着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
【課題】現像時に未溶解物の残存やパターンエッジのスカムの生成がなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じない着色層を与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光ラジカル発生剤を含有し、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光ラジカル発生剤を含有し、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子に関わり、より詳しくは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの製造に有用な着色層の形成に用いられる感放射線性組成物、当該感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ、並びに当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、着色感放射線性組成物を用いてカラーフィルタを製造するに当たっては、基板上あるいは予め所望のパターンの遮光層を形成した基板上に、着色感放射線性組成物を塗布して乾燥したのち、乾燥塗膜を所望のパターン形状に放射線を照射（以下、「露光」という。）し、現像することにより、各色の画素を得る方法（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）が知られている。
そして近年では、カラーフィルタの技術分野においては、露光量を下げることによりタクトタイムを短縮する動きが主流となっており、また液晶表示素子の高精細化を反映して、より微細なパターンの形成も強く求められているが、従来の着色感放射線性組成物では、現像時にパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じやすいため、タクトタイムを短縮しつつ、良好なパターン形状の画素およびブラックマトリックスを得ることが困難であり、また高精細なパターンを形成する点でも必ずしも十分とはいえなかった。
【０００３】
【特許文献１】特開平２−１４４５０２号公報
【特許文献２】特開平３−５３２０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、優れた現像性を示す着色層形成用感放射線性組成物、より具体的には、現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与え、微細パターンの形成が可能な新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、第一に、
（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光ラジカル発生剤を含有する感放射線性組成物であって、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物、からなる。
本発明でいう「着色層」とは、カラーフィルタに用いられる画素および／またはブラックマトリックスからなる層を意味する。
【０００６】
本発明は、第二に、
前記着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ、からなる。
【０００７】
本発明は、第三に、
前記カラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示素子、からなる。
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。
着色層形成用感放射線性組成物
−（Ａ）成分−
本発明における（Ａ）成分である着色剤の色調は特に限定されるものではなく、得られるカラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、顔料、染料あるいは天然色素の何れでもよい。
カラーフィルタには高精細な発色と耐熱性が求められることから、本発明における着色剤としては、発色性が高く、かつ耐熱性の高い着色剤、特に耐熱分解性の高い着色剤が好ましく、通常、有機顔料あるいは無機顔料が用いられ、特に好ましくは、有機顔料、カーボンブラックが用いられる。
前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス（C.I.；The Society of Dyers
and Colourists社発行) においてピグメント（Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（C.I.）番号が付されているものを挙げることができる。
【０００９】
C.I.ピグメントイエロー１、C.I.ピグメントイエロー３、C.I.ピグメントイエロー１２、C.I.ピグメントイエロー１３、C.I.ピグメントイエロー１４、C.I.ピグメントイエロー１５、C.I.ピグメントイエロー１６、C.I.ピグメントイエロー１７、C.I.ピグメントイエロー２０、C.I.ピグメントイエロー２４、C.I.ピグメントイエロー３１、C.I.ピグメントイエロー５５、C.I.ピグメントイエロー６０、C.I.ピグメントイエロー６１、C.I.ピグメントイエロー６５、C.I.ピグメントイエロー７１、C.I.ピグメントイエロー７３、C.I.ピグメントイエロー７４、C.I.ピグメントイエロー８１、C.I.ピグメントイエロー８３、C.I.ピグメントイエロー９３、C.I.ピグメントイエロー９５、C.I.ピグメントイエロー９７、C.I.ピグメントイエロー９８、C.I.ピグメントイエロー１００、C.I.ピグメントイエロー１０１、C.I.ピグメントイエロー１０４、C.I.ピグメントイエロー１０６、C.I.ピグメントイエロー１０８、C.I.ピグメントイエロー１０９、C.I.ピグメントイエロー１１０、C.I.ピグメントイエロー１１３、C.I.ピグメントイエロー１１４、C.I.ピグメントイエロー１１６、C.I.ピグメントイエロー１１７、C.I.ピグメントイエロー１１９、C.I.ピグメントイエロー１２０、C.I.ピグメントイエロー１２６、C.I.ピグメントイエロー１２７、C.I.ピグメントイエロー１２８、C.I.ピグメントイエロー１２９、C.I.ピグメントイエロー１３８、C.I.ピグメントイエロー１３９、C.I.ピグメントイエロー１５０、C.I.ピグメントイエロー１５１、C.I.ピグメントイエロー１５２、C.I.ピグメントイエロー１５３、C.I.ピグメントイエロー１５４、C.I.ピグメントイエロー１５５、C.I.ピグメントイエロー１５６、C.I.ピグメントイエロー１６６、C.I.ピグメントイエロー１６８、C.I.ピグメントイエロー１７５、C.I.ピグメントイエロー１８０、C.I.ピグメントイエロー１８５；
【００１０】
C.I.ピグメントオレンジ１、C.I.ピグメントオレンジ５、C.I.ピグメントオレンジ１３、C.I.ピグメントオレンジ１４、C.I.ピグメントオレンジ１６、C.I.ピグメントオレンジ１７、C.I.ピグメントオレンジ２４、C.I.ピグメントオレンジ３４、C.I.ピグメントオレンジ３６、C.I.ピグメントオレンジ３８、C.I.ピグメントオレンジ４０、C.I.ピグメントオレンジ４３、C.I.ピグメントオレンジ４６、C.I.ピグメントオレンジ４９、C.I.ピグメントオレンジ５１、C.I.ピグメントオレンジ６１、C.I.ピグメントオレンジ６３、C.I.ピグメントオレンジ６４、C.I.ピグメントオレンジ７１、C.I.ピグメントオレンジ７３；
C.I.ピグメントバイオレット１、C.I.ピグメントバイオレット１９、C.I.ピグメントバイオレット２３、C.I.ピグメントバイオレット２９、C.I.ピグメントバイオレット３２、C.I.ピグメントバイオレット３６、C.I.ピグメントバイオレット３８；
【００１１】
C.I.ピグメントレッド１、C.I.ピグメントレッド２、C.I.ピグメントレッド３、C.I.ピグメントレッド４、C.I.ピグメントレッド５、C.I.ピグメントレッド６、C.I.ピグメントレッド７、C.I.ピグメントレッド８、C.I.ピグメントレッド９、C.I.ピグメントレッド１０、C.I.ピグメントレッド１１、C.I.ピグメントレッド１２、C.I.ピグメントレッド１４、C.I.ピグメントレッド１５、C.I.ピグメントレッド１６、C.I.ピグメントレッド１７、C.I.ピグメントレッド１８、C.I.ピグメントレッド１９、C.I.ピグメントレッド２１、C.I.ピグメントレッド２２、C.I.ピグメントレッド２３、C.I.ピグメントレッド３０、C.I.ピグメントレッド３１、C.I.ピグメントレッド３２、C.I.ピグメントレッド３７、C.I.ピグメントレッド３８、C.I.ピグメントレッド４０、C.I.ピグメントレッド４１、C.I.ピグメントレッド４２、C.I.ピグメントレッド４８：１、C.I.ピグメントレッド４８：２、C.I.ピグメントレッド４８：３、C.I.ピグメントレッド４８：４、C.I.ピグメントレッド４９：１、C.I.ピグメントレッド４９：２、C.I.ピグメントレッド５０：１、C.I.ピグメントレッド５２：１、C.I.ピグメントレッド５３：１、C.I.ピグメントレッド５７、C.I.ピグメントレッド５７：１、C.I.ピグメントレッド５７：２、C.I.ピグメントレッド５８：２、C.I.ピグメントレッド５８：４、C.I.ピグメントレッド６０：１、C.I.ピグメントレッド６３：１、C.I.ピグメントレッド６３：２、C.I.ピグメントレッド６４：１、C.I.ピグメントレッド８１：１、C.I.ピグメントレッド８３、C.I.ピグメントレッド８８、C.I.ピグメントレッド９０：１、C.I.ピグメントレッド９７、
【００１２】
C.I.ピグメントレッド１０１、C.I.ピグメントレッド１０２、C.I.ピグメントレッド１０４、C.I.ピグメントレッド１０５、C.I.ピグメントレッド１０６、C.I.ピグメントレッド１０８、C.I.ピグメントレッド１１２、C.I.ピグメントレッド１１３、C.I.ピグメントレッド１１４、C.I.ピグメントレッド１２２、C.I.ピグメントレッド１２３、C.I.ピグメントレッド１４４、C.I.ピグメントレッド１４６、C.I.ピグメントレッド１４９、C.I.ピグメントレッド１５０、C.I.ピグメントレッド１５１、C.I.ピグメントレッド１６６、C.I.ピグメントレッド１６８、C.I.ピグメントレッド１７０、C.I.ピグメントレッド１７１、C.I.ピグメントレッド１７２、C.I.ピグメントレッド１７４、C.I.ピグメントレッド１７５、C.I.ピグメントレッド１７６、C.I.ピグメントレッド１７７、C.I.ピグメントレッド１７８、C.I.ピグメントレッド１７９、C.I.ピグメントレッド１８０、C.I.ピグメントレッド１８５、C.I.ピグメントレッド１８７、C.I.ピグメントレッド１８８、C.I.ピグメントレッド１９０、C.I.ピグメントレッド１９３、C.I.ピグメントレッド１９４、C.I.ピグメントレッド２０２、C.I.ピグメントレッド２０６、C.I.ピグメントレッド２０７、C.I.ピグメントレッド２０８、C.I.ピグメントレッド２０９、C.I.ピグメントレッド２１５、C.I.ピグメントレッド２１６、C.I.ピグメントレッド２２０、C.I.ピグメントレッド２２４、C.I.ピグメントレッド２２６、C.I.ピグメントレッド２４２、C.I.ピグメントレッド２４３、C.I.ピグメントレッド２４５、C.I.ピグメントレッド２５４、C.I.ピグメントレッド２５５、C.I.ピグメントレッド２６４、C.I.ピグメントレッド２６５；
【００１３】
C.I.ピグメントブルー１５、C.I.ピグメントブルー１５：３、C.I.ピグメントブルー１５：４、C.I.ピグメントブルー１５：６、C.I.ピグメントブルー６０；
C.I.ピグメントグリーン７、C.I.ピグメントグリーン３６；
C.I.ピグメントブラウン２３、C.I.ピグメントブラウン２５；
C.I.ピグメントブラック１、C.I.ピグメントブラック７。
前記有機顔料は、例えば、硫酸再結晶法、溶剤洗浄法や、これらの組み合わせ等により精製して使用することができる。
【００１４】
また、無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることができる。
【００１５】
本発明において、前記顔料は単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また有機顔料と無機顔料とを併用することができるが、画素を形成する際には、好ましくは１種以上の有機顔料が使用され、またブラックマトリックスを形成する際には、好ましくは２種以上の有機顔料および／またはカーボンブラックが使用される。
【００１６】
本発明においては、前記顔料は、所望により、その粒子表面をポリマーで改質して使用することができる。顔料の粒子表面を改質するポリマーとしては、例えば、特許文献３等に記載されたポリマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたはオリゴマー等を挙げることができる。
【００１７】
【特許文献３】特開平８−２５９８７６号公報
【００１８】
また、本発明において、着色剤は、所望により、分散剤と共に使用することができる。 前記分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。
前記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレン ｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン ｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ソルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；３級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミン類等のほか、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、ＢＹＫ、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ソルスパース（セネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（エフカー・ケミカルズ・ビーブイ社製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の使用量は、着色剤１００重量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは０〜３０重量部である。
【００１９】
本発明において、感放射線性樹脂組成物は、適宜の方法により調製することができるが、着色剤として顔料を用いる場合、該顔料を溶媒中、分散剤の存在下で、場合により後述する（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と共に、例えばビーズミル、ロールミル等を用いて、粉砕しつつ混合・分散して顔料分散液とし、これを、後述する（Ｂ）〜（Ｄ）成分等と混合することにより調製することが好ましい。
【００２０】
顔料分散液を調製する際の分散剤の使用量は、顔料１００重量部に対して、通常、１００重量部以下、好ましくは０．５〜１００重量部、さらに好ましくは１〜７０重量部、特に好ましくは１０〜５０重量部である。この場合、分散剤の使用量が１００重量部を超えると、現像性等が損なわれるおそれがある。
また、顔料分散液を調製する際に使用される溶媒としては、例えば、後述する感放射線性樹脂組成物の液状組成物について例示する溶媒と同様のものを挙げることができる。
顔料分散液を調製する際の溶媒の使用量は、顔料１００重量部に対して、通常、５００〜１，０００重量部、好ましくは７００〜９００重量部である。
【００２１】
顔料分散液の調製に際し、ビーズミルを用いて調製する際には、例えば、直径０．５〜１０ｍｍ程度のガラスビーズやチタニアビーズ等を使用し、顔料、溶媒および分散剤からなる顔料混合液を、好ましくは冷却水等で冷却しながら混合・分散することにより実施することができる。
この場合、ビーズの充填率は、通常、ミル容量の５０〜８０％であり、顔料混合液の注入量は、通常、ミル容量の２０〜５０％程度である。また処理時間は、通常、２〜５０時間、好ましくは２〜２５時間である。
また、ロールミルを用いて調製する際には、例えば、３本ロールミルや２本ロールミル等を使用し、顔料混合液を、好ましくは冷却水等で冷却しながら処理することにより実施することができる。
この場合、ロール間隔は１０μｍ以下であることが好ましく、剪断力は、通常、１０8 ｄｙｎ／秒程度である。また処理時間は、通常、２〜５０時間、好ましくは２〜２５時間である。
【００２２】
−（Ｂ）成分−
本発明における（Ｂ）成分は、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステル（以下、「側鎖不飽和脂環式ポリエステル」という。）を含むアルカリ可溶性樹脂（以下、「（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂」という。）であり、（Ａ）着色剤に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィルタを製造する際に、その現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を有する樹脂である。
【００２３】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおける脂環式炭化水素骨格としては、例えば、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、ｎ−プロピルシクロペンタン、ｉ−プロピルシクロペンタン、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ｎ−プロピルシクロヘキサン、ｉ−プロピルシクロヘキサン、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロヘキサン、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘプタン、メチルシクロヘプタン、エチルシクロヘプタン、ｎ−プロピルシクロヘプタン、ｉ−プロピルシクロヘプタン、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロヘプタン、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘプタン、シクロヘプテン、シクロオクタン、シクロオクテン等の４〜８員炭素環を有する炭化水素に由来する骨格を挙げることができる。
【００２４】
これらの脂環式炭化水素骨格のうち、シクロヘキサン環を有する骨格が好ましく、特に、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロヘキサン、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキサン等に由来する骨格が好ましい。
【００２５】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおいて、脂環式炭化水素骨格は、直接または２価の結合基を介して、ポリエステルの構成単位を連結させる主鎖エステル構造を形成することができる。
【００２６】
前記２価の結合基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基等のメチレン基または主鎖炭素原子数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基；シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等の４〜８員環炭素環を有するシクロアルキレン基；シクロペンチレンメチレン基、シクロペンチレンエチレン基、シクロペンチレンプロピレン基、シクロヘキシレンメチレン基、シクロヘキシレンエチレン基、シクロヘキシレンプロピレン基等の４〜８員環炭素環を有するシクロアルキレン基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数１〜６の２価の炭化水素鎖が結合した基；１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基等の炭素数６〜１０のアリーレン基；前記炭素数６〜１０のアリーレン基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数１〜６の２価の炭化水素鎖が結合した基；ｍ−フェニレンオキシ基（−ｍ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｏ−）、ｐ−フェニレンオキシ基（−ｐ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｏ−）等の炭素数６〜１０のアリーレンオキシ基；前記アリーレンオキシ基中のオキシ基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数１〜６の２価の炭化水素鎖が結合した基等を挙げることができる。
【００２７】
これらの２価の結合基のうち、炭素数６〜１０のアリーレンオキシ基が好ましく、特に、ｐ−フェニレンオキシ基が好ましい。
【００２８】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおける側鎖の重合性不飽和結合は、着色層形成用感放射線性組成物としたときに、後述する（Ｃ）多官能性単量体や場合により使用される単官能性単量体と共重合することができる限り特に限定されるものでないが、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの合成容易性の観点から、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の重合性不飽和カルボン酸に由来する不飽和結合が好ましく、特に、（メタ）アクリル酸に由来する不飽和結合が好ましい。
【００２９】
本発明における側鎖不飽和脂環式ポリエステルとしては、特に、下記式（１）で表されるポリエステル（以下、「ポリエステル（１）」という。）が好ましい。
【００３０】
【化１】
【００３１】
〔式（１）において、各Ｘは相互に独立に下記式（２）または式（３）で表される２価の基を示し、各Ｙは相互に独立にカルボキシル基を４個有する有機化合物のカルボキシル基を除いた残基を示し、各Ｒ1 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、各Ｒ2 は相互に独立に水素原子またはカルボキシル基封鎖剤残基を示し、ｎは１〜４０の整数である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。
【００３２】
【化２】
【００３３】
【化３】
〕
【００３４】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、例えば、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するジオール化合物を合成しておき、該ジオール化合物と、２価以上、好ましくは２〜４価、特に好ましくは４価の多価カルボン酸の酸無水物とのエステル化反応により製造することができる。
【００３５】
また、ポリエステル（１）は、好ましくは、下記式（６）または式（７）で表されるジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物と、下記式（８）で表される四塩基酸二無水物（以下、「四塩基酸二無水物（８）」という。）とのエステル化反応により製造することができる。
【００３６】
【化６】
〔式（６）において、Ｒ1 は式（１）におけるＲ1 と同義である。〕
【００３７】
【化７】
〔式（７）において、Ｒ1 は式（１）におけるＲ1 と同義である。〕
【００３８】
【化８】
〔式（８）において、Ｙは式（１）におけるＹと同義である。〕
【００３９】
以下では、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの製造方法について、ポリエステル（１）の場合を中心として説明する。
先ず、ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物は、例えば、下記式（９）で表されるジフェノール（以下、「ジフェノール（９）」という。）および／または式（１０）で表されるジフェノール（以下、「ジフェノール（１０）」という。）をジグリシジルエーテル化して、下記式（１１）または式（１２）で表されるジグリシジルエーテル化物を合成したのち、該ジグリシジルエーテル化物の両末端のエポキシ基にアクリル酸および／またはメタクリル酸を付加反応させることにより製造することができる。
【００４０】
このようにして得られるジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物は、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であり、エポキシ当量が１０，０００〜２０，０００であることが好ましい。
【００４１】
【化９】
【００４２】
【化１０】
【００４３】
【化１１】
【００４４】
【化１２】
【００４５】
（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物を合成する際に、ジフェノールは単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、ジフェノール（９）とジフェノール（１０）とを、好ましくは８０〜６０：２０〜４０の重量比で併用することが望ましい。
【００４６】
ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物を合成する際のジフェノールのジグリシジルエーテル化反応は、一般のエポキシ樹脂の合成法に準じて実施することができ、例えば、ジフェノールに塩基性触媒の存在下でエピクロロヒドリンを反応させることにより合成することができる。
このようにして得られるジグリシジルエーテル化物は、エポキシ当量が２６０〜３００であることが好ましい。
【００４７】
また、四塩基酸二無水物（８）としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、下記式（８−１）で表される化合物、式（８−２）で表される化合物、式（８−３）で表される化合物等を挙げることができる。
【００４８】
【化１３】
【００４９】
ポリエステル（１）を製造する際のジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物と四塩基酸二無水物（８）とのエステル化反応を実施する方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物を加熱下で有機溶剤に溶解し、これに四塩基酸二無水物（８）を添加して撹拌しつつ反応させることにより、ポリエステル（１）を製造することができる。
【００５０】
このようなエステル化反応により得られるポリエステル（１）は、式（１）における
Ｒ2 が全て水素原子であって、四塩基酸二無水物（８）の各残基部分に２個ないし３個のカルボキシル基を有し、これによりアルカリ水溶液に対する優れた溶解性を示す。
【００５１】
また、本発明においては、エステル化反応により得られたポリエステル（１）中の遊離カルボキシル基の少なくとも一部を、カルボキシル基封鎖剤で封鎖して使用することができ、この場合のカルボキシル基の封鎖割合を変更することにより、ポリエステル（１）の酸価を調整して、アルカリ溶解性を制御することができる。
前記カルボキシル基封鎖剤としては、特に限定されず、グリシジルエーテル類、カルボジイミド類等の公知のものを挙げることができるが、例えば、フェニルグリシジルエーテル、４−ｎ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、レゾルシングリシジルエーテル等が好ましい。
【００５２】
本発明において、ポリエステル（１）の酸価は、好ましくは２０〜８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、さらに好ましくは３０〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇである。なお、四塩基酸二無水物（８）の種類にもよるが、ポリエステル（１）中のＲ2 の５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上が水素原子であることが、良好なアルカリ現像性を確保する観点から望ましい。
また、カルボキシル基封鎖剤で封鎖後のポリエステル（１）は、エポキシ当量が６０，０００以上であることが好ましい。
【００５３】
ポリエステル（１）は、重合性を有するアクリロイル基あるいはメタクリロイル基を複数個有するため、露光により硬化して、アルカリ水溶液に対して溶解し難くなる。一方、未硬化状態ではアルカリ水溶液に溶解するため、レジスト被膜として部分的に露光することにより、硬化部分を残し、未硬化部分がアルカリ水溶液で溶解除去可能なアルカリ現像性を発現する。また、ポリエステル（１）は、各種基板との密着性が良好で、硬化収縮も小さく、ガラス転移点（Ｔｇ）が高く耐熱性に優れるとともに、高硬度のレジスト被膜を形成できる。さらに、分子主鎖中に含まれる脂環式炭化水素骨格部分が比較的柔軟な構造をなし、良好な可撓性を有するものである。
【００５４】
本発明において、側鎖不飽和結合脂環式ポリエステルのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは３，０００〜１００，０００、さらに好ましくは５，０００〜２５，０００である。この場合、側鎖不飽和脂環式ポリエステルのＭｗが前記範囲より小さいと、可撓性や密着性が低下する傾向があり、一方前記範囲より大きいと、光硬化性、未硬化状態でのアルカリ溶解性等が低下する傾向がある。側鎖不飽和脂環式ポリエステルのＭｗは、ポリエステル（１）の場合、前記エステル化反応における有機溶剤や反応原料の量を変えることにより調整することができる。
また、側鎖不飽和脂環式ポリエステルのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）は、通常、１，０００〜６０，０００、好ましくは２，０００〜２５，０００である。
また、側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、未硬化状態での良好なアルカリ溶解性を確保する観点から、酸価が６０〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
本発明において、側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５５】
