画像表示パネル、画像表示装置及び画像表示パネルの製造方法
【課題】本発明は、例えば有機ＥＬ素子等の自発光素子を使用したアクティブマトリックス型の画像表示装置に適用して、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止する。
【解決手段】本発明は、画像表示用の自発光素子６とは逆側に、輝度調整に使用するモニタ用の自発光素子２６Ｄからモニタ用光Ｌ１Ｄを出射する。
【解決手段】本発明は、画像表示用の自発光素子６とは逆側に、輝度調整に使用するモニタ用の自発光素子２６Ｄからモニタ用光Ｌ１Ｄを出射する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示パネル、画像表示装置及び画像表示パネルの製造方法に関し、例えば有機ＥＬ素子等の自発光素子を使用したアクティブマトリックス型の画像表示装置に適用することができる。本発明は、画像表示用の自発光素子とは逆側に、輝度調整に使用するモニタ用の自発光素子からモニタ用光を出射することにより、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリックス型の画像表示装置の開発が盛んになっている。ここで有機ＥＬ素子は、発光輝度Ｌが発光効率Φ・駆動電流Ｉで表される電流駆動型の自発光素子である。有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリックス型の画像表示装置は、有機ＥＬ素子と有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路とによる画素回路をマトリックス状に配置して画像表示部が形成され、この画像表示部で所望の画像を表示する。
【０００３】
しかしながら有機ＥＬ素子は、発光輝度が高ければ高い程、また長時間使用すればする程、発光効率が低下する。その結果、有機ＥＬ素子を使用した画像表示装置は、コントラストの大きな静止画像を長時間表示すると、いわゆる焼き付き、色度の変化が発生する。また経時変化により輝度が変化する。そこで例えば特開２００７−１５６０４４号公報には、発光輝度の低下を補正して焼きつき、色度の変化等を防止する構成が開示されている。
【０００４】
ここで図１１（Ａ）は、特開２００７−１５６０４４号公報に開示の画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１は、輝度補正部２を介して入力される画像データＤ１で画像表示パネル３を駆動し、所望の画像を表示する。ここで画像表示パネル３は、画素回路５をマトリックス状に配置して画像表示部４が作成される。各画素回路５は、画素を構成する有機ＥＬ素子６と有機ＥＬ素子６を駆動する駆動回路とにより作成される。画像表示パネル３は、図示しない信号線駆動回路及び走査線駆動回路により画像データＤ１に応じて各画素回路５を駆動し、画像データＤ１による画像を画像表示部４で表示する。
【０００５】
なおＡ−Ａ線により断面を取って図１１（Ｂ）に示すように、この図１１（Ａ）の画像表示パネル３は、いわゆるトップエミッション方式である。従って画像表示パネル３は、図１１（Ｂ）との対比により図１２に部分的に拡大して示すように、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５の駆動回路が作成される。その後、下部電極１１、有機ＥＬ層１２、上部電極１３が順次作成されて有機ＥＬ素子６が作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。各有機ＥＬ素子６は、下部電極１１及び上部電極１３がそれぞれ反射電極及び透明電極により作成され、上部透明基板１４側に出射光Ｌ１を出射する。
【０００６】
画像表示パネル３は、さらに画像表示部４以外の部位に、モニタ用の画素回路５Ｄ及び受光素子７が設けられ、画素回路５Ｄに設けられた有機ＥＬ素子６Ｄの出射光Ｌ１Ｄを受光素子７で受光する。
【０００７】
輝度補正部２は、この受光素子７で検出される有機ＥＬ素子６Ｄの発光輝度（図１１では輝度情報により示す）に基づいて、モニタ用の画素回路５Ｄに設けられた有機ＥＬ素子６Ｄの発光効率の変化を計測する。また画像表示部４に設けられた有機ＥＬ素子６の駆動と有機ＥＬ素子６Ｄの駆動との対比により、発光効率の計測結果から各有機ＥＬ素子６Ｄの発光効率の変化を予測し、この予測結果に基づいて画像データＤ１の階調を補正する。
【０００８】
また特開２００６−１１３８８号公報には、同様のダミー画素を用いて、温度変化による有機ＥＬ素子の発光輝度の変動を補正する方法が提案されている。
【特許文献１】特開２００７−１５６０４４号公報
【特許文献２】特開２００６−１１３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで特開２００７−１５６０４４号公報等に開示の画像表示装置では、ディスプレイの筺体設計に著しい制約が発生する問題がある。
【００１０】
すなわち画像表示装置１は、画像表示部４に対応する形状の開口が筐体に形成され、画像表示部４を見て取ることができるように、また画像表示部４の周囲を見て取ることができないように、この開口が形成された部位に画像表示パネル３が配置される。従って図１１の構成により、画像表示パネル３の出射面側に受光素子７を配置する場合、筐体の厚みを十分に薄くすることが困難になり、これにより筺体設計に制約が発生する。また受光素子７に外来光が入射しないよう構成することが必要であり、さらには有機ＥＬ素子の出射光を遮光する必要もあり、これによっても筺体設計に制約が発生する。
【００１１】
またダミー画素の出射光Ｌ１Ｄが画像表示部４に漏れ出し、画質が劣化する恐れもある。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる画像表示パネル、画像表示装置及び画像表示パネルの製造方法を提案しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するため請求項１の発明は、画像表示パネルに適用して、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有する。ここで前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、前記モニタ用の自発光素子が、少なくとも前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射する。
【００１３】
また請求項６の発明は、画像表示パネルに適用して、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有する。ここで前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射する。また前記モニタ用光を受光する受光素子が設けられる。
【００１４】
また請求項８の発明は、画像表示装置に適用して、画像データを表示する画像表示パネルと、前記画像表示パネルに設けられた受光素子の受光結果に基づいて、前記画像表示パネルの発光輝度を補正する輝度補正部とを有する。ここで前記画像表示パネルは、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射し、前記モニタ用光を受光する前記受光素子が設けられる。
【００１５】
また請求項１０の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記下部電極作成ステップが、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、前記画像表示用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとであるようにする。
【００１６】
また請求項１１の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記上部電極作成ステップが、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、前記モニタ用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとであるようにする。
【００１７】
また請求項１２の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記有機ＥＬ層作成ステップが、有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される。
【００１８】
また請求項１３の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記下部電極作成ステップが、前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、前記モニタ用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとであるようにする。
【００１９】
また請求項１４の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記上部電極作成ステップが、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、前記画像表示用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとであるようにする。
【００２０】
また請求項１５の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記有機ＥＬ層作成ステップが、有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される。
【００２１】
請求項１、請求項６、又は請求項８の構成により、画像表示用の自発光素子が、下部基板側又は上部基板側に出射光を出射し、モニタ用の自発光素子が、上部基板側又は下部基板側にモニタ用光を出射すれば、画像表示パネルの出射面とは逆側面にモニタ用光を受光する受光素子を配置することができる。従って筺体設計の制約を低減することができる。また画像表示部へのモニタ用光の漏れ込みを低減し、画質劣化を低減することができる。
【００２２】
また請求項１０、請求項１１、請求項１２、請求項１３、請求項１４、又は請求項１５の構成によれば、画像表示パネルの出射面とは逆側面にモニタ用光を受光する受光素子を配置するようにして、筺体設計の制約を低減し、画質劣化を低減することができる。さらに画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子の双方を、有機ＥＬ素子層を透明電極で挟持した構成とすることができる。また画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子の双方で、これら有機ＥＬ素子層、透明電極をそれぞれ同一工程で同時に作成することができる。従って画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子間の特性のばらつきを低減し、輝度補正の精度を向上することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、適宜図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳述する。なお説明は、以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態
２．第２の実施の形態
３．第３の実施の形態
４．第４の実施の形態
５．第５の実施の形態
６．第６の実施の形態
７．第７の実施の形態
８．第８の実施の形態
９．第９の実施の形態
１０．変形例
＜第１の実施の形態＞
