薄膜形成方法、デバイスの製造方法、ステージ装置
【課題】 液滴吐出法を用いた薄膜形成工程において、基板をステージに吸着して乾燥処理を行なう場合に生じる乾燥むらの発生を防止する。
【解決手段】 本発明のステージ装置は、基板１１上に配置された液滴を乾燥する際に基板１１を吸着保持するために用いられるステージ装置である。本発明のステージ装置は、基板１１を吸着するための吸着穴４ａが形成された載置台４を備え、吸着穴４ａが基板１１の薄膜形成領域Ｆ以外の領域に配置されている。
【解決手段】 本発明のステージ装置は、基板１１上に配置された液滴を乾燥する際に基板１１を吸着保持するために用いられるステージ装置である。本発明のステージ装置は、基板１１を吸着するための吸着穴４ａが形成された載置台４を備え、吸着穴４ａが基板１１の薄膜形成領域Ｆ以外の領域に配置されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成方法、デバイスの製造方法、ステージ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラーフィルタを始めとする機能層の形成方法として、インクジェット装置を用いる方法が提案されている。当該インクジェット装置においては、例えば、赤、緑、青の各色素の液滴が充填されたインクジェットヘッドをスキャンしながら、ガラス基板上に各液滴を吐出することにより、容易にカラーフィルタを製造することが可能となる。また、インクジェット装置及びインクジェット方法の応用範囲は、カラーフィルタの製造工程だけでなく、金属材料を含む液体を所定パターンで描画して金属配線を形成する工程や、発光材料や正孔注入材料を含む液体材料を描画して画素を形成する工程においても利用可能である。即ち、インクジェット装置は、分散液や溶液に対して分散又は溶解する機能性材料であれば各種機能層の製造工程に適用可能である。
ところで、インクジェット装置を用いた成膜工程においては、膜ムラの防止や着弾精度を向上するために、液体材料の描画工程や乾燥工程は基板をステージ上に吸着して撓みのない状態で行なう。しかし、このように基板を真空吸着すると、液体材料を乾燥させたときに、真空吸着している部分としていない部分との間で乾燥膜の膜厚に不均一性が生じることがある。この原因としては、基板を真空吸着したときの基板の局所的な撓み等が考えられる。特許文献１では、この対策として、基板とステージの間に中が空洞で空気を送り込める構造の軟質ゴムを挟み、導入空気を調節することによって、吸着に伴う基板の撓みを補正する方法を提案している。
【特許文献１】特開２０００−２２３３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、この方法では、基板に塗布する溶剤が基板の裏面に回り込むことでゴムの溶出が発生し、歩留まりの低下を招く虞がある。また、均一な薄膜を形成するために、導入空気の温度を管理する必要があり制御が煩雑になる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出法を用いた薄膜形成工程において、基板をステージに吸着した状態で乾燥処理を行なう場合に生じる乾燥ムラの発生を防止することのできる薄膜形成方法、デバイスの製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、このような薄膜形成工程に用いて好適なステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を解決するため、本発明の薄膜形成方法は、機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成方法であって、前記液滴の乾燥工程が、前記基板の前記液滴の配置領域以外の領域を吸着して前記基板をステージ装置に保持した状態で行なわれることを特徴とする。
本方法では、基板を液滴の配置領域（即ち、薄膜の形成領域）を避けた位置で吸着するので、仮に吸着位置が局所的に撓んだとしても、これによって薄膜の乾燥状態にムラが生じることはない。
【０００５】
本発明の薄膜形成方法では、前記ステージ装置が概ね平坦面に形成された載置台を備え、該載置台の表面に前記基板を吸着するための複数の吸着穴が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記載置台の吸着穴に吸着させた状態で行なわれるものとすることができる。
本方法では、基板を面で支持する構成を採用しているので載置台の構造が簡単になり、又、従来のステージ装置の吸着位置を変更するのみで本発明に対応することができる。
【０００６】
本発明の薄膜形成方法では、前記ステージ装置が、先端に吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられた載置台を備え、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記支持ピンの吸着穴に吸着させた状態で行なわれるものとすることができる。
この方法では、基板の裏面側を載置台から概ね浮かした状態で保持できるので、基板を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱できるようになる。よって、前述のように基板を面で支持する構成に比べて、基板の温度分布が少なくなり、乾燥ムラをより少なくすることができる。
【０００７】
本発明の薄膜形成方法では、前記載置台の支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記気体噴出口から前記基板の裏面側に気体を吹き付け、該気体の押圧力によって前記基板の前記支持ピンによって支持されない部分を支持しながら行なわれるものとすることができる。
前述のように支持ピンによって基板を支持する構成では、支持ピンによって支持されない部分の基板が撓み、この撓んだ部分に膜厚ムラが生じる場合がある。本方法では、この支持ピンに支持されない部分を気体の噴射圧力によって浮かせるので、このような膜厚ムラが生じることはない。
【０００８】
本発明の薄膜形成方法では、前記気体の温度が前記乾燥工程における乾燥温度と略同じ温度に設定されているものとすることができる。
こうすることで、基板を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱することができる。
【０００９】
本発明のデバイスの製造方法は、薄膜の形成工程を含むデバイスの製造方法であって、前記薄膜が前述した本発明の薄膜形成方法により形成されたことを特徴とする。
これにより、デバイスの高品質化を図ることができる。
【００１０】
本発明のステージ装置は、機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成工程において、前記基板上に配置された前記液滴を乾燥する際に前記基板を吸着保持するために用いられるステージ装置であって、前記基板を吸着するための吸着穴が形成された載置台を備え、前記吸着穴が前記基板の薄膜形成領域以外の領域に配置されていることを特徴とする。
このステージ装置では、基板の吸着位置が液滴の配置領域（即ち、薄膜形成領域）を避ける位置に設けられているので、乾燥ムラのない均一な膜を形成することができる。
【００１１】
本発明のステージ装置では、前記載置台が略平坦面に形成されているものとすることができる。