また、本発明においては、アルカリ可溶性樹脂として、側鎖不飽和脂環式ポリエステルと共に、他のアルカリ可溶性樹脂を併用することができる。
前記他のアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸等の酸性官能基を有する重合性不飽和単量体と他の共重合可能な不飽和単量体（以下、「共重合性不飽和単量体」という。）との共重合体を挙げることができる。
【００５６】
カルボキシル基を有する重合性不飽和単量体（以下、「カルボキシル基含有不飽和単量体」という。）としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類；
３価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート類
等を挙げることができる。
前記カルボキシル基含有不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５７】
また、フェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド等を挙げることができる。
これらのフェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、スルホン酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、イソプレンスルホン酸、ｐ−スチレンスルホン酸等を挙げることができる。
これらのスルホン酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５８】
次に、共重合性不飽和単量体としては、例えば、
ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類（以下、単に「マクロモノマー類」という。）：
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メトキシフェニルマレイミド等のＮ−アリールマレイミドや、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ位−置換マレイミド類；
【００５９】
スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−クロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の芳香族ビニル化合物；
インデン、１−メチルインデン等のインデン類；
【００６０】
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングルコール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類；
【００６１】
２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−アミノプロピル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノプロピルアクリレート、３−アミノプロピル（メタ）アクリレート、３−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類；
グリシジル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物；
（メタ）アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和アミド類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類
等を挙げることができる。
【００６２】
本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基含有不飽和単量体と共重合性不飽和単量体との共重合体（以下、単に「カルボキシル基含有共重合体」という。）が好ましく、（ａ）（メタ）アクリル酸を必須成分とするカルボキシル基含有不飽和単量体と、（ｂ）ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートおよびグリセロール（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種とを含有し、（ｃ）場合によりスチレン、α−メチルスチレン、メチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレートおよびフェニル（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種をさらに含有する単量体混合物の共重合体がさらに好ましい。
【００６３】
他のアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、通常、２，０００〜３００，０００、好ましくは３，０００〜１００，０００であり、またＭｎは、通常、１，０００〜６０，０００、好ましくは２，０００〜２５，０００である。
本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００６４】
本発明において、アルカリ可溶性樹脂の合計使用量は、（Ａ）着色剤１００重量部に対して、通常、１０〜１，０００重量部、好ましくは２０〜５００重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の合計使用量が１０重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方１，０００重量部を超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となるおそれがある。
また、アルカリ可溶性樹脂中の側鎖不飽和脂環式ポリエステルの使用割合は、好ましくは１０〜１００重量％、特に好ましくは２０〜１００重量％である。この場合、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの使用割合が１０重量％未満では、本発明の所期の効果が損なわれるおそれがある。
【００６５】
−（Ｃ）成分−
本発明における（Ｃ）成分は、２個以上の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体である。
このような多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類や、それらのジカルボン酸変性物；
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類や、
トリス〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕フォスフェート
等を挙げることができる。
【００６６】
これらの多官能性単量体のうち、３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
下記式（１３）で表される化合物、下記式（１４）で表される化合物
【００６７】
【化１４】
【００６８】
等が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、着色層の強度が高く、着色層の表面平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。
前記多官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００６９】
本発明における多官能性単量体の使用量は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量部である。この場合、多官能性単量体の使用量が５重量部未満では、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。
【００７０】
また、本発明においては、多官能性単量体の一部を、重合性不飽和結合を１個有する単官能性単量体に置き換えることもできる。
前記単官能性単量体としては、例えば、前記他のアルカリ可溶性樹脂におけるカルボキシル基含有不飽和単量体や共重合性不飽和単量体について例示した化合物と同様のものや、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタムのほか、市販品として、Ｍ−５６００（商品名、東亞合成（株）製）等を挙げることができる。
これらの単官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００７１】
単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体と単官能性単量体との合計に対して、通常、９０重量％以下、好ましくは５０重量％以下である。この場合、単官能性単量体の使用割合が９０重量％を超えると、得られる着色層の強度や表面平滑性が不十分となるおそれがある。
本発明における多官能性単量体と単官能性単量体との合計使用量は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量部である。この場合、前記合計使用量が５重量部未満では、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。
【００７２】
−（Ｄ）光ラジカル発生剤−
本発明における（Ｄ）成分は、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線等の放射線による露光によって、（Ｃ）多官能性単量体および場合により使用される単官能性単量体の重合を開始しうるラジカルを発生する光ラジカル発生剤である。
本発明における光ラジカル発生剤としては、例えば、下記式（４）または式（５）で表される化合物（以下、「カルバゾール系化合物（Ｄ１）」という。）が好ましい。
【００７３】
【化４】
【００７４】
【化５】
【００７５】
〔式（４）および式（５）において、各Ｒ3 は相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ4 は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ5 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、各Ｒ6 、各Ｒ7 および各Ｒ8 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。但し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 のアルキル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよく、Ｒ3 およびＲ4 のフェニル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよい。〕
【００７６】
式（４）および式（５）において、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチ基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００７７】
また、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 の炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００７８】
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 の各アルキル基に対する置換基、並びにＲ3 およびＲ4 の各フェニル基に対する置換基のうち、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等を挙げることができる。
また、Ｒ3 およびＲ4 の各フェニル基に対する置換基のうち、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
これらの置換基は、各アルキル基および各フェニル基に１個以上あるいは１種以上存在することができる。
【００７９】
式（４）および式（５）において、Ｒ3 としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基等が好ましく、Ｒ4 としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が好ましく、Ｒ5 としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましく、さらにＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましい。
【００８０】
本発明における好ましいカルバゾール系化合物（Ｄ１）の具体例としては、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ペンタン−１，２−ペンタン−２−オキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（１，３，５−トリメチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−ｎ−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート等を挙げることができる。
【００８１】
これらのカルバゾール系化合物（Ｄ１）のうち、特に１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテートが好ましい。
本発明において、カルバゾール系化合物（Ｄ１）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８２】
また、カルバゾール系化合物（Ｄ１）以外の光ラジカル発生剤（以下、「他の光ラジカル発生剤」という。）としては、例えば、下記式（１５−１）、式（１５−２）または式（１５−３）で表される主要骨格を少なくとも１種有するビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ホスフィン系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができる。
【００８３】
【化１５】
【００８４】
前記ビイミダゾール系化合物としては、例えば、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール
等を挙げることができる。
【００８５】
これらのビイミダゾール系化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールおよび２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、特に２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましい。
【００８６】
−水素供与体−
また、本発明においては、光ラジカル発生剤としてビイミダゾール系化合物を使用する場合、下記する水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。
このような水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、下記で定義するアミン系化合物等が好ましい。
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下「メルカプタン系水素供与体」という。）からなる。
また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下「アミン系水素供与体」という。）からなる。
なお、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有することもできる。
【００８７】
以下、水素供与体について、より具体的に説明する。
メルカプタン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基を２個以上有する場合、少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残りのメルカプト基の１個以上がアルキル、アラルキルまたはアリール基で置換されていてもよく、さらには少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、２個の硫黄原子がアルキレン基等の２価の有機基を介在して結合した構造単位、あるいは２個の硫黄原子がジスルフィドの形で結合した構造単位を有することができる。
さらに、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
【００８８】
このようなメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等が挙げることができる。
これらのメルカプタン系水素供与体のうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に、２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００８９】
次に、アミン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、アミン系水素供与体は、アミノ基の１個以上がアルキル基または置換アルキル基で置換されてもよく、またアミノ基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
【００９０】
このようなアミン系水素供与体の具体例としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｉ−アミル、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げることができる。
これらのアミン系水素供与体のうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。なお、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンや４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンは、ビイミダゾール系化合物が存在しない場合でも、それ単独で光ラジカル開始剤として作用しうるものである。
【００９１】
本発明において、水素供与体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することが、形成された着色層が現像時に基板から脱落し難く、また着色層の強度および感度も高い点で好ましい。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との好ましい組み合わせの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との重量比は、通常、１：１〜１：４、好ましくは１：１〜１：３である。
【００９２】
また、前記ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−ベンゾイル安息香酸メチル等を挙げることができる。
また、前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等を挙げることができる。
【００９３】
また、前記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができる。
また、前記α−ジケトン系化合物としては、例えば、ジアセチル、ジベンゾイル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることができる。
また、前記多核キノン系化合物としては、例えば、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン等を挙げることができる。
また、前記キサントン系化合物としては、例えば、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン等を挙げることができる。
また、前記ホスフィン系化合物としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００９４】
また、前記トリアジン系化合物としては、例えば、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
【００９５】
下記式（１６）で表される化合物
【化１６】
【００９６】
、下記式（１７）で表される化合物
【化１７】
【００９７】
等のハロメチル基を有する化合物等を挙げることができる。
本発明において、光ラジカル発生剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
さらに、本発明においては、前記光ラジカル発生剤と共に、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤あるいは高分子光架橋・増感剤の１種以上を併用することもできる。
【００９８】
本発明における光ラジカル発生剤の使用量は、（Ｃ）多官能性単量体と場合により使用される単官能性単量体との合計１００重量部に対して、通常、０．０１〜２００重量部、好ましくは１〜１２０重量部、特に好ましくは１〜１００重量部である。この場合、光ラジカル発生剤の使用量が０．０１重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンあるいはブラックマトリックスパターンが所定の配列に従って配置されたパターンアレイを得ることが困難となるおそれがあり、一方２００重量部を超えると、形成された着色層が現像時に基板から脱落しやすくなり、また未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
また、本発明において、光ラジカル発生剤としてカルバゾール系化合物（Ｄ１）と他の光ラジカル発生剤とを併用する場合、他の光ラジカル発生剤の使用割合は、カルバゾール系化合物（Ｄ１）と他の光ラジカル発生剤との合計に対して、好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下である。
【００９９】
−添加剤−
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を含有することもできる。
前記添加剤としては、感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解特性をより改善し、かつ現像後の未溶解物の残存をより抑制する作用等を示す、有機酸または有機アミノ化合物（但し、前記水素供与体を除く。）等を挙げることができる。
【０１００】
前記有機酸としては、分子中に１個以上のカルボキシル基を有する、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。
前記脂肪族カルボン酸としては、例えば、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン酸類；
しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等のジカルボン酸類；
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等のトリカルボン酸類
等を挙げることができる。
【０１０１】
また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した化合物、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に結合したカルボン酸等を挙げることができる。
フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、
安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類；
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸類；
トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸等の３価以上の芳香族ポリカルボン酸類や、
フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸
等を挙げることができる。
【０１０２】
これらの有機酸のうち、アルカリ溶解性、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族カルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸類が好ましく、特に、マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸等が好ましい。また、フェニル基含有カルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸類が好ましく、特に、フタル酸が好ましい。
前記有機酸は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通常、１５重量％以下、好ましくは１０重量％以下である。この場合、有機酸の使用量が１５重量％を超えると、形成された着色層の基板に対する密着性が低下する傾向がある。
【０１０３】
また、前記有機アミノ化合物としては、分子中に１個以上のアミノ基を有する、脂肪族アミンあるいはフェニル基含有アミンが好ましい。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、
ｎ−プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−へプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン、２−メチルシクロヘキシルアミン、３−メチルシクロヘキシルアミン、４−メチルシクロヘキシルアミン、２−エチルシクロヘキシルアミン、３−エチルシクロヘキシルアミン、４−エチルシクロヘキシルアミン等のモノ（シクロ）アルキルアミン類；
メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルｎ−プロピルアミン、エチルｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｉ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｉ−ブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジ−ｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、エチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ（シクロ）アルキルアミン類；
【０１０４】
ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルｎ−プロピルアミン、ジエチルｎ−プロピルアミン、メチルジ−ｎ−プロピルアミン、エチルジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｉ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｉ−ブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ｔ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；
２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノール、５−アミノ−１−ペンタノール、６−アミノ−１−ヘキサノール、４−アミノ−１−シクロヘキサノール等のモノ（シクロ）アルカノールアミン類；
【０１０５】
ジエタノールアミン、ジ−ｎ−プロパノールアミン、ジ−ｉ−プロパノールアミン、ジ−ｎ−ブタノールアミン、ジ−ｉ−ブタノールアミン、ジ−ｎ−ペンタノールアミン、ジ−ｎ−ヘキサノールアミン、ジ（４−シクロヘキサノール）アミン等のジ（シクロ）アルカノールアミン類；
トリエタノールアミン、トリ−ｎ−プロパノールアミン、トリ−ｉ−プロパノールアミン、トリ−ｎ−ブタノールアミン、トリ−ｉ−ブタノールアミン、トリ−ｎ−ペンタノールアミン、トリ−ｎ−ヘキサノールアミン、トリ（４−シクロヘキサノール）アミン等のトリ（シクロ）アルカノールアミン類；
【０１０６】
３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオール、４−アミノ−１，３−ブタンジオール、４−アミノ−１，２−シクロヘキサンジオール、４−アミノ−１，３−シクロヘキサンジオール、３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオール、２−ジメチルアミノ−１，３−プロパンジオール、２−ジエチルアミノ−１，３−プロパンジオール等のアミノ（シクロ）アルカンジオール類；
１−アミノシクロペンタンメタノール、４−アミノシクロペンタンメタノール、１−アミノシクロヘキサンメタノール、４−アミノシクロヘキサンメタノール、４−ジメチルアミノシクロペンタンメタノール、４−ジエチルアミノシクロペンタンメタノール、４−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、４−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノール等のアミノ基含有シクロアルカンメタノール類；
β−アラニン、２−アミノ酪酸、３−アミノ酪酸、４−アミノ酪酸、２−アミノイソ酪酸、３−アミノイソ酪酸、２−アミノ吉草酸、５−アミノ吉草酸、６−アミノカプロン酸、１−アミノシクロプロパンカルボン酸、１−アミノシクロヘキサンカルボン酸、４−アミノシクロヘキサンカルボン酸等のアミノカルボン酸類等を挙げることができる。
【０１０７】
また、前記フェニル基含有アミンとしては、例えば、アミノ基が直接フェニル基に結合した化合物、アミノ基が炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物等を挙げることができる。
フェニル基含有アミンとしては、例えば、
アニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４―エチルアニリン、４−ｎ−プロピルアニリン、４−ｉ−プロピルアニリン、４−ｎ−ブチルアニリン、４−ｔ−ブチルアニリン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の芳香族アミン類；
２−アミノベンジルアルコール、３−アミノベンジルアルコール、４−アミノベンジルアルコール、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、４−ジエチルアミノベンジルアルコール等のアミノベンジルアルコール類；
