真空蒸着装置
【課題】ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置において、同一径の複数の放出孔１３を線状に配置すると共に、放出孔１３を両端部側で密に配置した蒸発容器８の内部に、蒸発材料７の蒸気が通過する同一径の複数の通過孔１８を有する整流板１４を設け、放出孔１３の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するように、両端部側で密に配置した。
【解決手段】真空蒸着装置において、同一径の複数の放出孔１３を線状に配置すると共に、放出孔１３を両端部側で密に配置した蒸発容器８の内部に、蒸発材料７の蒸気が通過する同一径の複数の通過孔１８を有する整流板１４を設け、放出孔１３の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するように、両端部側で密に配置した。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板等の被蒸着体に蒸発材料を蒸着させて、薄膜を形成する真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着装置は、真空容器内に蒸発材料を収容した蒸発容器と被蒸着体を配置し、真空装置内を減圧した状態で、蒸発容器を加熱し、蒸発材料を溶融し、蒸発又は昇華により気化させ、気化された蒸発材料を被蒸着体の表面に堆積させて薄膜を形成するものである。上記真空蒸着装置では、蒸発容器の加熱方法としては、蒸発材料を入れた蒸発容器を外部ヒータにより加熱する外熱法等が用いられている。近年では、真空蒸着装置を用いることで、金属材料による金属薄膜や酸化物薄膜の形成に限らず、有機材料の蒸着による有機薄膜や複数の有機材料を用いた共蒸着による低分子有機薄膜の形成が行われており、例えば、フラットパネルディスプレイの有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と略す。）の形成等に用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−０９５２７５号公報
【特許文献２】特開２００４−１３７５８３号公報
【特許文献３】特開２００４−２３２０９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶ディスプレイに代表されるフラットパネルディスプレイは、大画面化と共に基板の大型化が進んでいる。有機ＥＬ素子も、ディスプレイ及び照明に適用可能であり、同様に大基板化が望まれている。有機ＥＬディスプレイは、基板上に均一な薄膜を蒸着する必要があるが、基板が大型化すると膜厚むらが発生し易くなり、均一な薄膜を形成することが難しくなってきている。特に近年、益々パネルの高品質化が要求されており、更に高い膜厚均一性が求められている。
【０００５】
均一な薄膜の形成のため、例えば、特許文献１に示される従来の真空蒸着装置では、ライン状に並ぶ複数の開口を介して材料を蒸発させる蒸発源を備え、開口のピッチを端縁側で細かいピッチとしている。更に、温度制御手段をラインの長手方向において複数に分割し、膜厚（蒸着速度）を分割領域毎に個別に検出して、加熱温度制御を行うようにしている。又、特許文献２では、加熱部と蒸着流制御部とを積層した枠体からなる蒸発源を備え、蒸着流制御部の最上流位置には、複数の案内突起と案内突起間に形成された開口とを有する分配板を備えた均一化層を設けるようにしている。又、特許文献３では、蒸発材料を充填する細長い容器において、その長手方向に１つ又はそれ以上の開口部を形成し、容器の長手方向のコンダクタンスに対し、開口部のコンダクタンスを小さくするようにしている。更に、蒸発源の長さを蒸着対象の基板より長くすることにより膜厚分布を改善する方法もある。
【０００６】
このような従来の真空蒸着装置によると、大型基板に対して、蒸発源と基板を相対的に移動させながら蒸着することにより、比較的均一な膜が形成される。しかしながら、蒸発材料によっては、蒸発容器の僅かな温度むらや内部の蒸発材料の状態の僅かな変化により、蒸発の状態が大きく変化することもあり、そのような場合には、長手方向における蒸発材料の蒸発量が変化し、その結果、基板への膜厚分布が変化し、素子の特性が変化してしまう問題がある。又、消費により蒸発容器内部の蒸発材料が減少し、蒸発材料の偏りが生じた場合も同様に、長手方向における蒸発材料の蒸発量が変化し、その結果、基板への膜厚分布が変化し、素子の特性が変化してしまう問題がある。
【０００７】
又、蒸発源の長さを基板より長くした場合には、上述した問題が生じる上、蒸発材料の利用効率（蒸発源から蒸発した蒸発材料が基板に付着する比率）が低下し、蒸発材料を多量に使用することとなるため、蒸発材料が高価である場合には（例えば、有機ＥＬ素子用の有機材料等）、製造コストが上昇する問題がある。
【０００８】
本発明は上記課題に鑑みなされたもので、ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決する第１の発明に係る真空蒸着装置は、
複数の放出孔を線状に配置すると共に、前記放出孔によるコンダクタンスを両端部側で大きくした蒸発容器を有し、
前記蒸発容器を加熱することにより、内部に収容した蒸発材料を蒸発又は昇華させて、前記複数の放出孔から前記蒸発材料の蒸気を放出させると共に、前記複数の放出孔の配置方向に垂直な方向に、基板及び前記蒸発容器を相対的に移動させて、前記基板全面に前記蒸発材料を蒸着させる真空蒸着装置において、
前記蒸発容器内部に前記蒸気が通過する複数の通過孔を有する整流板を設け、前記複数の放出孔の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする。
【００１０】
上記課題を解決する第２の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１の発明に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔を全て同一面積とすると共に当該放出孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の放出孔を同一間隔で配置すると共に当該放出孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記放出孔によるコンダクタンスを前記蒸発容器の両端部側で大きくしたことを特徴とする。
【００１１】
上記課題を解決する第３の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１、第２の発明に記載の真空蒸着装置において、
前記通過孔を全て同一面積とすると共に当該通過孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の通過孔を同一間隔で配置すると共に当該通過孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする。
【００１２】
上記課題を解決する第４の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第３のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔によるコンダクタンスＣ１に対する前記通過孔によるコンダクタンスＣ２の比［Ｃ２／Ｃ１］を、５．０以下、好ましくは、２．０以下としたことを特徴とする。
【００１３】
上記課題を解決する第５の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第４のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器の内側の高さＨ１に対する前記放出孔から前記整流板までの距離Ｈ２の比［Ｈ２／Ｈ１］を、０．６以下、好ましくは、０．５以下としたことを特徴とする。
【００１４】
上記課題を解決する第６の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第５のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発材料の全ての表面から見て、前記放出孔と前記通過孔が直線上に並ばないように、前記通過孔を配置したことを特徴とする。
【００１５】
上記課題を解決する第７の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第６のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器を加熱する加熱手段を、前記蒸発容器の外側面を巻回する１つの系統のヒータと、前記ヒータに電力を供給する１つの加熱電源から構成すると共に、
前記加熱電源を制御する制御手段を、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度を検出する１つの蒸発速度検出器と、前記蒸発速度検出器で検出された蒸発速度に基づいて、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度が一定となるように、前記加熱電源への出力を制御する１つの蒸発速度制御器から構成したことを特徴とする。
【００１６】
上記課題を解決する第８の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第７のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔側の前記ヒータの間隔を、前記蒸発材料側のヒータの間隔より密に巻回したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
第１〜第５の発明によれば、温度むらや蒸発材料の偏りにより、ライン状の蒸発容器における蒸発材料の蒸発状態がその長手方向（複数の放出孔の配置方向）において変化しても、蒸発容器内部に複数の通過孔を有する整流板を設け、長手方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔によるコンダクタンスを、放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたので、長手方向における蒸発材料の蒸気分布を制御して、大型基板においても、前記長手方向における薄膜の膜厚分布をより均一にして、その結果、均一な特性の素子を形成することができる。
【００１８】
第６の発明によれば、蒸発材料の全ての表面から見て、放出孔と通過孔が直線上に並ばないようにしたので、突沸により発生した蒸気が、基板側に直接付着することがなくなり、製品品質を大きく向上させることができる。
【００１９】
第７の発明によれば、蒸発容器の加熱手段及び制御手段を１系統としたので、簡便で、長時間にわたって安定した蒸発速度の制御が可能となり、安定した膜厚の薄膜を形成することができ、安定した特性の素子を形成することができる。
【００２０】
第８の発明によれば、蒸発容器の放出孔側のヒータの間隔を密に巻回したので、放出孔の温度低下を防止して、放出孔における蒸発材料の詰りを回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係る真空蒸着装置の実施形態の一例を示す概略構成図である。
【図２】（ａ）は、本発明に係る真空蒸着装置のライン状蒸発源の一例を示す断面図であり、（ｂ）は、その変形例である。
【図３】（ａ）は、本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の加熱手段、制御手段の構成を説明する図であり、（ｂ）は、その変形例である。
【図４】本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の構成の一例を示す図であり、（ａ）は、その長手方向の断面図、（ｂ）は、その上面図、（ｃ）は、内部の整流板の上面図である。
【図５】放出孔によるコンダクタンスＣ１に対する通過孔によるコンダクタンスＣ２の比［Ｃ２／Ｃ１］と膜厚分布の関係を示すグラフである。
