが，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されることなく燻蒸庫Ｃ内へ戻されるので，燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定は行われない。
【００４４】
ステップＳＴ８以降で測定動作を行わせる。
この実施の形態では，先ずステップＳＴ８〜ＳＴ１７で，赤外線式ガスセンサ７０にて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで図７に示すステップＳＴ２０〜ＳＴ３７で，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に補正値を乗じた値を，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得る。
【００４５】
（８）ステップＳＴ８で，第１測定値を得るための測定動作を開始するが，先ず，ゼロ調整を行う。すなわち，ポンプＰを作動させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第１切換弁ＳＶ５を赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳ側に，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入する。赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，赤外線式ガスセンサ７０の測定セル７１を通過し連通管２０ｂを経て接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
ゼロ調整は，制御部６０が，このエア導入中において，赤外線式ガスセンサ７０の出力が安定した時点で，測定値をゼロに設定する（すなわち測定値をリセットする）ことにより行われる。
上記ゼロ調整後（すなわち３８秒経過後）エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。
【００４６】
（９）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ９で，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間，採気管２１を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の殺菌・殺虫用ガス（酸化エチレン）の濃度の測定を赤外線式ガスセンサ７０にて行う。これによって，燻蒸庫Ｃ内の上部における酸化エチレン濃度が測定される。
なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳにも燻蒸ガスＧは導入されるが，第１測定値が得られるまでは（ステップＳＴ１９までは），接触燃焼式ガスセンサＤＳによる測定は行わない（モード切替スイッチ９０が投薬モードになっているとき，接触燃焼式ガスセンサＤＳの信号は制御部６０において無視される）。
酸化エチレンの濃度測定は，制御部６０が，この燻蒸ガスＧの導入中において，赤外線式ガスセンサ７０の出力が安定した時点で，ガス濃度計算を行い，その結果を記憶手段８０に記憶させるとともに表示部（６０）に表示させることにより行われる。
なお，赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後，排気管５１，合流管５３，第２切換弁ＳＶ４−２，および燻蒸ガス戻し管５４を経て燻蒸庫Ｃ内（燻蒸庫Ｃの上部）へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ１をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１を閉じる（ＯＦＦする）。
（１０）上記電磁弁ＳＶ１を閉じるとともに，ステップＳＴ１０で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００４７】
（１１）ステップＳＴ１１でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ８同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを赤外線式ガスセンサ７０へ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入されたエアは，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
【００４８】
（１２）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ１２で，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間採気管２２を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０へ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定，記憶，表示を先と同様に行う。これによって，燻蒸庫Ｃ内の中程における酸化エチレン濃度が測定される。
なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様，燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ２をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２を閉じる（ＯＦＦする）。
（１３）上記電磁弁ＳＶ２を閉じるとともに，ステップＳＴ１３で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００４９】
（１４）ステップＳＴ１４でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ８同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを赤外線式ガスセンサ７０へ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入されたエアは，先と同様，大気中へ排出される。