２−アミノフェノール、３―アミノフェノール、４―アミノフェノール、４−ジメチルアミノフェノール、４−ジエチルアミノフェノール等のアミノフェノール類
等を挙げることができる。
【０１０８】
これらの有機アミノ化合物のうち、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族アミンとしては、モノ（シクロ）アルカノールアミン類、アミノ（シクロ）アルカンジオール類が好ましく、特に、２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、５−アミノ−１−ペンタノール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオール等が好ましい。また、フェニル基含有アミンとしては、アミノフェノール類が好ましく、特に、２−アミノフェノール、３−アミノフェノール、４−アミノフェノール等が好ましい。
前記有機アミノ化合物は、単独でまたは２種以上混合して使用することができる。
有機アミノ化合物の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通常、１５重量％以下、好ましくは１０重量％以下である。この場合、有機アミノ化合物の使用量が１５重量％を超えると、形成された着色層の基板に対する密着性が低下する傾向がある。
【０１０９】
さらに、前記有機酸および有機アミノ化合物以外の添加剤としては、例えば、
銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤；
ガラス、アルミナ等の充填剤；
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ポリ（フロロアルキルアクリレート）類等の高分子化合物；
ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤；
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；
２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤；
２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤；
ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤；
１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル等の熱ラジカル発生剤
等を挙げることができる。
【０１１０】
溶媒
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分を必須成分とし、必要に応じて前記添加剤成分を含有するが、通常、溶媒を配合して液状組成物として調製される。
前記溶媒としては、感放射線性組成物を構成する（Ａ）〜（Ｄ）成分や添加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
【０１１１】
このような溶媒としては、例えば、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；
【０１１２】
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；
【０１１３】
乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドまたはラクタム類
等を挙げることができる。
【０１１４】
これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１１５】
また、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
これらの高沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、得られる感放射線性組成物の塗布性、安定性等の観点から、当該組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％となる量が望ましい。
【０１１６】
カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、本発明の着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を有するものである。
以下に、本発明のカラーフィルタにおける着色層を形成する方法について説明する。
まず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成物の液状組成物を塗布したのち、プレベークを行って溶剤を蒸発させ、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォトマスクを介して露光したのち、アルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去し、その後ポストベークすることにより、赤色の画素パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。
その後、緑色または青色の顔料が分散された感放射線性組成物の各液状組成物を用い、前記と同様にして、液状組成物の塗布、プレベーク、露光、現像およびポストベークを行って、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフィルタを得ることができる。但し、本発明においては、各色の画素を形成する順序は、前記のものに限定されない。
また、ブラックマトリックスは、例えば、黒色の顔料が分散された着色層形成用感放射線性組成物を用い、前記画素の場合と同様にして形成することができる。
【０１１７】
画素および／またはブラックマトリックスを形成する際に使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
感放射線性組成物の液状組成物を基板に塗布する際には、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の塗布法を採用することができるが、特に、スピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。
塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜８．０μｍ、特に好ましくは０．２〜６．０μｍである。
【０１１８】
画素および／またはブラックマトリックスを形成する際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用することができるが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましい。
放射線の露光量は、好ましくは１０〜１０，０００Ｊ／ｍ2 である。
また、前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等の水溶液が好ましい。
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を適用することができる。現像条件は、常温で５〜３００秒が好ましい。
【０１１９】
このようにして得られる本発明のカラーフィルタは、例えば、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示素子、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極めて有用である。
【０１２０】
カラー液晶表示素子
本発明のカラー液晶表示素子は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
また、本発明のカラー液晶表示素子の１つの形態として、本発明の着色層形成用感放射線性組成物を用いて、薄膜トランジスタ基板アレイ上に、前述したようにして画素および／またはブラックマトリックスを形成することにより、特に優れた特性を有するカラー液晶表示素子を作製することができる。
【０１２１】
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分を必須成分として含有するものであるが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下記（イ）〜（ニ）のとおりである。
（イ） （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物と四塩基酸二無水物（８）とのエステル化反応により得られる、Ｍｗが３、０００〜１００，０００のポリエステル（１）を含む着色層形成用感放射線性組成物。
（ロ） （Ｃ）多官能性単量体がトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの群から選ばれる少なくとも１種からなる前記（イ）の着色層形成用感放射線性組成物。
（ハ） （Ｄ）光ラジカル発生剤がカルバゾール系化合物（Ｄ１）として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテートを含む前記（イ）または（ロ）の着色層形成用感放射線性組成物。
（ニ） （Ａ）着色剤が有機顔料および／またはカーボンブラックを含む前記（イ）、（ロ）また１（ハ）の着色層形成用感放射線性組成物。
【０１２２】
また、本発明の好ましいカラーフィルタは、
（ホ） 前記（イ）、（ロ）、（ハ）または（ニ）の着色層形成用感放射線性組成物から形成された画素および／またはブラックマトリックスを有する。
【０１２３】
また、本発明の好ましいカラー液晶表示素子は、
（ヘ） 前記（ホ）のカラーフィルタを具備し、
本発明のさらに好ましいカラー液晶表示素子は、
（ト） 薄膜トランジスタ基板アレイ上に、前記（ホ）のカラーフィルタを具備している。
【発明の効果】
【０１２４】
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、顔料を高濃度で含む場合においても、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に未溶解物が残存したり、画素パターンおよびブラックマトリックスパターンのエッジにスカムを生じたりすることがなく、しかも低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットのない良好な画素パターンおよびブラックマトリックスパターンを形成することができる。
さらに、本発明の着色層形成用感放射線性組成物を用いて形成された画素およびブラックマトリックスは、表面平滑性が高く、また基板との密着性も優れている。
したがって、本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、電子工業分野におけるカラー液晶表示素子用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタの製造に極めて好適に使用することができる。
【実施例】
【０１２５】
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。ここで、部は重量基準である。
〈アルカリ可溶性樹脂の製造〉
合成例１（ジフェノールのジグリシジルエーテル化物の合成）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、ジフェノール（９）：ジフェノール（１０）＝７０：３０（重量比）の混合物（商品名ＹＰ−９０、ヤスハラケミカル（株）製）１，０７０ｇ、エピクロロヒドリン１，５２０ｇ、ジメチルスルホキシド１，７００ｇを仕込み、攪拌しつつ５０℃に加熱して溶解させたのち、苛性ソーダ２９０ｇを加え、６５〜９０℃で１０時間反応させた。反応の進行および終点はエポキシ当量を測定して確認し、エポキシ当量が目標値に達したのち、９０〜１００℃にて溶剤を減圧留去した。その後、反応生成物を５０〜７０℃のトルエンに再溶解させ、さらに蒸留水を加えて水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下で脱溶剤して、反応生成物１，２６０ｇを得た。得られた反応生成物のエポキシ当量は２６０であった。
【０１２６】
この反応生成物について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（溶媒：ＣＤＣｌ3 、テトラメチルシラン基準。以下同様。）を測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に６．８〜７．３（シクロヘキサン骨格に結合したベンゼン環に由来；８Ｈ）、３．３および３．９〜４．２（エポキシ基に由来；６Ｈ）、０．７〜０．９（シクロヘキサン骨格に結合したｉ−プロピル基中の２個のメチル基に由来；６Ｈ）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１２４１ｃｍ-1（芳香族エーテル構造およびエポキシ基に由来）、１０３６ｃｍ-1および８２８ｃｍ-1（芳香族エーテル構造に由来）の吸収が認められた。
以上の結果から、この反応生成物は前記式（１１）で表されるジグリシジルエーテル化物と式（１２）で表されるジグリシジルエーテル化物の混合物であることが確認された。
【０１２７】
合成例２（ジメタクリロイル基含有ジオール化合物の合成）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例１で得たジグリシジルエーテル化物の混合物１，０００ｇ、メタクリル酸３５０ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１．０ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、臭化テトラエチルアンモニウム８ｇを加え、７０〜９０℃で攪拌しつつ、反応生成物の酸価が８ｍｇＫＯＨ／ｇでエポキシ当量が１７，０００となるまで反応を続けた。１５時間後、酸価およびエポキシ当量にて終点を確認したのち、室温に冷却して、反応生成物１，３００ｇを得た。得られた反応生成物は、酸価＝８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価＝１６５ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量＝１７，０００であった。
【０１２８】
この反応生成物について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に５．６および６．１（メタクリル酸の二重結合に由来；４Ｈ）、３．９〜４．４（ジグリシジルエーテル化物の混合物のピーク「３．３および３．９〜４．２」がエポキシ基の開環によりシフトしたもの；１０Ｈ）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１，７２０ｃｍ-1（脂肪族エステル構造に由来）の吸収が認められた。
以上の結果から、この反応生成物は下記式（６−１）で表されるジメタクリロイル基含有ジオール化合物と下記式（７−１）で表されるジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物であることが確認された。
【０１２９】
【化１８】
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
合成例３（ジアクリロイル基含有ジオール化合物の合成）
合成例２において、メタクリル酸の代わりにアクリル酸２９３ｇを用いた以外合成例２と同様にして、下記式（６−２）で表されるジアクリロイル基含有ジオール化合物と下記式（７−２）で表されるジアクリロイル基含有ジオール化合物の混合物１，２００ｇを得た。得られた混合物は、酸価＝６ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価＝１７１ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量＝１６，５００であった。
【０１３２】
【化２０】
【０１３３】
【化２１】
【０１３４】
合成例４（ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６７０ｇ、メチルイソブチルケトン１，３００ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、前記式（８−１）で表される無水ピロメリット酸（ダイセル化学工業（株）製）２２０ｇを加え、８０℃で攪拌しつつ、反応生成物の酸価が平均６７．９ｍｇＫＯＨ／ｇで、酸価の変動幅が２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となるまで反応を続けた。反応終了後、反応溶液に蒸留水を加えて、水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下５０〜７０℃で溶剤を留去して、樹脂８６０ｇ得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝１８，０００、酸価＝６１．２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１３５】
この樹脂について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に、６．９〜７．６（シクロヘキサン骨格に結合したベンゼン環およびピロメリット酸のベンゼン環に由来）、５．８および６．２（メタクリル酸の二重結合部に由来）、１．１〜２．２（シクロヘキサン骨格に由来）、０．７〜０．９（シクロヘキサン骨格に結合した２，２−プロピレン基中の２個のメチル基に由来；６Ｈ）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１７３５ｃｍ-1（脂肪族エステル構造に由来）、１７３５ｃｍ-1、１２４１ｃｍ-1および１１０２ｃｍ-1（芳香族エステル構造に由来）の吸収が認められた。
以上の結果から、この樹脂は下記式（１−１）で表されるポリエステル（１）であることが確認された。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) 」とする。
【０１３６】
【化２２】
〔式（１−１）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１３７】
合成例５（ポリエステル（１）の製造）
合成例４において、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物の代わりに、合成例３で得たジアクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６６０ｇを用いた以外は合成例４と同様にして、下記式（１−２）で表されるポリエステル（１）８４０ｇを得た。得られたポリエステル（１）は、Ｍｗ＝１５，０００、酸価＝６０．９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) 」とする。
【０１３８】
【化２３】
〔式（１−２）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１３９】
合成例６（カルボキシル基封鎖ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例４で得たポリエステル（１）２７５ｇ、プロピレングリコールモノメチルアセテート２７５ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、臭化テトラエチルアンモニウム１．５ｇを加え、カルボキシル基封鎖剤としてフェニルグリシジルエーテル（商品名エピオールＰ、日本油脂（株）製））３０ｇを加え、８０〜９０℃で攪拌しつつ、酸価の変動幅が２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となるまで反応を続けた。反応終了後、室温に冷却して、樹脂３００ｇを得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝２１，０００、酸価＝５２．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１４０】
この樹脂について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に、合成例４で得たポリエステル（１）のピークに加えて、６．９〜７．６（フェニルグリシジルエーテル基中のベンゼン環に由来）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１，０４７ｃｍ-1（芳香族エーテル構造に由来）の吸収が認められ、この吸収はカルボキシル基封鎖により、合成例４で得たポリエステル（１）より強くなっていた。
以上の結果から、この樹脂は、前記式（１−１）でカルボキシル基中の水素原子の７８％が封鎖剤残基（−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 ＯＣ6 Ｈ5)で置換された構造を有するポリエステル（１）であることが確認された。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) 」とする。
【０１４１】
合成例７（カルボキシル基封鎖ポリエステル（１）の製造）
合成例６において、合成例４で得たポリエステル（１）の代わりに合成例５で得たポリエステル（１）３００ｇを用いた以外は合成例６と同様にして、樹脂３４０ｇを得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝２５，０００、酸価＝５０．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) 」とする。
【０１４２】
合成例８（ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６７０ｇ、メチルイソブチルケトン１，４７０ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、前記式（８−２）で表されるジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物（マナック（株）製）３１３ｇを加え、８０℃で攪拌しつつ反応させて、酸価が５３．３ｍｇＫＯＨ／ｇとなるまで反応を続けた。反応終了後、反応溶液に蒸留水を加えて、水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下５０〜７０℃で溶剤を留去して、樹脂８００ｇ得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝１８，０００、酸価＝６１．２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) 」とする。
【０１４３】
【化２４】
〔式（１−３）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１４４】
合成例９（ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６７０ｇ、メチルイソブチルケトン１６６０ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、前記式（８−３）で表されるエチレングリコールビス（トリメリテート）二無水物（新日本理化（株）製）４３４ｇを加え、８０℃で攪拌しつつ反応させて、酸価が４６．２ｍｇＫＯＨ／ｇとなるまで反応を続けた。反応終了後、反応溶液に蒸留水を加えて、水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下５０〜７０℃で溶剤を留去して樹脂９００ｇ得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝１３，０００であり、下記式（１−４）で表されるポリエステル（１）であった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) 」とする。
【０１４５】
【化２５】
〔式（１−４）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１４６】
合成例１０（比較用アルカリ可溶性樹脂の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１２部、スチレン１８部、ベンジルメタクリレート２４部、Ｎ−フェニルマレイミド３０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー６．５部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を８０℃に加熱し、この温度を保持して３時間重合した。重合終了後、反応溶液を１００℃に加熱して、２，２' −アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．５部加え、さらに１時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液（固形分濃度＝３３．２重量％）を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Ｍｗ＝８，５００、Ｍｎ＝４，５００であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) 」とする。
【０１４７】
合成例１１（比較用アルカリ可溶性樹脂の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１０部、スチレン１５部、ベンジルメタクリレート３０部、Ｎ−フェニルマレイミド２５部、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート２０部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー２部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を８０℃に加熱し、この温度を保持して３時間重合した。重合終了後、反応溶液を１００℃に加熱して、２，２' −アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．５部加え、さらに１時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液（固形分濃度＝３３．１％）を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Ｍｗ＝２０，０００、Ｍｎ＝９，０００であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) 」とする。
【０１４８】
合成例１２（比較用アルカリ可溶性樹脂の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１０部、スチレン１５部、ベンジルメタクリレート４０部、Ｎ−フェニルマレイミド２５部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１０部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー６．５部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を８０℃に加熱し、この温度を保持して３時間重合した。重合終了後、反応溶液を１００℃に加熱して、２，２' −アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．５部加え、さらに１時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液（固形分濃度＝３３．３％）を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Ｍｗ＝７，８００、Ｍｎ＝４，５００であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) 」とする。
【０１４９】
実施例１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド２５４とC.I.ピグメントレッド１７７との８０：２０（重量比）混合物８部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８７部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) ８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート（商品名ＣＧＩ−２４２、チバ・スペチャリティー・ケミカルズ社製。以下同様。）３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（Ｒ１）を調製した。
【０１５０】
〈着色層の形成〉
液状組成物（Ｒ１）を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止する二酸化ケイ素（ＳｉＯ２)膜が形成されたソーダガラス基板に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃のホットプレート上で２分間プレベークを行って、膜厚１．２μｍの塗膜を形成した。
次いで、基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスク（スリット幅３０μｍ）を介して、塗膜に３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は１００Ｊ／ｍ2 であった。その後、基板を２３℃の０．０４重量％水酸化カリウム水溶液に４５秒間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して、風乾した。その後、２３０℃のクリーンオーブン内で３０分間ポストベークを行なって、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５２】
実施例２〜５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−１に示すものに変更した以外は、実施例１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ２）〜（Ｒ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ２）〜（Ｒ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５４】
実施例６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５６】
