【課題】 加圧力の低いチップ部品の実装であっても基板ステージとボンディングツールの平行度を高精度に短時間で調整できる、実装装置の平行度調整方法および平行度調整装置を提供すること。
【解決手段】 ボンディングツール面もしくは基板ステージ面の傾斜を変化させる平行度調整部と、平行度調整部を駆動する駆動手段とを備え、ボンディングツールの高さ位置を検出する高さ検出手段を備え、ボンディングツールを所定圧で、基板ステージに押し付ける工程と、駆動手段が平行度調整部の傾斜を変化させる工程と、平行度調整部の傾斜を変化させている間の、ボンディングツールの高さ検知手段の情報から、ボンディングツールの最下点の位置を求める工程と、ボンディングツールが最下点になった際の平行度調整部の傾斜位置を保持する工程とからなる実装装置の平行度調整方法および平行度調整装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 大容量のリチウム２次電池の製造に対応でき、従来の製造装置よりも生産性がアップしたリチウム２次電池の製造方法と製造装置を提供すること。
【解決手段】 電極板の仕切りに用いられる連続セパレータに、複数の正極板と負極板から構成される電極板を電極板毎に所定の間隔を保持し、前記電極板に設けられたタブが前記連続セパレータの外側になるように配置し、他方の電極板の仕切りに用いられる連続セパレータを、前記電極板が配置された連続セパレータに重ね合わせて、前記電極板の周囲の連続セパレータ同士を加熱溶融により貼り合わせて接着し、正極板と負極板が連続セパレータを介して交互に重なり合うように積層状に収納する。 （もっと読む）

【課題】不活性ガスの供給流量にばらつきが生じてもチャンバー内を圧力を安定して保つことができ、初期動作時、不活性ガスの供給流量を増やして不活性ガス化に必要な時間を短縮させることができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板に対し所定の処理を行う基板処理部と、前記基板処理部を密封状態に収容するチャンバーと、チャンバー内に不活性ガスを供給するガス供給部と、チャンバー内のガスを排気するガス排気部と、を備えており、前記チャンバー内の圧力がチャンバー外の圧力よりも高いチャンバー設定圧力になるように、前記ガス供給部の不活性ガスの供給流量と前記ガス排気部の排気流量とが調整される構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面に回路パターンが存在しても、基板表面の平面度を確保して吸着保持を行うことができる基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持面を有するステージと、ステージの基板保持面に配置され、裏面に回路パターンを有する基板を支持するブロックユニットと、を備える基板保持装置であり、ブロックユニットは、基板保持面上の所定位置に配置変更可能に設けられる１以上のブロック部を有し、ブロック部の少なくとも１つには、基板と当接する部分に基板の裏面を吸着させる吸着機構が設けられ、ステージの基板保持面に基板の回路パターンを避けるように配置されたブロック部の基板当接部に基板の裏面が載置された状態で、基板当接部の吸着機構により基板の裏面が吸着されることにより、基板がステージ上に吸着保持される構成とする。 （もっと読む）

【課題】所望の形状のマイクロニードルが構成されたマイクロニードルシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロニードルシート４２は、中央部Ａｃ”と、当該中央部Ａｃ”を取り囲む側周部Ａｄ”と、側周部Ａｄ”を取り囲む外縁部Ａｏ”とを含むシート状の基材２７と、中央部Ａｃ”より第１の所定長だけ延在する所定数のニードル２８と、側周部Ａｄ”より第１の所定長より短い長さだけ延在する１つ以上の突起Ｐとを備える。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されることを抑えることができる加熱乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板を保持するステージユニットと、前記基板温度を調節するヒータユニットと、を備える加熱乾燥装置であって、前記ステージユニットは、超音波を発生させる超音波発生部と、該超音波を受けて振動する振動板部とを有し、前記振動板部は、縦および横方向の長さは、前記基板の縦および横方向の長さより長く、前記ヒータユニットを内蔵しており、前記振動板部を振動させることで、該振動板部の上部に位置する前記基板を該振動板部の表面から所定の高さだけ浮上した状態で保持し、且つその状態において前記ヒータユニットを加温して該振動板部を所定の温度まで加熱することにより、前記基板を加熱乾燥させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】ウエブ自体に長手方向における湾曲や、部分的な弛み等の癖が存在する場合にあっても、それらに起因する塗布むらの発生を防止し、塗液を薄膜で均一に塗布することが可能なウエブ塗工装置を提供する。
【解決手段】走行中のウエブの表面に、該ウエブの幅方向に延びる塗液供給手段のスリット状吐出口から吐出される所定の塗液を連続的または間欠的に塗布していくウエブ塗工装置において、ウエブ走行方向に見てスリット状吐出口の上流側および下流側の少なくとも一方の位置に、一面が走行中のウエブによって形成される加圧室または減圧室を設けるとともに、該加圧室または減圧室を通過中のウエブを、該加圧室または減圧室の内部に対して離反、接近する方向に局所的に変位可能に支持することを特徴とするウエブ塗工装置。 （もっと読む）

【課題】端部からの水分等の浸入を効果的に抑制し、かつより簡素な方法で形成可能な封止構造を提供する。
【解決手段】基板上に配置された電子デバイスを覆う封止構造１は、無機物を主成分とするバッファ層２と；無機物を主成分とし、バッファ層２の密度よりも高い密度を有すると共に、バッファ層２に重ねられたバリア層３と；を含む。封止構造１は、外縁１１を含む傾斜部分１２を備え、傾斜部分１２の厚みは、外縁１１に近づくほど小さくなる。封止構造１の最外面は、バリア層３で覆われている。 （もっと読む）

【課題】塗布ヘッドのノズル面をキャップしてインクの乾燥を防止するとともに、清浄動作を自動化することにより手作業によるノズル面の清浄動作を省くことができるインク乾燥防止装置を提供する。
【解決手段】塗布ヘッドの複数のノズルを配置したノズル面側を覆うキャップトレイと、このキャップトレイを支持するトレイ支持部と、を備えており、キャップトレイには、塗布ヘッドのノズル面に対向する位置に配置されるとともに保存液が湿潤された多孔質体を有するキャップ部が設けられ、塗布ヘッドをキャップトレイに接近させると、塗布ヘッドのノズル面がキャップ部の多孔質体に当接し、さらに塗布ヘッドをキャップトレイに押付けると、キャップトレイが塗布ヘッドから押付力を受けることにより、トレイ支持部が押付方向と直交する方向に変位し、ノズル面に対する多孔質体の当接位置がノズル面に沿って摺動する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 対象物の形状によらず、ライン照明とラインセンサの構成の光学的測定装置を用いて高速かつ高精度に、測定対象物のエッジ周辺部付近まで測定する方法および装置を提供する。
【解決手段】 支持部材により支持された測定対象物の表面に、ライン照明光を照射し、測定対象物の表面からの散乱光あるいは反射光あるいは透過光を結像光学系を介して受光部に結像させて、測定対象物の状態を測定する場合、測定対象物のエッジ周辺部にあたったライン照明光による散乱光あるいは反射光あるいは透過光が受光部に入らないようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）