【図６】Ａｌｑ３のるつぼ温度と蒸発量（相対値）の関係を測定したグラフである。
【図７】蒸発容器の内側の高さＨ１に対する放出孔と整流板との距離Ｈ２の比［Ｈ２／Ｈ１］と膜厚分布の関係を示すグラフである。
【図８】本発明に係る真空蒸着装置の膜厚分布の改効果を示す図である。
【図９】本発明に係る真空蒸着装置の材料偏りに対する効果を示す図である。
【図１０】本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の他の一例（実施例２）を示す上面図である。
【図１１】本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の整流板の他の一例（実施例３）を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明に係る真空蒸着装置の実施形態について、図１〜図１１を参照して、その詳細を説明する。
【００２３】
（実施例１）
図１は、本実施例の真空蒸着装置の構成を示す概略構成図であり、当該真空蒸着装置の基板の進行方向に垂直な面における断面を示している。本実施例の真空蒸着装置は、有機ＥＬ素子を形成するインライン装置の一部（真空蒸着装置部分）として組み込まれている。従って、以下、一例として、有機ＥＬ素子の有機薄膜の形成を例にとって説明するが、本実施例の真空蒸着装置は、これに限定されるものではなく、例えば、金属材料による金属薄膜、絶縁材料による絶縁薄膜等の形成にも適用可能である。更には、１つの蒸発材料を用いた蒸着だけでなく、複数の蒸発材料を用いた蒸着（共蒸着）等にも適用可能である。
【００２４】
インライン装置は、複数の処理装置（例えば、真空蒸着装置等）を有するものであり、装置全体を通して、真空容器により構成されており、真空容器内で複数の基板が連続的に搬送されて、基板各々に対して、有機ＥＬ素子形成のための処理（例えば、有機薄膜である発光層の形成、金属薄膜である電極の形成等）が連続して実施できるように構成されている。その際、基板を大気側から真空容器内に搬入したり、真空容器から基板を搬出したりする構成、例えば、仕込室及び取出し室が必要であるが、このような構成は公知の技術であるので、ここでは図示を省略する。
【００２５】
有機ＥＬ素子の有機薄膜を形成する真空蒸着装置では、例えば、図１に示すように、真空容器１が、バルブ２を介して、真空ポンプ３に接続されており、真空容器１の内部が高真空に排気されるようになっている。有機薄膜の蒸着対象となる基板４は、図示しないトレイの中心に配置されており、駆動源５により駆動される搬送ローラ６が回転することにより、トレイと共に、図１の手前から奥の方向へ搬送される。なお、本実施例では、後述の蒸発源２０側の位置を固定し、基板４側を移動させているが、逆に、基板４側の位置を固定し、蒸発源２０側を移動させるようにしてもよい。
【００２６】
基板４が通過する直下には、蒸発材料７が収容された蒸発容器８と、蒸発容器８の周囲に配置された加熱用ヒータ９等を有する蒸発源２０が配置されている。この蒸発源２０は、ライン状の蒸発源として構成されており、基板４の進行方向に垂直な水平方向（以降、基板４の板幅方向と呼ぶ。）に長く、その長さは、基板４の板幅方向の長さと同等若しくは若干長くしている。
【００２７】
蒸発容器８の上方には、蒸発容器８から蒸発される蒸発材料７の蒸発速度を検出する蒸発速度検出器１０（例えば、水晶モニタヘッド等）が設けられており、この蒸発速度検出器１０は蒸発速度制御器１１に接続されている。蒸発速度制御器１１は、蒸発速度検出器１０で検出された蒸発速度に基づいて、蒸発速度が予め設定した値となるように、加熱電源１２への制御出力を制御しており、加熱電源１２は、制御出力に基づいて制御された電力をヒータ９に供給して、蒸発速度が一定になるように制御している。なお、上記制御は、蒸着時における蒸発速度制御であるが、蒸発容器８の温度が蒸発温度に至るまでの温度制御、即ち、昇温制御は、蒸発容器８の底部に設けた熱電対と温調器（共に、図示省略）に切り替え、上記加熱電源１２を用いて、昇温制御を行っている。
【００２８】
このように、蒸発速度検出器１０、蒸発速度制御器１１、加熱電源１２及びヒータ９を用いて、蒸発容器８を加熱することにより、内部に収容した蒸発材料７を蒸発又は昇華させて、後述する複数の放出孔１３から蒸発材料７の蒸気を一定の蒸発速度で放出させている。そして、基板４の板幅方向は、複数の放出孔１３の配置方向と同じであり、基板４及び蒸発源２０は、それらに垂直な方向に相対移動されているので、これにより、基板４全面に蒸着源２０からの蒸発材料７を蒸着させることになる。
【００２９】
次に、蒸発源２０の構成を、図２〜図４を用いて詳細に説明する。
【００３０】
図２（ａ）は、本実施例の蒸発源の断面図であり、ライン状の蒸発源の長手方向に垂直な面における断面図である。
【００３１】
蒸発源２０内部に配置された蒸発容器８は、基板４の板幅方向に長く、その長さは、基板４の板幅方向の長さと同等若しくは若干長く形成されている。蒸発容器８には、その上面（基板４側の面）に複数の放出孔１３が設けられており、又、放出孔１３と蒸発容器８内部の蒸発材料７との間には、複数の通過孔１８を有する整流板１４が配置されている。詳細は後述の図４において説明するが、放出孔１３と通過孔１８の長手方向の配置位置は、蒸発材料７の蒸着による薄膜の膜厚分布が基板４の板幅方向において均一になるように配置されている。
【００３２】
ヒータ９は、蒸発容器８の出し入れのためと放出孔１３の配置のため、蒸発容器８の上部には配置していない。そのため、放出孔１３の温度低下を補償するために放出孔１３側のヒータ９を密に配置し、下部（蒸発材料７側）のヒータ９を疎に配置している。このような配置により、放出孔１３の温度低下を防止して、放出孔１３における蒸発材料７の詰りを回避することができる。なお、ヒータ９及びその加熱電源１２については、後述の図３において更に説明を行う。
【００３３】
又、放出孔１３の直上の位置を除く、ヒータ９の外周全面に輻射防止板１５を配置しており、この輻射防止板１５は、蒸発容器８の保温と均熱化のために機能している。更に、輻射防止板１５の外周は、内部に冷却水用の流路（図示省略）を有し、冷却水により冷却された水冷ジャケット１６と、放出孔１３の配置位置に対応する位置に開口部１７ａを有し、水冷ジャケット１６の上部開口部に接する防熱板１７とで覆われている。水冷ジャケット１６、防熱板１７は、真空容器１と基板４への熱輻射を防止するために機能しており、防熱板１７は熱伝導率の高いアルミニウム等が適している。なお、防熱板１７の開口部１７ａは、蒸発材料７の蒸気の付着を避けるため、基板４側に広くなるテーパ形状に形成されている。
【００３４】
なお、本実施例においては、図２（ｂ）に示すような蒸発源も適用可能である。この図２（ｂ）は、本実施例の変形例となる蒸発源の断面図であり、ライン状の蒸発源の長手方向に垂直な面における断面図である。図２（ｂ）に示す蒸発源２０’は、図２（ａ）に示した蒸発源２０と略同等の構成であるが、蒸発容器８の上面（基板４側の面）に、防熱板１７の上面まで延設されたノズル２１を設け、ノズル２１を貫通して放出孔１３を設けた構成である。ノズル２１により、放出孔１３上面の高さ位置が、防熱板１７の上面の高さ位置と同等となり、そのため、蒸発材料７の蒸気が防熱板１７に付着する可能性はなくなる。従って、その開口部１７ｂは、テーパ形状にする必要はなく、防熱板１７を垂直に貫通するように形成している。その他の構成については、図２（ａ）に示した蒸発源２０と同じであるため、図２（ｂ）では、同じ符号を付し、又、説明は省略する。
【００３５】
次に、蒸発容器８における加熱手段、制御手段の構成について、図３（ａ）を参照して説明する。図３（ａ）は、本実施例の加熱手段、制御手段の構成を説明する図である。
【００３６】
蒸発容器８の放出孔１３は、蒸着される基板４に対し、放出孔１３が露出する構造になるため、何の対策も施さない場合は、放出孔１３近傍の温度が蒸発容器８の内部に比べて低くなってしまう。又、蒸発容器８が長尺になると、長手方向の温度むらが生じ易くなる。これらの対策として、特許文献１では、温度制御手段を長手方向において複数に分割し、分割された領域毎に蒸発速度を制御する方法が示されている。しかしながら、実際には、分割された領域毎に蒸発速度を検出して、ヒータの温度制御することは、非常に困難で、複雑な構造となってしまう。
【００３７】
そこで、本実施例においては、図３（ａ）に示すように、蒸発容器８を加熱する加熱手段を、一つの加熱電源１２、一本（１つの系統）のヒータ９から構成し、その制御手段を、一つの蒸発速度検出器１０、一つの蒸発速度制御器１１から構成しており、一系統の加熱手段及び制御手段としている。ヒータ９は、蒸発容器８の外側面を巻回する一本の加熱抵抗から構成されており、蒸発容器８の上部（放出孔１３側）を密に巻回し、下部（蒸発材料７側）を粗に巻回することにより、ヒータ９の間隔を蒸発材料７側より放出孔１３側で密に配置することになる。上記構成では、一系統による加熱制御となるため、簡便で、長時間にわたって安定した蒸発速度の制御が可能となり、安定した膜厚の薄膜を形成することができ、安定した特性の素子を形成することができる。
【００３８】
なお、ヒータ９は、蒸発容器８の外側面を複数回巻回して配置しており、必要とする全長が使用可能なヒータ長を超えた場合、１本のヒータでは出力が不足することになる。そのような場合には、複数本のヒータを使用するようにしてもよい。但し、複数本のヒータを使用する場合でも、蒸発容器８の外側面を巻回して配置しており、一例として、図３（ｂ）に示すように、密に巻回した上部側のヒータ９ａと、粗に巻回した下部側のヒータ９ｂの２本を使用するようにしている。この場合、ヒータ９ａ、９ｂを並列又は直列に接続して、１つの系統とすることにより、一つの加熱電源１２で電力を供給するようにする。この場合でも、一系統による加熱制御となるため、簡便で、長時間にわたって安定した蒸発速度の制御が可能となり、安定した膜厚の薄膜を形成することができ、安定した特性の素子を形成することができる。
【００３９】
通常、ヒータは同じ長さであっても、１本毎に抵抗が異なるため、複数本のヒータを使用する場合、各々電力が異なってしまう。しかしながら、複数本のヒータを使用する場合でも、例えば、図３（ｂ）に示すように、蒸発容器８の外側面を巻回してヒータ９ａ、９ｂを配置することにより、ヒータ９ａ、９ｂ共に蒸発容器８の長手方向に沿って配置することになり、ヒータ９ａ、９ｂの違いによる加熱の影響は、蒸発容器８の長手方向には現れず、蒸発容器８の長手方向の温度分布を均一にすることができる。
【００４０】
次に、本実施例における放出孔１３と整流板１４の通過孔１８との配置について、図４を参照して説明を行う。なお、図４（ａ）は、蒸発容器８の長手方向の断面図であり、図４（ｂ）は、蒸発容器８の上面図であり、図４（ｃ）は、整流板１４の上面図である。又、以降の説明においては、蒸発材料７自体から蒸発する蒸気の量を「蒸発量」と呼び、それ以外の蒸気の量、例えば、放出孔１３、通過孔１８等における蒸気の量を「蒸気量」と呼び、明確に区別をする。
【００４１】
放出孔１３は、蒸発容器８の上面（基板４側の面）に、蒸発容器８の長手方向に沿って、一直線状に複数形成されている。放出孔１３は、全て円形の同一径（同一面積）としており、放出孔１３同士の間隔を、蒸発容器８の長手方向の中心に対して、両端部側で密に配置して、放出孔１３によるコンダクタンスを蒸発容器８の両端部側で大きくしている。一例として、放出孔１３同士の間隔を、両端側から中心側に向かって、各々、Ｗ11、Ｗ12、Ｗ13、Ｗ14とすると、図４（ｂ）では、中心近傍における間隔Ｗ13、Ｗ14を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｗ14≒Ｗ13＞Ｗ12＞Ｗ11としている。
【００４２】