実施例７〜１０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−１に示すものに変更した以外は、実施例６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ７）〜（Ｒ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ７）〜（Ｒ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５８】
実施例１１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６０】
実施例１２〜１５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−２に示すものに変更した以外は、実施例１１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ１２）〜（Ｒ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ１２）〜（Ｒ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６２】
実施例１６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６４】
実施例１７〜２０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−２に示すものに変更した以外は、実施例１６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ１７）〜（Ｒ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ１７）〜（Ｒ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６６】
実施例２１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１６８】
実施例２２〜２５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−３に示すものに変更した以外は、実施例２１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ２２）〜（Ｒ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ２２）〜（Ｒ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１７０】
実施例２６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１７２】
実施例２７〜３０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−３に示すものに変更した以外は、実施例２６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ２７）〜（Ｒ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ２７）〜（Ｒ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１７４】
実施例３１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントグリーン３６とC.I.ピグメントイエロー１５０との６０：４０（重量比）混合物１１部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９０部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) ８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（Ｇ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（Ｇ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１７６】
実施例３２〜３５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−１に示すものに変更した以外は、実施例３１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ２）〜（Ｇ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ２）〜（Ｇ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１７８】
実施例３６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１８０】
実施例３７〜４０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−１に示すものに変更した以外は、実施例３６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ７）〜（Ｇ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ７）〜（Ｇ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残残は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６、８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１８２】
実施例４１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１８４】
実施例４２〜４５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−２に示すものに変更した以外は、実施例４１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ１２）〜（Ｇ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ１２）〜（Ｇ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１８６】
実施例４６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１８８】
実施例４７〜５０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−２に示すものに変更した以外は、実施例４６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ１７）〜（Ｇ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ１７）〜（Ｇ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６、５ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１９０】
実施例５１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９２】
実施例５２〜５５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−３に示すものに変更した以外は、実施例５１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ２２）〜（Ｇ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ２２）〜（Ｇ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６、８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９４】
実施例５６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９６】
実施例５７〜６０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−３に示すものに変更した以外は、実施例５６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ２７）〜（Ｇ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ２７）〜（Ｇ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、６ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９８】
実施例６１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントブルー１５：６とC.I.ピグメントバイオレット２３との９５：５（重量比）混合物９部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８８部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) ８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（Ｂ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（Ｂ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２００】
実施例６２〜６５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−１に示すものに変更した以外は、実施例６１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ２）〜（Ｂ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ２）〜（Ｂ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２０２】
実施例６６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２０４】
実施例６７〜７０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−１に示すものに変更した以外は、実施例６６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ７）〜（Ｂ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ７）〜（Ｂ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２０６】
実施例７１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２０８】
実施例７２〜７５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−２に示すものに変更した以外は、実施例７１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ１２）〜（Ｂ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ１２）〜（Ｂ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、６ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２１０】
実施例７６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２１２】
実施例７７〜８０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−２に示すものに変更した以外は、実施例７６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ１７）〜（Ｂ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ１７）〜（Ｂ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２１４】
実施例８１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２１６】
実施例８２〜８５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−３に示すものに変更した以外は、実施例８１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ２２）〜（Ｂ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ２２）〜（Ｂ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２１８】
実施例８６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２２０】
実施例８７〜９０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−３に示すものに変更した以外は、実施例８６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ２７）〜（Ｂ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ２７）〜（Ｂ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２２２】
実施例９１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてカーボンブラック２０部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９９部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1）８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を混合して、液状組成物（ＢＫ１）を調製した。
〈着色層の形成〉
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＢＫ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２２４】
実施例９２〜９５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−１に示すものに変更した以外は、実施例９１と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ２）〜（ＢＫ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ２）〜（ＢＫ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２２６】
実施例９６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２２８】
実施例９７〜１００
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−１に示すものに変更した以外は、実施例９６と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ７）〜（ＢＫ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ７）〜（ＢＫ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２３０】
実施例１０１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３２】
実施例１０２〜１０５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−２に示すものに変更した以外は、実施例１０１と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ１２）〜（ＢＫ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ１２）〜（ＢＫ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３４】
実施例１０６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３６】
実施例１０７〜１１０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−２に示すものに変更した以外は、実施例１０６と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ１７）〜（ＢＫ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ１７）〜（ＢＫ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３８】
実施例１１１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４０】
実施例１１２〜１１５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−３に示すものに変更した以外は、実施例１１１と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ２２）〜（ＢＫ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ２２）〜（ＢＫ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８、６ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４２】
実施例１１６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４４】
実施例１１７〜１２０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−３に示すものに変更した以外は、実施例１１６と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ２７）〜（ＢＫ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ２７）〜（ＢＫ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４６】
比較例１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド２５４とC.I.ピグメントレッド１７７との８０：２０（重量比）混合物８部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８７部、アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) ２部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) ３部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) ４部との混合物、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（ＣＲ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＲ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅３５μｍのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表５に示す。
【０２４８】
比較例２
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントグリーン３６とC.I.ピグメントイエロー１５０との６０：４０（重量比）混合物１１部、分散剤としてＢＹＫ−２０００を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９０部、アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) ２部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) ３部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) ４部との混合物、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（ＣＧ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＧ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められなかったが、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅４５μｍのパターンしか形成できなかった。 以上の主な内容を表５に示す。
【０２５０】
比較例３
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントブルー１５：６とC.I.ピグメントバイオレット２３との９５／５（重量比）混合物９部、分散剤としてＢＹＫ−２００１を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８８部、アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) ２部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) ３部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) ４部との混合物、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（ＣＢ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＢ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２５１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められなかったが、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅４０μｍのパターンしか形成できなかった。 以上の主な内容を表５に示す。
【０２５２】
比較例４
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてカーボンブラック２０部、分散剤としてＢＹＫ−１６４を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９９部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1）８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を混合して、液状組成物（ＣＢＫ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＢＫ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２５３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅５０μｍのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表５に示す。
【０２５４】
比較例５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤をＢＹＫ−１８２に変更した以外は、比較例１と同様にして、液状組成物（ＣＲ２）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＲ２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２５５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅４５μｍのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表５に示す。
【０２５６】
【表１】
【０２５７】
【表２】
【０２５８】
【表３】
【０２５９】
【表４】
【０２６０】
【表５】
【０２６１】
【表６】
【０２６２】
【表７】
【０２６３】
【表８】
【０２６４】
【表９】
【０２６５】
【表１０】
【０２６６】
【表１１】
【０２６７】
【表１２】
【０２６８】
【表１３】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子に関わり、より詳しくは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの製造に有用な着色層の形成に用いられる感放射線性組成物、当該感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ、並びに当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、着色感放射線性組成物を用いてカラーフィルタを製造するに当たっては、基板上あるいは予め所望のパターンの遮光層を形成した基板上に、着色感放射線性組成物を塗布して乾燥したのち、乾燥塗膜を所望のパターン形状に放射線を照射（以下、「露光」という。）し、現像することにより、各色の画素を得る方法（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）が知られている。
そして近年では、カラーフィルタの技術分野においては、露光量を下げることによりタクトタイムを短縮する動きが主流となっており、また液晶表示素子の高精細化を反映して、より微細なパターンの形成も強く求められているが、従来の着色感放射線性組成物では、現像時にパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じやすいため、タクトタイムを短縮しつつ、良好なパターン形状の画素およびブラックマトリックスを得ることが困難であり、また高精細なパターンを形成する点でも必ずしも十分とはいえなかった。
【０００３】
【特許文献１】特開平２−１４４５０２号公報
【特許文献２】特開平３−５３２０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、優れた現像性を示す着色層形成用感放射線性組成物、より具体的には、現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与え、微細パターンの形成が可能な新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、第一に、
（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光ラジカル発生剤を含有する感放射線性組成物であって、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物、からなる。
本発明でいう「着色層」とは、カラーフィルタに用いられる画素および／またはブラックマトリックスからなる層を意味する。
【０００６】
本発明は、第二に、
前記着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ、からなる。
【０００７】
本発明は、第三に、
前記カラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示素子、からなる。
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。
着色層形成用感放射線性組成物
−（Ａ）成分−
本発明における（Ａ）成分である着色剤の色調は特に限定されるものではなく、得られるカラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、顔料、染料あるいは天然色素の何れでもよい。
カラーフィルタには高精細な発色と耐熱性が求められることから、本発明における着色剤としては、発色性が高く、かつ耐熱性の高い着色剤、特に耐熱分解性の高い着色剤が好ましく、通常、有機顔料あるいは無機顔料が用いられ、特に好ましくは、有機顔料、カーボンブラックが用いられる。
前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス（C.I.；The Society of Dyers
and Colourists社発行) においてピグメント（Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（C.I.）番号が付されているものを挙げることができる。
【０００９】
C.I.ピグメントイエロー１、C.I.ピグメントイエロー３、C.I.ピグメントイエロー１２、C.I.ピグメントイエロー１３、C.I.ピグメントイエロー１４、C.I.ピグメントイエロー１５、C.I.ピグメントイエロー１６、C.I.ピグメントイエロー１７、C.I.ピグメントイエロー２０、C.I.ピグメントイエロー２４、C.I.ピグメントイエロー３１、C.I.ピグメントイエロー５５、C.I.ピグメントイエロー６０、C.I.ピグメントイエロー６１、C.I.ピグメントイエロー６５、C.I.ピグメントイエロー７１、C.I.ピグメントイエロー７３、C.I.ピグメントイエロー７４、C.I.ピグメントイエロー８１、C.I.ピグメントイエロー８３、C.I.ピグメントイエロー９３、C.I.ピグメントイエロー９５、C.I.ピグメントイエロー９７、C.I.ピグメントイエロー９８、C.I.ピグメントイエロー１００、C.I.ピグメントイエロー１０１、C.I.ピグメントイエロー１０４、C.I.ピグメントイエロー１０６、C.I.ピグメントイエロー１０８、C.I.ピグメントイエロー１０９、C.I.ピグメントイエロー１１０、C.I.ピグメントイエロー１１３、C.I.ピグメントイエロー１１４、C.I.ピグメントイエロー１１６、C.I.ピグメントイエロー１１７、C.I.ピグメントイエロー１１９、C.I.ピグメントイエロー１２０、C.I.ピグメントイエロー１２６、C.I.ピグメントイエロー１２７、C.I.ピグメントイエロー１２８、C.I.ピグメントイエロー１２９、C.I.ピグメントイエロー１３８、C.I.ピグメントイエロー１３９、C.I.ピグメントイエロー１５０、C.I.ピグメントイエロー１５１、C.I.ピグメントイエロー１５２、C.I.ピグメントイエロー１５３、C.I.ピグメントイエロー１５４、C.I.ピグメントイエロー１５５、C.I.ピグメントイエロー１５６、C.I.ピグメントイエロー１６６、C.I.ピグメントイエロー１６８、C.I.ピグメントイエロー１７５、C.I.ピグメントイエロー１８０、C.I.ピグメントイエロー１８５；