【００５０】
（１５）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ１５で，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間，採気管２３を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを赤外線式ガスセンサ７０へ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定，記憶，表示を先と同様に行う。これによって，燻蒸庫Ｃ内の下部における酸化エチレン濃度が測定される。なお，赤外線式ガスセンサ７０へ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ３をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３を閉じる（ＯＦＦする）。
（１６）上記電磁弁ＳＶ３を閉じるとともに，ステップＳＴ１６で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００５１】
（１７）以上のステップＳＴ８〜ＳＴ１６で第１測定値に関する１回（１サイクル）の測定動作が終了する。ステップＳＴ１７では，上記ステップ９，１２，１５にて得られ記憶されていた測定値，すなわち，燻蒸庫Ｃにおける上部（ＣＨ．１），中部（ＣＨ．２），下部（ＣＨ．３）の測定値を比較し，それらの測定値が均等であるか否かを判断する。また，その測定値が所定値（この場合１．５％）に達しているか否かを判断する。
ＣＨ．１〜３の測定値が均等でないかあるいは所定値に達していない場合には，上記ステップＳＴ８〜１７を繰り返す。
ＣＨ．１〜３の測定値が均等で（測定値が一致し）かつ所定値に達している場合には，図７に示すステップＳＴ１８以降の燻蒸モードに進む。燻蒸モードへの切替は，モード切替スイッチ９０を切り替えることによってなされる。ステップＳＴ１７における判断およびモード切替スイッチ９０の切替動作は，作業者（人手）によって行うこともできるし，制御部６０が行うようにすることもできる。
なお，「測定値が一致（均等）」であるか否かは，測定精度との関係で適宜決定することができる。例えば本発明を実施する上で，また赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳの測定精度との関係で０．１％レベルでの一致が望ましい（求められる，あるいはそれで十分である）のであればそのように決定すればよいし，０．０１％レベルでの一致が望ましい（求められる，あるいはそれで十分である）のであればそのように決定すればよい。
【００５２】
（１８）モード切替スイッチ９０が燻蒸モードに切り替えられることで，ステップＳＴ１８で燻蒸モードに入る。
（１９）ステップＳＴ１９では，上記ステップＳＴ１７においてＣＨ．１〜３の測定値が均等で（測定値が一致し）かつ所定値に達していると判断された際の，その測定値を第１測定値として記憶手段８０に記憶させる。この実施の形態では，ＣＨ．１の測定値を第１測定値として記憶させるが，ＣＨ．１〜３の測定値は一致しているから，ＣＨ．２またはＣＨ．３の測定値を第１測定値として記憶させることもできる。
【００５３】
（２０）ステップＳＴ２０で，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値（酸化エチレン濃度値）を経時的に得るための測定動作を開始するが，先ず，ゼロ調整を行う。すなわち，ポンプＰを作動させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第１切換弁ＳＶ５を赤外線式ガスセンサ７０および接触燃焼式ガスセンサＤＳ側に，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入する。接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，接触燃焼式ガスセンサＤＳに接触した後，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
ゼロ調整は，制御部６０が，このエア導入中において，接触燃焼式ガスセンサＤＳの出力が安定した時点で，測定値をゼロに設定する（すなわち測定値をリセットする）ことにより行われる。
上記ゼロ調整後（すなわち３８秒経過後）エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。
【００５４】
（２１’）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ２１’で，採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間，採気管２１を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定を行う。
なお，赤外線式ガスセンサ７０にも燻蒸ガスＧは導入されるが，上記第１測定値が得られた後（ステップＳＴ２０以降は），赤外線式ガスセンサ７０による測定は行わない（モード切替スイッチ９０が燻蒸モードになっているとき，赤外線式ガスセンサ７０の信号は制御部６０において無視される）。
接触燃焼式ガスセンサＤＳによる酸化エチレンの濃度測定値は，制御部６０が，燻蒸ガスＧの導入中において，接触燃焼式ガスセンサＤＳの出力が安定した時点で，ガス濃度計算を行うことによって得られる。
このステップＳＴ２１’では，上のようにして接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた第１回目の測定値を第２測定値とし，この第２測定値で前記第１測定値を割った値を補正値として記憶手段８０に記憶させる。
上のようにして接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた第１回目の測定値が，例えば１．３％であったとしたら，この測定値＝１．３％を第２測定値とし，この第２測定値＝１．３％で前記第１測定値（例えば１．５％）を割った値である１．１５３８４６１５４を補正値として記憶手段８０に記憶させる。