蒸発源２０はライン状の蒸発源であるため、基板４側の膜厚分布としては、その板幅方向の膜厚分布を考慮すればよい。ライン状の蒸着源２０は、多数の点蒸着源を連続して配置したものと仮定できるので、ライン状の蒸発源２０により形成される基板４の板幅方向の膜厚分布は、多数の点蒸着源からの蒸気の幾何学的な重ね合わせから計算することができる。このことを利用し、逆に、基板４の板幅方向の膜厚分布が均一になるように、蒸着源２０上に仮定した各点蒸着源に必要な蒸気量を求め、求めた蒸気量に基づいて、蒸発容器８の上面における単位長さ当たりのコンダクタンスを求めることができる。単位長さ当たりのコンダクタンスが求まれば、放出孔１３自体のコンダクタンスは、その直径、長さ、蒸発した分子の平均速度から求めることができるので（例えば、富永五郎、熊谷寛夫、「真空の物理と応用」、裳華房、１９７０年等参照）、これにより、蒸発容器８の長手方向における放出孔１３同士の配置間隔を計算することができる。
【００４３】
そして、蒸発容器８の長手方向における放出孔１３同士の配置間隔を計算すると、基板４の板幅方向の膜厚分布を均一にするためには、中心側にある放出孔１３同士の配置間隔より、両端側ある放出孔１３同士の配置間隔を密に（換言すると、単位長さ当たりのコンダクタンスを中心側より両端側を大きく）する必要がある。従って、本実施例では、上述したように、Ｗ14≒Ｗ13＞Ｗ12＞Ｗ11としている。但し、このような放出孔１３の配置間隔は、放出孔１３直下の蒸発材料７の蒸気量が均一であることを前提としている。実際には、蒸発材料７自体からの単位長さ当たりの蒸発量が均一でも、蒸気の拡散により、放出孔１３直下における蒸発材料７の蒸気量は、蒸発容器８の両端側で減少しており、放出孔１３の配置間隔を両端側で密にしても（又は両端側でコンダクタンスを大きくしても）、蒸発容器８の両端側での蒸気量は想定している量より少なくなり、これが、基板４の板幅方向の膜厚分布の改善を阻んでいる。
【００４４】
更に、蒸発容器８が長尺である場合には、前述したように、蒸発容器８の温度むらや蒸発材料７自体の状態変化により、蒸発の状態が大きく変化し、その長手方向における蒸発量が不均一となってしまうおそれがある。特に、蒸発材料７が有機材料である場合には、温度むらによる材料の状態変化が小さくない場合もあり、そのような場合には、長手方向における蒸発量が不均一となるだけでなく、蒸発材料７の消費が進むに伴って、残存する蒸発材料７の偏りが生じてしまい、その結果、長手方向における蒸発量を更に不均一にしてしまう。
【００４５】
そこで、本実施例においては、蒸発容器８の内部に、蒸発材料７の蒸気が通過する複数の通過孔１８を有する整流板１４を設けることにより、放出孔１３直下における蒸発材料７の蒸気量が均一になるようにしており、このような構成により、蒸発材料７からの蒸発量が長手方向において不均一となるような場合にも対応するようにしている。この整流板１４の構成について、図４（ｃ）を参照して、説明を行う。
【００４６】
整流板１４は、蒸発容器８の内部において、放出孔１３側と蒸発材料７側とを分離するように、放出孔１３と蒸発材料７との間に配置されている。そして、通過孔１８は、整流板１４を貫通して設けられており、整流板１４の長手方向に沿って、２列の直線状に複数形成されている。通過孔１８は、全て円形の同一径（同一面積）としており、通過孔１８同士の間隔を、整流板１４の長手方向の中心に対して、両端部側で密に配置して、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するようにしている。一例として、通過孔１８同士の間隔を、両端側から中心側に向かって、各々、Ｗ21、Ｗ22、Ｗ23、Ｗ24、Ｗ25とすると、図４（ｃ）では、中心近傍における間隔Ｗ23、Ｗ24、Ｗ25を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｗ25≒Ｗ24≒Ｗ23＞Ｗ22＞Ｗ21としている。
【００４７】
通過孔１８は、蒸発材料７の全ての表面から見て、放出孔１３と通過孔１８が直線上に並ばないように配置してある。これは、蒸発材料７には、例えば、有機材料等の突沸（スプラッシュ）し易い材料もあるが、突沸した場合において、突沸により発生した蒸気が、通過孔１８及び放出孔１３をそのまま通過して、基板４側に直接付着しないようにするためである。このような配置にすることにより、突沸により発生した蒸気が、基板４側に直接付着することがなくなり、製品品質を大きく向上させることができる。
【００４８】
通過孔１８同士の配置間隔は、均等に配置すれば、放出孔１３直下における蒸発材料７の蒸気量が均一になるように思えるが、これも、整流板１４直下における蒸発材料７の蒸気量が均一であることを前提とするものであり、実際には、整流板１４直下においても、蒸発材料７の蒸気量は蒸発容器８の両端側で減少しており、整流板１４の通過孔１８を通過する蒸気量は、その両端側では想定している量より少なくなる。その結果、放出孔１３の配置間隔を両端側で密にしても（又は両端側でコンダクタンスを大きくしても）、蒸発容器８の放出孔１３を通過する蒸気量は、その両端側でも想定している量より少なくなり、これが、基板４の板幅方向の膜厚分布の改善を阻んでいる。更に、蒸発容器８の温度むらや蒸発材料７の状態変化があったり、蒸発材料７の偏りが生じてしまったりした場合には、蒸発材料７自体の蒸発量が長手方向において不均一となり、その結果、基板４の板幅方向の膜厚分布を悪化させることになる。
【００４９】
このことから、通過孔１８同士の配置間隔についても、基本的には、放出孔１３の配置間隔を求めた方法と同等の方法により求めればよい。例えば、放出孔１３直下における蒸気量が均一になるように、整流板１４上に仮定した各点蒸着源に必要な蒸気量を求め、求めた蒸気量に基づいて、整流板１４の上面における単位長さ当たりのコンダクタンスを求め、求めた単位長さ当たりのコンダクタンス、そして、通過孔１８自体のコンダクタンスに基づいて、整流板１４の長手方向における通過孔１８同士の配置間隔を計算すればよい。そして、整流板１４の長手方向における通過孔１８同士の配置間隔を計算すると、放出孔１３直下における蒸気量を均一にするためには、中心側にある通過孔１８同士の配置間隔より、両端側ある通過孔１８同士の配置間隔を密に（換言すると、単位長さ当たりのコンダクタンスを中心側より両端側を大きく）する必要がある。従って、本実施例では、上述したように、Ｗ25≒Ｗ24≒Ｗ23＞Ｗ22＞Ｗ21としている。このように、放出孔１３同士の配置間隔と通過孔１８同士の配置間隔は、同じ傾向を持つことになり、長手方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔１８によるコンダクタンスが、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するようになる。
【００５０】
そして、本実施例では、蒸発材料７自体の蒸発量が長手方向において不均一となった場合にも対処するため、整流板１４の長手方向における通過孔１８同士の配置間隔を、放出孔１３による蒸発容器８の単位長さ当たりのコンダクタンスに基づいて、決定している。
【００５１】
具体的には、放出孔１３による蒸発容器８の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、コンダクタンスＣ２を求め、求めたコンダクタンスＣ２に基づいて、通過孔１８同士の配置間隔を決定している。従って、コンダクタンスＣ１は、蒸発容器８の両端側で大きくなっているので、コンダクタンスＣ２も、コンダクタンスＣ１に相関して、整流板１４の両端側で大きくなることになる。
【００５２】
ここで、比［Ｃ２／Ｃ１］を５．０以下、好ましくは、２．０以下とする理由を説明する。
【００５３】
具体的には、蒸発材料７が蒸発容器８の内部で一方側に偏った場合において、比［Ｃ２／Ｃ１］を変化させたときに、膜厚分布がどのように変化するかをシミュレーションすることにより、比［Ｃ２／Ｃ１］の最適範囲を求めている。各コンダクタンスＣ１、Ｃ２は、図４（ｂ）、（ｃ）に示す蒸発容器８、整流板１４において、放出孔１３の孔径、通過孔１８の孔径等をパラメータとして求めたものである。そして、求めたコンダクタンスＣ１、Ｃ２に相当する蒸気量（放出孔１３、通過孔１８を通過する蒸気量）から基板４に蒸着した薄膜の膜厚分布を求めている。
【００５４】
上記シミュレーションの結果が図５に示すグラフである。図５からは、コンダクタンスの比［Ｃ２／Ｃ１］が２．０倍以下で薄膜の膜厚分布が良好であり、蒸気流の整流効果が大きいことがわかる。一方、コンダクタンスの比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０倍を超えると膜厚分布の変化は飽和し、整流効果が飽和することを示している。従って、比［Ｃ２／Ｃ１］が小さければ良好な膜厚分布を得ることができる。従って、比［Ｃ２／Ｃ１］の上限は、５．０以下、好ましくは、２．０以下となる。
【００５５】
なお、比［Ｃ２／Ｃ１］が小さくなると、蒸気流が制限されて、基板４に付着する蒸着速度が低下する。高速蒸着を要求される装置では不利となるため、その場合には、ヒータ９の温度を上げ、蒸発材料７の蒸気圧を上げ、蒸発量を増やして、蒸発速度を維持すればよい。
【００５６】
例えば、有機ＥＬのホスト材としてよく知られている、アルミニウムトリスキノラート（Ａｌｑ３）に対するるつぼ温度Ｔと蒸気量Ｑとの関係を測定した結果を、図６に示す。なお、この蒸発量Ｑは、２８６℃のときの蒸発量を１とした相対値であり、蒸着速度と相関性があるものである。
【００５７】
図６に示するつぼ温度Ｔと蒸発量Ｑとの関係から、蒸着速度を２倍にするためには、るつぼ温度Ｔを１２℃上昇させればよく、同様に、蒸着速度を５倍にするためには、るつぼ温度Ｔを３０℃上昇させればよい。なお、有機ＥＬに使用される有機材料は、必要以上に温度を上昇させると、材料の熱劣化及び有機ＥＬ発光素子特性が低下することが知られており、適正な温度範囲がある。
【００５８】
更に、基板４の板幅方向の膜厚分布をより均一にするためには、蒸発容器８における整流板１４の高さ位置についても、以下のように設定することが好ましい。
【００５９】
具体的には、蒸発容器８の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４の上面までの距離をＨ２とし（前述の図４（ａ）参照）、これらの比［Ｈ２／Ｈ１］を変化させたときに、膜厚分布がどのように変化するかをシミュレーションすることにより、比［Ｈ２／Ｈ１］の最適範囲を求めている。より詳細には、図４（ｂ）、（ｃ）に示す蒸発容器８、整流板１４において、比［Ｃ２／Ｃ１］＝１．０として、比［Ｈ２／Ｈ１］を変化させた。ここでも、各コンダクタンスＣ１、Ｃ２は、放出孔１３の孔径、通過孔１８の孔径等をパラメータとして求めたものであり、求めたコンダクタンスＣ１、Ｃ２に相当する蒸気量（放出孔１３、通過孔１８を通過する蒸気量）から基板４に蒸着した薄膜の膜厚分布を求めている。なお、ここでも、蒸発材料７が蒸発容器８の内部で一方側に偏った場合としている。
【００６０】
上記シミュレーションの結果が図７に示すグラフである。図７からは、比［Ｈ２／Ｈ１］が０．６を超えると、急速に膜厚分布が悪化することがわかる。一方、比［Ｈ２／Ｈ１］が０．６以下、望ましくは、０．５以下であれば、膜厚分布がより良好となることがわかる。なお、下限については、０．０８まで検討したが、０．０１であっても、放出孔１３のコンダクタンスより大きく、小さい比の実質的な制限は無い。従って、比［Ｈ２／Ｈ１］は、０．６以下、好ましくは、０．５以下となる。
【００６１】
次に、本発明の効果を示すため、本実施例の真空蒸着装置を用いて行った試験結果を、図８、図９に示す。
【００６２】
図８は、従来技術（内部に整流板が無い蒸着源を使用）と本発明（内部に整流板が有る蒸着源を使用）により基板上に蒸着された薄膜の膜厚分布を測定した結果である。なお、図８では、従来技術及び本発明とも、最大の膜厚を１として、それに対する膜厚比としてグラフ化している。
【００６３】
図８に示すグラフにおいて、１８０ｍｍ幅（±９０ｍｍ）における膜厚分布を比較すると、従来技術では、均一性が±３．０％であるのに対して、本発明では均一性が±１．２％と大幅に改善されており、所望の結果が得られている。又、蒸着有効幅を１６０ｍｍ幅（±８０ｍｍ）とする場合には、本発明では均一性が±１．０％以内となっており、極めて均一な膜厚分布を得ることができている。近年、素子特性の向上から、膜厚分布の均一性の向上が要望されているが、本発明では、±１％程度の均一性の膜厚分布が要求される場合でも、当該要求を満たすことが可能であり、このような要求に対して、非常に有効なものである。
【００６４】