〔実施の形態の構成〕
図１は、図１１との対比により本発明の第１の実施の形態の画像表示装置を示す図である。この画像表示装置２１において、図１１について上述した画像表示装置１と同一の構成は、対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
【００２５】
この画像表示装置２１は、輝度補正部２を介して入力される画像データＤ１で画像表示パネル２３を駆動し、所望の画像を表示する。ここで画像表示パネル２３は、画素回路５をマトリックス状に配置して画像表示部４が作成され、この画像表示部４に設けられる画像表示用の有機ＥＬ素子６がトップエミッション方式により作成される。また画像表示パネル２３は、モニタ用の画素回路２５Ｄが設けられ、このモニタ用の画素回路２５Ｄに設けられる有機ＥＬ素子２６Ｄがボトムエミッション方式により作成される。従ってモニタ用の画素回路２５Ｄは、有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光Ｌ１Ｄを裏面側に出射する。以下、モニタ用の画素回路２５Ｄに設けられた有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光を適宜、モニタ用光と呼ぶ。なおモニタ用の画素回路２５Ｄは、画像表示部４の画素回路５と同一の大きさ、同一の形状で作成される。
【００２６】
画像表示装置２１は、モニタ用光Ｌ１Ｄを受光する受光素子７が、画像表示パネル２３の裏面側に配置される。なお受光素子７は、例えはフォトダイオードであり、例えば透明接着材を用いた接着により配置される。画像表示装置２１は、輝度補正部２により、有機ＥＬ素子２６Ｄを一定の条件で駆動し、受光素子７の受光結果によりこの有機ＥＬ素子２６Ｄの発光効率の変化を一定の時間間隔で検出する。また検出した発光効率の変化に基づいて、輝度補正部２により、画像データＤ１の階調を補正して画像表示パネル２３に出力し、これにより発光輝度の低下を補正して焼き付きを防止する。なお輝度補正部２による有機ＥＬ素子２６Ｄの駆動は、必要に応じて所定の固定の駆動電圧又は駆動電流により駆動してもよく、さらには画像データＤ１に応じた駆動電圧又は駆動電流で駆動してもよい。また有機ＥＬ素子２６Ｄの発光効率を検出する時間間隔にあっても、必要に応じて種々に設定することができる。
【００２７】
図２は、画像表示パネル２３の製造工程の説明に供する断面図である。画像表示パネル２３は、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５、２５Ｄの駆動回路が作成される。その後、有機ＥＬ素子６及び２６Ｄが作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。
【００２８】
ここで有機ＥＬ素子６及び２６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１が反射電極により作成された後、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄが透明電極により作成される。なお画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１の作成工程と、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄの作成工程とは、順序を入れ換えるようにしてもよい。
【００２９】
続いて有機ＥＬ素子６及び２６Ｄは、有機ＥＬ層１２が同一工程で同時に作成される。なおここで有機ＥＬ層１２は、ホール注入層３１、ホール輸送層３２、発光層３７、電子輸送層３４、電子注入層３５の積層により作成される。
【００３０】
続いて有機ＥＬ素子６及び２６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３が透明電極により作成された後、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの上部電極１３Ｄが反射電極により作成される。なお画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３の作成工程と、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの上部電極１３Ｄの作成工程とは、順序を入れ換えるようにしてもよい。
【００３１】
〔実施の形態の動作〕
以上の構成において、この画像表示装置２１では（図１）、表示対象の画像データＤ１が輝度補正部２を介して画像表示パネル２３に入力され、この画像データＤ１により画像表示部４が駆動される。画像表示部４では、この画像データＤ１による駆動により、各画素回路５で有機ＥＬ素子６が駆動され、これにより画像データＤ１の画像が画像表示部４で表示される。
【００３２】
しかしながら有機ＥＬ素子６は、長時間の使用等により発光効率が変化する欠点があり、その結果、画像表示装置２１では、いわゆる焼き付き、色度の変化が発生する恐れがある。また経時変化により輝度が変化する。そこで画像表示装置２１では、画像表示部４に設けられた有機ＥＬ素子６のモニタ用に、画像表示用とは別に、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄが設けられる。またこのモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光Ｌ１Ｄが受光素子７で受光され、この受光素子７の受光結果によりモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄにおける発光効率が輝度補正部２で検出される。画像表示装置２１では、このモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄにおける発光効率に基づいて、画像表示パネル２３に出力する画像データＤ１の階調が補正され、画像表示部４における発光効率の変化による発光輝度の変化が抑圧される。その結果、画像表示装置２１では、いわゆる焼き付き、色度の変化、経時変化による輝度変化を防止することができる。
【００３３】
また有機ＥＬ素子６、有機ＥＬ素子６の駆動回路を構成するＴＦＴ等は、温度による特性変動が大きい欠点があり、画像表示装置２１では、この特性変動によって輝度、色度が変化する恐れがある。しかしながらこの実施の形態のように、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄ、受光素子７、輝度補正部２による構成を設ける場合には、温度による輝度、色度の変化も併せて防止することができる。
【００３４】
しかしながら単純に、画像表示用の有機ＥＬ素子６とモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄとを同一に作成したのでは、画像表示用の有機ＥＬ素子６とモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄとで出射光の出射方向が同一となる。その結果、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光を受光する受光素子７を画像表示パネルの出射面側に配置することが必要になる（図１１、図１２参照）。この場合、受光素子７によって、筐体の厚みを薄くすることが困難になったり、受光素子７に外来光が入射しないよう構成することが必要になったりし、その結果、筺体設計に著しい制約が発生する。またモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄからの光Ｌ１Ｄが画像表示部４に漏れ出し、画質が劣化する恐れもある。
【００３５】
そこで画像表示装置２１では、画像表示用の有機ＥＬ素子６とは逆側に出射光を出射するようにモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄが作成される。より具体的には、画像表示用の有機ＥＬ素子６がトップエミッション方式により作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄがボトムエミショッン方式により作成される。従ってモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光Ｌ１Ｄを受光する受光素子７については、出射面の逆側面である裏面に配置することができ、画像表示パネル２３の出射面を平坦な面とすることができる。その結果、出射面に受光素子を配置することによる筺体設計の著しい制約を有効に回避し、従来に比して筐体設計を簡略化することができる。またモニタ用の有機ＥＬ素子から出射される出射光を出射面側で遮光する必要が無いことによっても、従来に比して筐体設計を簡略化することができる。また出射面とは逆側に向けてモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄから出射光Ｌ１Ｄが出射されることにより、従来に比して画像表示部４に漏れ出す光も低減することができ、その結果、画質劣化を低減することができる。
【００３６】
このため画像表示装置２１では（図２）、画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１及び上部電極１３がそれぞれ反射電極及び透明電極で作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄ及び上部電極１３Ｄがそれぞれ透明電極及び反射電極で作成される。画像表示装置２１では、画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄを作成した後、画像表示用の有機ＥＬ素子６の有機ＥＬ層１２、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの有機ＥＬ層１２が作成される。画像表示用の有機ＥＬ素子６の有機ＥＬ層１２、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの有機ＥＬ層１２は同一工程で同時に作成されることが好ましい。有機ＥＬ層は複数の有機層で構成されること一般的であるが、その全層でなくても、少なくとも１つ以上の有機層が同一工程で同時に作成されることがこのましい。その後、画像表示装置２１では、画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの上部電極１３Ｄが作成される。
【００３７】
その結果、画像表示装置２１では、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子６及び２６Ｄをそれぞれトップエミッション方式及びボトムエミッション方式で作成する場合にあっても、これら有機ＥＬ素子６及び２６Ｄ間の特性のばらつきを極力小さくすることができる。その結果、輝度補正部２による輝度補正の精度を十分に確保することができる。
【００３８】
〔実施の形態の効果〕
以上の構成によれば、画像表示用の自発光素子とは逆側に、モニタ用の自発光素子からモニタ用光を出射することにより、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる。
【００３９】
すなわち画像表示用の自発光素子をトップエミッション方式の有機ＥＬ素子とし、モニタ用の自発光素子をボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子とすることにより、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる。
【００４０】
＜第２の実施の形態＞