本発明では、基板を面で支持する構成を採用しているので載置台の構造が簡単になり、又、従来のステージ装置の吸着位置を変更するのみで本発明に対応することができる。
【００１２】
本発明のステージ装置では、前記載置台に、先端に前記吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられ、該複数の支持ピンによって前記基板を支持するように構成されたものとすることができる。
本発明では、基板の裏面側を載置台から概ね浮かした状態で保持できるので、基板を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱できるようになる。よって、前述のように基板を面で支持する構成に比べて、基板の温度分布が少なくなり、乾燥ムラをより少なくすることができる。
【００１３】
本発明のステージ装置では、前記載置台の前記支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられているものとすることができる。
前述のように支持ピンによって基板を支持する構成では、支持ピンによって支持されない部分の基板が撓み、この撓んだ部分に膜厚ムラが生じる場合がある。本発明では、この支持ピンに支持されない部分を気体の噴射圧力によって浮かせるので、このような膜厚ムラが生じることはない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
図１は、本発明の薄膜形成方法に用いる液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図である。本発明の薄膜形成方法は、機能性材料を含む液体材料を液滴として基板１１上に配置し、該液滴を乾燥して膜化することによって薄膜を形成するものである。本実施形態では、この液滴の配置工程（液滴吐出工程）を、図１の液滴吐出装置１００を用いて行なう。
【００１５】
図１に示すように、液滴吐出装置１００は、液滴吐出ヘッド１０、液滴吐出ヘッド１０をＸ方向に駆動するためのＸ方向ガイド軸２、Ｘ方向ガイド軸２を回転させるＸ方向駆動モータ３、基板１１を載置するための載置台４、載置台４をＹ方向に駆動するためのＹ方向ガイド軸５、Ｙ方向ガイド軸５を回転させるＹ方向駆動モータ６、クリーニング機構部１４、及びこれらを統括的に制御する制御装置８等を備えている。Ｘ方向ガイド軸２及びＹ方向ガイド軸５はそれぞれ、基台７上に固定されている。なお、図１では、液滴吐出ヘッド１０は、基板１１の進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド１０の角度を調整し、基板１１の進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド１０の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することができる。また、基板１１とノズル面との距離を任意に調節できるようにしてもよい。
【００１６】
液滴吐出ヘッド１０は、機能性材料を含有する分散液からなる液体材料をノズル（吐出口）から吐出するものであり、Ｘ方向ガイド軸２に固定されている。ここで、機能性材料とは、膜化したときに所定の機能を発揮する材料の総称であり、係る機能としては、電気・電子的機能（導電性、絶縁性、圧電性、焦電性、誘電性等）、光学的機能（光選択吸収、反射性、偏光性、光選択透過性、非線形光学性、蛍光あるいはリン光等のルミネッセンス、フォトクロミック性等）、磁気的機能（硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等）、化学的機能（吸着性、脱着性、触媒性、吸水性、イオン伝導性、酸化還元性、電気化学特性、エレクトロクロミック性等）、機械的機能（耐摩耗性等）、熱的機能（伝熱性、断熱性、赤外線放射性等）、生体的機能（生体適合性、抗血栓性等）等の種々の機能がある。本実施形態では、主にカラーフィルタの顔料や有機ＥＬ材料等の表示デバイス用の材料を想定しているが、これに限定されない。
【００１７】
Ｘ方向駆動モータ３は、ステッピングモータ等であり、制御装置８からＸ軸方向の駆動パルス信号が供給されると、Ｘ方向ガイド軸２を回転させる。Ｘ方向ガイド軸２の回転により、液滴吐出ヘッド１０が基台７に対してＸ軸方向に移動する。
【００１８】
液体吐出方式としては、圧電体素子であるピエゾ素子を用いてインクを吐出させるピエゾ方式、液体材料を加熱し発生した泡（バブル）により液体材料を吐出させるバブル方式など、公知の様々な技術を適用できる。このうち、ピエゾ方式は、液体材料に熱を加えないため、材料の組成等に影響を与えないという利点を有する。なお、本例では、液体材料選択の自由度の高さ、及び液滴の制御性の良さの点から上記ピエゾ方式を用いる。
【００１９】
載置台４はＹ方向ガイド軸５に固定され、Ｙ方向ガイド軸５には、Ｙ方向駆動モータ６、１６が接続されている。この載置台４には、真空吸着装置等の公知の吸着機構が設けられており、基板１１を所定の位置に位置決めした状態で固定できるようになっている。Ｙ方向駆動モータ６、１６は、ステッピングモータ等であり、制御装置８からＹ軸方向の駆動パルス信号が供給されると、Ｙ方向ガイド軸５を回転させる。Ｙ方向ガイド軸５の回転により、載置台４が基台７に対してＹ軸方向に移動する。
クリーニング機構部１４は、液滴吐出ヘッド１０をクリーニングし、ノズルの目詰まりなどを防ぐものである。クリーニング機構部１４は、上記クリーニング時において、Ｙ方向の駆動モータ１６によってＹ方向ガイド軸５に沿って移動する。
【００２０】
このように構成された液滴吐出装置１００は、サーマルチャンバ等の乾燥装置の中に設置されており、載置台４に基板を保持したまま、液滴の配置工程と液滴の乾燥工程とを連続して行なうことができるようになっている。すなわち、本実施形態では、液滴吐出装置１００は本発明のステージ装置を兼ねるものとなっている。
【００２１】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１００による薄膜形成方法について説明する。
本実施形態の液滴吐出装置１００では、まず、基板１１を所定の位置に位置決めした状態で載置台４に吸着し、固定する。次に、液滴吐出ヘッド１０から液体材料を吐出しながら、Ｘ方向駆動モータ３及び／又はＹ方向駆動モータ６を介して、基板１１と液滴吐出ヘッド１０とを相対移動させることにより、基板１１上に液体材料を配置する。液滴吐出ヘッド１０の各ノズルからの液滴の吐出量は、制御装置８から上記ピエゾ素子に供給される電圧によって制御される。また、基板１１上に配置される液滴のピッチは、上記相対移動の速度、及び液滴吐出ヘッド１０からの吐出周波数（ピエゾ素子への駆動電圧の周波数）によって制御される。また、基板１１上に液滴を開始する位置は、上記相対移動の方向、及び上記相対移動時における液滴吐出ヘッド１０からの液滴の吐出開始のタイミング制御等によって制御される。次に、基板１１を載置台４に吸着させたまま、サーマルチャンバ（乾燥装置）内で乾燥し、表面に配置された液体材料を膜化する。サーマルチャンバ内の温度は、基板１１に温度分布が生じないように管理されるものとする。
以上により、基板１１上に機能性材料からなる薄膜のパターンが形成される。
【００２２】