【００１０】
C.I.ピグメントオレンジ１、C.I.ピグメントオレンジ５、C.I.ピグメントオレンジ１３、C.I.ピグメントオレンジ１４、C.I.ピグメントオレンジ１６、C.I.ピグメントオレンジ１７、C.I.ピグメントオレンジ２４、C.I.ピグメントオレンジ３４、C.I.ピグメントオレンジ３６、C.I.ピグメントオレンジ３８、C.I.ピグメントオレンジ４０、C.I.ピグメントオレンジ４３、C.I.ピグメントオレンジ４６、C.I.ピグメントオレンジ４９、C.I.ピグメントオレンジ５１、C.I.ピグメントオレンジ６１、C.I.ピグメントオレンジ６３、C.I.ピグメントオレンジ６４、C.I.ピグメントオレンジ７１、C.I.ピグメントオレンジ７３；
C.I.ピグメントバイオレット１、C.I.ピグメントバイオレット１９、C.I.ピグメントバイオレット２３、C.I.ピグメントバイオレット２９、C.I.ピグメントバイオレット３２、C.I.ピグメントバイオレット３６、C.I.ピグメントバイオレット３８；
【００１１】
C.I.ピグメントレッド１、C.I.ピグメントレッド２、C.I.ピグメントレッド３、C.I.ピグメントレッド４、C.I.ピグメントレッド５、C.I.ピグメントレッド６、C.I.ピグメントレッド７、C.I.ピグメントレッド８、C.I.ピグメントレッド９、C.I.ピグメントレッド１０、C.I.ピグメントレッド１１、C.I.ピグメントレッド１２、C.I.ピグメントレッド１４、C.I.ピグメントレッド１５、C.I.ピグメントレッド１６、C.I.ピグメントレッド１７、C.I.ピグメントレッド１８、C.I.ピグメントレッド１９、C.I.ピグメントレッド２１、C.I.ピグメントレッド２２、C.I.ピグメントレッド２３、C.I.ピグメントレッド３０、C.I.ピグメントレッド３１、C.I.ピグメントレッド３２、C.I.ピグメントレッド３７、C.I.ピグメントレッド３８、C.I.ピグメントレッド４０、C.I.ピグメントレッド４１、C.I.ピグメントレッド４２、C.I.ピグメントレッド４８：１、C.I.ピグメントレッド４８：２、C.I.ピグメントレッド４８：３、C.I.ピグメントレッド４８：４、C.I.ピグメントレッド４９：１、C.I.ピグメントレッド４９：２、C.I.ピグメントレッド５０：１、C.I.ピグメントレッド５２：１、C.I.ピグメントレッド５３：１、C.I.ピグメントレッド５７、C.I.ピグメントレッド５７：１、C.I.ピグメントレッド５７：２、C.I.ピグメントレッド５８：２、C.I.ピグメントレッド５８：４、C.I.ピグメントレッド６０：１、C.I.ピグメントレッド６３：１、C.I.ピグメントレッド６３：２、C.I.ピグメントレッド６４：１、C.I.ピグメントレッド８１：１、C.I.ピグメントレッド８３、C.I.ピグメントレッド８８、C.I.ピグメントレッド９０：１、C.I.ピグメントレッド９７、
【００１２】
C.I.ピグメントレッド１０１、C.I.ピグメントレッド１０２、C.I.ピグメントレッド１０４、C.I.ピグメントレッド１０５、C.I.ピグメントレッド１０６、C.I.ピグメントレッド１０８、C.I.ピグメントレッド１１２、C.I.ピグメントレッド１１３、C.I.ピグメントレッド１１４、C.I.ピグメントレッド１２２、C.I.ピグメントレッド１２３、C.I.ピグメントレッド１４４、C.I.ピグメントレッド１４６、C.I.ピグメントレッド１４９、C.I.ピグメントレッド１５０、C.I.ピグメントレッド１５１、C.I.ピグメントレッド１６６、C.I.ピグメントレッド１６８、C.I.ピグメントレッド１７０、C.I.ピグメントレッド１７１、C.I.ピグメントレッド１７２、C.I.ピグメントレッド１７４、C.I.ピグメントレッド１７５、C.I.ピグメントレッド１７６、C.I.ピグメントレッド１７７、C.I.ピグメントレッド１７８、C.I.ピグメントレッド１７９、C.I.ピグメントレッド１８０、C.I.ピグメントレッド１８５、C.I.ピグメントレッド１８７、C.I.ピグメントレッド１８８、C.I.ピグメントレッド１９０、C.I.ピグメントレッド１９３、C.I.ピグメントレッド１９４、C.I.ピグメントレッド２０２、C.I.ピグメントレッド２０６、C.I.ピグメントレッド２０７、C.I.ピグメントレッド２０８、C.I.ピグメントレッド２０９、C.I.ピグメントレッド２１５、C.I.ピグメントレッド２１６、C.I.ピグメントレッド２２０、C.I.ピグメントレッド２２４、C.I.ピグメントレッド２２６、C.I.ピグメントレッド２４２、C.I.ピグメントレッド２４３、C.I.ピグメントレッド２４５、C.I.ピグメントレッド２５４、C.I.ピグメントレッド２５５、C.I.ピグメントレッド２６４、C.I.ピグメントレッド２６５；
【００１３】
C.I.ピグメントブルー１５、C.I.ピグメントブルー１５：３、C.I.ピグメントブルー１５：４、C.I.ピグメントブルー１５：６、C.I.ピグメントブルー６０；
C.I.ピグメントグリーン７、C.I.ピグメントグリーン３６；
C.I.ピグメントブラウン２３、C.I.ピグメントブラウン２５；
C.I.ピグメントブラック１、C.I.ピグメントブラック７。
前記有機顔料は、例えば、硫酸再結晶法、溶剤洗浄法や、これらの組み合わせ等により精製して使用することができる。
【００１４】
また、無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることができる。
【００１５】
本発明において、前記顔料は単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また有機顔料と無機顔料とを併用することができるが、画素を形成する際には、好ましくは１種以上の有機顔料が使用され、またブラックマトリックスを形成する際には、好ましくは２種以上の有機顔料および／またはカーボンブラックが使用される。
【００１６】
本発明においては、前記顔料は、所望により、その粒子表面をポリマーで改質して使用することができる。顔料の粒子表面を改質するポリマーとしては、例えば、特許文献３等に記載されたポリマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたはオリゴマー等を挙げることができる。
【００１７】
【特許文献３】特開平８−２５９８７６号公報
【００１８】
また、本発明において、着色剤は、所望により、分散剤と共に使用することができる。 前記分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。
前記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレン ｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン ｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ソルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；３級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミン類等のほか、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、ＢＹＫ、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ソルスパース（セネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（エフカー・ケミカルズ・ビーブイ社製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の使用量は、着色剤１００重量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは０〜３０重量部である。
【００１９】
本発明において、感放射線性樹脂組成物は、適宜の方法により調製することができるが、着色剤として顔料を用いる場合、該顔料を溶媒中、分散剤の存在下で、場合により後述する（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と共に、例えばビーズミル、ロールミル等を用いて、粉砕しつつ混合・分散して顔料分散液とし、これを、後述する（Ｂ）〜（Ｄ）成分等と混合することにより調製することが好ましい。
【００２０】
顔料分散液を調製する際の分散剤の使用量は、顔料１００重量部に対して、通常、１００重量部以下、好ましくは０．５〜１００重量部、さらに好ましくは１〜７０重量部、特に好ましくは１０〜５０重量部である。この場合、分散剤の使用量が１００重量部を超えると、現像性等が損なわれるおそれがある。
また、顔料分散液を調製する際に使用される溶媒としては、例えば、後述する感放射線性樹脂組成物の液状組成物について例示する溶媒と同様のものを挙げることができる。
顔料分散液を調製する際の溶媒の使用量は、顔料１００重量部に対して、通常、５００〜１，０００重量部、好ましくは７００〜９００重量部である。
【００２１】
顔料分散液の調製に際し、ビーズミルを用いて調製する際には、例えば、直径０．５〜１０ｍｍ程度のガラスビーズやチタニアビーズ等を使用し、顔料、溶媒および分散剤からなる顔料混合液を、好ましくは冷却水等で冷却しながら混合・分散することにより実施することができる。
この場合、ビーズの充填率は、通常、ミル容量の５０〜８０％であり、顔料混合液の注入量は、通常、ミル容量の２０〜５０％程度である。また処理時間は、通常、２〜５０時間、好ましくは２〜２５時間である。
また、ロールミルを用いて調製する際には、例えば、３本ロールミルや２本ロールミル等を使用し、顔料混合液を、好ましくは冷却水等で冷却しながら処理することにより実施することができる。
この場合、ロール間隔は１０μｍ以下であることが好ましく、剪断力は、通常、１０8 ｄｙｎ／秒程度である。また処理時間は、通常、２〜５０時間、好ましくは２〜２５時間である。
【００２２】
−（Ｂ）成分−
本発明における（Ｂ）成分は、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステル（以下、「側鎖不飽和脂環式ポリエステル」という。）を含むアルカリ可溶性樹脂（以下、「（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂」という。）であり、（Ａ）着色剤に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィルタを製造する際に、その現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を有する樹脂である。
【００２３】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおける脂環式炭化水素骨格としては、例えば、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、ｎ−プロピルシクロペンタン、ｉ−プロピルシクロペンタン、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ｎ−プロピルシクロヘキサン、ｉ−プロピルシクロヘキサン、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロヘキサン、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘプタン、メチルシクロヘプタン、エチルシクロヘプタン、ｎ−プロピルシクロヘプタン、ｉ−プロピルシクロヘプタン、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロヘプタン、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘプタン、シクロヘプテン、シクロオクタン、シクロオクテン等の４〜８員炭素環を有する炭化水素に由来する骨格を挙げることができる。
【００２４】
これらの脂環式炭化水素骨格のうち、シクロヘキサン環を有する骨格が好ましく、特に、１−メチル−３−ｉ−プロピルシクロヘキサン、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキサン等に由来する骨格が好ましい。
【００２５】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおいて、脂環式炭化水素骨格は、直接または２価の結合基を介して、ポリエステルの構成単位を連結させる主鎖エステル構造を形成することができる。
【００２６】
前記２価の結合基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基等のメチレン基または主鎖炭素原子数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基；シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等の４〜８員環炭素環を有するシクロアルキレン基；シクロペンチレンメチレン基、シクロペンチレンエチレン基、シクロペンチレンプロピレン基、シクロヘキシレンメチレン基、シクロヘキシレンエチレン基、シクロヘキシレンプロピレン基等の４〜８員環炭素環を有するシクロアルキレン基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数１〜６の２価の炭化水素鎖が結合した基；１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基等の炭素数６〜１０のアリーレン基；前記炭素数６〜１０のアリーレン基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数１〜６の２価の炭化水素鎖が結合した基；ｍ−フェニレンオキシ基（−ｍ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｏ−）、ｐ−フェニレンオキシ基（−ｐ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｏ−）等の炭素数６〜１０のアリーレンオキシ基；前記アリーレンオキシ基中のオキシ基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数１〜６の２価の炭化水素鎖が結合した基等を挙げることができる。
【００２７】
これらの２価の結合基のうち、炭素数６〜１０のアリーレンオキシ基が好ましく、特に、ｐ−フェニレンオキシ基が好ましい。
【００２８】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおける側鎖の重合性不飽和結合は、着色層形成用感放射線性組成物としたときに、後述する（Ｃ）多官能性単量体や場合により使用される単官能性単量体と共重合することができる限り特に限定されるものでないが、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの合成容易性の観点から、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の重合性不飽和カルボン酸に由来する不飽和結合が好ましく、特に、（メタ）アクリル酸に由来する不飽和結合が好ましい。
【００２９】
本発明における側鎖不飽和脂環式ポリエステルとしては、特に、下記式（１）で表されるポリエステル（以下、「ポリエステル（１）」という。）が好ましい。
【００３０】
【化１】
【００３１】
〔式（１）において、各Ｘは相互に独立に下記式（２）または式（３）で表される２価の基を示し、各Ｙは相互に独立にカルボキシル基を４個有する有機化合物のカルボキシル基を除いた残基を示し、各Ｒ1 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、各Ｒ2 は相互に独立に水素原子またはカルボキシル基封鎖剤残基を示し、ｎは１〜４０の整数である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。
【００３２】
【化２】
【００３３】
【化３】
〕
【００３４】
側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、例えば、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するジオール化合物を合成しておき、該ジオール化合物と、２価以上、好ましくは２〜４価、特に好ましくは４価の多価カルボン酸の酸無水物とのエステル化反応により製造することができる。
【００３５】
また、ポリエステル（１）は、好ましくは、下記式（６）または式（７）で表されるジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物と、下記式（８）で表される四塩基酸二無水物（以下、「四塩基酸二無水物（８）」という。）とのエステル化反応により製造することができる。
【００３６】
【化６】
〔式（６）において、Ｒ1 は式（１）におけるＲ1 と同義である。〕
【００３７】
【化７】
〔式（７）において、Ｒ1 は式（１）におけるＲ1 と同義である。〕
【００３８】
【化８】
〔式（８）において、Ｙは式（１）におけるＹと同義である。〕
【００３９】
以下では、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの製造方法について、ポリエステル（１）の場合を中心として説明する。
先ず、ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物は、例えば、下記式（９）で表されるジフェノール（以下、「ジフェノール（９）」という。）および／または式（１０）で表されるジフェノール（以下、「ジフェノール（１０）」という。）をジグリシジルエーテル化して、下記式（１１）または式（１２）で表されるジグリシジルエーテル化物を合成したのち、該ジグリシジルエーテル化物の両末端のエポキシ基にアクリル酸および／またはメタクリル酸を付加反応させることにより製造することができる。
【００４０】
このようにして得られるジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物は、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であり、エポキシ当量が１０，０００〜２０，０００であることが好ましい。
【００４１】
【化９】
【００４２】
【化１０】
【００４３】
【化１１】
【００４４】
【化１２】
【００４５】
（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物を合成する際に、ジフェノールは単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、ジフェノール（９）とジフェノール（１０）とを、好ましくは８０〜６０：２０〜４０の重量比で併用することが望ましい。
【００４６】
ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物を合成する際のジフェノールのジグリシジルエーテル化反応は、一般のエポキシ樹脂の合成法に準じて実施することができ、例えば、ジフェノールに塩基性触媒の存在下でエピクロロヒドリンを反応させることにより合成することができる。
このようにして得られるジグリシジルエーテル化物は、エポキシ当量が２６０〜３００であることが好ましい。
【００４７】
また、四塩基酸二無水物（８）としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、下記式（８−１）で表される化合物、式（８−２）で表される化合物、式（８−３）で表される化合物等を挙げることができる。
【００４８】
【化１３】
【００４９】
ポリエステル（１）を製造する際のジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物と四塩基酸二無水物（８）とのエステル化反応を実施する方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物を加熱下で有機溶剤に溶解し、これに四塩基酸二無水物（８）を添加して撹拌しつつ反応させることにより、ポリエステル（１）を製造することができる。
【００５０】
このようなエステル化反応により得られるポリエステル（１）は、式（１）における
Ｒ2 が全て水素原子であって、四塩基酸二無水物（８）の各残基部分に２個ないし３個のカルボキシル基を有し、これによりアルカリ水溶液に対する優れた溶解性を示す。
【００５１】
また、本発明においては、エステル化反応により得られたポリエステル（１）中の遊離カルボキシル基の少なくとも一部を、カルボキシル基封鎖剤で封鎖して使用することができ、この場合のカルボキシル基の封鎖割合を変更することにより、ポリエステル（１）の酸価を調整して、アルカリ溶解性を制御することができる。
前記カルボキシル基封鎖剤としては、特に限定されず、グリシジルエーテル類、カルボジイミド類等の公知のものを挙げることができるが、例えば、フェニルグリシジルエーテル、４−ｎ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、レゾルシングリシジルエーテル等が好ましい。
【００５２】
本発明において、ポリエステル（１）の酸価は、好ましくは２０〜８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、さらに好ましくは３０〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇである。なお、四塩基酸二無水物（８）の種類にもよるが、ポリエステル（１）中のＲ2 の５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上が水素原子であることが、良好なアルカリ現像性を確保する観点から望ましい。
また、カルボキシル基封鎖剤で封鎖後のポリエステル（１）は、エポキシ当量が６０，０００以上であることが好ましい。
【００５３】
ポリエステル（１）は、重合性を有するアクリロイル基あるいはメタクリロイル基を複数個有するため、露光により硬化して、アルカリ水溶液に対して溶解し難くなる。一方、未硬化状態ではアルカリ水溶液に溶解するため、レジスト被膜として部分的に露光することにより、硬化部分を残し、未硬化部分がアルカリ水溶液で溶解除去可能なアルカリ現像性を発現する。また、ポリエステル（１）は、各種基板との密着性が良好で、硬化収縮も小さく、ガラス転移点（Ｔｇ）が高く耐熱性に優れるとともに、高硬度のレジスト被膜を形成できる。さらに、分子主鎖中に含まれる脂環式炭化水素骨格部分が比較的柔軟な構造をなし、良好な可撓性を有するものである。
【００５４】
本発明において、側鎖不飽和結合脂環式ポリエステルのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは３，０００〜１００，０００、さらに好ましくは５，０００〜２５，０００である。この場合、側鎖不飽和脂環式ポリエステルのＭｗが前記範囲より小さいと、可撓性や密着性が低下する傾向があり、一方前記範囲より大きいと、光硬化性、未硬化状態でのアルカリ溶解性等が低下する傾向がある。側鎖不飽和脂環式ポリエステルのＭｗは、ポリエステル（１）の場合、前記エステル化反応における有機溶剤や反応原料の量を変えることにより調整することができる。
また、側鎖不飽和脂環式ポリエステルのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）は、通常、１，０００〜６０，０００、好ましくは２，０００〜２５，０００である。
また、側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、未硬化状態での良好なアルカリ溶解性を確保する観点から、酸価が６０〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
本発明において、側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５５】
また、本発明においては、アルカリ可溶性樹脂として、側鎖不飽和脂環式ポリエステルと共に、他のアルカリ可溶性樹脂を併用することができる。
前記他のアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸等の酸性官能基を有する重合性不飽和単量体と他の共重合可能な不飽和単量体（以下、「共重合性不飽和単量体」という。）との共重合体を挙げることができる。
【００５６】
カルボキシル基を有する重合性不飽和単量体（以下、「カルボキシル基含有不飽和単量体」という。）としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類；
３価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート類
等を挙げることができる。
前記カルボキシル基含有不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５７】
また、フェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド等を挙げることができる。
これらのフェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、スルホン酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、イソプレンスルホン酸、ｐ−スチレンスルホン酸等を挙げることができる。
これらのスルホン酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５８】
次に、共重合性不飽和単量体としては、例えば、
ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類（以下、単に「マクロモノマー類」という。）：
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メトキシフェニルマレイミド等のＮ−アリールマレイミドや、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ位−置換マレイミド類；
【００５９】
スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−クロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の芳香族ビニル化合物；
インデン、１−メチルインデン等のインデン類；
【００６０】
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングルコール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類；
【００６１】
２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−アミノプロピル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノプロピルアクリレート、３−アミノプロピル（メタ）アクリレート、３−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類；
グリシジル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物；
（メタ）アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和アミド類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類
等を挙げることができる。
【００６２】
本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基含有不飽和単量体と共重合性不飽和単量体との共重合体（以下、単に「カルボキシル基含有共重合体」という。）が好ましく、（ａ）（メタ）アクリル酸を必須成分とするカルボキシル基含有不飽和単量体と、（ｂ）ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートおよびグリセロール（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種とを含有し、（ｃ）場合によりスチレン、α−メチルスチレン、メチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレートおよびフェニル（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種をさらに含有する単量体混合物の共重合体がさらに好ましい。
【００６３】
他のアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、通常、２，０００〜３００，０００、好ましくは３，０００〜１００，０００であり、またＭｎは、通常、１，０００〜６０，０００、好ましくは２，０００〜２５，０００である。
本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００６４】
本発明において、アルカリ可溶性樹脂の合計使用量は、（Ａ）着色剤１００重量部に対して、通常、１０〜１，０００重量部、好ましくは２０〜５００重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の合計使用量が１０重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方１，０００重量部を超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となるおそれがある。
また、アルカリ可溶性樹脂中の側鎖不飽和脂環式ポリエステルの使用割合は、好ましくは１０〜１００重量％、特に好ましくは２０〜１００重量％である。この場合、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの使用割合が１０重量％未満では、本発明の所期の効果が損なわれるおそれがある。