又、図９は、従来技術（内部に整流板が無い蒸着源を使用）と本発明（内部に整流板が有る蒸着源を使用）において、蒸発材料の収容状態を変えて、基板上に蒸着を行い、蒸着された薄膜の膜厚分布を測定した結果である。なお、図９でも、従来技術及び本発明とも、最大の膜厚を１として、それに対する膜厚比としてグラフ化している。
【００６５】
蒸発材料の収容状態としては、長尺の蒸発容器に蒸発材料を均一に充填した場合（図９中の材料均一）と、長尺の蒸発容器の片隅にのみ蒸発材料を偏らせて充填した場合（図９中の材料偏り）とを用いた。ここでは、長尺の蒸発容器の［１００ｍｍ］側の端部にのみ蒸発材料を充填している。
【００６６】
図９に示すように、従来技術では、蒸発材料の充填側、つまり、［１００ｍｍ］側から［−１００ｍｍ］側に向かって、徐々に膜厚が減少し、膜厚が薄くなっていることがわかり、蒸発材料の偏りが膜厚分布の偏りを発生させている。蒸着有効幅を１６０ｍｍ幅（±８０ｍｍ）とすると、その均一性は±２．５％の膜厚分布であり、従来の用途では使用可能であっても、高品質・高精度のために近年要求されている膜厚分布の均一性からは外れてしまう。
【００６７】
一方、本発明では、蒸発材料の偏りが有る場合でも、蒸発材料の偏りが無い場合と略同等の膜厚分布が得られている。これは、蒸発材料が偏って充填された場合でも、又は、蒸発材料の消費により蒸発材料が偏ってしまった場合でも、再現性及び安定性のある膜厚分布を得ることを意味し、その結果、再現性及び安定性のある製品を製造可能であることが実証できた。
【００６８】
以上のことから、蒸発容器８の内部に整流板１４を設け、蒸発容器８の放出孔１３、整流板１４の通過孔１８を上述した関係となるように配置することにより、放出孔１３直下の蒸気量を均一にすることができ、そのため、蒸発容器８において、中心側より両端側の蒸気流を多くして、基板４の両端部での膜厚の落ち込みを抑制し、基板４の板幅方向における膜厚分布をより均一にして、所望の均一性の膜厚分布を有する薄膜を得ることができる。又、蒸発容器８内部の蒸発材料７に偏りが生じても、整流板１４に設けた通過孔１８により、放出孔１３直下の蒸気量を均一にすることができるので、蒸発材料７の偏りに左右されず、基板４の板幅方向の膜厚分布の均一性を維持することができる。
【００６９】
（実施例２）
実施例１においては、蒸発容器８における単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するために、同一径の放出孔１３の配置間隔を変えているが、図１０に示すように、放出孔１３同士の配置間隔を一定とし、代わりに、放出孔１３の大きさを変えることで、単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するようにしてもよい。
【００７０】
具体的には、図１０に示すように、蒸発容器８’の上面（基板４側の面）において、複数の放出孔１３（放出孔１３1、１３2、１３3、１３4）を、蒸発容器８’の長手方向に沿って、一直線状に形成している。放出孔１３同士の配置間隔は全て同一の間隔Ｗ31としているが、円形の開口径が異なっており、基板４上の膜厚分布が均一になるように、蒸発容器８’の長手方向の中心の放出孔１３4に対して、両端部側の放出孔１３1の開口径（面積）を大きくして、放出孔１３によるコンダクタンスを両端部側で大きくしている。一例として、放出孔１３1、１３2、１３3、１３4の開口径を、各々、Ｄ31、Ｄ32、Ｄ33、Ｄ34とすると、図１０では、中心近傍における放出孔１３3、１３4の開口径Ｄ33、Ｄ34を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｄ34≒Ｄ33＜Ｄ32＜Ｄ31としている。
【００７１】
そして、図４（ｂ）に示した蒸気容器８に代えて、上記蒸気容器８’を用い、図４（ｃ）に示した整流板１４と組み合わせて、ライン状の蒸気源とする場合、実施例１と同様に、放出孔１３による蒸発容器８’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４の通過孔１８の配置間隔を設定している。又、蒸発容器８’の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４の上面までの距離をＨ２とすると、比［Ｈ２／Ｈ１］についても、実施例１と同様に、０．６以下、好ましくは、０．５以下となるように、整流板１４を配置している。
【００７２】
（実施例３）
実施例１においては、整流板１４における単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するために、同一径の通過孔１８の配置間隔を変えているが、図１１に示すように、通過孔１８同士の配置間隔を一定とし、代わりに、通過孔１８の大きさを変えることで、単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するようにしてもよい。
【００７３】
具体的には、図１１に示すように、整流板１４’において、複数の通過孔１８（通過孔１８1、１８2、１８3、１８4）を、整流板１４’の長手方向に沿って、２列の直線状に形成している。通過孔１８同士の配置間隔は全て同一の間隔Ｗ41としているが、円形の開口径が異なっており、放出孔１３直下の蒸気量が均一になるように、整流板１４’の長手方向の中心の通過孔１８4に対して、両端部側の通過孔１８1の開口径（面積）を大きくして、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスに比例するようにしている。一例として、通過孔１８1、１８2、１８3、１８4の開口径を、各々、Ｄ41、Ｄ42、Ｄ43、Ｄ44とすると、図１１では、中心近傍における通過孔１８3、１８4の開口径Ｄ43、Ｄ44を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｄ44≒Ｄ43＜Ｄ42＜Ｄ41としている。
【００７４】
そして、図４（ｃ）に示した整流板１４に代えて、上記整流板１４’を用い、図４（ｂ）に示した蒸気容器８と組み合わせて、ライン状の蒸気源とする場合、実施例１と同様に、放出孔１３による蒸発容器８の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４’の通過孔１８の開口径を設定している。又、蒸発容器８の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４’の上面までの距離をＨ２とすると、比［Ｈ２／Ｈ１］についても、実施例１と同様に、０．６以下、好ましくは、０．５以下となるように、整流板１４’を配置している。
【００７５】
更に、図４（ｂ）に示した蒸気容器８に代えて、実施例２の図１０で示した蒸気容器８’を用い、図４（ｃ）に示した整流板１４に代えて、上記整流板１４’を用い、これらを組み合わせて、ライン状の蒸気源とする場合も、実施例１と同様に、放出孔１３による蒸発容器８’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４’の通過孔１８の開口径を設定している。又、蒸発容器８’の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４’の上面までの距離をＨ２とすると、比［Ｈ２／Ｈ１］についても、実施例１と同様に、０．６以下、好ましくは、０．５以下となるように、整流板１４’を配置している。
【００７６】
図１０で示した蒸気容器８’と図１１で示した整流板１４’とを組み合わせる場合、特に、Ｗ31＝Ｗ41である場合には、単位長さ当たりのコンダクタンスの比ではなく、対応する放出孔１３のコンダクタンスＣａと通過孔１８のコンダクタンスＣｂとの比［Ｃｂ／Ｃａ］を、５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４’の通過孔１８の開口径を設定してもよい。
【００７７】
なお、上記実施例１〜３において、放出孔１３、通過孔１８は円形としているが、四角形や楕円や長方形などでも良い。又、１個の放出孔１３に対して、２個の通過孔１８を対応させているが、１個でも、逆に、多数（３個以上）であっても良い。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明に係る真空蒸着装置は、特に、蒸着対象が大型基板である場合に好適なものであり、又、蒸発材料が有機材料である場合に好適なものである。
【符号の説明】
【００７９】
１ 真空容器
２ バルブ
３ 真空ポンプ
４ 基板
５ 駆動源
６ 搬送ローラ
７ 蒸発材料
８ 蒸発容器
９ ヒータ
１０ 蒸発速度検出器
１１ 蒸発速度制御器
１２ 加熱電源
１３ 放出孔
１４ 整流板
１５ 輻射防止板
１６ 水冷ジャケット
１７ 防熱板
１８ 通過孔
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板等の被蒸着体に蒸発材料を蒸着させて、薄膜を形成する真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着装置は、真空容器内に蒸発材料を収容した蒸発容器と被蒸着体を配置し、真空装置内を減圧した状態で、蒸発容器を加熱し、蒸発材料を溶融し、蒸発又は昇華により気化させ、気化された蒸発材料を被蒸着体の表面に堆積させて薄膜を形成するものである。上記真空蒸着装置では、蒸発容器の加熱方法としては、蒸発材料を入れた蒸発容器を外部ヒータにより加熱する外熱法等が用いられている。近年では、真空蒸着装置を用いることで、金属材料による金属薄膜や酸化物薄膜の形成に限らず、有機材料の蒸着による有機薄膜や複数の有機材料を用いた共蒸着による低分子有機薄膜の形成が行われており、例えば、フラットパネルディスプレイの有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と略す。）の形成等に用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−０９５２７５号公報
【特許文献２】特開２００４−１３７５８３号公報
【特許文献３】特開２００４−２３２０９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶ディスプレイに代表されるフラットパネルディスプレイは、大画面化と共に基板の大型化が進んでいる。有機ＥＬ素子も、ディスプレイ及び照明に適用可能であり、同様に大基板化が望まれている。有機ＥＬディスプレイは、基板上に均一な薄膜を蒸着する必要があるが、基板が大型化すると膜厚むらが発生し易くなり、均一な薄膜を形成することが難しくなってきている。特に近年、益々パネルの高品質化が要求されており、更に高い膜厚均一性が求められている。
【０００５】
均一な薄膜の形成のため、例えば、特許文献１に示される従来の真空蒸着装置では、ライン状に並ぶ複数の開口を介して材料を蒸発させる蒸発源を備え、開口のピッチを端縁側で細かいピッチとしている。更に、温度制御手段をラインの長手方向において複数に分割し、膜厚（蒸着速度）を分割領域毎に個別に検出して、加熱温度制御を行うようにしている。又、特許文献２では、加熱部と蒸着流制御部とを積層した枠体からなる蒸発源を備え、蒸着流制御部の最上流位置には、複数の案内突起と案内突起間に形成された開口とを有する分配板を備えた均一化層を設けるようにしている。又、特許文献３では、蒸発材料を充填する細長い容器において、その長手方向に１つ又はそれ以上の開口部を形成し、容器の長手方向のコンダクタンスに対し、開口部のコンダクタンスを小さくするようにしている。更に、蒸発源の長さを蒸着対象の基板より長くすることにより膜厚分布を改善する方法もある。
【０００６】
このような従来の真空蒸着装置によると、大型基板に対して、蒸発源と基板を相対的に移動させながら蒸着することにより、比較的均一な膜が形成される。しかしながら、蒸発材料によっては、蒸発容器の僅かな温度むらや内部の蒸発材料の状態の僅かな変化により、蒸発の状態が大きく変化することもあり、そのような場合には、長手方向における蒸発材料の蒸発量が変化し、その結果、基板への膜厚分布が変化し、素子の特性が変化してしまう問題がある。又、消費により蒸発容器内部の蒸発材料が減少し、蒸発材料の偏りが生じた場合も同様に、長手方向における蒸発材料の蒸発量が変化し、その結果、基板への膜厚分布が変化し、素子の特性が変化してしまう問題がある。