ところで、本実施形態では、基板１１を載置台４に吸着させた状態で乾燥工程を行なうため、基板１１の吸着された部分と吸着されない部分との間で温度分布が生じ、基板面内に乾燥ムラが生じることがある。そこで、本実施形態では、載置台４による基板１１の吸着位置を薄膜の形成領域、即ち、液滴の配置領域に対して平面的に重ならない領域に設置し、基板１１を載置台４に設置する際に、基板１１の吸着位置と薄膜の形成領域とが重ならないように正確に位置決めするようにしている。
【００２３】
図２は、載置台４の構成の一例を示す断面模式図（図２（ａ））及び平面模式図（図２（ｂ））図である。本例では、薄膜形成領域Ｆに形成される膜としてカラーフィルタや有機ＥＬ発光層等を想定しており、薄膜形成領域Ｆは画素配列に対応して基板１１上にマトリクス状に配置されている。図２の載置台４は表面が略平坦面に形成されており、この平坦面全体で基板１１を支持する構造となっている。この載置台４の表面には、薄膜形成領域Ｆの配置されない領域、即ち、非画素領域に対応する位置に前述の吸着穴４ａが格子状に多数配置されている。
【００２４】
図３は、載置台４の他の構成例を示す図である。本例の載置台において図２の載置台４と異なる点は、載置台４の表面に、先端に吸着穴４ａが形成された多数の突起状の支持ピン４ｂが設けられ、基板１１がこの支持ピン４ｂの先端に吸着保持されている点のみである。吸着穴４ａ（即ち、支持ピン４ｂの位置）と薄膜形成領域Ｆとの位置関係は前述の図２と同様である。この構成では、載置台４に突起構造を形成するので構造は複雑になるが、基板１１の裏面側を載置台４から概ね浮かした状態で保持できるので、基板１１を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱できるようになる。よって、図２のように基板１１を面で支持する構成に比べて、基板１１の温度分布が少なくなり、乾燥ムラをより少なくすることができる。なお、この構造では、基板１１になるべく温度分布を生じさせないようにするという観点からは、支持ピン４ｂと基板１１との接触面積はなるべく少ない方が好ましいが、このように接触面積を小さくしてしまうと、液滴の配置工程（描画工程）において基板１１が設置位置からずれてしまうことがある。このため、本構成においては、このようなずれを防止するために、支持ピン４ｂの先端にゴム等の滑り止めを設けることが好ましい。この場合、滑り止めの材料としては耐溶剤性を有するものを用いる。
【００２５】
図４は、載置台４の更に他の構成例を示す図である。本例の載置台において図３の載置台と異なる点は、支持ピン４ｂと支持ピン４ｂとの間に、基板１１の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口４ｃが設けられている点のみである。図４において気体噴出口４ｃは各薄膜形成領域Ｆの中央部、即ち、格子状に配置された４つの支持ピン４ｂの中央部に配置されている。前述のように支持ピン４ｂによって基板１１を支持する構成では、支持ピン４ｂによって支持されない部分の基板が撓み、この撓んだ部分に膜厚ムラが生じる場合がある。本例では、この支持ピン４ｂに支持されない部分を気体の噴射圧力によって浮かせるので、このような膜厚ムラが生じることはない。なお、この例では、気体噴出口４ｃから噴射する気体の温度は、乾燥工程における乾燥温度（即ち、サーマルチャンバ内の温度）と略等しい温度に設定することが望ましい。こうすることで、基板１１を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱することができ、より乾燥ムラの少ない薄膜が得られるようになる。
【００２６】
以上説明したように、本実施形態では、基板１１の吸着位置を薄膜の形成領域Ｆを避けた位置に設けているので、乾燥ムラのない均一な膜を形成することができる。
【００２７】
次に、本発明の薄膜形成方法の適用例について説明する。ここでは、本発明をカラーフィルタや有機ＥＬ装置等のデバイスの製造方法に適用した例について説明する。
まず、図５を用いて、本発明をカラーフィルタの構成要素となる膜の形成方法に適用した例について説明する。図５は基板Ｐ上に形成されるカラーフィルタを示す図であり、図６はカラーフィルタの製造手順を示す図である。図５に示すように、本例では長方形形状の基板Ｐ上に生産性を向上させる観点から複数個のカラーフィルタ領域２５１をマトリクス状に形成する。これらカラーフィルタ領域２５１は、後で基板Ｐを切断することにより、液晶表示装置に適合するカラーフィルタとして用いることができる。カラーフィルタ領域２５１は、Ｒ（赤）の液状体組成物、Ｇ（緑）の液状体組成物、及びＢ（青）の液状体組成物をそれぞれ所定のパターン、本例では従来公知のストライプ型で形成される。なお、この形成パターンとしては、ストライプ型の他に、モザイク型、デルタ型、あるいはスクウェア型などでもよい。そして、ＲＧＢそれぞれの液状体組成物には上述した界面活性剤が添加されている。
【００２８】
このようなカラーフィルタ領域２５１を形成するには、まず図６（ａ）に示すように透明の基板Ｐの一方の面に対し、バンク２５２が形成される。このバンク２５２の形成方法は、スピンコート後に露光、現像する。バンク２５２は平面視格子状に形成され、格子で囲まれるバンク内部にインクが配置される。このとき、バンク２５２は撥液性を有することが好ましい。また、バンク２５２はブラックマトリクスとして機能することが好ましい。次に、図６（ｂ）に示すように、前記液滴吐出ヘッドから液状体組成物の液滴２５４が吐出され、フィルタエレメント２５３に着弾する。吐出する液滴２５４の量については、加熱工程における液状体組成物の体積減少を考慮した十分な量とする。このようにして基板Ｐ上の全てのフィルタエレメント２５３に液滴２５４を充填したら、ヒータを用いて基板Ｐが所定の温度（例えば７０℃程度）となるように加熱処理される。この加熱処理により、液状体組成物の溶媒が蒸発して液状体組成物の体積が減少する。この体積現状の激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるまで、液滴吐出工程と加熱工程とを繰り返す。この処理により、液状体組成物に含まれる溶媒が蒸発して、最終的に液状体組成物に含まれる固形分のみが残留して膜化し、図６（ｃ）に示すようなカラーフィルタ２５５となる。次いで、基板Ｐを平坦化し、且つカラーフィルタ２５５を保護するために、図６（ｄ）に示すようにカラーフィルタ２５５やバンク２５２を覆って基板Ｐ上に保護膜２５６を形成する。この保護膜２５６の形成にあたっては、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法などの方法を採用することができるが、カラーフィルタ２５５と同様に、液滴吐出法により行うこともできる。次いで、図６（ｅ）に示すようにこの保護膜２５６の全面に、必要に応じて、スパッタ法や真空蒸着法などによって透明導電膜２５７を形成する。その後、透明導電膜２５７をパターニングし、図６（ｆ）に示すように画素電極２５８をフィルタエレメント２５３に対応させてパターニングする。なお、液晶表示パネルの駆動にＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いる場合には、このパターニングは不用となる。
以上により、カラーフィルタが製造される。
【００２９】
次に、図７，図８を用いて、本発明を有機ＥＬ装置の製造方法に適用した例について説明する。なお、図７，図８には、説明を簡略化するために単一の画素についてのみが図示されている。