図３は、図２との対比により、本発明の第２の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、画像表示パネル２３に代えて、この図３に示す画像表示パネルが適用される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００４１】
ここで画像表示パネル３３は、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子６及び２６Ｄに代えて、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄが配置される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示パネル２３と同一に構成される。また有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、それぞれ下部電極１１、上部電極１３Ｄの構成が異なる点を除いて、有機ＥＬ素子６及び２６Ｄと同一に構成される。
【００４２】
ここで画像表示パネル３３は、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５、２５Ｄの駆動回路が作成される。その後、有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄが作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。
【００４３】
ここで有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子３６の下部電極１１に対応する部位に、反射電極１１Ｒが作成される。続いて有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、この反射電極１１Ｒの上と、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄの下部電極１１に対応する部位とに、同時に、透明電極１１Ｔ、１１Ｄが作成される。有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、続いて有機ＥＬ層１２が同一工程で同時に配置される。
【００４４】
これにより有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、共に有機ＥＬ層１２との界面側に透明電極１１Ｔ、１１Ｄを配置して下部電極１１、１１Ｄが作成される。より具体的には、画像表示用の有機ＥＬ素子３６は、反射電極１１Ｒと透明電極１１Ｔとの積層による反射電極構造により下部電極が作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄは、透明電極１１Ｄにより下部電極が作成される。
【００４５】
続いて有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子３６及びモニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄの上部電極１３、１３Ｄに対応する部位に、透明電極１３、１３ＤＴが作成される。続いて有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄの透明電極１３ＤＴの上に、反射電極１３ＤＲが作成される。
【００４６】
これにより有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、共に有機ＥＬ層１２との界面側に透明電極１１Ｔ、１１Ｄを配置して上部電極１３、１３Ｄが作成される。より具体的には、画像表示用の有機ＥＬ素子３６は、透明電極により上部電極１３が作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄは、透明電極１３ＤＴと反射電極１３ＤＲとの積層による反射電極構造により上部電極が作成される。
【００４７】
図３の構成によれば、有機ＥＬ層との界面に透明電極を配置して、それぞれ画像表示用の有機ＥＬ素子の反射電極及びモニタ用の有機ＥＬ素子の反射電極を作成することにより、一段と有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄ間の特性のばらつきを小さくし、輝度補正部２による輝度補正の精度を一段と向上することができる。
【００４８】
＜第３の実施の形態＞
図４は、図２及び図３との対比により、本発明の第３の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図４に示す画像表示パネル４３が適用される点を除いて、上述の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００４９】
ここで画像表示パネル４３は、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子６及び２６Ｄに代えて、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄが配置される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示パネル２３と同一に構成される。また有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄは、それぞれ下部電極１１、上部電極１３Ｄの構成が異なる点を除いて、有機ＥＬ素子６及び２６Ｄと同一に構成される。
【００５０】
ここで画像表示パネル４３は、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５、２５Ｄの駆動回路が作成される。その後、有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄが作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。
【００５１】
有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄは、同一材料により膜厚を異ならせて下部電極１１及び１１Ｄがそれぞれ反射電極及び透明電極により作成された後、同一工程で同時に有機ＥＬ層１２が作成される。続いて同一材料により膜厚を異ならせて上部電極１３及び１３Ｄがそれぞれ透明電極及び反射電極により作成される。
【００５２】
なお下部電極１１及び１１Ｄ、上部電極１３及び１３Ｄは、マスクを交換して２回のスパッタリング処理を実行することにより、同一材料で異なる膜厚で作成される。また一定膜厚以下により作成して透明電極とされ、一定膜厚以上により作成して反射電極とされる。
【００５３】
この実施の形態では、同一材料を用いて膜厚の変化により反射電極及び透明電極を作成することにより、画像表示用の有機ＥＬ素子とモニタ用の有機ＥＬ素子とで有機ＥＬ層及び有機ＥＬ層の界面材料を同一とすることができ、これによっても一段と有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄ間の特性のばらつきを小さくし、輝度補正部２による輝度補正の精度を一段と向上することができる。
【００５４】
＜第４の実施の形態＞
図５は、図２との対比により、本発明の第４の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図５に示す画像表示パネル５３が適用される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００５５】
ここで画像表示パネル５３は、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄに代えてモニタ用の有機ＥＬ素子５６Ｄが配置される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示パネル２３と同一に構成される。またモニタ用の有機ＥＬ素子５６Ｄは、上部電極１３Ｄが、画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３と同一工程で同一に作成される点を除いて、有機ＥＬ素子２６Ｄと同一に構成される。
【００５６】
従って画像表示パネル５３は、モニタ用の有機ＥＬ素子５６Ｄが、符号Ｌ１ＤＵ及びＬ１ＤＤにより示すように、出射面及び出射面の裏面に出射光を出射し、裏面側に出射するモニタ用光Ｌ１ＤＤを受光素子７で受光する。
【００５７】
この実施の形態によれば、出射面側にもモニタ用光を出射するようにしても、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。またこの実施の形態では、モニタ用の有機ＥＬ素子と画像表示用の有機ＥＬ素子とで有機ＥＬ層、上部電極を共通化することができ、簡易な構成で、有機ＥＬ素子６及び５６Ｄ間の特性のばらつきを小さくし、輝度補正部２による輝度補正の精度を一段と向上することができる。
【００５８】
＜第５の実施の形態＞
図６は、図２〜図５との対比により、本発明の第５の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図６に示す画像表示パネル６３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００５９】
この画像表示パネル６３は、画素回路５、２５Ｄの駆動回路を作成する際に、併せて受光素子６７が下部絶縁基板８上に作成される。画像表示パネル６３は、この受光素子６７に関する構成が異なる点を除いて、上述の第１〜第４の実施の形態と同一に構成される。
【００６０】
この実施の形態によれば、画素回路の駆動回路を作成する際に、併せて受光素子を下部基板上に作成することにより、一段と簡易な製造工程により、上述の第１〜第４の実施の形態と同一の効果を得、さらに画像表示パネルを薄型化することができる。
【００６１】
＜第６の実施の形態＞
図７は、図２〜図６との対比により、本発明の第６の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図７に示す画像表示パネル７３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６２】
この画像表示パネル７３は、モニタ用の有機ＥＬ素子７６Ｄを、画像表示用の有機ＥＬ素子６Ｄに比して大面積により作成して開口率を増大させる点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。なおモニタ用の有機ＥＬ素子７６Ｄを構成する画素回路のレイアウト、配線パターンの変更等により開口率を増大させてもよい。
【００６３】
この実施の形態では、モニタ用の有機ＥＬ素子の開口率を、画像表示用の有機ＥＬ素子に比して増大させることにより、モニタ用光の有機ＥＬ素子における効率の変化を一段と高い精度で検出することができる。従って上述の各実施の形態に比して、一段と輝度調整の精度を向上することができる。
【００６４】
＜第７の実施の形態＞
図８は、図２〜図７との対比により、本発明の第７の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図８に示す画像表示パネル８３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６５】
ここで画像表示パネル８３は、モニタ用の有機ＥＬ素子８６Ｄがパッシブ型により駆動される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６６】
この実施の形態では、モニタ用の有機ＥＬ素子をパッシブ型により駆動することにより、簡易な構成で、上述の各実施の形態と同一の効果を得ることができる。
【００６７】
＜第８の実施の形態＞