またこのステップＳＴ２１’では，上記第１回目の測定値に上記補正値を乗じた１．５％を，燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として表示部（６０）に表示させる。これによって，燻蒸庫Ｃ内の上部における酸化エチレン濃度（すなわち殺菌・殺虫能力）を把握することができる。
接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様，燻蒸庫Ｃ内（燻蒸庫Ｃの上部）へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ１をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２１（ＣＨ．１）の電磁弁ＳＶ１を閉じる（ＯＦＦする）。
【００５５】
なお，このステップＳＴ２１’は，接触燃焼式ガスセンサＤＳによる第１回目の測定時にのみ実行され，第２回目以降の測定時には実行されない。第２回目以降の測定時には，ステップＳＴ２１が実行される。
ステップＳＴ２１がステップＳＴ２１’と異なる点は，補正値を算出せず，したがってまた補正値を記憶させない点にあり，その他の点に変わりはない。
【００５６】
（２２）上記電磁弁ＳＶ１を閉じるとともに，ステップＳＴ２２で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００５７】
（２３）ステップＳＴ２３でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ２０同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
【００５８】
（２４）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ２４で，採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間採気管２２を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定を先と同様に行う。
そして，その測定値に，上記ステップＳＴ２１’で得られた補正値（＝１．１５３８４６１５４）を乗じた値を算出し，その値を燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として表示部（６０）に表示させる。これによって，燻蒸庫Ｃ内の中程における酸化エチレン濃度（すなわち殺菌・殺虫能力）を把握することができる。
なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ２をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２２（ＣＨ．２）の電磁弁ＳＶ２を閉じる（ＯＦＦする）。
（２５）上記電磁弁ＳＶ２を閉じるとともに，ステップＳＴ１３で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００５９】
（２６）ステップＳＴ２６でポンプＰを作動させるとともに，ステップＳＴ２０同様，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入し，ゼロ調整を行った後，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入されたエアは，大気中へ排出される。
【００６０】
（２７）上記エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じるとともに，ステップＳＴ２７で，採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３をＯＮ（開）し，かつ，第２切換弁ＳＶ４−２を燻蒸ガス戻し管５４側に切り替えて，２０秒間採気管２３を通じて燻蒸庫Ｃ内の燻蒸ガスＧを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して燻蒸ガスＧ中の酸化エチレン濃度の測定を先と同様に行う。
そして，その測定値に，上記ステップＳＴ２１’で得られた補正値（＝１．１５３８４６１５４）を乗じた値を算出し，その値を燻蒸庫Ｃ内におけるガス濃度値として表示部（６０）に表示させる。これによって，燻蒸庫Ｃ内の下部における酸化エチレン濃度（すなわち殺菌・殺虫能力）を把握することができる。
なお，接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入された燻蒸ガスＧは，先と同様燻蒸庫Ｃ内へ戻される。
上記濃度測定後（電磁弁ＳＶ３をＯＮしてから２０秒経過後），採気管２３（ＣＨ．３）の電磁弁ＳＶ３を閉じる（ＯＦＦする）。
（２８）上記電磁弁ＳＶ３を閉じるとともに，ステップＳＴ２８で，ポンプＰを２秒間停止させる。
【００６１】
以上のステップＳＴ２０〜ＳＴ２８で接触燃焼式ガスセンサＤＳおよび補正値を用いた１回（１サイクル）の測定動作が終了するが，上記ステップ２８が終了した時点では，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸ガスＧが導入されたままであるので，これを放置すると，接触燃焼式ガスセンサＤＳが燻蒸ガスＧに含まれるＨＦＣ１３４ａ（触媒毒）との接触によって，感度低下を来す。
【００６２】
そこで，この実施の形態では，以下のステップＳＴ２９で掃気動作を行う。すなわち，
（２９）ステップＳＴ２９で，ポンプＰを作動させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１をＯＮ（開）し，かつ，第２換弁ＳＶ４−２をエア排気側（図２中「ＮＯ」参照）に切り替えて，３８秒間エアを接触燃焼式ガスセンサＤＳへ導入して接触燃焼式ガスセンサＤＳのガスチャンバＤＳ１内（図５参照）および温度補償素子ＣＳのガスチャンバＣＳ１内を掃気する。上記チャンバ内を掃気したエアは，排気管５１，合流管５３，および第２切換弁ＳＶ４−２を経て大気中へ排出される。