【０００７】
又、蒸発源の長さを基板より長くした場合には、上述した問題が生じる上、蒸発材料の利用効率（蒸発源から蒸発した蒸発材料が基板に付着する比率）が低下し、蒸発材料を多量に使用することとなるため、蒸発材料が高価である場合には（例えば、有機ＥＬ素子用の有機材料等）、製造コストが上昇する問題がある。
【０００８】
本発明は上記課題に鑑みなされたもので、ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決する第１の発明に係る真空蒸着装置は、
複数の放出孔を線状に配置すると共に、前記放出孔によるコンダクタンスを両端部側で大きくした蒸発容器を有し、
前記蒸発容器を加熱することにより、内部に収容した蒸発材料を蒸発又は昇華させて、前記複数の放出孔から前記蒸発材料の蒸気を放出させると共に、前記複数の放出孔の配置方向に垂直な方向に、基板及び前記蒸発容器を相対的に移動させて、前記基板全面に前記蒸発材料を蒸着させる真空蒸着装置において、
前記蒸発容器内部に前記蒸気が通過する複数の通過孔を有する整流板を設け、前記複数の放出孔の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする。
【００１０】
上記課題を解決する第２の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１の発明に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔を全て同一面積とすると共に当該放出孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の放出孔を同一間隔で配置すると共に当該放出孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記放出孔によるコンダクタンスを前記蒸発容器の両端部側で大きくしたことを特徴とする。
【００１１】
上記課題を解決する第３の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１、第２の発明に記載の真空蒸着装置において、
前記通過孔を全て同一面積とすると共に当該通過孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の通過孔を同一間隔で配置すると共に当該通過孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする。
【００１２】
上記課題を解決する第４の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第３のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔によるコンダクタンスＣ１に対する前記通過孔によるコンダクタンスＣ２の比［Ｃ２／Ｃ１］を、５．０以下、好ましくは、２．０以下としたことを特徴とする。
【００１３】
上記課題を解決する第５の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第４のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器の内側の高さＨ１に対する前記放出孔から前記整流板までの距離Ｈ２の比［Ｈ２／Ｈ１］を、０．６以下、好ましくは、０．５以下としたことを特徴とする。
【００１４】
上記課題を解決する第６の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第５のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発材料の全ての表面から見て、前記放出孔と前記通過孔が直線上に並ばないように、前記通過孔を配置したことを特徴とする。
【００１５】
上記課題を解決する第７の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第６のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器を加熱する加熱手段を、前記蒸発容器の外側面を巻回する１つの系統のヒータと、前記ヒータに電力を供給する１つの加熱電源から構成すると共に、
前記加熱電源を制御する制御手段を、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度を検出する１つの蒸発速度検出器と、前記蒸発速度検出器で検出された蒸発速度に基づいて、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度が一定となるように、前記加熱電源への出力を制御する１つの蒸発速度制御器から構成したことを特徴とする。
【００１６】
上記課題を解決する第８の発明に係る真空蒸着装置は、
上記第１〜第７のいずれか１つの発明に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔側の前記ヒータの間隔を、前記蒸発材料側のヒータの間隔より密に巻回したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
第１〜第５の発明によれば、温度むらや蒸発材料の偏りにより、ライン状の蒸発容器における蒸発材料の蒸発状態がその長手方向（複数の放出孔の配置方向）において変化しても、蒸発容器内部に複数の通過孔を有する整流板を設け、長手方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔によるコンダクタンスを、放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたので、長手方向における蒸発材料の蒸気分布を制御して、大型基板においても、前記長手方向における薄膜の膜厚分布をより均一にして、その結果、均一な特性の素子を形成することができる。
【００１８】
第６の発明によれば、蒸発材料の全ての表面から見て、放出孔と通過孔が直線上に並ばないようにしたので、突沸により発生した蒸気が、基板側に直接付着することがなくなり、製品品質を大きく向上させることができる。
【００１９】
第７の発明によれば、蒸発容器の加熱手段及び制御手段を１系統としたので、簡便で、長時間にわたって安定した蒸発速度の制御が可能となり、安定した膜厚の薄膜を形成することができ、安定した特性の素子を形成することができる。
【００２０】
第８の発明によれば、蒸発容器の放出孔側のヒータの間隔を密に巻回したので、放出孔の温度低下を防止して、放出孔における蒸発材料の詰りを回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係る真空蒸着装置の実施形態の一例を示す概略構成図である。
【図２】（ａ）は、本発明に係る真空蒸着装置のライン状蒸発源の一例を示す断面図であり、（ｂ）は、その変形例である。
【図３】（ａ）は、本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の加熱手段、制御手段の構成を説明する図であり、（ｂ）は、その変形例である。
【図４】本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の構成の一例を示す図であり、（ａ）は、その長手方向の断面図、（ｂ）は、その上面図、（ｃ）は、内部の整流板の上面図である。
【図５】放出孔によるコンダクタンスＣ１に対する通過孔によるコンダクタンスＣ２の比［Ｃ２／Ｃ１］と膜厚分布の関係を示すグラフである。
【図６】Ａｌｑ３のるつぼ温度と蒸発量（相対値）の関係を測定したグラフである。
【図７】蒸発容器の内側の高さＨ１に対する放出孔と整流板との距離Ｈ２の比［Ｈ２／Ｈ１］と膜厚分布の関係を示すグラフである。
【図８】本発明に係る真空蒸着装置の膜厚分布の改効果を示す図である。
【図９】本発明に係る真空蒸着装置の材料偏りに対する効果を示す図である。
【図１０】本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の他の一例（実施例２）を示す上面図である。
【図１１】本発明に係る真空蒸着装置の蒸発容器の整流板の他の一例（実施例３）を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明に係る真空蒸着装置の実施形態について、図１〜図１１を参照して、その詳細を説明する。
【００２３】
（実施例１）
図１は、本実施例の真空蒸着装置の構成を示す概略構成図であり、当該真空蒸着装置の基板の進行方向に垂直な面における断面を示している。本実施例の真空蒸着装置は、有機ＥＬ素子を形成するインライン装置の一部（真空蒸着装置部分）として組み込まれている。従って、以下、一例として、有機ＥＬ素子の有機薄膜の形成を例にとって説明するが、本実施例の真空蒸着装置は、これに限定されるものではなく、例えば、金属材料による金属薄膜、絶縁材料による絶縁薄膜等の形成にも適用可能である。更には、１つの蒸発材料を用いた蒸着だけでなく、複数の蒸発材料を用いた蒸着（共蒸着）等にも適用可能である。
【００２４】
インライン装置は、複数の処理装置（例えば、真空蒸着装置等）を有するものであり、装置全体を通して、真空容器により構成されており、真空容器内で複数の基板が連続的に搬送されて、基板各々に対して、有機ＥＬ素子形成のための処理（例えば、有機薄膜である発光層の形成、金属薄膜である電極の形成等）が連続して実施できるように構成されている。その際、基板を大気側から真空容器内に搬入したり、真空容器から基板を搬出したりする構成、例えば、仕込室及び取出し室が必要であるが、このような構成は公知の技術であるので、ここでは図示を省略する。
【００２５】
有機ＥＬ素子の有機薄膜を形成する真空蒸着装置では、例えば、図１に示すように、真空容器１が、バルブ２を介して、真空ポンプ３に接続されており、真空容器１の内部が高真空に排気されるようになっている。有機薄膜の蒸着対象となる基板４は、図示しないトレイの中心に配置されており、駆動源５により駆動される搬送ローラ６が回転することにより、トレイと共に、図１の手前から奥の方向へ搬送される。なお、本実施例では、後述の蒸発源２０側の位置を固定し、基板４側を移動させているが、逆に、基板４側の位置を固定し、蒸発源２０側を移動させるようにしてもよい。
【００２６】
基板４が通過する直下には、蒸発材料７が収容された蒸発容器８と、蒸発容器８の周囲に配置された加熱用ヒータ９等を有する蒸発源２０が配置されている。この蒸発源２０は、ライン状の蒸発源として構成されており、基板４の進行方向に垂直な水平方向（以降、基板４の板幅方向と呼ぶ。）に長く、その長さは、基板４の板幅方向の長さと同等若しくは若干長くしている。
【００２７】
蒸発容器８の上方には、蒸発容器８から蒸発される蒸発材料７の蒸発速度を検出する蒸発速度検出器１０（例えば、水晶モニタヘッド等）が設けられており、この蒸発速度検出器１０は蒸発速度制御器１１に接続されている。蒸発速度制御器１１は、蒸発速度検出器１０で検出された蒸発速度に基づいて、蒸発速度が予め設定した値となるように、加熱電源１２への制御出力を制御しており、加熱電源１２は、制御出力に基づいて制御された電力をヒータ９に供給して、蒸発速度が一定になるように制御している。なお、上記制御は、蒸着時における蒸発速度制御であるが、蒸発容器８の温度が蒸発温度に至るまでの温度制御、即ち、昇温制御は、蒸発容器８の底部に設けた熱電対と温調器（共に、図示省略）に切り替え、上記加熱電源１２を用いて、昇温制御を行っている。
【００２８】
このように、蒸発速度検出器１０、蒸発速度制御器１１、加熱電源１２及びヒータ９を用いて、蒸発容器８を加熱することにより、内部に収容した蒸発材料７を蒸発又は昇華させて、後述する複数の放出孔１３から蒸発材料７の蒸気を一定の蒸発速度で放出させている。そして、基板４の板幅方向は、複数の放出孔１３の配置方向と同じであり、基板４及び蒸発源２０は、それらに垂直な方向に相対移動されているので、これにより、基板４全面に蒸着源２０からの蒸発材料７を蒸着させることになる。