図９は、図２との対比により、本発明の第８の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図９に示す画像表示パネル９３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６８】
ここで画像表示パネル９３は、画像表示用の有機ＥＬ素子９６がボトムエミッション方式により作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子９６Ｄがトップエミッション方式により作成される。従って受光素子７は、出射面の裏面に配置されるものの、この裏面が上部基板１４側である点で上述の各実施の形態の画像表示パネルと異なることになる。画像表示パネル９３は、この有機ＥＬ素子９６、９６Ｄに関する構成が異なる点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示パネルと同一に構成される。
【００６９】
より具体的に画像表示用の有機ＥＬ素子９６は、下部電極１１及び上部電極１３がそれぞれ透明電極及び反射電極により作成される。またモニタ用の有機ＥＬ素子９６Ｄは、下部電極１１Ｄ及び上部電極１３Ｄがそれぞれ反射電極及び透明電極により作成される。なおこの図９では、図２について上述した画像表示装置における各電極の作成方法により透明電極及び反射電極を作成する場合を示しているものの、透明電極及び反射電極の作成方法は、上述の第１〜第６の実施の形態について説明した各種の作成方法を適用することができる。
【００７０】
この実施の形態によれば、画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子をそれぞれボトムエミッション方式及びトップエミッション方式により作成する場合でも、上述の各実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００７１】
＜第９の実施の形態＞
図１０は、図９との対比により、本発明の第９の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図１０に示す画像表示パネル１０３が適用される点を除いて、第８の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００７２】
ここで画像表示パネル１０３は、モニタ用の有機ＥＬ素子９６Ｄに代えてモニタ用の有機ＥＬ素子１０６Ｄが配置される点を除いて、第８の実施の形態の画像表示パネル９３と同一に構成される。またモニタ用の有機ＥＬ素子１０６Ｄは、下部電極１１Ｄが、画像表示用の有機ＥＬ素子９６の下部電極１１と同一工程で同一に作成される点を除いて、有機ＥＬ素子９６Ｄと同一に構成される。
【００７３】
従って画像表示パネル１０３は、モニタ用の有機ＥＬ素子１０６Ｄが、符号Ｌ１ＤＵ及びＬ１ＤＤにより示すように、出射面及び出射面の裏面に出射光を出射し、裏面側に出射するモニタ用光Ｌ１ＤＤを受光素子７で受光する。
【００７４】
この実施の形態によれば、画像表示用の有機ＥＬ素子をボトムエミッション方式により作成して、出射面側にもモニタ用光を出射するようにしても、上述の各実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００７５】
＜変形例＞
なお上述の実施の形態においては、画像表示部の有機ＥＬ素子をアクティブ方式により駆動する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、パッシブ型により駆動するようにしてもよい。
【００７６】
また上述の実施の形態においては、モニタ用光を受光素子で受光して輝度調整する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば特開２００６−１１３８８号公報に開示の手法を適用して、受光素子を使用することなく、モニタ用の有機ＥＬ素子を用いて輝度調整する場合にも広く適用することができる。
【００７７】
また上述の実施の形態においては、本発明を有機ＥＬ素子の画像表示装置に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、電流駆動型の各種自発光素子による画像表示装置に広く適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明は、例えば有機ＥＬ素子等の自発光素子を使用したアクティブマトリックス型の画像表示装置に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の第１の実施の形態の画像表示装置を示す図である。
【図２】図１の画像表示装置の画像表示パネルを示す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図５】本発明の第４の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図６】本発明の第５の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図７】本発明の第６の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図８】本発明の第７の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図９】本発明の第８の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図１０】本発明の第９の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図１１】従来の画像表示装置を示す図である。
【図１２】図１１の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
１、２１……画像表示装置、２……輝度補正部、３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３、９３、１０３……画像表示パネル、６、６Ｄ、２６Ｄ、３６、３６Ｄ、４６、４６Ｄ、５６Ｄ、６６、６６Ｄ、７６Ｄ、８６Ｄ、９６、９６Ｄ、１０６Ｄ……有機ＥＬ素子、７、６７……受光素子
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示パネル、画像表示装置及び画像表示パネルの製造方法に関し、例えば有機ＥＬ素子等の自発光素子を使用したアクティブマトリックス型の画像表示装置に適用することができる。本発明は、画像表示用の自発光素子とは逆側に、輝度調整に使用するモニタ用の自発光素子からモニタ用光を出射することにより、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリックス型の画像表示装置の開発が盛んになっている。ここで有機ＥＬ素子は、発光輝度Ｌが発光効率Φ・駆動電流Ｉで表される電流駆動型の自発光素子である。有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリックス型の画像表示装置は、有機ＥＬ素子と有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路とによる画素回路をマトリックス状に配置して画像表示部が形成され、この画像表示部で所望の画像を表示する。
【０００３】
しかしながら有機ＥＬ素子は、発光輝度が高ければ高い程、また長時間使用すればする程、発光効率が低下する。その結果、有機ＥＬ素子を使用した画像表示装置は、コントラストの大きな静止画像を長時間表示すると、いわゆる焼き付き、色度の変化が発生する。また経時変化により輝度が変化する。そこで例えば特開２００７−１５６０４４号公報には、発光輝度の低下を補正して焼きつき、色度の変化等を防止する構成が開示されている。
【０００４】
ここで図１１（Ａ）は、特開２００７−１５６０４４号公報に開示の画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１は、輝度補正部２を介して入力される画像データＤ１で画像表示パネル３を駆動し、所望の画像を表示する。ここで画像表示パネル３は、画素回路５をマトリックス状に配置して画像表示部４が作成される。各画素回路５は、画素を構成する有機ＥＬ素子６と有機ＥＬ素子６を駆動する駆動回路とにより作成される。画像表示パネル３は、図示しない信号線駆動回路及び走査線駆動回路により画像データＤ１に応じて各画素回路５を駆動し、画像データＤ１による画像を画像表示部４で表示する。
【０００５】
なおＡ−Ａ線により断面を取って図１１（Ｂ）に示すように、この図１１（Ａ）の画像表示パネル３は、いわゆるトップエミッション方式である。従って画像表示パネル３は、図１１（Ｂ）との対比により図１２に部分的に拡大して示すように、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５の駆動回路が作成される。その後、下部電極１１、有機ＥＬ層１２、上部電極１３が順次作成されて有機ＥＬ素子６が作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。各有機ＥＬ素子６は、下部電極１１及び上部電極１３がそれぞれ反射電極及び透明電極により作成され、上部透明基板１４側に出射光Ｌ１を出射する。
【０００６】
画像表示パネル３は、さらに画像表示部４以外の部位に、モニタ用の画素回路５Ｄ及び受光素子７が設けられ、画素回路５Ｄに設けられた有機ＥＬ素子６Ｄの出射光Ｌ１Ｄを受光素子７で受光する。
【０００７】
輝度補正部２は、この受光素子７で検出される有機ＥＬ素子６Ｄの発光輝度（図１１では輝度情報により示す）に基づいて、モニタ用の画素回路５Ｄに設けられた有機ＥＬ素子６Ｄの発光効率の変化を計測する。また画像表示部４に設けられた有機ＥＬ素子６の駆動と有機ＥＬ素子６Ｄの駆動との対比により、発光効率の計測結果から各有機ＥＬ素子６Ｄの発光効率の変化を予測し、この予測結果に基づいて画像データＤ１の階調を補正する。
【０００８】
また特開２００６−１１３８８号公報には、同様のダミー画素を用いて、温度変化による有機ＥＬ素子の発光輝度の変動を補正する方法が提案されている。
【特許文献１】特開２００７−１５６０４４号公報
【特許文献２】特開２００６−１１３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで特開２００７−１５６０４４号公報等に開示の画像表示装置では、ディスプレイの筺体設計に著しい制約が発生する問題がある。
【００１０】
すなわち画像表示装置１は、画像表示部４に対応する形状の開口が筐体に形成され、画像表示部４を見て取ることができるように、また画像表示部４の周囲を見て取ることができないように、この開口が形成された部位に画像表示パネル３が配置される。従って図１１の構成により、画像表示パネル３の出射面側に受光素子７を配置する場合、筐体の厚みを十分に薄くすることが困難になり、これにより筺体設計に制約が発生する。また受光素子７に外来光が入射しないよう構成することが必要であり、さらには有機ＥＬ素子の出射光を遮光する必要もあり、これによっても筺体設計に制約が発生する。
【００１１】
またダミー画素の出射光Ｌ１Ｄが画像表示部４に漏れ出し、画質が劣化する恐れもある。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる画像表示パネル、画像表示装置及び画像表示パネルの製造方法を提案しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するため請求項１の発明は、画像表示パネルに適用して、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有する。ここで前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、前記モニタ用の自発光素子が、少なくとも前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射する。