【００６５】
−（Ｃ）成分−
本発明における（Ｃ）成分は、２個以上の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体である。
このような多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類や、それらのジカルボン酸変性物；
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類や、
トリス〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕フォスフェート
等を挙げることができる。
【００６６】
これらの多官能性単量体のうち、３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
下記式（１３）で表される化合物、下記式（１４）で表される化合物
【００６７】
【化１４】
【００６８】
等が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、着色層の強度が高く、着色層の表面平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。
前記多官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００６９】
本発明における多官能性単量体の使用量は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量部である。この場合、多官能性単量体の使用量が５重量部未満では、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。
【００７０】
また、本発明においては、多官能性単量体の一部を、重合性不飽和結合を１個有する単官能性単量体に置き換えることもできる。
前記単官能性単量体としては、例えば、前記他のアルカリ可溶性樹脂におけるカルボキシル基含有不飽和単量体や共重合性不飽和単量体について例示した化合物と同様のものや、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタムのほか、市販品として、Ｍ−５６００（商品名、東亞合成（株）製）等を挙げることができる。
これらの単官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００７１】
単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体と単官能性単量体との合計に対して、通常、９０重量％以下、好ましくは５０重量％以下である。この場合、単官能性単量体の使用割合が９０重量％を超えると、得られる着色層の強度や表面平滑性が不十分となるおそれがある。
本発明における多官能性単量体と単官能性単量体との合計使用量は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量部である。この場合、前記合計使用量が５重量部未満では、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。
【００７２】
−（Ｄ）光ラジカル発生剤−
本発明における（Ｄ）成分は、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線等の放射線による露光によって、（Ｃ）多官能性単量体および場合により使用される単官能性単量体の重合を開始しうるラジカルを発生する光ラジカル発生剤である。
本発明における光ラジカル発生剤としては、例えば、下記式（４）または式（５）で表される化合物（以下、「カルバゾール系化合物（Ｄ１）」という。）が好ましい。
【００７３】
【化４】
【００７４】
【化５】
【００７５】
〔式（４）および式（５）において、各Ｒ3 は相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ4 は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ5 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、各Ｒ6 、各Ｒ7 および各Ｒ8 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。但し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 のアルキル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよく、Ｒ3 およびＲ4 のフェニル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよい。〕
【００７６】
式（４）および式（５）において、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチ基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００７７】
また、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 の炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００７８】
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 の各アルキル基に対する置換基、並びにＲ3 およびＲ4 の各フェニル基に対する置換基のうち、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等を挙げることができる。
また、Ｒ3 およびＲ4 の各フェニル基に対する置換基のうち、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
これらの置換基は、各アルキル基および各フェニル基に１個以上あるいは１種以上存在することができる。
【００７９】
式（４）および式（５）において、Ｒ3 としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基等が好ましく、Ｒ4 としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が好ましく、Ｒ5 としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましく、さらにＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましい。
【００８０】
本発明における好ましいカルバゾール系化合物（Ｄ１）の具体例としては、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ペンタン−１，２−ペンタン−２−オキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（１，３，５−トリメチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−ｎ−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート等を挙げることができる。
【００８１】
これらのカルバゾール系化合物（Ｄ１）のうち、特に１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテートが好ましい。
本発明において、カルバゾール系化合物（Ｄ１）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８２】
また、カルバゾール系化合物（Ｄ１）以外の光ラジカル発生剤（以下、「他の光ラジカル発生剤」という。）としては、例えば、下記式（１５−１）、式（１５−２）または式（１５−３）で表される主要骨格を少なくとも１種有するビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ホスフィン系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができる。
【００８３】
【化１５】
【００８４】
前記ビイミダゾール系化合物としては、例えば、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール
等を挙げることができる。
【００８５】
これらのビイミダゾール系化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールおよび２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、特に２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましい。
【００８６】
−水素供与体−
また、本発明においては、光ラジカル発生剤としてビイミダゾール系化合物を使用する場合、下記する水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。
このような水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、下記で定義するアミン系化合物等が好ましい。
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下「メルカプタン系水素供与体」という。）からなる。
また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下「アミン系水素供与体」という。）からなる。
なお、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有することもできる。
【００８７】
以下、水素供与体について、より具体的に説明する。
メルカプタン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基を２個以上有する場合、少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残りのメルカプト基の１個以上がアルキル、アラルキルまたはアリール基で置換されていてもよく、さらには少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、２個の硫黄原子がアルキレン基等の２価の有機基を介在して結合した構造単位、あるいは２個の硫黄原子がジスルフィドの形で結合した構造単位を有することができる。
さらに、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
【００８８】
このようなメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等が挙げることができる。
これらのメルカプタン系水素供与体のうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に、２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００８９】
次に、アミン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、アミン系水素供与体は、アミノ基の１個以上がアルキル基または置換アルキル基で置換されてもよく、またアミノ基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
【００９０】
このようなアミン系水素供与体の具体例としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｉ−アミル、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げることができる。
これらのアミン系水素供与体のうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。なお、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンや４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンは、ビイミダゾール系化合物が存在しない場合でも、それ単独で光ラジカル開始剤として作用しうるものである。
【００９１】
本発明において、水素供与体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することが、形成された着色層が現像時に基板から脱落し難く、また着色層の強度および感度も高い点で好ましい。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との好ましい組み合わせの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との重量比は、通常、１：１〜１：４、好ましくは１：１〜１：３である。
【００９２】
また、前記ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−ベンゾイル安息香酸メチル等を挙げることができる。
また、前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等を挙げることができる。
【００９３】
また、前記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができる。
また、前記α−ジケトン系化合物としては、例えば、ジアセチル、ジベンゾイル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることができる。
また、前記多核キノン系化合物としては、例えば、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン等を挙げることができる。
また、前記キサントン系化合物としては、例えば、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン等を挙げることができる。
また、前記ホスフィン系化合物としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００９４】
また、前記トリアジン系化合物としては、例えば、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
【００９５】
下記式（１６）で表される化合物
【化１６】
【００９６】
、下記式（１７）で表される化合物
【化１７】
【００９７】
等のハロメチル基を有する化合物等を挙げることができる。
本発明において、光ラジカル発生剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
さらに、本発明においては、前記光ラジカル発生剤と共に、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤あるいは高分子光架橋・増感剤の１種以上を併用することもできる。
【００９８】
本発明における光ラジカル発生剤の使用量は、（Ｃ）多官能性単量体と場合により使用される単官能性単量体との合計１００重量部に対して、通常、０．０１〜２００重量部、好ましくは１〜１２０重量部、特に好ましくは１〜１００重量部である。この場合、光ラジカル発生剤の使用量が０．０１重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンあるいはブラックマトリックスパターンが所定の配列に従って配置されたパターンアレイを得ることが困難となるおそれがあり、一方２００重量部を超えると、形成された着色層が現像時に基板から脱落しやすくなり、また未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
また、本発明において、光ラジカル発生剤としてカルバゾール系化合物（Ｄ１）と他の光ラジカル発生剤とを併用する場合、他の光ラジカル発生剤の使用割合は、カルバゾール系化合物（Ｄ１）と他の光ラジカル発生剤との合計に対して、好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下である。
【００９９】
−添加剤−
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を含有することもできる。
前記添加剤としては、感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解特性をより改善し、かつ現像後の未溶解物の残存をより抑制する作用等を示す、有機酸または有機アミノ化合物（但し、前記水素供与体を除く。）等を挙げることができる。
【０１００】
前記有機酸としては、分子中に１個以上のカルボキシル基を有する、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。
前記脂肪族カルボン酸としては、例えば、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン酸類；
しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等のジカルボン酸類；
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等のトリカルボン酸類
等を挙げることができる。
【０１０１】
また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した化合物、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に結合したカルボン酸等を挙げることができる。
フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、
安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類；
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸類；
トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸等の３価以上の芳香族ポリカルボン酸類や、
フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸
等を挙げることができる。
【０１０２】
これらの有機酸のうち、アルカリ溶解性、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族カルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸類が好ましく、特に、マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸等が好ましい。また、フェニル基含有カルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸類が好ましく、特に、フタル酸が好ましい。
前記有機酸は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通常、１５重量％以下、好ましくは１０重量％以下である。この場合、有機酸の使用量が１５重量％を超えると、形成された着色層の基板に対する密着性が低下する傾向がある。
【０１０３】
また、前記有機アミノ化合物としては、分子中に１個以上のアミノ基を有する、脂肪族アミンあるいはフェニル基含有アミンが好ましい。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、
ｎ−プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−へプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン、２−メチルシクロヘキシルアミン、３−メチルシクロヘキシルアミン、４−メチルシクロヘキシルアミン、２−エチルシクロヘキシルアミン、３−エチルシクロヘキシルアミン、４−エチルシクロヘキシルアミン等のモノ（シクロ）アルキルアミン類；
メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルｎ−プロピルアミン、エチルｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｉ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｉ−ブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジ−ｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、エチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ（シクロ）アルキルアミン類；
【０１０４】
ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルｎ−プロピルアミン、ジエチルｎ−プロピルアミン、メチルジ−ｎ−プロピルアミン、エチルジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｉ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｉ−ブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ｔ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；
２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノール、５−アミノ−１−ペンタノール、６−アミノ−１−ヘキサノール、４−アミノ−１−シクロヘキサノール等のモノ（シクロ）アルカノールアミン類；
【０１０５】
ジエタノールアミン、ジ−ｎ−プロパノールアミン、ジ−ｉ−プロパノールアミン、ジ−ｎ−ブタノールアミン、ジ−ｉ−ブタノールアミン、ジ−ｎ−ペンタノールアミン、ジ−ｎ−ヘキサノールアミン、ジ（４−シクロヘキサノール）アミン等のジ（シクロ）アルカノールアミン類；
トリエタノールアミン、トリ−ｎ−プロパノールアミン、トリ−ｉ−プロパノールアミン、トリ−ｎ−ブタノールアミン、トリ−ｉ−ブタノールアミン、トリ−ｎ−ペンタノールアミン、トリ−ｎ−ヘキサノールアミン、トリ（４−シクロヘキサノール）アミン等のトリ（シクロ）アルカノールアミン類；
【０１０６】
３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオール、４−アミノ−１，３−ブタンジオール、４−アミノ−１，２−シクロヘキサンジオール、４−アミノ−１，３−シクロヘキサンジオール、３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオール、２−ジメチルアミノ−１，３−プロパンジオール、２−ジエチルアミノ−１，３−プロパンジオール等のアミノ（シクロ）アルカンジオール類；
１−アミノシクロペンタンメタノール、４−アミノシクロペンタンメタノール、１−アミノシクロヘキサンメタノール、４−アミノシクロヘキサンメタノール、４−ジメチルアミノシクロペンタンメタノール、４−ジエチルアミノシクロペンタンメタノール、４−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、４−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノール等のアミノ基含有シクロアルカンメタノール類；
β−アラニン、２−アミノ酪酸、３−アミノ酪酸、４−アミノ酪酸、２−アミノイソ酪酸、３−アミノイソ酪酸、２−アミノ吉草酸、５−アミノ吉草酸、６−アミノカプロン酸、１−アミノシクロプロパンカルボン酸、１−アミノシクロヘキサンカルボン酸、４−アミノシクロヘキサンカルボン酸等のアミノカルボン酸類等を挙げることができる。
【０１０７】
また、前記フェニル基含有アミンとしては、例えば、アミノ基が直接フェニル基に結合した化合物、アミノ基が炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物等を挙げることができる。
フェニル基含有アミンとしては、例えば、
アニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４―エチルアニリン、４−ｎ−プロピルアニリン、４−ｉ−プロピルアニリン、４−ｎ−ブチルアニリン、４−ｔ−ブチルアニリン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の芳香族アミン類；
２−アミノベンジルアルコール、３−アミノベンジルアルコール、４−アミノベンジルアルコール、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、４−ジエチルアミノベンジルアルコール等のアミノベンジルアルコール類；
２−アミノフェノール、３―アミノフェノール、４―アミノフェノール、４−ジメチルアミノフェノール、４−ジエチルアミノフェノール等のアミノフェノール類
等を挙げることができる。
【０１０８】
これらの有機アミノ化合物のうち、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族アミンとしては、モノ（シクロ）アルカノールアミン類、アミノ（シクロ）アルカンジオール類が好ましく、特に、２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、５−アミノ−１−ペンタノール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオール等が好ましい。また、フェニル基含有アミンとしては、アミノフェノール類が好ましく、特に、２−アミノフェノール、３−アミノフェノール、４−アミノフェノール等が好ましい。
前記有機アミノ化合物は、単独でまたは２種以上混合して使用することができる。
有機アミノ化合物の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通常、１５重量％以下、好ましくは１０重量％以下である。この場合、有機アミノ化合物の使用量が１５重量％を超えると、形成された着色層の基板に対する密着性が低下する傾向がある。
【０１０９】
さらに、前記有機酸および有機アミノ化合物以外の添加剤としては、例えば、
銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤；
ガラス、アルミナ等の充填剤；
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ポリ（フロロアルキルアクリレート）類等の高分子化合物；
ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤；
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；
２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤；
２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤；
ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤；
１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル等の熱ラジカル発生剤
等を挙げることができる。
【０１１０】
溶媒
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分を必須成分とし、必要に応じて前記添加剤成分を含有するが、通常、溶媒を配合して液状組成物として調製される。
前記溶媒としては、感放射線性組成物を構成する（Ａ）〜（Ｄ）成分や添加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
【０１１１】
このような溶媒としては、例えば、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；
【０１１２】
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；
【０１１３】
乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドまたはラクタム類
等を挙げることができる。
【０１１４】
これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１１５】
また、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
これらの高沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、得られる感放射線性組成物の塗布性、安定性等の観点から、当該組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％となる量が望ましい。
【０１１６】
カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、本発明の着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を有するものである。
以下に、本発明のカラーフィルタにおける着色層を形成する方法について説明する。
まず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成物の液状組成物を塗布したのち、プレベークを行って溶剤を蒸発させ、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォトマスクを介して露光したのち、アルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去し、その後ポストベークすることにより、赤色の画素パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。
その後、緑色または青色の顔料が分散された感放射線性組成物の各液状組成物を用い、前記と同様にして、液状組成物の塗布、プレベーク、露光、現像およびポストベークを行って、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフィルタを得ることができる。但し、本発明においては、各色の画素を形成する順序は、前記のものに限定されない。
また、ブラックマトリックスは、例えば、黒色の顔料が分散された着色層形成用感放射線性組成物を用い、前記画素の場合と同様にして形成することができる。
【０１１７】
画素および／またはブラックマトリックスを形成する際に使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