【００２９】
次に、蒸発源２０の構成を、図２〜図４を用いて詳細に説明する。
【００３０】
図２（ａ）は、本実施例の蒸発源の断面図であり、ライン状の蒸発源の長手方向に垂直な面における断面図である。
【００３１】
蒸発源２０内部に配置された蒸発容器８は、基板４の板幅方向に長く、その長さは、基板４の板幅方向の長さと同等若しくは若干長く形成されている。蒸発容器８には、その上面（基板４側の面）に複数の放出孔１３が設けられており、又、放出孔１３と蒸発容器８内部の蒸発材料７との間には、複数の通過孔１８を有する整流板１４が配置されている。詳細は後述の図４において説明するが、放出孔１３と通過孔１８の長手方向の配置位置は、蒸発材料７の蒸着による薄膜の膜厚分布が基板４の板幅方向において均一になるように配置されている。
【００３２】
ヒータ９は、蒸発容器８の出し入れのためと放出孔１３の配置のため、蒸発容器８の上部には配置していない。そのため、放出孔１３の温度低下を補償するために放出孔１３側のヒータ９を密に配置し、下部（蒸発材料７側）のヒータ９を疎に配置している。このような配置により、放出孔１３の温度低下を防止して、放出孔１３における蒸発材料７の詰りを回避することができる。なお、ヒータ９及びその加熱電源１２については、後述の図３において更に説明を行う。
【００３３】
又、放出孔１３の直上の位置を除く、ヒータ９の外周全面に輻射防止板１５を配置しており、この輻射防止板１５は、蒸発容器８の保温と均熱化のために機能している。更に、輻射防止板１５の外周は、内部に冷却水用の流路（図示省略）を有し、冷却水により冷却された水冷ジャケット１６と、放出孔１３の配置位置に対応する位置に開口部１７ａを有し、水冷ジャケット１６の上部開口部に接する防熱板１７とで覆われている。水冷ジャケット１６、防熱板１７は、真空容器１と基板４への熱輻射を防止するために機能しており、防熱板１７は熱伝導率の高いアルミニウム等が適している。なお、防熱板１７の開口部１７ａは、蒸発材料７の蒸気の付着を避けるため、基板４側に広くなるテーパ形状に形成されている。
【００３４】
なお、本実施例においては、図２（ｂ）に示すような蒸発源も適用可能である。この図２（ｂ）は、本実施例の変形例となる蒸発源の断面図であり、ライン状の蒸発源の長手方向に垂直な面における断面図である。図２（ｂ）に示す蒸発源２０’は、図２（ａ）に示した蒸発源２０と略同等の構成であるが、蒸発容器８の上面（基板４側の面）に、防熱板１７の上面まで延設されたノズル２１を設け、ノズル２１を貫通して放出孔１３を設けた構成である。ノズル２１により、放出孔１３上面の高さ位置が、防熱板１７の上面の高さ位置と同等となり、そのため、蒸発材料７の蒸気が防熱板１７に付着する可能性はなくなる。従って、その開口部１７ｂは、テーパ形状にする必要はなく、防熱板１７を垂直に貫通するように形成している。その他の構成については、図２（ａ）に示した蒸発源２０と同じであるため、図２（ｂ）では、同じ符号を付し、又、説明は省略する。
【００３５】
次に、蒸発容器８における加熱手段、制御手段の構成について、図３（ａ）を参照して説明する。図３（ａ）は、本実施例の加熱手段、制御手段の構成を説明する図である。
【００３６】
蒸発容器８の放出孔１３は、蒸着される基板４に対し、放出孔１３が露出する構造になるため、何の対策も施さない場合は、放出孔１３近傍の温度が蒸発容器８の内部に比べて低くなってしまう。又、蒸発容器８が長尺になると、長手方向の温度むらが生じ易くなる。これらの対策として、特許文献１では、温度制御手段を長手方向において複数に分割し、分割された領域毎に蒸発速度を制御する方法が示されている。しかしながら、実際には、分割された領域毎に蒸発速度を検出して、ヒータの温度制御することは、非常に困難で、複雑な構造となってしまう。
【００３７】
そこで、本実施例においては、図３（ａ）に示すように、蒸発容器８を加熱する加熱手段を、一つの加熱電源１２、一本（１つの系統）のヒータ９から構成し、その制御手段を、一つの蒸発速度検出器１０、一つの蒸発速度制御器１１から構成しており、一系統の加熱手段及び制御手段としている。ヒータ９は、蒸発容器８の外側面を巻回する一本の加熱抵抗から構成されており、蒸発容器８の上部（放出孔１３側）を密に巻回し、下部（蒸発材料７側）を粗に巻回することにより、ヒータ９の間隔を蒸発材料７側より放出孔１３側で密に配置することになる。上記構成では、一系統による加熱制御となるため、簡便で、長時間にわたって安定した蒸発速度の制御が可能となり、安定した膜厚の薄膜を形成することができ、安定した特性の素子を形成することができる。
【００３８】
なお、ヒータ９は、蒸発容器８の外側面を複数回巻回して配置しており、必要とする全長が使用可能なヒータ長を超えた場合、１本のヒータでは出力が不足することになる。そのような場合には、複数本のヒータを使用するようにしてもよい。但し、複数本のヒータを使用する場合でも、蒸発容器８の外側面を巻回して配置しており、一例として、図３（ｂ）に示すように、密に巻回した上部側のヒータ９ａと、粗に巻回した下部側のヒータ９ｂの２本を使用するようにしている。この場合、ヒータ９ａ、９ｂを並列又は直列に接続して、１つの系統とすることにより、一つの加熱電源１２で電力を供給するようにする。この場合でも、一系統による加熱制御となるため、簡便で、長時間にわたって安定した蒸発速度の制御が可能となり、安定した膜厚の薄膜を形成することができ、安定した特性の素子を形成することができる。
【００３９】
通常、ヒータは同じ長さであっても、１本毎に抵抗が異なるため、複数本のヒータを使用する場合、各々電力が異なってしまう。しかしながら、複数本のヒータを使用する場合でも、例えば、図３（ｂ）に示すように、蒸発容器８の外側面を巻回してヒータ９ａ、９ｂを配置することにより、ヒータ９ａ、９ｂ共に蒸発容器８の長手方向に沿って配置することになり、ヒータ９ａ、９ｂの違いによる加熱の影響は、蒸発容器８の長手方向には現れず、蒸発容器８の長手方向の温度分布を均一にすることができる。
【００４０】
次に、本実施例における放出孔１３と整流板１４の通過孔１８との配置について、図４を参照して説明を行う。なお、図４（ａ）は、蒸発容器８の長手方向の断面図であり、図４（ｂ）は、蒸発容器８の上面図であり、図４（ｃ）は、整流板１４の上面図である。又、以降の説明においては、蒸発材料７自体から蒸発する蒸気の量を「蒸発量」と呼び、それ以外の蒸気の量、例えば、放出孔１３、通過孔１８等における蒸気の量を「蒸気量」と呼び、明確に区別をする。
【００４１】
放出孔１３は、蒸発容器８の上面（基板４側の面）に、蒸発容器８の長手方向に沿って、一直線状に複数形成されている。放出孔１３は、全て円形の同一径（同一面積）としており、放出孔１３同士の間隔を、蒸発容器８の長手方向の中心に対して、両端部側で密に配置して、放出孔１３によるコンダクタンスを蒸発容器８の両端部側で大きくしている。一例として、放出孔１３同士の間隔を、両端側から中心側に向かって、各々、Ｗ11、Ｗ12、Ｗ13、Ｗ14とすると、図４（ｂ）では、中心近傍における間隔Ｗ13、Ｗ14を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｗ14≒Ｗ13＞Ｗ12＞Ｗ11としている。
【００４２】
蒸発源２０はライン状の蒸発源であるため、基板４側の膜厚分布としては、その板幅方向の膜厚分布を考慮すればよい。ライン状の蒸着源２０は、多数の点蒸着源を連続して配置したものと仮定できるので、ライン状の蒸発源２０により形成される基板４の板幅方向の膜厚分布は、多数の点蒸着源からの蒸気の幾何学的な重ね合わせから計算することができる。このことを利用し、逆に、基板４の板幅方向の膜厚分布が均一になるように、蒸着源２０上に仮定した各点蒸着源に必要な蒸気量を求め、求めた蒸気量に基づいて、蒸発容器８の上面における単位長さ当たりのコンダクタンスを求めることができる。単位長さ当たりのコンダクタンスが求まれば、放出孔１３自体のコンダクタンスは、その直径、長さ、蒸発した分子の平均速度から求めることができるので（例えば、富永五郎、熊谷寛夫、「真空の物理と応用」、裳華房、１９７０年等参照）、これにより、蒸発容器８の長手方向における放出孔１３同士の配置間隔を計算することができる。
【００４３】
そして、蒸発容器８の長手方向における放出孔１３同士の配置間隔を計算すると、基板４の板幅方向の膜厚分布を均一にするためには、中心側にある放出孔１３同士の配置間隔より、両端側ある放出孔１３同士の配置間隔を密に（換言すると、単位長さ当たりのコンダクタンスを中心側より両端側を大きく）する必要がある。従って、本実施例では、上述したように、Ｗ14≒Ｗ13＞Ｗ12＞Ｗ11としている。但し、このような放出孔１３の配置間隔は、放出孔１３直下の蒸発材料７の蒸気量が均一であることを前提としている。実際には、蒸発材料７自体からの単位長さ当たりの蒸発量が均一でも、蒸気の拡散により、放出孔１３直下における蒸発材料７の蒸気量は、蒸発容器８の両端側で減少しており、放出孔１３の配置間隔を両端側で密にしても（又は両端側でコンダクタンスを大きくしても）、蒸発容器８の両端側での蒸気量は想定している量より少なくなり、これが、基板４の板幅方向の膜厚分布の改善を阻んでいる。
【００４４】
更に、蒸発容器８が長尺である場合には、前述したように、蒸発容器８の温度むらや蒸発材料７自体の状態変化により、蒸発の状態が大きく変化し、その長手方向における蒸発量が不均一となってしまうおそれがある。特に、蒸発材料７が有機材料である場合には、温度むらによる材料の状態変化が小さくない場合もあり、そのような場合には、長手方向における蒸発量が不均一となるだけでなく、蒸発材料７の消費が進むに伴って、残存する蒸発材料７の偏りが生じてしまい、その結果、長手方向における蒸発量を更に不均一にしてしまう。
【００４５】
そこで、本実施例においては、蒸発容器８の内部に、蒸発材料７の蒸気が通過する複数の通過孔１８を有する整流板１４を設けることにより、放出孔１３直下における蒸発材料７の蒸気量が均一になるようにしており、このような構成により、蒸発材料７からの蒸発量が長手方向において不均一となるような場合にも対応するようにしている。この整流板１４の構成について、図４（ｃ）を参照して、説明を行う。
【００４６】
整流板１４は、蒸発容器８の内部において、放出孔１３側と蒸発材料７側とを分離するように、放出孔１３と蒸発材料７との間に配置されている。そして、通過孔１８は、整流板１４を貫通して設けられており、整流板１４の長手方向に沿って、２列の直線状に複数形成されている。通過孔１８は、全て円形の同一径（同一面積）としており、通過孔１８同士の間隔を、整流板１４の長手方向の中心に対して、両端部側で密に配置して、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するようにしている。一例として、通過孔１８同士の間隔を、両端側から中心側に向かって、各々、Ｗ21、Ｗ22、Ｗ23、Ｗ24、Ｗ25とすると、図４（ｃ）では、中心近傍における間隔Ｗ23、Ｗ24、Ｗ25を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｗ25≒Ｗ24≒Ｗ23＞Ｗ22＞Ｗ21としている。
【００４７】
通過孔１８は、蒸発材料７の全ての表面から見て、放出孔１３と通過孔１８が直線上に並ばないように配置してある。これは、蒸発材料７には、例えば、有機材料等の突沸（スプラッシュ）し易い材料もあるが、突沸した場合において、突沸により発生した蒸気が、通過孔１８及び放出孔１３をそのまま通過して、基板４側に直接付着しないようにするためである。このような配置にすることにより、突沸により発生した蒸気が、基板４側に直接付着することがなくなり、製品品質を大きく向上させることができる。
【００４８】
通過孔１８同士の配置間隔は、均等に配置すれば、放出孔１３直下における蒸発材料７の蒸気量が均一になるように思えるが、これも、整流板１４直下における蒸発材料７の蒸気量が均一であることを前提とするものであり、実際には、整流板１４直下においても、蒸発材料７の蒸気量は蒸発容器８の両端側で減少しており、整流板１４の通過孔１８を通過する蒸気量は、その両端側では想定している量より少なくなる。その結果、放出孔１３の配置間隔を両端側で密にしても（又は両端側でコンダクタンスを大きくしても）、蒸発容器８の放出孔１３を通過する蒸気量は、その両端側でも想定している量より少なくなり、これが、基板４の板幅方向の膜厚分布の改善を阻んでいる。更に、蒸発容器８の温度むらや蒸発材料７の状態変化があったり、蒸発材料７の偏りが生じてしまったりした場合には、蒸発材料７自体の蒸発量が長手方向において不均一となり、その結果、基板４の板幅方向の膜厚分布を悪化させることになる。