【００１３】
また請求項６の発明は、画像表示パネルに適用して、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有する。ここで前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射する。また前記モニタ用光を受光する受光素子が設けられる。
【００１４】
また請求項８の発明は、画像表示装置に適用して、画像データを表示する画像表示パネルと、前記画像表示パネルに設けられた受光素子の受光結果に基づいて、前記画像表示パネルの発光輝度を補正する輝度補正部とを有する。ここで前記画像表示パネルは、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射し、前記モニタ用光を受光する前記受光素子が設けられる。
【００１５】
また請求項１０の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記下部電極作成ステップが、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、前記画像表示用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとであるようにする。
【００１６】
また請求項１１の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記上部電極作成ステップが、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、前記モニタ用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとであるようにする。
【００１７】
また請求項１２の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記有機ＥＬ層作成ステップが、有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される。
【００１８】
また請求項１３の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記下部電極作成ステップが、前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、前記モニタ用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとであるようにする。
【００１９】
また請求項１４の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記上部電極作成ステップが、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、前記画像表示用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとであるようにする。
【００２０】
また請求項１５の発明は、下部基板と、前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、前記有機ＥＬ層作成ステップが、有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される。
【００２１】
請求項１、請求項６、又は請求項８の構成により、画像表示用の自発光素子が、下部基板側又は上部基板側に出射光を出射し、モニタ用の自発光素子が、上部基板側又は下部基板側にモニタ用光を出射すれば、画像表示パネルの出射面とは逆側面にモニタ用光を受光する受光素子を配置することができる。従って筺体設計の制約を低減することができる。また画像表示部へのモニタ用光の漏れ込みを低減し、画質劣化を低減することができる。
【００２２】
また請求項１０、請求項１１、請求項１２、請求項１３、請求項１４、又は請求項１５の構成によれば、画像表示パネルの出射面とは逆側面にモニタ用光を受光する受光素子を配置するようにして、筺体設計の制約を低減し、画質劣化を低減することができる。さらに画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子の双方を、有機ＥＬ素子層を透明電極で挟持した構成とすることができる。また画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子の双方で、これら有機ＥＬ素子層、透明電極をそれぞれ同一工程で同時に作成することができる。従って画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子間の特性のばらつきを低減し、輝度補正の精度を向上することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、適宜図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳述する。なお説明は、以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態
２．第２の実施の形態
３．第３の実施の形態
４．第４の実施の形態
５．第５の実施の形態
６．第６の実施の形態
７．第７の実施の形態
８．第８の実施の形態
９．第９の実施の形態
１０．変形例
＜第１の実施の形態＞
〔実施の形態の構成〕
図１は、図１１との対比により本発明の第１の実施の形態の画像表示装置を示す図である。この画像表示装置２１において、図１１について上述した画像表示装置１と同一の構成は、対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
【００２５】
この画像表示装置２１は、輝度補正部２を介して入力される画像データＤ１で画像表示パネル２３を駆動し、所望の画像を表示する。ここで画像表示パネル２３は、画素回路５をマトリックス状に配置して画像表示部４が作成され、この画像表示部４に設けられる画像表示用の有機ＥＬ素子６がトップエミッション方式により作成される。また画像表示パネル２３は、モニタ用の画素回路２５Ｄが設けられ、このモニタ用の画素回路２５Ｄに設けられる有機ＥＬ素子２６Ｄがボトムエミッション方式により作成される。従ってモニタ用の画素回路２５Ｄは、有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光Ｌ１Ｄを裏面側に出射する。以下、モニタ用の画素回路２５Ｄに設けられた有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光を適宜、モニタ用光と呼ぶ。なおモニタ用の画素回路２５Ｄは、画像表示部４の画素回路５と同一の大きさ、同一の形状で作成される。
【００２６】
画像表示装置２１は、モニタ用光Ｌ１Ｄを受光する受光素子７が、画像表示パネル２３の裏面側に配置される。なお受光素子７は、例えはフォトダイオードであり、例えば透明接着材を用いた接着により配置される。画像表示装置２１は、輝度補正部２により、有機ＥＬ素子２６Ｄを一定の条件で駆動し、受光素子７の受光結果によりこの有機ＥＬ素子２６Ｄの発光効率の変化を一定の時間間隔で検出する。また検出した発光効率の変化に基づいて、輝度補正部２により、画像データＤ１の階調を補正して画像表示パネル２３に出力し、これにより発光輝度の低下を補正して焼き付きを防止する。なお輝度補正部２による有機ＥＬ素子２６Ｄの駆動は、必要に応じて所定の固定の駆動電圧又は駆動電流により駆動してもよく、さらには画像データＤ１に応じた駆動電圧又は駆動電流で駆動してもよい。また有機ＥＬ素子２６Ｄの発光効率を検出する時間間隔にあっても、必要に応じて種々に設定することができる。
【００２７】
図２は、画像表示パネル２３の製造工程の説明に供する断面図である。画像表示パネル２３は、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５、２５Ｄの駆動回路が作成される。その後、有機ＥＬ素子６及び２６Ｄが作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。
【００２８】
ここで有機ＥＬ素子６及び２６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１が反射電極により作成された後、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄが透明電極により作成される。なお画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１の作成工程と、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄの作成工程とは、順序を入れ換えるようにしてもよい。
【００２９】
続いて有機ＥＬ素子６及び２６Ｄは、有機ＥＬ層１２が同一工程で同時に作成される。なおここで有機ＥＬ層１２は、ホール注入層３１、ホール輸送層３２、発光層３７、電子輸送層３４、電子注入層３５の積層により作成される。
【００３０】
続いて有機ＥＬ素子６及び２６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３が透明電極により作成された後、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの上部電極１３Ｄが反射電極により作成される。なお画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３の作成工程と、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの上部電極１３Ｄの作成工程とは、順序を入れ換えるようにしてもよい。
【００３１】
〔実施の形態の動作〕
以上の構成において、この画像表示装置２１では（図１）、表示対象の画像データＤ１が輝度補正部２を介して画像表示パネル２３に入力され、この画像データＤ１により画像表示部４が駆動される。画像表示部４では、この画像データＤ１による駆動により、各画素回路５で有機ＥＬ素子６が駆動され、これにより画像データＤ１の画像が画像表示部４で表示される。
【００３２】
しかしながら有機ＥＬ素子６は、長時間の使用等により発光効率が変化する欠点があり、その結果、画像表示装置２１では、いわゆる焼き付き、色度の変化が発生する恐れがある。また経時変化により輝度が変化する。そこで画像表示装置２１では、画像表示部４に設けられた有機ＥＬ素子６のモニタ用に、画像表示用とは別に、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄが設けられる。またこのモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光Ｌ１Ｄが受光素子７で受光され、この受光素子７の受光結果によりモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄにおける発光効率が輝度補正部２で検出される。画像表示装置２１では、このモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄにおける発光効率に基づいて、画像表示パネル２３に出力する画像データＤ１の階調が補正され、画像表示部４における発光効率の変化による発光輝度の変化が抑圧される。その結果、画像表示装置２１では、いわゆる焼き付き、色度の変化、経時変化による輝度変化を防止することができる。
【００３３】