感放射線性組成物の液状組成物を基板に塗布する際には、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の塗布法を採用することができるが、特に、スピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。
塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜８．０μｍ、特に好ましくは０．２〜６．０μｍである。
【０１１８】
画素および／またはブラックマトリックスを形成する際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用することができるが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましい。
放射線の露光量は、好ましくは１０〜１０，０００Ｊ／ｍ2 である。
また、前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等の水溶液が好ましい。
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を適用することができる。現像条件は、常温で５〜３００秒が好ましい。
【０１１９】
このようにして得られる本発明のカラーフィルタは、例えば、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示素子、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極めて有用である。
【０１２０】
カラー液晶表示素子
本発明のカラー液晶表示素子は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
また、本発明のカラー液晶表示素子の１つの形態として、本発明の着色層形成用感放射線性組成物を用いて、薄膜トランジスタ基板アレイ上に、前述したようにして画素および／またはブラックマトリックスを形成することにより、特に優れた特性を有するカラー液晶表示素子を作製することができる。
【０１２１】
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分を必須成分として含有するものであるが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下記（イ）〜（ニ）のとおりである。
（イ） （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、ジ（メタ）アクリロイル基含有ジオール化合物と四塩基酸二無水物（８）とのエステル化反応により得られる、Ｍｗが３、０００〜１００，０００のポリエステル（１）を含む着色層形成用感放射線性組成物。
（ロ） （Ｃ）多官能性単量体がトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの群から選ばれる少なくとも１種からなる前記（イ）の着色層形成用感放射線性組成物。
（ハ） （Ｄ）光ラジカル発生剤がカルバゾール系化合物（Ｄ１）として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテートを含む前記（イ）または（ロ）の着色層形成用感放射線性組成物。
（ニ） （Ａ）着色剤が有機顔料および／またはカーボンブラックを含む前記（イ）、（ロ）また１（ハ）の着色層形成用感放射線性組成物。
【０１２２】
また、本発明の好ましいカラーフィルタは、
（ホ） 前記（イ）、（ロ）、（ハ）または（ニ）の着色層形成用感放射線性組成物から形成された画素および／またはブラックマトリックスを有する。
【０１２３】
また、本発明の好ましいカラー液晶表示素子は、
（ヘ） 前記（ホ）のカラーフィルタを具備し、
本発明のさらに好ましいカラー液晶表示素子は、
（ト） 薄膜トランジスタ基板アレイ上に、前記（ホ）のカラーフィルタを具備している。
【発明の効果】
【０１２４】
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、顔料を高濃度で含む場合においても、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に未溶解物が残存したり、画素パターンおよびブラックマトリックスパターンのエッジにスカムを生じたりすることがなく、しかも低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットのない良好な画素パターンおよびブラックマトリックスパターンを形成することができる。
さらに、本発明の着色層形成用感放射線性組成物を用いて形成された画素およびブラックマトリックスは、表面平滑性が高く、また基板との密着性も優れている。
したがって、本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、電子工業分野におけるカラー液晶表示素子用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタの製造に極めて好適に使用することができる。
【実施例】
【０１２５】
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。ここで、部は重量基準である。
〈アルカリ可溶性樹脂の製造〉
合成例１（ジフェノールのジグリシジルエーテル化物の合成）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、ジフェノール（９）：ジフェノール（１０）＝７０：３０（重量比）の混合物（商品名ＹＰ−９０、ヤスハラケミカル（株）製）１，０７０ｇ、エピクロロヒドリン１，５２０ｇ、ジメチルスルホキシド１，７００ｇを仕込み、攪拌しつつ５０℃に加熱して溶解させたのち、苛性ソーダ２９０ｇを加え、６５〜９０℃で１０時間反応させた。反応の進行および終点はエポキシ当量を測定して確認し、エポキシ当量が目標値に達したのち、９０〜１００℃にて溶剤を減圧留去した。その後、反応生成物を５０〜７０℃のトルエンに再溶解させ、さらに蒸留水を加えて水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下で脱溶剤して、反応生成物１，２６０ｇを得た。得られた反応生成物のエポキシ当量は２６０であった。
【０１２６】
この反応生成物について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（溶媒：ＣＤＣｌ3 、テトラメチルシラン基準。以下同様。）を測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に６．８〜７．３（シクロヘキサン骨格に結合したベンゼン環に由来；８Ｈ）、３．３および３．９〜４．２（エポキシ基に由来；６Ｈ）、０．７〜０．９（シクロヘキサン骨格に結合したｉ−プロピル基中の２個のメチル基に由来；６Ｈ）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１２４１ｃｍ-1（芳香族エーテル構造およびエポキシ基に由来）、１０３６ｃｍ-1および８２８ｃｍ-1（芳香族エーテル構造に由来）の吸収が認められた。
以上の結果から、この反応生成物は前記式（１１）で表されるジグリシジルエーテル化物と式（１２）で表されるジグリシジルエーテル化物の混合物であることが確認された。
【０１２７】
合成例２（ジメタクリロイル基含有ジオール化合物の合成）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例１で得たジグリシジルエーテル化物の混合物１，０００ｇ、メタクリル酸３５０ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１．０ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、臭化テトラエチルアンモニウム８ｇを加え、７０〜９０℃で攪拌しつつ、反応生成物の酸価が８ｍｇＫＯＨ／ｇでエポキシ当量が１７，０００となるまで反応を続けた。１５時間後、酸価およびエポキシ当量にて終点を確認したのち、室温に冷却して、反応生成物１，３００ｇを得た。得られた反応生成物は、酸価＝８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価＝１６５ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量＝１７，０００であった。
【０１２８】
この反応生成物について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に５．６および６．１（メタクリル酸の二重結合に由来；４Ｈ）、３．９〜４．４（ジグリシジルエーテル化物の混合物のピーク「３．３および３．９〜４．２」がエポキシ基の開環によりシフトしたもの；１０Ｈ）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１，７２０ｃｍ-1（脂肪族エステル構造に由来）の吸収が認められた。
以上の結果から、この反応生成物は下記式（６−１）で表されるジメタクリロイル基含有ジオール化合物と下記式（７−１）で表されるジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物であることが確認された。
【０１２９】
【化１８】
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
合成例３（ジアクリロイル基含有ジオール化合物の合成）
合成例２において、メタクリル酸の代わりにアクリル酸２９３ｇを用いた以外合成例２と同様にして、下記式（６−２）で表されるジアクリロイル基含有ジオール化合物と下記式（７−２）で表されるジアクリロイル基含有ジオール化合物の混合物１，２００ｇを得た。得られた混合物は、酸価＝６ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価＝１７１ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量＝１６，５００であった。
【０１３２】
【化２０】
【０１３３】
【化２１】
【０１３４】
合成例４（ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６７０ｇ、メチルイソブチルケトン１，３００ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、前記式（８−１）で表される無水ピロメリット酸（ダイセル化学工業（株）製）２２０ｇを加え、８０℃で攪拌しつつ、反応生成物の酸価が平均６７．９ｍｇＫＯＨ／ｇで、酸価の変動幅が２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となるまで反応を続けた。反応終了後、反応溶液に蒸留水を加えて、水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下５０〜７０℃で溶剤を留去して、樹脂８６０ｇ得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝１８，０００、酸価＝６１．２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１３５】
この樹脂について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に、６．９〜７．６（シクロヘキサン骨格に結合したベンゼン環およびピロメリット酸のベンゼン環に由来）、５．８および６．２（メタクリル酸の二重結合部に由来）、１．１〜２．２（シクロヘキサン骨格に由来）、０．７〜０．９（シクロヘキサン骨格に結合した２，２−プロピレン基中の２個のメチル基に由来；６Ｈ）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１７３５ｃｍ-1（脂肪族エステル構造に由来）、１７３５ｃｍ-1、１２４１ｃｍ-1および１１０２ｃｍ-1（芳香族エステル構造に由来）の吸収が認められた。
以上の結果から、この樹脂は下記式（１−１）で表されるポリエステル（１）であることが確認された。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) 」とする。
【０１３６】
【化２２】
〔式（１−１）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１３７】
合成例５（ポリエステル（１）の製造）
合成例４において、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物の代わりに、合成例３で得たジアクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６６０ｇを用いた以外は合成例４と同様にして、下記式（１−２）で表されるポリエステル（１）８４０ｇを得た。得られたポリエステル（１）は、Ｍｗ＝１５，０００、酸価＝６０．９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) 」とする。
【０１３８】
【化２３】
〔式（１−２）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１３９】
合成例６（カルボキシル基封鎖ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例４で得たポリエステル（１）２７５ｇ、プロピレングリコールモノメチルアセテート２７５ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、臭化テトラエチルアンモニウム１．５ｇを加え、カルボキシル基封鎖剤としてフェニルグリシジルエーテル（商品名エピオールＰ、日本油脂（株）製））３０ｇを加え、８０〜９０℃で攪拌しつつ、酸価の変動幅が２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となるまで反応を続けた。反応終了後、室温に冷却して、樹脂３００ｇを得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝２１，０００、酸価＝５２．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１４０】
この樹脂について、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、化学シフトδ（ｐｐｍ）に、合成例４で得たポリエステル（１）のピークに加えて、６．９〜７．６（フェニルグリシジルエーテル基中のベンゼン環に由来）のピークが認められた。
また、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）を測定したところ、１，０４７ｃｍ-1（芳香族エーテル構造に由来）の吸収が認められ、この吸収はカルボキシル基封鎖により、合成例４で得たポリエステル（１）より強くなっていた。
以上の結果から、この樹脂は、前記式（１−１）でカルボキシル基中の水素原子の７８％が封鎖剤残基（−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 ＯＣ6 Ｈ5)で置換された構造を有するポリエステル（１）であることが確認された。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) 」とする。
【０１４１】
合成例７（カルボキシル基封鎖ポリエステル（１）の製造）
合成例６において、合成例４で得たポリエステル（１）の代わりに合成例５で得たポリエステル（１）３００ｇを用いた以外は合成例６と同様にして、樹脂３４０ｇを得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝２５，０００、酸価＝５０．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) 」とする。
【０１４２】
合成例８（ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６７０ｇ、メチルイソブチルケトン１，４７０ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、前記式（８−２）で表されるジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物（マナック（株）製）３１３ｇを加え、８０℃で攪拌しつつ反応させて、酸価が５３．３ｍｇＫＯＨ／ｇとなるまで反応を続けた。反応終了後、反応溶液に蒸留水を加えて、水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下５０〜７０℃で溶剤を留去して、樹脂８００ｇ得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝１８，０００、酸価＝６１．２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) 」とする。
【０１４３】
【化２４】
〔式（１−３）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１４４】
合成例９（ポリエステル（１）の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、合成例２で得たジメタクリロイル基含有ジオール化合物の混合物６７０ｇ、メチルイソブチルケトン１６６０ｇを仕込み、攪拌しつつ６０℃に加熱して溶解させたのち、前記式（８−３）で表されるエチレングリコールビス（トリメリテート）二無水物（新日本理化（株）製）４３４ｇを加え、８０℃で攪拌しつつ反応させて、酸価が４６．２ｍｇＫＯＨ／ｇとなるまで反応を続けた。反応終了後、反応溶液に蒸留水を加えて、水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下５０〜７０℃で溶剤を留去して樹脂９００ｇ得た。得られた樹脂は、Ｍｗ＝１３，０００であり、下記式（１−４）で表されるポリエステル（１）であった。
このポリエステル（１）を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) 」とする。
【０１４５】
【化２５】
〔式（１−４）において、Ｘは式（１）におけるＸと同義である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。〕
【０１４６】
合成例１０（比較用アルカリ可溶性樹脂の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１２部、スチレン１８部、ベンジルメタクリレート２４部、Ｎ−フェニルマレイミド３０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー６．５部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を８０℃に加熱し、この温度を保持して３時間重合した。重合終了後、反応溶液を１００℃に加熱して、２，２' −アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．５部加え、さらに１時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液（固形分濃度＝３３．２重量％）を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Ｍｗ＝８，５００、Ｍｎ＝４，５００であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) 」とする。
【０１４７】
合成例１１（比較用アルカリ可溶性樹脂の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１０部、スチレン１５部、ベンジルメタクリレート３０部、Ｎ−フェニルマレイミド２５部、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート２０部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー２部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を８０℃に加熱し、この温度を保持して３時間重合した。重合終了後、反応溶液を１００℃に加熱して、２，２' −アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．５部加え、さらに１時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液（固形分濃度＝３３．１％）を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Ｍｗ＝２０，０００、Ｍｎ＝９，０００であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) 」とする。
【０１４８】
合成例１２（比較用アルカリ可溶性樹脂の製造）
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１０部、スチレン１５部、ベンジルメタクリレート４０部、Ｎ−フェニルマレイミド２５部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１０部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー６．５部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を８０℃に加熱し、この温度を保持して３時間重合した。重合終了後、反応溶液を１００℃に加熱して、２，２' −アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．５部加え、さらに１時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液（固形分濃度＝３３．３％）を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Ｍｗ＝７，８００、Ｍｎ＝４，５００であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) 」とする。
【０１４９】
実施例１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド２５４とC.I.ピグメントレッド１７７との８０：２０（重量比）混合物８部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８７部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) ８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート（商品名ＣＧＩ−２４２、チバ・スペチャリティー・ケミカルズ社製。以下同様。）３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（Ｒ１）を調製した。
【０１５０】
〈着色層の形成〉
液状組成物（Ｒ１）を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止する二酸化ケイ素（ＳｉＯ２)膜が形成されたソーダガラス基板に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃のホットプレート上で２分間プレベークを行って、膜厚１．２μｍの塗膜を形成した。
次いで、基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスク（スリット幅３０μｍ）を介して、塗膜に３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は１００Ｊ／ｍ2 であった。その後、基板を２３℃の０．０４重量％水酸化カリウム水溶液に４５秒間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して、風乾した。その後、２３０℃のクリーンオーブン内で３０分間ポストベークを行なって、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５２】
実施例２〜５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−１に示すものに変更した以外は、実施例１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ２）〜（Ｒ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ２）〜（Ｒ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５４】
実施例６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５６】
実施例７〜１０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−１に示すものに変更した以外は、実施例６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ７）〜（Ｒ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ７）〜（Ｒ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−１に示す。
【０１５８】
実施例１１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１５９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６０】
実施例１２〜１５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−２に示すものに変更した以外は、実施例１１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ１２）〜（Ｒ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ１２）〜（Ｒ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６２】
実施例１６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６４】
実施例１７〜２０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−２に示すものに変更した以外は、実施例１６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ１７）〜（Ｒ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ１７）〜（Ｒ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−２に示す。
【０１６６】
実施例２１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１６８】
実施例２２〜２５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−３に示すものに変更した以外は、実施例２１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ２２）〜（Ｒ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ２２）〜（Ｒ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１６９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１７０】
実施例２６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例１と同様にして、液状組成物（Ｒ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｒ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１７２】
実施例２７〜３０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表１−３に示すものに変更した以外は、実施例２６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｒ２７）〜（Ｒ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｒ２７）〜（Ｒ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表１−３に示す。
【０１７４】
実施例３１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントグリーン３６とC.I.ピグメントイエロー１５０との６０：４０（重量比）混合物１１部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９０部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) ８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（Ｇ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（Ｇ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１７６】
実施例３２〜３５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−１に示すものに変更した以外は、実施例３１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ２）〜（Ｇ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ２）〜（Ｇ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１７８】
実施例３６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１７９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１８０】