まず、図７（ａ）に示すように、有機ＥＬ素子を駆動するための駆動回路を備えた基板Ｐを用意する。図７（ａ）において、符号６４３は画素駆動素子としてのＴＦＴ、６４３Ａはゲート電極、６４３ａはソース領域、６４３ｂはドレイン領域、６４３ｃはチャネル領域、７２０はゲート絶縁膜、７３０は層間絶縁膜、７３６，７３８はコンタクトホール、６３２は信号線、６３３は共通給電線、６４１は画素電極、７４０は層間絶縁膜をそれぞれ示している。ここで、信号線６３２及び共通給電線６３３、さらには走査線（図示せず）に挟まれた部分が、後述の正孔注入層や発光層の形成場所となる。
【００３０】
次に、この基板Ｐに対して、前記の形成場所を囲むようにバンク６５０が形成される。このバンク６５０は仕切部材として機能するものであり、例えばポリイミド等の絶縁性有機材料で形成するのが好ましい。また、バンク６５０は、液滴吐出ヘッドから吐出される液状体組成物に対して非親和性を示すものが好ましい。バンク６５０に非親和性を発現させるためには、例えばバンク６５０の表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばＣＦ４、ＳＦ５、ＣＨＦ３などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。そして、このような構成のもとに、正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲のバンク６５０との間に、十分な高さの段差６１１が形成される。次いで、図７（ｂ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で、正孔注入層形成用材料を含む液状体組成物（液滴）６１４Ａが液滴吐出ヘッドによりバンク６５０に囲まれた塗布位置、すなわちバンク６５０内に選択的に塗布される。次いで、図７（ｃ）に示すように加熱あるいは光照射により液状体組成物６１４Ａの溶媒を蒸発させて、画素電極６４１上に、固形の正孔注入層６４０Ａが形成される。
【００３１】
次いで、図８（ａ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で、液滴吐出ヘッドより、発光層形成用材料（発光材料）を含む液状体組成物６１４Ｂがバンク６５０内の正孔注入層６４０Ａ上に選択的に塗布される。発光層形成用材料を含む液状体組成物（液滴）６１４Ｂを液滴吐出ヘッドから吐出すると、液状体組成物６１４Ｂはバンク６５０内の正孔注入層６４０Ａ上に塗布される。ここで、液状体組成物６１４Ｂの吐出による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物、緑色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物、青色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物を、それぞれ対応する画素に吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。このようにして各色の発光層形成用材料を含む液状体組成物６１４Ｂを吐出し塗布したら、液状体組成物６１４Ｂ中の溶媒を蒸発させることにより、図８（ｂ）に示すように正孔層注入層６４０Ａ上に固形の発光層６４０Ｂが形成され、これにより正孔層注入層６４０Ａと発光層６４０Ｂとからなる発光部６４０が得られる。その後、図８（ｃ）に示すように、透明基板Ｐの表面全体に、あるいはストライプ状に反射電極６５４が形成される。
以上により、有機ＥＬ素子が製造される。
【００３２】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明のステージ装置の一例である液滴吐出装置の概略斜視図。
【図２】液滴吐出装置に備えられる載置台の構成を示す模式図。
【図３】載置台の他の構成例を示す模式図。
【図４】載置台の更に他の構成例を示す模式図。
【図５】本発明のデバイスの一例であるカラーフィルタの模式図。
【図６】カラーフィルタの製造方法を説明するための工程図。
【図７】デバイスの一例である有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための工程図。
【図８】図７に続く工程図。
【符号の説明】
【００３４】
４…載置台、４ａ…吸着穴、４ｂ…支持ピン、４ｃ…気体噴出口、１０…液滴吐出ヘッド、１１，Ｐ…基板、１００…液滴吐出装置（ステージ装置）、２５４，６１４Ａ，６１４Ｂ…液滴、Ｆ…薄膜形成領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成方法、デバイスの製造方法、ステージ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラーフィルタを始めとする機能層の形成方法として、インクジェット装置を用いる方法が提案されている。当該インクジェット装置においては、例えば、赤、緑、青の各色素の液滴が充填されたインクジェットヘッドをスキャンしながら、ガラス基板上に各液滴を吐出することにより、容易にカラーフィルタを製造することが可能となる。また、インクジェット装置及びインクジェット方法の応用範囲は、カラーフィルタの製造工程だけでなく、金属材料を含む液体を所定パターンで描画して金属配線を形成する工程や、発光材料や正孔注入材料を含む液体材料を描画して画素を形成する工程においても利用可能である。即ち、インクジェット装置は、分散液や溶液に対して分散又は溶解する機能性材料であれば各種機能層の製造工程に適用可能である。
ところで、インクジェット装置を用いた成膜工程においては、膜ムラの防止や着弾精度を向上するために、液体材料の描画工程や乾燥工程は基板をステージ上に吸着して撓みのない状態で行なう。しかし、このように基板を真空吸着すると、液体材料を乾燥させたときに、真空吸着している部分としていない部分との間で乾燥膜の膜厚に不均一性が生じることがある。この原因としては、基板を真空吸着したときの基板の局所的な撓み等が考えられる。特許文献１では、この対策として、基板とステージの間に中が空洞で空気を送り込める構造の軟質ゴムを挟み、導入空気を調節することによって、吸着に伴う基板の撓みを補正する方法を提案している。
【特許文献１】特開２０００−２２３３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、この方法では、基板に塗布する溶剤が基板の裏面に回り込むことでゴムの溶出が発生し、歩留まりの低下を招く虞がある。また、均一な薄膜を形成するために、導入空気の温度を管理する必要があり制御が煩雑になる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出法を用いた薄膜形成工程において、基板をステージに吸着した状態で乾燥処理を行なう場合に生じる乾燥ムラの発生を防止することのできる薄膜形成方法、デバイスの製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、このような薄膜形成工程に用いて好適なステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を解決するため、本発明の薄膜形成方法は、機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成方法であって、前記液滴の乾燥工程が、前記基板の前記液滴の配置領域以外の領域を吸着して前記基板をステージ装置に保持した状態で行なわれることを特徴とする。