また有機ＥＬ素子６、有機ＥＬ素子６の駆動回路を構成するＴＦＴ等は、温度による特性変動が大きい欠点があり、画像表示装置２１では、この特性変動によって輝度、色度が変化する恐れがある。しかしながらこの実施の形態のように、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄ、受光素子７、輝度補正部２による構成を設ける場合には、温度による輝度、色度の変化も併せて防止することができる。
【００３４】
しかしながら単純に、画像表示用の有機ＥＬ素子６とモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄとを同一に作成したのでは、画像表示用の有機ＥＬ素子６とモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄとで出射光の出射方向が同一となる。その結果、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光を受光する受光素子７を画像表示パネルの出射面側に配置することが必要になる（図１１、図１２参照）。この場合、受光素子７によって、筐体の厚みを薄くすることが困難になったり、受光素子７に外来光が入射しないよう構成することが必要になったりし、その結果、筺体設計に著しい制約が発生する。またモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄからの光Ｌ１Ｄが画像表示部４に漏れ出し、画質が劣化する恐れもある。
【００３５】
そこで画像表示装置２１では、画像表示用の有機ＥＬ素子６とは逆側に出射光を出射するようにモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄが作成される。より具体的には、画像表示用の有機ＥＬ素子６がトップエミッション方式により作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄがボトムエミショッン方式により作成される。従ってモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの出射光Ｌ１Ｄを受光する受光素子７については、出射面の逆側面である裏面に配置することができ、画像表示パネル２３の出射面を平坦な面とすることができる。その結果、出射面に受光素子を配置することによる筺体設計の著しい制約を有効に回避し、従来に比して筐体設計を簡略化することができる。またモニタ用の有機ＥＬ素子から出射される出射光を出射面側で遮光する必要が無いことによっても、従来に比して筐体設計を簡略化することができる。また出射面とは逆側に向けてモニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄから出射光Ｌ１Ｄが出射されることにより、従来に比して画像表示部４に漏れ出す光も低減することができ、その結果、画質劣化を低減することができる。
【００３６】
このため画像表示装置２１では（図２）、画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１及び上部電極１３がそれぞれ反射電極及び透明電極で作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄ及び上部電極１３Ｄがそれぞれ透明電極及び反射電極で作成される。画像表示装置２１では、画像表示用の有機ＥＬ素子６の下部電極１１、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの下部電極１１Ｄを作成した後、画像表示用の有機ＥＬ素子６の有機ＥＬ層１２、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの有機ＥＬ層１２が作成される。画像表示用の有機ＥＬ素子６の有機ＥＬ層１２、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの有機ＥＬ層１２は同一工程で同時に作成されることが好ましい。有機ＥＬ層は複数の有機層で構成されること一般的であるが、その全層でなくても、少なくとも１つ以上の有機層が同一工程で同時に作成されることがこのましい。その後、画像表示装置２１では、画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄの上部電極１３Ｄが作成される。
【００３７】
その結果、画像表示装置２１では、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子６及び２６Ｄをそれぞれトップエミッション方式及びボトムエミッション方式で作成する場合にあっても、これら有機ＥＬ素子６及び２６Ｄ間の特性のばらつきを極力小さくすることができる。その結果、輝度補正部２による輝度補正の精度を十分に確保することができる。
【００３８】
〔実施の形態の効果〕
以上の構成によれば、画像表示用の自発光素子とは逆側に、モニタ用の自発光素子からモニタ用光を出射することにより、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる。
【００３９】
すなわち画像表示用の自発光素子をトップエミッション方式の有機ＥＬ素子とし、モニタ用の自発光素子をボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子とすることにより、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止することができる。
【００４０】
＜第２の実施の形態＞
図３は、図２との対比により、本発明の第２の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、画像表示パネル２３に代えて、この図３に示す画像表示パネルが適用される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００４１】
ここで画像表示パネル３３は、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子６及び２６Ｄに代えて、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄが配置される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示パネル２３と同一に構成される。また有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、それぞれ下部電極１１、上部電極１３Ｄの構成が異なる点を除いて、有機ＥＬ素子６及び２６Ｄと同一に構成される。
【００４２】
ここで画像表示パネル３３は、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５、２５Ｄの駆動回路が作成される。その後、有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄが作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。
【００４３】
ここで有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子３６の下部電極１１に対応する部位に、反射電極１１Ｒが作成される。続いて有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、この反射電極１１Ｒの上と、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄの下部電極１１に対応する部位とに、同時に、透明電極１１Ｔ、１１Ｄが作成される。有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、続いて有機ＥＬ層１２が同一工程で同時に配置される。
【００４４】
これにより有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、共に有機ＥＬ層１２との界面側に透明電極１１Ｔ、１１Ｄを配置して下部電極１１、１１Ｄが作成される。より具体的には、画像表示用の有機ＥＬ素子３６は、反射電極１１Ｒと透明電極１１Ｔとの積層による反射電極構造により下部電極が作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄは、透明電極１１Ｄにより下部電極が作成される。
【００４５】
続いて有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、画像表示用の有機ＥＬ素子３６及びモニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄの上部電極１３、１３Ｄに対応する部位に、透明電極１３、１３ＤＴが作成される。続いて有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄの透明電極１３ＤＴの上に、反射電極１３ＤＲが作成される。
【００４６】
これにより有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄは、共に有機ＥＬ層１２との界面側に透明電極１１Ｔ、１１Ｄを配置して上部電極１３、１３Ｄが作成される。より具体的には、画像表示用の有機ＥＬ素子３６は、透明電極により上部電極１３が作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子３６Ｄは、透明電極１３ＤＴと反射電極１３ＤＲとの積層による反射電極構造により上部電極が作成される。
【００４７】
図３の構成によれば、有機ＥＬ層との界面に透明電極を配置して、それぞれ画像表示用の有機ＥＬ素子の反射電極及びモニタ用の有機ＥＬ素子の反射電極を作成することにより、一段と有機ＥＬ素子３６及び３６Ｄ間の特性のばらつきを小さくし、輝度補正部２による輝度補正の精度を一段と向上することができる。
【００４８】
＜第３の実施の形態＞
図４は、図２及び図３との対比により、本発明の第３の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図４に示す画像表示パネル４３が適用される点を除いて、上述の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００４９】
ここで画像表示パネル４３は、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子６及び２６Ｄに代えて、画像表示用及びモニタ用の有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄが配置される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示パネル２３と同一に構成される。また有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄは、それぞれ下部電極１１、上部電極１３Ｄの構成が異なる点を除いて、有機ＥＬ素子６及び２６Ｄと同一に構成される。
【００５０】
ここで画像表示パネル４３は、ガラス等の下部絶縁基板８上にＴＦＴ９等が作成されて各画素回路５、２５Ｄの駆動回路が作成される。その後、有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄが作成された後、上部透明基板１４により全体が封止される。
【００５１】
有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄは、同一材料により膜厚を異ならせて下部電極１１及び１１Ｄがそれぞれ反射電極及び透明電極により作成された後、同一工程で同時に有機ＥＬ層１２が作成される。続いて同一材料により膜厚を異ならせて上部電極１３及び１３Ｄがそれぞれ透明電極及び反射電極により作成される。
