【課題】基板上の膜厚を測定可能な検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、表面に薄膜が設けられたウェハＷを支持するステージ１０と、ステージ１０に支持されたウェハＷの表面に照明光を照射する照明系２０と、照明光が照射されたウェハＷの表面からの光を検出する撮像装置３５と、撮像装置３５により検出された光の情報から薄膜の膜厚を測定する膜厚算出部５０と、照明光の実際の波長を測定する画像処理部４５とを備え、膜厚算出部５０は、画像処理部４５により測定された照明光の実際の波長を用いて、撮像装置３５により検出された光の情報から膜厚を求める。 （もっと読む）

【課題】振動ミラーを用いて被検面の面位置を検出する際に、計測値のドリフトを小さくして、計測精度を向上させる。
【解決手段】被検面の面位置情報を検出するＡＦ系９０において、検出光ＤＬを被検面に斜めに投射する投射系９０ａと、その被検面で反射される検出光を受光する受光系９０ｂと、投射系９０ａ内で検出光ＤＬを反射する反射面が形成された可動部と、その可動部を支持する１対の支持部とを有する振動ミラー３８と、振動ミラー３８の支持部が固定される保持部材４８と、振動ミラー３８の可動部を振動させる駆動部４９と、受光系９０ｂで得られる検出信号をその可動部の振動に同期して処理する信号処理系２５と、を備える。 （もっと読む）

干渉計（１６）（干渉計システム（１１８））の出力信号（Ｆ_ＩＹ）とエンコーダ（７０Ａ)（エンコーダシステム(１５０)）の出力信号(Ｆ_ＥＹ)とをそれぞれハイパスフィルタ(Ｈ_ｆｃ)とローパスフィルタ(Ｌ_ｆｃ)とを通して合成して得られるハイブリッド信号(Ｆ_ＨＹ)を用いてステージを駆動（位置制御）する。カットオフ周波数(ｆｃ)は、走査露光時におけるステージの速度より僅かに小さい速度に対応する周波数に定められる。これにより、走査露光時には線形計測性の高い干渉計を、ステッピング時には計測再現性の高いエンコーダを、それぞれ用いてステージが駆動される。
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【課題】周期構造の電磁散乱特性の正確な数値計算を迅速に実行する。
【解決手段】構造の電磁散乱特性を計算する体積積分法（ＶＩＭ）の改良型収束は、電場ではなく、ベクトル場の体積積分方程式を数値的に解くことによって達成される。ベクトル場は、基底変換によって電場に関連付けることができ、電場が不連続部を有する材料の境界で連続することができる。ベクトル場の畳み込みは、有限離散畳み込みに従って畳み込み演算子を使用して実行する。可逆畳み込み及び基底変換演算子は、周期構造の材料及び幾何学的特性に従って基底変換を実行することにより、ベクトル場を電場に変換する。ベクトル場について体積積分を解いた後、追加の後処理ステップを使用して、ベクトル場から電場を得ることができる。ベクトル場は、連続的な成分をフィルタリングするために法線ベクトル場を使用することにより、電場の場の成分と電束密度の組合せから構築することができる。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の結像特性、特に露光光の角度特性を高精度に測定する。
【解決手段】 光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置を用いて、基板を露光する露光光の角度分布を計測する。光源の波長をλ、投影光学系の射出側開口数をＮＡ、投影光学系の投影倍率をβとして、投影光学系の物体面にλ×１０／（ＮＡ×β）以上の線幅の特定パターンを配置し、特定パターンを照明し、投影光学系の光軸方向における複数の位置における特定パターンの像をセンサを用いて計測し、該計測結果を用いて露光光の角度特性を算出する。 （もっと読む）

【課題】被検査基板における欠陥発生状況の把握を妨げることなく、管理すべき欠陥データ量を抑制できる欠陥検査装置の提供。
【解決手段】欠陥検査装置は、撮像装置が生成した被検査基板面の被検査画像データを取得する手段と、被検査画像データと基準画像データとを比較して欠陥部を検出する手段と、検出された欠陥部の位置座標を少なくとも含む欠陥データを生成する手段と、区画基準領域データ及び前記位置座標に基づいてそれの各領域に存在する欠陥部の個数を算出する手段と、各領域の欠陥部の個数と各領域の許容値とを比較して欠陥部密集領域を検出する手段と、欠陥部密集領域における各欠陥部の欠陥データを、その領域に対して予め定められた領域位置データに置換する手段と、領域位置データと置換されなかった欠陥部の欠陥データとを管理サーバへ送信する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料に形成された周期構造の特性を実時間で分析する。
【解決手段】波長の関数としての信号を発生させる分光計測モジュールがを使用する。出力信号はプロセッサーにより方形構造の理論的な初期モデルを構築する。次いで、プロセッサーは、この試料の広帯域放射に対する理論的な光学的応答を計算する。光学的応答の計算結果は、複数の波長において計測され正規化された値と比較される。この比較に基づいて、モデルの構成は実際の計測された構造により近づくよう修正される。プロセッサーは修正されたモデルの光学的応答を再計算し、計算結果を正規化されたデータと比較する。最適な方形が得られるまでこの処理が反復して繰り返される。その後、モデルを各々幅と高さを持つ層に分割しモデルの複雑さを反復して増大させる。構造が周期構造に類似するような最適なモデルが得られるまで、反復処理によりデータが最適化される。 （もっと読む）