なお，上記掃気動作後，ポンプＰを停止させるとともに，エア用電磁弁ＳＶ４−１を閉じる。
【００６３】
（３０）その後，ステップＳＴ３０で上記ステップＳＴ２０〜ステップＳＴ２８で得られた測定結果，すなわち，補正値により補正されたガス濃度値とその測定時刻とをプリンタでプリントアウトさせる。
【００６４】
（３１）ステップＳＴ３１で待機状態に入る。
待機状態においては，ユーザーが設定した待機時間，上記測定動作が停止される。
待機時間は，例えば６０分ごとに上記測定動作を行う場合には，６０分から測定動作に要する時間（例えば７分）を引いた値（５３分）が設定される。
【００６５】
待機時間が経過した後，ステップＳＴ３２〜３７で採気管２１，２２，２３内のガス置換を行う。このガス置換動作は，前述したステップＳＴ２〜７による動作と同一であるので，その説明は省略する。
ステップＳＴ３２〜３７の動作により，採気管２１，２２，２３内のガスは，１サイクル経過後（上記の例では６０分経過後）の燻蒸ガスＧで満たされる。
その後，上記ステップＳＴ２０以降の制御を繰り返す。例えば，２４時間の測定が必要な場合には，２４時間経過するまで繰り返す。
その後，前述した排気行程がなされ，燻蒸作業が終了する。
【００６６】
以上のような燻蒸ガス濃度測定方法ないし燻蒸ガス濃度測定装置１によれば次のような作用効果が得られる。
（ａ）燻蒸ガスＧを燻蒸庫Ｃ内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサ７０にて燻蒸庫Ｃ内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得るから（ステップＳＴ９参照），殺菌・殺虫用ガスの希釈用ガスに対する相対濃度が高い初期段階において，赤外線式ガスセンサ７０にて正確に第１測定値を得ることができる。赤外線式ガスセンサは，ガス感度の安定性および再現性に優れているから，燻蒸作業を長期に亘って何度行ったとしても，第１測定値は，その度ごとに正確に得ることができる。
次いで，接触燃焼式ガスセンサ７０にて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，第１測定値を第２測定値で割った補正値を得るが，このとき，接触燃焼式ガスセンサＤＳの感度が仮に低下していたとしても，上記第１測定値は正確に得られているから，補正値自体は正確に得ることができる（ステップＳＴ２１’参照）。
その後，経時的に，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得るから，仮に，接触燃焼式ガスセンサの感度が長期運用により低下していたとしても，燻蒸庫内における殺菌・殺虫用ガスの濃度を経時的に正確に測定することが可能となる（ステップＳＴ２０〜３０参照）。
上記の補正は，燻蒸作業が行われる度になされるから，長期に亘って，正確なガス濃度測定を行うことが可能となる。
（ｂ）赤外線式ガスセンサ７０による測定は，燻蒸庫内空間の上下方向において２以上の箇所（この実施の形態では上中下の３箇所）で行い，それらの測定値が一致したとき，該測定値を第１測定値とするから（ステップＳＴ１７参照），第１測定値を，より正確に得ることができ，したがって，より正確な補正値を得ることができる。
（ｃ）第２測定値自体に関しても，前記補正値を乗じて，燻蒸庫内におけるガス濃度値を得るから，接触燃焼式ガスセンサＤＳによる初回の測定値である第２測定値を，補正値を得るためだけでなく，接触燃焼式ガスセンサＤＳに基づく初回のガス濃度値を得るのに利用できる。
（ｄ）赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，共通の導入経路（燻蒸ガス導入管２０およびこれに介装された弁ＳＶ１〜３，フィルタ２４，弁２５，ポンプＰ，弁ＳＶ５）で構成したので，前記補正値をより正確に得ることができる。
仮に，赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，個別に構成したとすると，赤外線式ガスセンサ７０に導入される燻蒸ガスの状態（例えば，温度や混合状態）と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じるおそれが生じ，前記補正値を正確に得ることができなくなるおそれが大きくなる。
これに対し，この実施の形態によれば，赤外線式ガスセンサ７０に燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを共通の導入経路で構成したので，赤外線式ガスセンサ７０に導入される燻蒸ガスの状態と，接触燃焼式ガスセンサＤＳに導入される燻蒸ガスの状態との間に大きな差異が生じないか生じたとしてもその差異は著しく小さくなる。したがって，前記補正値をより正確に得ることができる。
【００６７】
以上，本発明の実施の形態について説明したが，本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく，本発明の要旨の範囲内において適宜変形実施可能である。
例えば，使用する燻蒸ガスは「エキヒューム」に限らず，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスとを含む燻蒸ガスを使用する場合には，本発明を適用し得る。
なお，この実施の形態では，第１測定値を第２測定値で割った値を補正値として得，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた測定値に該補正値を乗じた値をガス濃度値として得るようにしたが，第２測定値を第１測定値で割った値を補正値として用い，接触燃焼式ガスセンサＤＳにて得られた測定値を該補正値で割っても同一の結果が得られるから，両者は実質的に同一であり，したがって，請求項１はそのように読み替えることが可能である。
【符号の説明】
【００６８】
Ｃ 燻蒸庫
１ 燻蒸ガス濃度測定装置
Ｍ１ 第１測定手段
Ｍ２ 第２測定手段
２０ 燻蒸ガス導入管（導入経路）
６０ 制御部
７０ 赤外線式ガスセンサ