【００４９】
このことから、通過孔１８同士の配置間隔についても、基本的には、放出孔１３の配置間隔を求めた方法と同等の方法により求めればよい。例えば、放出孔１３直下における蒸気量が均一になるように、整流板１４上に仮定した各点蒸着源に必要な蒸気量を求め、求めた蒸気量に基づいて、整流板１４の上面における単位長さ当たりのコンダクタンスを求め、求めた単位長さ当たりのコンダクタンス、そして、通過孔１８自体のコンダクタンスに基づいて、整流板１４の長手方向における通過孔１８同士の配置間隔を計算すればよい。そして、整流板１４の長手方向における通過孔１８同士の配置間隔を計算すると、放出孔１３直下における蒸気量を均一にするためには、中心側にある通過孔１８同士の配置間隔より、両端側ある通過孔１８同士の配置間隔を密に（換言すると、単位長さ当たりのコンダクタンスを中心側より両端側を大きく）する必要がある。従って、本実施例では、上述したように、Ｗ25≒Ｗ24≒Ｗ23＞Ｗ22＞Ｗ21としている。このように、放出孔１３同士の配置間隔と通過孔１８同士の配置間隔は、同じ傾向を持つことになり、長手方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔１８によるコンダクタンスが、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するようになる。
【００５０】
そして、本実施例では、蒸発材料７自体の蒸発量が長手方向において不均一となった場合にも対処するため、整流板１４の長手方向における通過孔１８同士の配置間隔を、放出孔１３による蒸発容器８の単位長さ当たりのコンダクタンスに基づいて、決定している。
【００５１】
具体的には、放出孔１３による蒸発容器８の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、コンダクタンスＣ２を求め、求めたコンダクタンスＣ２に基づいて、通過孔１８同士の配置間隔を決定している。従って、コンダクタンスＣ１は、蒸発容器８の両端側で大きくなっているので、コンダクタンスＣ２も、コンダクタンスＣ１に相関して、整流板１４の両端側で大きくなることになる。
【００５２】
ここで、比［Ｃ２／Ｃ１］を５．０以下、好ましくは、２．０以下とする理由を説明する。
【００５３】
具体的には、蒸発材料７が蒸発容器８の内部で一方側に偏った場合において、比［Ｃ２／Ｃ１］を変化させたときに、膜厚分布がどのように変化するかをシミュレーションすることにより、比［Ｃ２／Ｃ１］の最適範囲を求めている。各コンダクタンスＣ１、Ｃ２は、図４（ｂ）、（ｃ）に示す蒸発容器８、整流板１４において、放出孔１３の孔径、通過孔１８の孔径等をパラメータとして求めたものである。そして、求めたコンダクタンスＣ１、Ｃ２に相当する蒸気量（放出孔１３、通過孔１８を通過する蒸気量）から基板４に蒸着した薄膜の膜厚分布を求めている。
【００５４】
上記シミュレーションの結果が図５に示すグラフである。図５からは、コンダクタンスの比［Ｃ２／Ｃ１］が２．０倍以下で薄膜の膜厚分布が良好であり、蒸気流の整流効果が大きいことがわかる。一方、コンダクタンスの比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０倍を超えると膜厚分布の変化は飽和し、整流効果が飽和することを示している。従って、比［Ｃ２／Ｃ１］が小さければ良好な膜厚分布を得ることができる。従って、比［Ｃ２／Ｃ１］の上限は、５．０以下、好ましくは、２．０以下となる。
【００５５】
なお、比［Ｃ２／Ｃ１］が小さくなると、蒸気流が制限されて、基板４に付着する蒸着速度が低下する。高速蒸着を要求される装置では不利となるため、その場合には、ヒータ９の温度を上げ、蒸発材料７の蒸気圧を上げ、蒸発量を増やして、蒸発速度を維持すればよい。
【００５６】
例えば、有機ＥＬのホスト材としてよく知られている、アルミニウムトリスキノラート（Ａｌｑ３）に対するるつぼ温度Ｔと蒸気量Ｑとの関係を測定した結果を、図６に示す。なお、この蒸発量Ｑは、２８６℃のときの蒸発量を１とした相対値であり、蒸着速度と相関性があるものである。
【００５７】
図６に示するつぼ温度Ｔと蒸発量Ｑとの関係から、蒸着速度を２倍にするためには、るつぼ温度Ｔを１２℃上昇させればよく、同様に、蒸着速度を５倍にするためには、るつぼ温度Ｔを３０℃上昇させればよい。なお、有機ＥＬに使用される有機材料は、必要以上に温度を上昇させると、材料の熱劣化及び有機ＥＬ発光素子特性が低下することが知られており、適正な温度範囲がある。
【００５８】
更に、基板４の板幅方向の膜厚分布をより均一にするためには、蒸発容器８における整流板１４の高さ位置についても、以下のように設定することが好ましい。
【００５９】
具体的には、蒸発容器８の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４の上面までの距離をＨ２とし（前述の図４（ａ）参照）、これらの比［Ｈ２／Ｈ１］を変化させたときに、膜厚分布がどのように変化するかをシミュレーションすることにより、比［Ｈ２／Ｈ１］の最適範囲を求めている。より詳細には、図４（ｂ）、（ｃ）に示す蒸発容器８、整流板１４において、比［Ｃ２／Ｃ１］＝１．０として、比［Ｈ２／Ｈ１］を変化させた。ここでも、各コンダクタンスＣ１、Ｃ２は、放出孔１３の孔径、通過孔１８の孔径等をパラメータとして求めたものであり、求めたコンダクタンスＣ１、Ｃ２に相当する蒸気量（放出孔１３、通過孔１８を通過する蒸気量）から基板４に蒸着した薄膜の膜厚分布を求めている。なお、ここでも、蒸発材料７が蒸発容器８の内部で一方側に偏った場合としている。
【００６０】
上記シミュレーションの結果が図７に示すグラフである。図７からは、比［Ｈ２／Ｈ１］が０．６を超えると、急速に膜厚分布が悪化することがわかる。一方、比［Ｈ２／Ｈ１］が０．６以下、望ましくは、０．５以下であれば、膜厚分布がより良好となることがわかる。なお、下限については、０．０８まで検討したが、０．０１であっても、放出孔１３のコンダクタンスより大きく、小さい比の実質的な制限は無い。従って、比［Ｈ２／Ｈ１］は、０．６以下、好ましくは、０．５以下となる。
【００６１】
次に、本発明の効果を示すため、本実施例の真空蒸着装置を用いて行った試験結果を、図８、図９に示す。
【００６２】
図８は、従来技術（内部に整流板が無い蒸着源を使用）と本発明（内部に整流板が有る蒸着源を使用）により基板上に蒸着された薄膜の膜厚分布を測定した結果である。なお、図８では、従来技術及び本発明とも、最大の膜厚を１として、それに対する膜厚比としてグラフ化している。
【００６３】
図８に示すグラフにおいて、１８０ｍｍ幅（±９０ｍｍ）における膜厚分布を比較すると、従来技術では、均一性が±３．０％であるのに対して、本発明では均一性が±１．２％と大幅に改善されており、所望の結果が得られている。又、蒸着有効幅を１６０ｍｍ幅（±８０ｍｍ）とする場合には、本発明では均一性が±１．０％以内となっており、極めて均一な膜厚分布を得ることができている。近年、素子特性の向上から、膜厚分布の均一性の向上が要望されているが、本発明では、±１％程度の均一性の膜厚分布が要求される場合でも、当該要求を満たすことが可能であり、このような要求に対して、非常に有効なものである。
【００６４】
又、図９は、従来技術（内部に整流板が無い蒸着源を使用）と本発明（内部に整流板が有る蒸着源を使用）において、蒸発材料の収容状態を変えて、基板上に蒸着を行い、蒸着された薄膜の膜厚分布を測定した結果である。なお、図９でも、従来技術及び本発明とも、最大の膜厚を１として、それに対する膜厚比としてグラフ化している。
【００６５】
蒸発材料の収容状態としては、長尺の蒸発容器に蒸発材料を均一に充填した場合（図９中の材料均一）と、長尺の蒸発容器の片隅にのみ蒸発材料を偏らせて充填した場合（図９中の材料偏り）とを用いた。ここでは、長尺の蒸発容器の［１００ｍｍ］側の端部にのみ蒸発材料を充填している。
【００６６】
図９に示すように、従来技術では、蒸発材料の充填側、つまり、［１００ｍｍ］側から［−１００ｍｍ］側に向かって、徐々に膜厚が減少し、膜厚が薄くなっていることがわかり、蒸発材料の偏りが膜厚分布の偏りを発生させている。蒸着有効幅を１６０ｍｍ幅（±８０ｍｍ）とすると、その均一性は±２．５％の膜厚分布であり、従来の用途では使用可能であっても、高品質・高精度のために近年要求されている膜厚分布の均一性からは外れてしまう。
【００６７】
一方、本発明では、蒸発材料の偏りが有る場合でも、蒸発材料の偏りが無い場合と略同等の膜厚分布が得られている。これは、蒸発材料が偏って充填された場合でも、又は、蒸発材料の消費により蒸発材料が偏ってしまった場合でも、再現性及び安定性のある膜厚分布を得ることを意味し、その結果、再現性及び安定性のある製品を製造可能であることが実証できた。
【００６８】
以上のことから、蒸発容器８の内部に整流板１４を設け、蒸発容器８の放出孔１３、整流板１４の通過孔１８を上述した関係となるように配置することにより、放出孔１３直下の蒸気量を均一にすることができ、そのため、蒸発容器８において、中心側より両端側の蒸気流を多くして、基板４の両端部での膜厚の落ち込みを抑制し、基板４の板幅方向における膜厚分布をより均一にして、所望の均一性の膜厚分布を有する薄膜を得ることができる。又、蒸発容器８内部の蒸発材料７に偏りが生じても、整流板１４に設けた通過孔１８により、放出孔１３直下の蒸気量を均一にすることができるので、蒸発材料７の偏りに左右されず、基板４の板幅方向の膜厚分布の均一性を維持することができる。
【００６９】
（実施例２）
実施例１においては、蒸発容器８における単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するために、同一径の放出孔１３の配置間隔を変えているが、図１０に示すように、放出孔１３同士の配置間隔を一定とし、代わりに、放出孔１３の大きさを変えることで、単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するようにしてもよい。
【００７０】
具体的には、図１０に示すように、蒸発容器８’の上面（基板４側の面）において、複数の放出孔１３（放出孔１３1、１３2、１３3、１３4）を、蒸発容器８’の長手方向に沿って、一直線状に形成している。放出孔１３同士の配置間隔は全て同一の間隔Ｗ31としているが、円形の開口径が異なっており、基板４上の膜厚分布が均一になるように、蒸発容器８’の長手方向の中心の放出孔１３4に対して、両端部側の放出孔１３1の開口径（面積）を大きくして、放出孔１３によるコンダクタンスを両端部側で大きくしている。一例として、放出孔１３1、１３2、１３3、１３4の開口径を、各々、Ｄ31、Ｄ32、Ｄ33、Ｄ34とすると、図１０では、中心近傍における放出孔１３3、１３4の開口径Ｄ33、Ｄ34を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｄ34≒Ｄ33＜Ｄ32＜Ｄ31としている。
【００７１】
そして、図４（ｂ）に示した蒸気容器８に代えて、上記蒸気容器８’を用い、図４（ｃ）に示した整流板１４と組み合わせて、ライン状の蒸気源とする場合、実施例１と同様に、放出孔１３による蒸発容器８’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４の通過孔１８の配置間隔を設定している。又、蒸発容器８’の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４の上面までの距離をＨ２とすると、比［Ｈ２／Ｈ１］についても、実施例１と同様に、０．６以下、好ましくは、０．５以下となるように、整流板１４を配置している。
【００７２】
（実施例３）