実施例３７〜４０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−１に示すものに変更した以外は、実施例３６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ７）〜（Ｇ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ７）〜（Ｇ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残残は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６、８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−１に示す。
【０１８２】
実施例４１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１８４】
実施例４２〜４５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−２に示すものに変更した以外は、実施例４１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ１２）〜（Ｇ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ１２）〜（Ｇ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１８６】
実施例４６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１８８】
実施例４７〜５０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−２に示すものに変更した以外は、実施例４６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ１７）〜（Ｇ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ１７）〜（Ｇ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１８９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６、５ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−２に示す。
【０１９０】
実施例５１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９２】
実施例５２〜５５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−３に示すものに変更した以外は、実施例５１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ２２）〜（Ｇ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ２２）〜（Ｇ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６、８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９４】
実施例５６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例３１と同様にして、液状組成物（Ｇ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｇ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９６】
実施例５７〜６０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表２−３に示すものに変更した以外は、実施例５６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｇ２７）〜（Ｇ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｇ２７）〜（Ｇ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、６ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表２−３に示す。
【０１９８】
実施例６１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントブルー１５：６とC.I.ピグメントバイオレット２３との９５：５（重量比）混合物９部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８８部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1) ８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（Ｂ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（Ｂ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０１９９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２００】
実施例６２〜６５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−１に示すものに変更した以外は、実施例６１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ２）〜（Ｂ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ２）〜（Ｂ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２０２】
実施例６６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２０４】
実施例６７〜７０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−１に示すものに変更した以外は、実施例６６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ７）〜（Ｂ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ７）〜（Ｂ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−１に示す。
【０２０６】
実施例７１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２０８】
実施例７２〜７５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−２に示すものに変更した以外は、実施例７１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ１２）〜（Ｂ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ１２）〜（Ｂ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２０９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、６ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２１０】
実施例７６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２１２】
実施例７７〜８０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−２に示すものに変更した以外は、実施例７６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ１７）〜（Ｂ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ１７）〜（Ｂ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−２に示す。
【０２１４】
実施例８１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２１６】
実施例８２〜８５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−３に示すものに変更した以外は、実施例８１と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ２２）〜（Ｂ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ２２）〜（Ｂ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２１８】
実施例８６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例６１と同様にして、液状組成物（Ｂ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（Ｂ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２１９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２２０】
実施例８７〜９０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表３−３に示すものに変更した以外は、実施例８６と同様にして、それぞれ液状組成物（Ｂ２７）〜（Ｂ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（Ｂ２７）〜（Ｂ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表３−３に示す。
【０２２２】
実施例９１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてカーボンブラック２０部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９９部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1）８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を混合して、液状組成物（ＢＫ１）を調製した。
〈着色層の形成〉
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＢＫ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２２４】
実施例９２〜９５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−１に示すものに変更した以外は、実施例９１と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ２）〜（ＢＫ５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ２）〜（ＢＫ５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２２６】
実施例９６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-2) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２２８】
実施例９７〜１００
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−１に示すものに変更した以外は、実施例９６と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ７）〜（ＢＫ１０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ７）〜（ＢＫ１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２２９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−１に示す。
【０２３０】
実施例１０１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-3) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ１１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ１１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３２】
実施例１０２〜１０５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−２に示すものに変更した以外は、実施例１０１と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ１２）〜（ＢＫ１５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ１２）〜（ＢＫ１５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５、８ないし６μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３４】
実施例１０６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-4) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ１６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ１６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３６】
実施例１０７〜１１０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−２に示すものに変更した以外は、実施例１０６と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ１７）〜（ＢＫ２０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ１７）〜（ＢＫ２０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−２に示す。
【０２３８】
実施例１１１
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-5) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ２１）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ２１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２３９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅６μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４０】
実施例１１２〜１１５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−３に示すものに変更した以外は、実施例１１１と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ２２）〜（ＢＫ２５）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ２２）〜（ＢＫ２５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８、６ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４２】
実施例１１６
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-6) に変更した以外は、実施例９１と同様にして、液状組成物（ＢＫ２６）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて液状組成物（ＢＫ２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４４】
実施例１１７〜１２０
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表４−３に示すものに変更した以外は、実施例１１６と同様にして、それぞれ液状組成物（ＢＫ２７）〜（ＢＫ３０）を調製した。
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、それぞれ液状組成物（ＢＫ２７）〜（ＢＫ３０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅８ないし５μｍのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表４−３に示す。
【０２４６】
比較例１
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド２５４とC.I.ピグメントレッド１７７との８０：２０（重量比）混合物８部、分散剤としてＥＦＫＡ−４６を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８７部、アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) ２部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) ３部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) ４部との混合物、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（ＣＲ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＲ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４７】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅３５μｍのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表５に示す。
【０２４８】
比較例２
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントグリーン３６とC.I.ピグメントイエロー１５０との６０：４０（重量比）混合物１１部、分散剤としてＢＹＫ−２０００を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９０部、アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) ２部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) ３部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) ４部との混合物、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（ＣＧ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＧ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２４９】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められなかったが、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅４５μｍのパターンしか形成できなかった。 以上の主な内容を表５に示す。
【０２５０】
比較例３
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントブルー１５：６とC.I.ピグメントバイオレット２３との９５／５（重量比）混合物９部、分散剤としてＢＹＫ−２００１を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液８８部、アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-7) ２部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-8) ３部とアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-9) ４部との混合物、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてメトキシブチルアセテート７０部とエチルー３−エトキシプロピオネート９６部を混合して、液状組成物（ＣＢ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＢ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２５１】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められなかったが、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅４０μｍのパターンしか形成できなかった。 以上の主な内容を表５に示す。
【０２５２】
比較例４
〈液状組成物の調製〉
（Ａ）着色剤としてカーボンブラック２０部、分散剤としてＢＹＫ−１６４を４部（固形分換算）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液を調製した。
次いで、得られた顔料分散液９９部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂（Ｂ-1）８部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２部とペンタエリスリトールテトラアクリレート４部、（Ｄ）光ラジカル発生剤として１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート３部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を混合して、液状組成物（ＣＢＫ１）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＢＫ１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２５３】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅５０μｍのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表５に示す。
【０２５４】
比較例５
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤をＢＹＫ−１８２に変更した以外は、比較例１と同様にして、液状組成物（ＣＲ２）を調製した。
（着色層の形成）
次いで、液状組成物（Ｒ１）に代えて、液状組成物（ＣＲ２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
【０２５５】
〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅４５μｍのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表５に示す。
【０２５６】
【表１】
【０２５７】
【表２】
【０２５８】
【表３】
【０２５９】
【表４】
【０２６０】
【表５】
【０２６１】
【表６】
【０２６２】
【表７】
【０２６３】
【表８】
【０２６４】
【表９】
【０２６５】
【表１０】
【０２６６】
【表１１】
【０２６７】
【表１２】
【０２６８】
【表１３】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光ラジカル発生剤を含有する感放射線性組成物であって、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。
【請求項２】
（Ｂ）成分をなす主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルが下記式（１）で表されるポリエステルであることを特徴とする、請求項１に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
【化１】
〔式（１）において、各Ｘは相互に独立に下記式（２）または式（３）で表される２価の基を示し、各Ｙは相互に独立にカルボキシル基を４個有する有機化合物のカルボキシル基を除いた残基を示し、各Ｒ1 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、各Ｒ2 は相互に独立に水素原子またはカルボキシル基封鎖剤残基を示し、ｎは１〜４０の整数である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。
【化２】
【化３】
〕
【請求項３】
（Ｄ）光ラジカル発生剤が下記式（４）または式（５）で表される化合物を必須成分とすることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
【化４】
【化５】
〔式（４）および式（５）において、各Ｒ3 は相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ4 は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ5 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、各Ｒ6 、各Ｒ7 および各Ｒ8 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。但し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 のアルキル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよく、Ｒ3 およびＲ4 のフェニル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよい。〕
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項４に記載のカラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示素子。
【請求項１】
（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光ラジカル発生剤を含有する感放射線性組成物であって、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。
【請求項２】
（Ｂ）成分をなす主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルが下記式（１）で表されるポリエステルであることを特徴とする、請求項１に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
【化１】
〔式（１）において、各Ｘは相互に独立に下記式（２）または式（３）で表される２価の基を示し、各Ｙは相互に独立にカルボキシル基を４個有する有機化合物のカルボキシル基を除いた残基を示し、各Ｒ1 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、各Ｒ2 は相互に独立に水素原子またはカルボキシル基封鎖剤残基を示し、ｎは１〜４０の整数である。但し、式中の＊印を付した２つの結合手は相互に直接結合している。
【化２】
【化３】
〕
【請求項３】
（Ｄ）光ラジカル発生剤が下記式（４）または式（５）で表される化合物を必須成分とすることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
【化４】
【化５】
〔式（４）および式（５）において、各Ｒ3 は相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ4 は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはフェニル基を示し、各Ｒ5 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、各Ｒ6 、各Ｒ7 および各Ｒ8 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。但し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 のアルキル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよく、Ｒ3 およびＲ4 のフェニル基はそれぞれ、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子の群から選ばれる置換基で置換されてもよい。〕
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項４に記載のカラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示素子。
【公開番号】特開２００８−１５３９３（Ｐ２００８−１５３９３Ａ）
【公開日】平成２０年１月２４日（２００８．１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１８８８５０（Ｐ２００６−１８８８５０）
【出願日】平成１８年７月１０日（２００６．７．１０）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月２４日（２００８．１．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年７月１０日（２００６．７．１０）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]