本方法では、基板を液滴の配置領域（即ち、薄膜の形成領域）を避けた位置で吸着するので、仮に吸着位置が局所的に撓んだとしても、これによって薄膜の乾燥状態にムラが生じることはない。
【０００５】
本発明の薄膜形成方法では、前記ステージ装置が概ね平坦面に形成された載置台を備え、該載置台の表面に前記基板を吸着するための複数の吸着穴が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記載置台の吸着穴に吸着させた状態で行なわれるものとすることができる。
本方法では、基板を面で支持する構成を採用しているので載置台の構造が簡単になり、又、従来のステージ装置の吸着位置を変更するのみで本発明に対応することができる。
【０００６】
本発明の薄膜形成方法では、前記ステージ装置が、先端に吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられた載置台を備え、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記支持ピンの吸着穴に吸着させた状態で行なわれるものとすることができる。
この方法では、基板の裏面側を載置台から概ね浮かした状態で保持できるので、基板を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱できるようになる。よって、前述のように基板を面で支持する構成に比べて、基板の温度分布が少なくなり、乾燥ムラをより少なくすることができる。
【０００７】
本発明の薄膜形成方法では、前記載置台の支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記気体噴出口から前記基板の裏面側に気体を吹き付け、該気体の押圧力によって前記基板の前記支持ピンによって支持されない部分を支持しながら行なわれるものとすることができる。
前述のように支持ピンによって基板を支持する構成では、支持ピンによって支持されない部分の基板が撓み、この撓んだ部分に膜厚ムラが生じる場合がある。本方法では、この支持ピンに支持されない部分を気体の噴射圧力によって浮かせるので、このような膜厚ムラが生じることはない。
【０００８】
本発明の薄膜形成方法では、前記気体の温度が前記乾燥工程における乾燥温度と略同じ温度に設定されているものとすることができる。
こうすることで、基板を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱することができる。
【０００９】
本発明のデバイスの製造方法は、薄膜の形成工程を含むデバイスの製造方法であって、前記薄膜が前述した本発明の薄膜形成方法により形成されたことを特徴とする。
これにより、デバイスの高品質化を図ることができる。
【００１０】
本発明のステージ装置は、機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成工程において、前記基板上に配置された前記液滴を乾燥する際に前記基板を吸着保持するために用いられるステージ装置であって、前記基板を吸着するための吸着穴が形成された載置台を備え、前記吸着穴が前記基板の薄膜形成領域以外の領域に配置されていることを特徴とする。
このステージ装置では、基板の吸着位置が液滴の配置領域（即ち、薄膜形成領域）を避ける位置に設けられているので、乾燥ムラのない均一な膜を形成することができる。
【００１１】
本発明のステージ装置では、前記載置台が略平坦面に形成されているものとすることができる。
本発明では、基板を面で支持する構成を採用しているので載置台の構造が簡単になり、又、従来のステージ装置の吸着位置を変更するのみで本発明に対応することができる。
【００１２】
本発明のステージ装置では、前記載置台に、先端に前記吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられ、該複数の支持ピンによって前記基板を支持するように構成されたものとすることができる。
本発明では、基板の裏面側を載置台から概ね浮かした状態で保持できるので、基板を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱できるようになる。よって、前述のように基板を面で支持する構成に比べて、基板の温度分布が少なくなり、乾燥ムラをより少なくすることができる。
【００１３】
本発明のステージ装置では、前記載置台の前記支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられているものとすることができる。
前述のように支持ピンによって基板を支持する構成では、支持ピンによって支持されない部分の基板が撓み、この撓んだ部分に膜厚ムラが生じる場合がある。本発明では、この支持ピンに支持されない部分を気体の噴射圧力によって浮かせるので、このような膜厚ムラが生じることはない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
図１は、本発明の薄膜形成方法に用いる液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図である。本発明の薄膜形成方法は、機能性材料を含む液体材料を液滴として基板１１上に配置し、該液滴を乾燥して膜化することによって薄膜を形成するものである。本実施形態では、この液滴の配置工程（液滴吐出工程）を、図１の液滴吐出装置１００を用いて行なう。
【００１５】
図１に示すように、液滴吐出装置１００は、液滴吐出ヘッド１０、液滴吐出ヘッド１０をＸ方向に駆動するためのＸ方向ガイド軸２、Ｘ方向ガイド軸２を回転させるＸ方向駆動モータ３、基板１１を載置するための載置台４、載置台４をＹ方向に駆動するためのＹ方向ガイド軸５、Ｙ方向ガイド軸５を回転させるＹ方向駆動モータ６、クリーニング機構部１４、及びこれらを統括的に制御する制御装置８等を備えている。Ｘ方向ガイド軸２及びＹ方向ガイド軸５はそれぞれ、基台７上に固定されている。なお、図１では、液滴吐出ヘッド１０は、基板１１の進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド１０の角度を調整し、基板１１の進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド１０の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することができる。また、基板１１とノズル面との距離を任意に調節できるようにしてもよい。
【００１６】
液滴吐出ヘッド１０は、機能性材料を含有する分散液からなる液体材料をノズル（吐出口）から吐出するものであり、Ｘ方向ガイド軸２に固定されている。ここで、機能性材料とは、膜化したときに所定の機能を発揮する材料の総称であり、係る機能としては、電気・電子的機能（導電性、絶縁性、圧電性、焦電性、誘電性等）、光学的機能（光選択吸収、反射性、偏光性、光選択透過性、非線形光学性、蛍光あるいはリン光等のルミネッセンス、フォトクロミック性等）、磁気的機能（硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等）、化学的機能（吸着性、脱着性、触媒性、吸水性、イオン伝導性、酸化還元性、電気化学特性、エレクトロクロミック性等）、機械的機能（耐摩耗性等）、熱的機能（伝熱性、断熱性、赤外線放射性等）、生体的機能（生体適合性、抗血栓性等）等の種々の機能がある。本実施形態では、主にカラーフィルタの顔料や有機ＥＬ材料等の表示デバイス用の材料を想定しているが、これに限定されない。