実施例１においては、整流板１４における単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するために、同一径の通過孔１８の配置間隔を変えているが、図１１に示すように、通過孔１８同士の配置間隔を一定とし、代わりに、通過孔１８の大きさを変えることで、単位長さ当たりのコンダクタンスを変更するようにしてもよい。
【００７３】
具体的には、図１１に示すように、整流板１４’において、複数の通過孔１８（通過孔１８1、１８2、１８3、１８4）を、整流板１４’の長手方向に沿って、２列の直線状に形成している。通過孔１８同士の配置間隔は全て同一の間隔Ｗ41としているが、円形の開口径が異なっており、放出孔１３直下の蒸気量が均一になるように、整流板１４’の長手方向の中心の通過孔１８4に対して、両端部側の通過孔１８1の開口径（面積）を大きくして、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスに比例するようにしている。一例として、通過孔１８1、１８2、１８3、１８4の開口径を、各々、Ｄ41、Ｄ42、Ｄ43、Ｄ44とすると、図１１では、中心近傍における通過孔１８3、１８4の開口径Ｄ43、Ｄ44を同等とし、中心側から両端側に行くに従って、Ｄ44≒Ｄ43＜Ｄ42＜Ｄ41としている。
【００７４】
そして、図４（ｃ）に示した整流板１４に代えて、上記整流板１４’を用い、図４（ｂ）に示した蒸気容器８と組み合わせて、ライン状の蒸気源とする場合、実施例１と同様に、放出孔１３による蒸発容器８の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４’の通過孔１８の開口径を設定している。又、蒸発容器８の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４’の上面までの距離をＨ２とすると、比［Ｈ２／Ｈ１］についても、実施例１と同様に、０．６以下、好ましくは、０．５以下となるように、整流板１４’を配置している。
【００７５】
更に、図４（ｂ）に示した蒸気容器８に代えて、実施例２の図１０で示した蒸気容器８’を用い、図４（ｃ）に示した整流板１４に代えて、上記整流板１４’を用い、これらを組み合わせて、ライン状の蒸気源とする場合も、実施例１と同様に、放出孔１３による蒸発容器８’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ１とし、通過孔１８による整流板１４’の単位長さ当たりのコンダクタンスをＣ２とすると、比［Ｃ２／Ｃ１］が５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４’の通過孔１８の開口径を設定している。又、蒸発容器８’の内側の高さをＨ１とし、放出孔１３の下面から整流板１４’の上面までの距離をＨ２とすると、比［Ｈ２／Ｈ１］についても、実施例１と同様に、０．６以下、好ましくは、０．５以下となるように、整流板１４’を配置している。
【００７６】
図１０で示した蒸気容器８’と図１１で示した整流板１４’とを組み合わせる場合、特に、Ｗ31＝Ｗ41である場合には、単位長さ当たりのコンダクタンスの比ではなく、対応する放出孔１３のコンダクタンスＣａと通過孔１８のコンダクタンスＣｂとの比［Ｃｂ／Ｃａ］を、５．０以下、好ましくは、２．０以下となるように、整流板１４’の通過孔１８の開口径を設定してもよい。
【００７７】
なお、上記実施例１〜３において、放出孔１３、通過孔１８は円形としているが、四角形や楕円や長方形などでも良い。又、１個の放出孔１３に対して、２個の通過孔１８を対応させているが、１個でも、逆に、多数（３個以上）であっても良い。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明に係る真空蒸着装置は、特に、蒸着対象が大型基板である場合に好適なものであり、又、蒸発材料が有機材料である場合に好適なものである。
【符号の説明】
【００７９】
１ 真空容器
２ バルブ
３ 真空ポンプ
４ 基板
５ 駆動源
６ 搬送ローラ
７ 蒸発材料
８ 蒸発容器
９ ヒータ
１０ 蒸発速度検出器
１１ 蒸発速度制御器
１２ 加熱電源
１３ 放出孔
１４ 整流板
１５ 輻射防止板
１６ 水冷ジャケット
１７ 防熱板
１８ 通過孔
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の放出孔を線状に配置すると共に、前記放出孔によるコンダクタンスを両端部側で大きくした蒸発容器を有し、
前記蒸発容器を加熱することにより、内部に収容した蒸発材料を蒸発又は昇華させて、前記複数の放出孔から前記蒸発材料の蒸気を放出させると共に、前記複数の放出孔の配置方向に垂直な方向に、基板及び前記蒸発容器を相対的に移動させて、前記基板全面に前記蒸発材料を蒸着させる真空蒸着装置において、
前記蒸発容器内部に前記蒸気が通過する複数の通過孔を有する整流板を設け、前記複数の放出孔の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔を全て同一面積とすると共に当該放出孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の放出孔を同一間隔で配置すると共に当該放出孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記放出孔によるコンダクタンスを前記蒸発容器の両端部側で大きくしたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の真空蒸着装置において、
前記通過孔を全て同一面積とすると共に当該通過孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の通過孔を同一間隔で配置すると共に当該通過孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔によるコンダクタンスＣ１に対する前記通過孔によるコンダクタンスＣ２の比［Ｃ２／Ｃ１］を、５．０以下、好ましくは、２．０以下としたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器の内側の高さＨ１に対する前記放出孔から前記整流板までの距離Ｈ２の比［Ｈ２／Ｈ１］を、０．６以下、好ましくは、０．５以下としたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発材料の全ての表面から見て、前記放出孔と前記通過孔が直線上に並ばないように、前記通過孔を配置したことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器を加熱する加熱手段を、前記蒸発容器の外側面を巻回する１つの系統のヒータと、前記ヒータに電力を供給する１つの加熱電源から構成すると共に、
前記加熱電源を制御する制御手段を、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度を検出する１つの蒸発速度検出器と、前記蒸発速度検出器で検出された蒸発速度に基づいて、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度が一定となるように、前記加熱電源への出力を制御する１つの蒸発速度制御器から構成したことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項８】
請求項７に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔側の前記ヒータの間隔を、前記蒸発材料側のヒータの間隔より密に巻回したことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項１】
複数の放出孔を線状に配置すると共に、前記放出孔によるコンダクタンスを両端部側で大きくした蒸発容器を有し、
前記蒸発容器を加熱することにより、内部に収容した蒸発材料を蒸発又は昇華させて、前記複数の放出孔から前記蒸発材料の蒸気を放出させると共に、前記複数の放出孔の配置方向に垂直な方向に、基板及び前記蒸発容器を相対的に移動させて、前記基板全面に前記蒸発材料を蒸着させる真空蒸着装置において、
前記蒸発容器内部に前記蒸気が通過する複数の通過孔を有する整流板を設け、前記複数の放出孔の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔を全て同一面積とすると共に当該放出孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の放出孔を同一間隔で配置すると共に当該放出孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記放出孔によるコンダクタンスを前記蒸発容器の両端部側で大きくしたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の真空蒸着装置において、
前記通過孔を全て同一面積とすると共に当該通過孔を前記蒸発容器の両端部側で密に配置すること、又は、前記複数の通過孔を同一間隔で配置すると共に当該通過孔の面積を前記蒸発容器の両端部側で大きくすることにより、前記通過孔によるコンダクタンスを、前記放出孔によるコンダクタンスと比例するようにしたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔によるコンダクタンスＣ１に対する前記通過孔によるコンダクタンスＣ２の比［Ｃ２／Ｃ１］を、５．０以下、好ましくは、２．０以下としたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器の内側の高さＨ１に対する前記放出孔から前記整流板までの距離Ｈ２の比［Ｈ２／Ｈ１］を、０．６以下、好ましくは、０．５以下としたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発材料の全ての表面から見て、前記放出孔と前記通過孔が直線上に並ばないように、前記通過孔を配置したことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つに記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発容器を加熱する加熱手段を、前記蒸発容器の外側面を巻回する１つの系統のヒータと、前記ヒータに電力を供給する１つの加熱電源から構成すると共に、
前記加熱電源を制御する制御手段を、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度を検出する１つの蒸発速度検出器と、前記蒸発速度検出器で検出された蒸発速度に基づいて、前記蒸発材料の蒸気の蒸発速度が一定となるように、前記加熱電源への出力を制御する１つの蒸発速度制御器から構成したことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項８】
請求項７に記載の真空蒸着装置において、
前記放出孔側の前記ヒータの間隔を、前記蒸発材料側のヒータの間隔より密に巻回したことを特徴とする真空蒸着装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１１−１２３０９（Ｐ２０１１−１２３０９Ａ）
【公開日】平成２３年１月２０日（２０１１．１．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１５７５０５（Ｐ２００９−１５７５０５）
【出願日】平成２１年７月２日（２００９．７．２）
【出願人】（０００００６２０８）三菱重工業株式会社 (10,378)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１月２０日（２０１１．１．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年７月２日（２００９．７．２）
【出願人】（０００００６２０８）三菱重工業株式会社 (10,378)
【Ｆターム（参考）】
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