ＤＳ 接触燃焼式ガスセンサ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燻蒸庫内に燻蒸対象物を収納し，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスと，を含む燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れて燻蒸対象物を燻蒸するに際し，
燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，前記第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，前記接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得ることを特徴とする燻蒸ガス濃度測定方法。
【請求項２】
前記赤外線式ガスセンサによる測定は，燻蒸庫内空間の上下方向において２以上の箇所で行い，それらの測定値が一致したとき，該測定値を前記第１測定値とすることを特徴とする請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法。
【請求項３】
前記第２測定値自体に関しても，前記補正値を乗じて，燻蒸庫内におけるガス濃度値を得ることを特徴とする請求項１または２記載の燻蒸ガス濃度測定方法。
【請求項４】
請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法を用いたガス濃度測定装置であって，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを赤外線式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第１測定値を得る第１測定手段と，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを接触燃焼式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第２測定値を得る第２測定手段と，
前記第１測定値を前記第２測定値で割って前記補正値を得るとともに，その補正値を記憶し，その後の前記第２測定手段による測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として得る制御部と，
を備えていることを特徴とする燻蒸ガス濃度測定装置。
【請求項５】
前記赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，前記接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，共通の導入経路で構成したことを特徴とする請求項４記載の燻蒸ガス濃度測定装置。
【請求項１】
燻蒸庫内に燻蒸対象物を収納し，殺菌・殺虫性および可燃性ならびに赤外線吸収性を有する殺菌・殺虫用ガスと，この殺菌・殺虫用ガスよりも弱い赤外線吸収性を有しかつ触媒毒として作用する希釈用ガスと，を含む燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れて燻蒸対象物を燻蒸するに際し，
燻蒸ガスを燻蒸庫内に入れた後，先ず赤外線式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第１測定値を得，次いで，接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して第２測定値を得るとともに，前記第１測定値を第２測定値で割った補正値を得，その後，経時的に，前記接触燃焼式ガスセンサにて燻蒸庫内における前記殺菌・殺虫用ガスの濃度を間欠的に繰り返し測定し，その測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として間欠的に繰り返し得ることを特徴とする燻蒸ガス濃度測定方法。
【請求項２】
前記赤外線式ガスセンサによる測定は，燻蒸庫内空間の上下方向において２以上の箇所で行い，それらの測定値が一致したとき，該測定値を前記第１測定値とすることを特徴とする請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法。
【請求項３】
前記第２測定値自体に関しても，前記補正値を乗じて，燻蒸庫内におけるガス濃度値を得ることを特徴とする請求項１または２記載の燻蒸ガス濃度測定方法。
【請求項４】
請求項１記載の燻蒸ガス濃度測定方法を用いたガス濃度測定装置であって，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを赤外線式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第１測定値を得る第１測定手段と，
燻蒸庫内の燻蒸ガスを接触燃焼式ガスセンサに導入して燻蒸ガス中の殺菌・殺虫用ガスの濃度を測定して前記第２測定値を得る第２測定手段と，
前記第１測定値を前記第２測定値で割って前記補正値を得るとともに，その補正値を記憶し，その後の前記第２測定手段による測定値に前記補正値を乗じた値を，燻蒸庫内におけるガス濃度値として得る制御部と，
を備えていることを特徴とする燻蒸ガス濃度測定装置。
【請求項５】
前記赤外線式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路と，前記接触燃焼式ガスセンサに燻蒸庫内の燻蒸ガスを導入する導入経路とを，共通の導入経路で構成したことを特徴とする請求項４記載の燻蒸ガス濃度測定装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１０−２４９５２８（Ｐ２０１０−２４９５２８Ａ）
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−９６０４３（Ｐ２００９−９６０４３）
【出願日】平成２１年４月１０日（２００９．４．１０）
【出願人】（５０００９８１４９）株式会社東科精機 (5)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月１０日（２００９．４．１０）
【出願人】（５０００９８１４９）株式会社東科精機 (5)
【Ｆターム（参考）】
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