【００１７】
Ｘ方向駆動モータ３は、ステッピングモータ等であり、制御装置８からＸ軸方向の駆動パルス信号が供給されると、Ｘ方向ガイド軸２を回転させる。Ｘ方向ガイド軸２の回転により、液滴吐出ヘッド１０が基台７に対してＸ軸方向に移動する。
【００１８】
液体吐出方式としては、圧電体素子であるピエゾ素子を用いてインクを吐出させるピエゾ方式、液体材料を加熱し発生した泡（バブル）により液体材料を吐出させるバブル方式など、公知の様々な技術を適用できる。このうち、ピエゾ方式は、液体材料に熱を加えないため、材料の組成等に影響を与えないという利点を有する。なお、本例では、液体材料選択の自由度の高さ、及び液滴の制御性の良さの点から上記ピエゾ方式を用いる。
【００１９】
載置台４はＹ方向ガイド軸５に固定され、Ｙ方向ガイド軸５には、Ｙ方向駆動モータ６、１６が接続されている。この載置台４には、真空吸着装置等の公知の吸着機構が設けられており、基板１１を所定の位置に位置決めした状態で固定できるようになっている。Ｙ方向駆動モータ６、１６は、ステッピングモータ等であり、制御装置８からＹ軸方向の駆動パルス信号が供給されると、Ｙ方向ガイド軸５を回転させる。Ｙ方向ガイド軸５の回転により、載置台４が基台７に対してＹ軸方向に移動する。
クリーニング機構部１４は、液滴吐出ヘッド１０をクリーニングし、ノズルの目詰まりなどを防ぐものである。クリーニング機構部１４は、上記クリーニング時において、Ｙ方向の駆動モータ１６によってＹ方向ガイド軸５に沿って移動する。
【００２０】
このように構成された液滴吐出装置１００は、サーマルチャンバ等の乾燥装置の中に設置されており、載置台４に基板を保持したまま、液滴の配置工程と液滴の乾燥工程とを連続して行なうことができるようになっている。すなわち、本実施形態では、液滴吐出装置１００は本発明のステージ装置を兼ねるものとなっている。
【００２１】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１００による薄膜形成方法について説明する。
本実施形態の液滴吐出装置１００では、まず、基板１１を所定の位置に位置決めした状態で載置台４に吸着し、固定する。次に、液滴吐出ヘッド１０から液体材料を吐出しながら、Ｘ方向駆動モータ３及び／又はＹ方向駆動モータ６を介して、基板１１と液滴吐出ヘッド１０とを相対移動させることにより、基板１１上に液体材料を配置する。液滴吐出ヘッド１０の各ノズルからの液滴の吐出量は、制御装置８から上記ピエゾ素子に供給される電圧によって制御される。また、基板１１上に配置される液滴のピッチは、上記相対移動の速度、及び液滴吐出ヘッド１０からの吐出周波数（ピエゾ素子への駆動電圧の周波数）によって制御される。また、基板１１上に液滴を開始する位置は、上記相対移動の方向、及び上記相対移動時における液滴吐出ヘッド１０からの液滴の吐出開始のタイミング制御等によって制御される。次に、基板１１を載置台４に吸着させたまま、サーマルチャンバ（乾燥装置）内で乾燥し、表面に配置された液体材料を膜化する。サーマルチャンバ内の温度は、基板１１に温度分布が生じないように管理されるものとする。
以上により、基板１１上に機能性材料からなる薄膜のパターンが形成される。
【００２２】
ところで、本実施形態では、基板１１を載置台４に吸着させた状態で乾燥工程を行なうため、基板１１の吸着された部分と吸着されない部分との間で温度分布が生じ、基板面内に乾燥ムラが生じることがある。そこで、本実施形態では、載置台４による基板１１の吸着位置を薄膜の形成領域、即ち、液滴の配置領域に対して平面的に重ならない領域に設置し、基板１１を載置台４に設置する際に、基板１１の吸着位置と薄膜の形成領域とが重ならないように正確に位置決めするようにしている。
【００２３】
図２は、載置台４の構成の一例を示す断面模式図（図２（ａ））及び平面模式図（図２（ｂ））図である。本例では、薄膜形成領域Ｆに形成される膜としてカラーフィルタや有機ＥＬ発光層等を想定しており、薄膜形成領域Ｆは画素配列に対応して基板１１上にマトリクス状に配置されている。図２の載置台４は表面が略平坦面に形成されており、この平坦面全体で基板１１を支持する構造となっている。この載置台４の表面には、薄膜形成領域Ｆの配置されない領域、即ち、非画素領域に対応する位置に前述の吸着穴４ａが格子状に多数配置されている。
【００２４】
図３は、載置台４の他の構成例を示す図である。本例の載置台において図２の載置台４と異なる点は、載置台４の表面に、先端に吸着穴４ａが形成された多数の突起状の支持ピン４ｂが設けられ、基板１１がこの支持ピン４ｂの先端に吸着保持されている点のみである。吸着穴４ａ（即ち、支持ピン４ｂの位置）と薄膜形成領域Ｆとの位置関係は前述の図２と同様である。この構成では、載置台４に突起構造を形成するので構造は複雑になるが、基板１１の裏面側を載置台４から概ね浮かした状態で保持できるので、基板１１を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱できるようになる。よって、図２のように基板１１を面で支持する構成に比べて、基板１１の温度分布が少なくなり、乾燥ムラをより少なくすることができる。なお、この構造では、基板１１になるべく温度分布を生じさせないようにするという観点からは、支持ピン４ｂと基板１１との接触面積はなるべく少ない方が好ましいが、このように接触面積を小さくしてしまうと、液滴の配置工程（描画工程）において基板１１が設置位置からずれてしまうことがある。このため、本構成においては、このようなずれを防止するために、支持ピン４ｂの先端にゴム等の滑り止めを設けることが好ましい。この場合、滑り止めの材料としては耐溶剤性を有するものを用いる。
【００２５】
図４は、載置台４の更に他の構成例を示す図である。本例の載置台において図３の載置台と異なる点は、支持ピン４ｂと支持ピン４ｂとの間に、基板１１の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口４ｃが設けられている点のみである。図４において気体噴出口４ｃは各薄膜形成領域Ｆの中央部、即ち、格子状に配置された４つの支持ピン４ｂの中央部に配置されている。前述のように支持ピン４ｂによって基板１１を支持する構成では、支持ピン４ｂによって支持されない部分の基板が撓み、この撓んだ部分に膜厚ムラが生じる場合がある。本例では、この支持ピン４ｂに支持されない部分を気体の噴射圧力によって浮かせるので、このような膜厚ムラが生じることはない。なお、この例では、気体噴出口４ｃから噴射する気体の温度は、乾燥工程における乾燥温度（即ち、サーマルチャンバ内の温度）と略等しい温度に設定することが望ましい。こうすることで、基板１１を表面側及び裏面側の両面側から均一に加熱することができ、より乾燥ムラの少ない薄膜が得られるようになる。
【００２６】
以上説明したように、本実施形態では、基板１１の吸着位置を薄膜の形成領域Ｆを避けた位置に設けているので、乾燥ムラのない均一な膜を形成することができる。
【００２７】
次に、本発明の薄膜形成方法の適用例について説明する。ここでは、本発明をカラーフィルタや有機ＥＬ装置等のデバイスの製造方法に適用した例について説明する。