【００５２】
なお下部電極１１及び１１Ｄ、上部電極１３及び１３Ｄは、マスクを交換して２回のスパッタリング処理を実行することにより、同一材料で異なる膜厚で作成される。また一定膜厚以下により作成して透明電極とされ、一定膜厚以上により作成して反射電極とされる。
【００５３】
この実施の形態では、同一材料を用いて膜厚の変化により反射電極及び透明電極を作成することにより、画像表示用の有機ＥＬ素子とモニタ用の有機ＥＬ素子とで有機ＥＬ層及び有機ＥＬ層の界面材料を同一とすることができ、これによっても一段と有機ＥＬ素子４６及び４６Ｄ間の特性のばらつきを小さくし、輝度補正部２による輝度補正の精度を一段と向上することができる。
【００５４】
＜第４の実施の形態＞
図５は、図２との対比により、本発明の第４の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図５に示す画像表示パネル５３が適用される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００５５】
ここで画像表示パネル５３は、モニタ用の有機ＥＬ素子２６Ｄに代えてモニタ用の有機ＥＬ素子５６Ｄが配置される点を除いて、第１の実施の形態の画像表示パネル２３と同一に構成される。またモニタ用の有機ＥＬ素子５６Ｄは、上部電極１３Ｄが、画像表示用の有機ＥＬ素子６の上部電極１３と同一工程で同一に作成される点を除いて、有機ＥＬ素子２６Ｄと同一に構成される。
【００５６】
従って画像表示パネル５３は、モニタ用の有機ＥＬ素子５６Ｄが、符号Ｌ１ＤＵ及びＬ１ＤＤにより示すように、出射面及び出射面の裏面に出射光を出射し、裏面側に出射するモニタ用光Ｌ１ＤＤを受光素子７で受光する。
【００５７】
この実施の形態によれば、出射面側にもモニタ用光を出射するようにしても、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。またこの実施の形態では、モニタ用の有機ＥＬ素子と画像表示用の有機ＥＬ素子とで有機ＥＬ層、上部電極を共通化することができ、簡易な構成で、有機ＥＬ素子６及び５６Ｄ間の特性のばらつきを小さくし、輝度補正部２による輝度補正の精度を一段と向上することができる。
【００５８】
＜第５の実施の形態＞
図６は、図２〜図５との対比により、本発明の第５の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図６に示す画像表示パネル６３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００５９】
この画像表示パネル６３は、画素回路５、２５Ｄの駆動回路を作成する際に、併せて受光素子６７が下部絶縁基板８上に作成される。画像表示パネル６３は、この受光素子６７に関する構成が異なる点を除いて、上述の第１〜第４の実施の形態と同一に構成される。
【００６０】
この実施の形態によれば、画素回路の駆動回路を作成する際に、併せて受光素子を下部基板上に作成することにより、一段と簡易な製造工程により、上述の第１〜第４の実施の形態と同一の効果を得、さらに画像表示パネルを薄型化することができる。
【００６１】
＜第６の実施の形態＞
図７は、図２〜図６との対比により、本発明の第６の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図７に示す画像表示パネル７３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６２】
この画像表示パネル７３は、モニタ用の有機ＥＬ素子７６Ｄを、画像表示用の有機ＥＬ素子６Ｄに比して大面積により作成して開口率を増大させる点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。なおモニタ用の有機ＥＬ素子７６Ｄを構成する画素回路のレイアウト、配線パターンの変更等により開口率を増大させてもよい。
【００６３】
この実施の形態では、モニタ用の有機ＥＬ素子の開口率を、画像表示用の有機ＥＬ素子に比して増大させることにより、モニタ用光の有機ＥＬ素子における効率の変化を一段と高い精度で検出することができる。従って上述の各実施の形態に比して、一段と輝度調整の精度を向上することができる。
【００６４】
＜第７の実施の形態＞
図８は、図２〜図７との対比により、本発明の第７の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図８に示す画像表示パネル８３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６５】
ここで画像表示パネル８３は、モニタ用の有機ＥＬ素子８６Ｄがパッシブ型により駆動される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６６】
この実施の形態では、モニタ用の有機ＥＬ素子をパッシブ型により駆動することにより、簡易な構成で、上述の各実施の形態と同一の効果を得ることができる。
【００６７】
＜第８の実施の形態＞
図９は、図２との対比により、本発明の第８の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図９に示す画像表示パネル９３が適用される点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００６８】
ここで画像表示パネル９３は、画像表示用の有機ＥＬ素子９６がボトムエミッション方式により作成され、モニタ用の有機ＥＬ素子９６Ｄがトップエミッション方式により作成される。従って受光素子７は、出射面の裏面に配置されるものの、この裏面が上部基板１４側である点で上述の各実施の形態の画像表示パネルと異なることになる。画像表示パネル９３は、この有機ＥＬ素子９６、９６Ｄに関する構成が異なる点を除いて、上述の各実施の形態の画像表示パネルと同一に構成される。
【００６９】
より具体的に画像表示用の有機ＥＬ素子９６は、下部電極１１及び上部電極１３がそれぞれ透明電極及び反射電極により作成される。またモニタ用の有機ＥＬ素子９６Ｄは、下部電極１１Ｄ及び上部電極１３Ｄがそれぞれ反射電極及び透明電極により作成される。なおこの図９では、図２について上述した画像表示装置における各電極の作成方法により透明電極及び反射電極を作成する場合を示しているものの、透明電極及び反射電極の作成方法は、上述の第１〜第６の実施の形態について説明した各種の作成方法を適用することができる。
【００７０】
この実施の形態によれば、画像表示用の有機ＥＬ素子及びモニタ用の有機ＥＬ素子をそれぞれボトムエミッション方式及びトップエミッション方式により作成する場合でも、上述の各実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００７１】
＜第９の実施の形態＞
図１０は、図９との対比により、本発明の第９の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。この実施の形態の画像表示装置は、この図１０に示す画像表示パネル１０３が適用される点を除いて、第８の実施の形態の画像表示装置と同一に構成される。
【００７２】
ここで画像表示パネル１０３は、モニタ用の有機ＥＬ素子９６Ｄに代えてモニタ用の有機ＥＬ素子１０６Ｄが配置される点を除いて、第８の実施の形態の画像表示パネル９３と同一に構成される。またモニタ用の有機ＥＬ素子１０６Ｄは、下部電極１１Ｄが、画像表示用の有機ＥＬ素子９６の下部電極１１と同一工程で同一に作成される点を除いて、有機ＥＬ素子９６Ｄと同一に構成される。
【００７３】
従って画像表示パネル１０３は、モニタ用の有機ＥＬ素子１０６Ｄが、符号Ｌ１ＤＵ及びＬ１ＤＤにより示すように、出射面及び出射面の裏面に出射光を出射し、裏面側に出射するモニタ用光Ｌ１ＤＤを受光素子７で受光する。
【００７４】
この実施の形態によれば、画像表示用の有機ＥＬ素子をボトムエミッション方式により作成して、出射面側にもモニタ用光を出射するようにしても、上述の各実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００７５】
＜変形例＞
なお上述の実施の形態においては、画像表示部の有機ＥＬ素子をアクティブ方式により駆動する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、パッシブ型により駆動するようにしてもよい。
【００７６】
また上述の実施の形態においては、モニタ用光を受光素子で受光して輝度調整する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば特開２００６−１１３８８号公報に開示の手法を適用して、受光素子を使用することなく、モニタ用の有機ＥＬ素子を用いて輝度調整する場合にも広く適用することができる。
【００７７】
また上述の実施の形態においては、本発明を有機ＥＬ素子の画像表示装置に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、電流駆動型の各種自発光素子による画像表示装置に広く適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明は、例えば有機ＥＬ素子等の自発光素子を使用したアクティブマトリックス型の画像表示装置に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の第１の実施の形態の画像表示装置を示す図である。
【図２】図１の画像表示装置の画像表示パネルを示す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図５】本発明の第４の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図６】本発明の第５の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図７】本発明の第６の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図８】本発明の第７の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図９】本発明の第８の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図１０】本発明の第９の実施の形態の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【図１１】従来の画像表示装置を示す図である。
【図１２】図１１の画像表示装置に適用される画像表示パネルを示す断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
１、２１……画像表示装置、２……輝度補正部、３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３、９３、１０３……画像表示パネル、６、６Ｄ、２６Ｄ、３６、３６Ｄ、４６、４６Ｄ、５６Ｄ、６６、６６Ｄ、７６Ｄ、８６Ｄ、９６、９６Ｄ、１０６Ｄ……有機ＥＬ素子、７、６７……受光素子
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、
前記モニタ用の自発光素子が、少なくとも前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射する
画像表示パネル。
【請求項２】
前記画像表示用の自発光素子は、
トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
少なくともボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項１に記載の画像表示パネル。
【請求項３】
前記画像表示用の自発光素子は、
反射電極及び透明電極を順次積層した下部電極、有機ＥＬ層、透明電極による上部電極を順次積層して作成され、
前記モニタ用の自発光素子は、
透明電極による下部電極、有機ＥＬ層、透明電極及び反射電極を順次積層した上部電極を順次積層して作成された
請求項２に記載の画像表示パネル。
【請求項４】
前記画像表示用の自発光素子は、
ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項１に記載の画像表示パネル。
【請求項５】
前記画像表示用の自発光素子は、
透明電極による下部電極、有機ＥＬ層、透明電極及び反射電極を順次積層した上部電極を順次積層して作成され、
前記モニタ用の自発光素子は、
反射電極及び透明電極を順次積層した下部電極、有機ＥＬ層、透明電極による上部電極を順次積層して作成された
請求項４に記載の画像表示パネル。
【請求項６】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、
前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射し、
前記モニタ用光を受光する受光素子が設けられた
画像表示パネル。
【請求項７】
前記画像表示用の自発光素子は、
ボトムエミッション方式又はトップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
トップエミッション方式又はボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項６に記載の画像表示パネル。
【請求項８】
画像データを表示する画像表示パネルと、
前記画像表示パネルに設けられた受光素子の受光結果に基づいて、前記画像表示パネルの発光輝度を補正する輝度補正部とを有し、
前記画像表示パネルは、
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、
前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射し、
前記モニタ用光を受光する前記受光素子が設けられた
画像表示装置。
【請求項９】
前記画像表示用の自発光素子は、
ボトムエミッション方式又はトップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
トップエミッション方式又はボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項８に記載の画像表示装置。
【請求項１０】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記下部電極作成ステップが、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、
前記画像表示用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記上部電極作成ステップが、
前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、
前記モニタ用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記有機ＥＬ層作成ステップが、
有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記下部電極作成ステップが、
前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、
前記モニタ用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記上部電極作成ステップが、
前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、
前記画像表示用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記有機ＥＬ層作成ステップが、
有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、
前記モニタ用の自発光素子が、少なくとも前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射する
画像表示パネル。
【請求項２】
前記画像表示用の自発光素子は、
トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
少なくともボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項１に記載の画像表示パネル。
【請求項３】
前記画像表示用の自発光素子は、
反射電極及び透明電極を順次積層した下部電極、有機ＥＬ層、透明電極による上部電極を順次積層して作成され、
前記モニタ用の自発光素子は、
透明電極による下部電極、有機ＥＬ層、透明電極及び反射電極を順次積層した上部電極を順次積層して作成された
請求項２に記載の画像表示パネル。
【請求項４】
前記画像表示用の自発光素子は、
ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項１に記載の画像表示パネル。
【請求項５】
前記画像表示用の自発光素子は、
透明電極による下部電極、有機ＥＬ層、透明電極及び反射電極を順次積層した上部電極を順次積層して作成され、
前記モニタ用の自発光素子は、
反射電極及び透明電極を順次積層した下部電極、有機ＥＬ層、透明電極による上部電極を順次積層して作成された
請求項４に記載の画像表示パネル。
【請求項６】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、
前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射し、
前記モニタ用光を受光する受光素子が設けられた
画像表示パネル。
【請求項７】
前記画像表示用の自発光素子は、
ボトムエミッション方式又はトップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
トップエミッション方式又はボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項６に記載の画像表示パネル。
【請求項８】
画像データを表示する画像表示パネルと、
前記画像表示パネルに設けられた受光素子の受光結果に基づいて、前記画像表示パネルの発光輝度を補正する輝度補正部とを有し、
前記画像表示パネルは、
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、前記下部基板側又は前記上部基板側に出射光を出射し、
前記モニタ用の自発光素子が、前記上部基板側又は前記下部基板側に前記モニタ用光を出射し、
前記モニタ用光を受光する前記受光素子が設けられた
画像表示装置。
【請求項９】
前記画像表示用の自発光素子は、
ボトムエミッション方式又はトップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子は、
トップエミッション方式又はボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である
請求項８に記載の画像表示装置。
【請求項１０】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記下部電極作成ステップが、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、
前記画像表示用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記上部電極作成ステップが、
前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、
前記モニタ用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記有機ＥＬ層作成ステップが、
有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記下部電極作成ステップが、
前記下部基板上に、前記モニタ用の自発光素子の反射電極を作成する下部電極側の反射電極作成ステップと、
前記モニタ用の自発光素子の反射電極上に、透明電極を作成すると共に、前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子の透明電極を作成する下部電極側の透明電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記上部電極作成ステップが、
前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の前記有機ＥＬ層上に、透明電極を作成する上部電極側の透明電極作成ステップと、
前記画像表示用の自発光素子の透明電極上に、反射電極を作成する上部電極側の反射電極作成ステップとである
画像表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
下部基板と、
前記下部基板上にマトリックス状に配置されて、画像表示部を形成する画像表示用の自発光素子と、
前記下部基板上に配置されて、前記画像表示部のモニタ用光を出射するモニタ用の自発光素子と、
前記画像表示用の自発光素子及びモニタ用の自発光素子を前記下部基板と共に挟持する上部基板とを有し、
前記画像表示用の自発光素子が、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子であり、
前記モニタ用の自発光素子が、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子である画像表示パネルの製造方法であって、
前記下部基板上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の下部電極を作成する下部電極作成ステップと、
前記下部電極上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の有機ＥＬ層を作成する有機ＥＬ層作成ステップと、
前記有機ＥＬ層上に、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子の上部電極を作成する上部電極作成ステップとを有し、
前記有機ＥＬ層作成ステップが、
有機ＥＬ層を構成する複数の有機層の全部又は一部が、前記画像表示用の自発光素子及び前記モニタ用の自発光素子で、同一工程で作成される
画像表示パネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１０−１４１２３９（Ｐ２０１０−１４１２３９Ａ）
【公開日】平成２２年６月２４日（２０１０．６．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３１８２７０（Ｐ２００８−３１８２７０）
【出願日】平成２０年１２月１５日（２００８．１２．１５）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年６月２４日（２０１０．６．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月１５日（２００８．１２．１５）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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