まず、図５を用いて、本発明をカラーフィルタの構成要素となる膜の形成方法に適用した例について説明する。図５は基板Ｐ上に形成されるカラーフィルタを示す図であり、図６はカラーフィルタの製造手順を示す図である。図５に示すように、本例では長方形形状の基板Ｐ上に生産性を向上させる観点から複数個のカラーフィルタ領域２５１をマトリクス状に形成する。これらカラーフィルタ領域２５１は、後で基板Ｐを切断することにより、液晶表示装置に適合するカラーフィルタとして用いることができる。カラーフィルタ領域２５１は、Ｒ（赤）の液状体組成物、Ｇ（緑）の液状体組成物、及びＢ（青）の液状体組成物をそれぞれ所定のパターン、本例では従来公知のストライプ型で形成される。なお、この形成パターンとしては、ストライプ型の他に、モザイク型、デルタ型、あるいはスクウェア型などでもよい。そして、ＲＧＢそれぞれの液状体組成物には上述した界面活性剤が添加されている。
【００２８】
このようなカラーフィルタ領域２５１を形成するには、まず図６（ａ）に示すように透明の基板Ｐの一方の面に対し、バンク２５２が形成される。このバンク２５２の形成方法は、スピンコート後に露光、現像する。バンク２５２は平面視格子状に形成され、格子で囲まれるバンク内部にインクが配置される。このとき、バンク２５２は撥液性を有することが好ましい。また、バンク２５２はブラックマトリクスとして機能することが好ましい。次に、図６（ｂ）に示すように、前記液滴吐出ヘッドから液状体組成物の液滴２５４が吐出され、フィルタエレメント２５３に着弾する。吐出する液滴２５４の量については、加熱工程における液状体組成物の体積減少を考慮した十分な量とする。このようにして基板Ｐ上の全てのフィルタエレメント２５３に液滴２５４を充填したら、ヒータを用いて基板Ｐが所定の温度（例えば７０℃程度）となるように加熱処理される。この加熱処理により、液状体組成物の溶媒が蒸発して液状体組成物の体積が減少する。この体積現状の激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるまで、液滴吐出工程と加熱工程とを繰り返す。この処理により、液状体組成物に含まれる溶媒が蒸発して、最終的に液状体組成物に含まれる固形分のみが残留して膜化し、図６（ｃ）に示すようなカラーフィルタ２５５となる。次いで、基板Ｐを平坦化し、且つカラーフィルタ２５５を保護するために、図６（ｄ）に示すようにカラーフィルタ２５５やバンク２５２を覆って基板Ｐ上に保護膜２５６を形成する。この保護膜２５６の形成にあたっては、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法などの方法を採用することができるが、カラーフィルタ２５５と同様に、液滴吐出法により行うこともできる。次いで、図６（ｅ）に示すようにこの保護膜２５６の全面に、必要に応じて、スパッタ法や真空蒸着法などによって透明導電膜２５７を形成する。その後、透明導電膜２５７をパターニングし、図６（ｆ）に示すように画素電極２５８をフィルタエレメント２５３に対応させてパターニングする。なお、液晶表示パネルの駆動にＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いる場合には、このパターニングは不用となる。
以上により、カラーフィルタが製造される。
【００２９】
次に、図７，図８を用いて、本発明を有機ＥＬ装置の製造方法に適用した例について説明する。なお、図７，図８には、説明を簡略化するために単一の画素についてのみが図示されている。
まず、図７（ａ）に示すように、有機ＥＬ素子を駆動するための駆動回路を備えた基板Ｐを用意する。図７（ａ）において、符号６４３は画素駆動素子としてのＴＦＴ、６４３Ａはゲート電極、６４３ａはソース領域、６４３ｂはドレイン領域、６４３ｃはチャネル領域、７２０はゲート絶縁膜、７３０は層間絶縁膜、７３６，７３８はコンタクトホール、６３２は信号線、６３３は共通給電線、６４１は画素電極、７４０は層間絶縁膜をそれぞれ示している。ここで、信号線６３２及び共通給電線６３３、さらには走査線（図示せず）に挟まれた部分が、後述の正孔注入層や発光層の形成場所となる。
【００３０】
次に、この基板Ｐに対して、前記の形成場所を囲むようにバンク６５０が形成される。このバンク６５０は仕切部材として機能するものであり、例えばポリイミド等の絶縁性有機材料で形成するのが好ましい。また、バンク６５０は、液滴吐出ヘッドから吐出される液状体組成物に対して非親和性を示すものが好ましい。バンク６５０に非親和性を発現させるためには、例えばバンク６５０の表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばＣＦ４、ＳＦ５、ＣＨＦ３などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。そして、このような構成のもとに、正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲のバンク６５０との間に、十分な高さの段差６１１が形成される。次いで、図７（ｂ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で、正孔注入層形成用材料を含む液状体組成物（液滴）６１４Ａが液滴吐出ヘッドによりバンク６５０に囲まれた塗布位置、すなわちバンク６５０内に選択的に塗布される。次いで、図７（ｃ）に示すように加熱あるいは光照射により液状体組成物６１４Ａの溶媒を蒸発させて、画素電極６４１上に、固形の正孔注入層６４０Ａが形成される。
【００３１】
次いで、図８（ａ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で、液滴吐出ヘッドより、発光層形成用材料（発光材料）を含む液状体組成物６１４Ｂがバンク６５０内の正孔注入層６４０Ａ上に選択的に塗布される。発光層形成用材料を含む液状体組成物（液滴）６１４Ｂを液滴吐出ヘッドから吐出すると、液状体組成物６１４Ｂはバンク６５０内の正孔注入層６４０Ａ上に塗布される。ここで、液状体組成物６１４Ｂの吐出による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物、緑色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物、青色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物を、それぞれ対応する画素に吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。このようにして各色の発光層形成用材料を含む液状体組成物６１４Ｂを吐出し塗布したら、液状体組成物６１４Ｂ中の溶媒を蒸発させることにより、図８（ｂ）に示すように正孔層注入層６４０Ａ上に固形の発光層６４０Ｂが形成され、これにより正孔層注入層６４０Ａと発光層６４０Ｂとからなる発光部６４０が得られる。その後、図８（ｃ）に示すように、透明基板Ｐの表面全体に、あるいはストライプ状に反射電極６５４が形成される。
以上により、有機ＥＬ素子が製造される。
【００３２】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明のステージ装置の一例である液滴吐出装置の概略斜視図。
【図２】液滴吐出装置に備えられる載置台の構成を示す模式図。
【図３】載置台の他の構成例を示す模式図。
【図４】載置台の更に他の構成例を示す模式図。
【図５】本発明のデバイスの一例であるカラーフィルタの模式図。
【図６】カラーフィルタの製造方法を説明するための工程図。
【図７】デバイスの一例である有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための工程図。
【図８】図７に続く工程図。
【符号の説明】
【００３４】
４…載置台、４ａ…吸着穴、４ｂ…支持ピン、４ｃ…気体噴出口、１０…液滴吐出ヘッド、１１，Ｐ…基板、１００…液滴吐出装置（ステージ装置）、２５４，６１４Ａ，６１４Ｂ…液滴、Ｆ…薄膜形成領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成方法であって、
前記液滴の乾燥工程が、前記基板の前記液滴の配置領域以外の領域を吸着して前記基板をステージ装置に保持した状態で行なわれることを特徴とする、薄膜形成方法。
【請求項２】
前記ステージ装置が概ね平坦面に形成された載置台を備え、該載置台の表面に前記基板を吸着するための複数の吸着穴が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記載置台の吸着穴に吸着させた状態で行なわれることを特徴とする、請求項１記載の薄膜形成方法。
【請求項３】
前記ステージ装置が、先端に吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられた載置台を備え、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記支持ピンの吸着穴に吸着させた状態で行なわれることを特徴とする、請求項１記載の薄膜形成方法。
【請求項４】
前記載置台の支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記気体噴出口から前記基板の裏面側に気体を吹き付け、該気体の押圧力によって前記基板の前記支持ピンによって支持されない部分を支持しながら行なわれることを特徴とする、請求項３記載の薄膜形成方法。
【請求項５】
前記気体の温度が前記乾燥工程における乾燥温度と略同じ温度に設定されていることを特徴とする、請求項４記載の薄膜形成方法。
【請求項６】
薄膜の形成工程を含むデバイスの製造方法であって、前記薄膜が請求項１〜５のいずれかの項に記載の方法により形成されたことを特徴とする、デバイスの製造方法。
【請求項７】
機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成工程において、前記基板上に配置された前記液滴を乾燥する際に前記基板を吸着保持するために用いられるステージ装置であって、
前記基板を吸着するための吸着穴が形成された載置台を備え、前記吸着穴が前記基板の薄膜形成領域以外の領域に配置されていることを特徴とする、ステージ装置。
【請求項８】
前記載置台が略平坦面に形成されていることを特徴とする、請求項７記載のステージ装置。
【請求項９】
前記載置台に、先端に前記吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられ、該複数の支持ピンによって前記基板を支持するように構成されたことを特徴とする、請求項７記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記載置台の前記支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられていることを特徴とする、請求項９記載のステージ装置。
【請求項１】
機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成方法であって、
前記液滴の乾燥工程が、前記基板の前記液滴の配置領域以外の領域を吸着して前記基板をステージ装置に保持した状態で行なわれることを特徴とする、薄膜形成方法。
【請求項２】
前記ステージ装置が概ね平坦面に形成された載置台を備え、該載置台の表面に前記基板を吸着するための複数の吸着穴が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記載置台の吸着穴に吸着させた状態で行なわれることを特徴とする、請求項１記載の薄膜形成方法。
【請求項３】
前記ステージ装置が、先端に吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられた載置台を備え、前記液滴の乾燥工程が、前記基板を前記支持ピンの吸着穴に吸着させた状態で行なわれることを特徴とする、請求項１記載の薄膜形成方法。
【請求項４】
前記載置台の支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられており、前記液滴の乾燥工程が、前記気体噴出口から前記基板の裏面側に気体を吹き付け、該気体の押圧力によって前記基板の前記支持ピンによって支持されない部分を支持しながら行なわれることを特徴とする、請求項３記載の薄膜形成方法。
【請求項５】
前記気体の温度が前記乾燥工程における乾燥温度と略同じ温度に設定されていることを特徴とする、請求項４記載の薄膜形成方法。
【請求項６】
薄膜の形成工程を含むデバイスの製造方法であって、前記薄膜が請求項１〜５のいずれかの項に記載の方法により形成されたことを特徴とする、デバイスの製造方法。
【請求項７】
機能性材料を含む液体材料を液滴として基板上に配置し、該液滴を乾燥して膜化する工程を含む薄膜の形成工程において、前記基板上に配置された前記液滴を乾燥する際に前記基板を吸着保持するために用いられるステージ装置であって、
前記基板を吸着するための吸着穴が形成された載置台を備え、前記吸着穴が前記基板の薄膜形成領域以外の領域に配置されていることを特徴とする、ステージ装置。
【請求項８】
前記載置台が略平坦面に形成されていることを特徴とする、請求項７記載のステージ装置。
【請求項９】
前記載置台に、先端に前記吸着穴が形成された複数の突起状の支持ピンが設けられ、該複数の支持ピンによって前記基板を支持するように構成されたことを特徴とする、請求項７記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記載置台の前記支持ピンと支持ピンとの間に、前記基板の裏面側に向けて気体を噴出する気体噴出口が設けられていることを特徴とする、請求項９記載のステージ装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００６−２６５２１（Ｐ２００６−２６５２１Ａ）
【公開日】平成１８年２月２日（２００６．２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２０８５１５（Ｐ２００４−２０８５１５）
【出願日】平成１６年７月１５日（２００４．７．１５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２日（２００６．２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年７月１５日（２００４．７．１５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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