オブジェクトと別のオブジェクトとの相互アライメントに用いる特定のアライメント構成を備えたオブジェクトが開示される。アライメント構成は、実質的に規則的な格子の形態の第１の微細アライメントマークと、第１のアライメントマークと同じエリア内に位置する第２の粗アライメントマークとを含む。 （もっと読む）

【課題】画像検査装置において、被検体からの光を複数の波長帯域に分けて画像を取得して画像検査を行う場合に、簡素な構成により高精度な検査を行うことができるようにする。
【解決手段】画像検査装置５０は、可視光Ｌ_１と、赤外光Ｌ_２とを、導体パターン２に照射する照明部４と、導体パターン２で反射された可視光Ｌ_１および赤外光Ｌ_２を結像する撮像光学系６と、撮像光学系６によって結像された像を撮像する撮像素子８と、導体パターン２と撮像素子８との間の光路上で進退可能に設けられ、可視光Ｌ_１の透過を阻止するとともに赤外光Ｌ_２を透過させる可視光カットフィルタ７ｂと、導体パターン２と撮像光学系６との間の光路上で進退可能に設けられ、赤外光Ｌ_２の透過を阻止するとともに可視光Ｌ_１を透過させる赤外光カットフィルタ７ａと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ビットマップ画像における図形の輪郭線に関するデータを高速かつ正確に生成するデータ生成方法および、このデータ生成方法を用いた画像検査方法を実現する。
【解決手段】図形の輪郭線に関するデータを生成する処理を演算処理装置により実行するデータ生成方法は、設計上の図形の中心線をビットマップ画像に重ね合わせるステップと、中心線が重ね合わされたビットマップ画像上において、中心線上に位置する各探索基準点について所定の探査方向に向かって中心線上に位置するビットの色とは異なる色のビットを探索し、検出したビットを輪郭候補点とするステップと、各探索基準点に対して、輪郭候補点の中から当該探索基準点からの距離が最短となるもの抽出してこれを所望の図形の輪郭を構成する輪郭点とするステップと、対応する探索基準点の配列順に輪郭点間を結線したラインを輪郭線として確定して輪郭線に関するデータを出力するステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】線幅測定においてインラインで測定可能な測定技術を提供し、線幅の変化を抑えた高精細カラーフィルターを低コストで供給可能な製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明基板上に該透明基板とは異なるＯＤ値を有する規則的な遮光パターンが形成された被測定物における該遮光パターンの線幅を測定する測定装置であって、該被測定物を支持するステージと、該遮光パターンの所定領域を撮像する撮像手段と、該被測定物に対して、該撮像手段と反対側から白色光を照射する照明手段と、該撮像手段で撮像した画像データを画像処理する画像処理手段と、該画像処理手段によって得られたデータから遮光積算量を算出する算出手段と予め測定した遮光パターンの線幅と遮光積算量のデータを格納するデータ格納手段と、該算出手段により算出された遮光積算量と、該データ格納手段に格納された線幅と遮光積算量の関係から前記遮光パターンの線幅を算出する演算手段を備えることを特徴とする線幅測定装置。 （もっと読む）

【課題】ウェハ検査の精度を向上させること。
【解決手段】ウェハを載置して当該ウェハを搬送する第１搬送ユニットと、前記第１搬送ユニットに隣接し、前記第１搬送ユニットにより搬送されたウェハを受け取り、当該ウェハを載置して当該ウェハを搬送する第２搬送ユニットと、前記第２搬送ユニットの上のウェハを検査する検査ユニットと、前記検査ユニットに連結されて、前記検査ユニットを前記第２搬送ユニットの上で移動させる駆動装置と、を備え、前記第２搬送ユニットがウェハの搬送を一時的に停止したとき、前記駆動装置が前記検査ユニットを移動させつつ前記検査ユニットが前記第２搬送ユニットの上のウェハを検査する。 （もっと読む）

【課題】環境温度の変化に伴う誤検出を防止した対物レンズの調整方法を提供する。
【解決手段】結晶質の材料を用いたレンズを含む複数のレンズからなる対物レンズの調整方法であって、環境温度の変化によって対物レンズに生じる熱応力を求め、求めた熱応力から、当該熱応力により生じる対物レンズを通る光の状態変化を求める変化量算出ステップ（ステップＳ１０１〜Ｓ１０３）と、対物レンズを通る光の状態が環境温度の変化に拘わらず一定となるように、求めた光の状態変化を打ち消すような結晶質の材料を用いたレンズ（第９レンズ）の結晶方位を算出する調整量算出ステップ（ステップＳ１０４）と、算出した結晶方位が得られるように結晶質の材料を用いたレンズ（第９レンズ）を光軸回りに回転させる調整ステップ（ステップＳ１０５）とを有している。 （もっと読む）

【課題】ユーザが定めた計測対象の高さ範囲に適した姿勢でキャリブレーションワークが設置されているかどうかを作業者が容易に判断できるようにする。
【解決手段】キャリブレーション処理の設定画面において、作業者は、高さ計測範囲の下限値および上限値を入力ボックス２０４，２０５に入力した後に、ボタン２０６〜２０８のいずれかによりキャリブレーションワークの姿勢を選択する。この後、作業者がキャリブレーションプレートを選択した姿勢になるように調整すると、正面視用のカメラにより生成された画像を用いた処理により、このカメラの光軸に直交する平面（基準平面）に対するキャリブレーションワークの表面の傾きを示す角度が算出される。さらに算出された角度に基づき、キャリブレーションワークの姿勢が上記の高さ計測範囲が適合しているか否かが判定され、その判定結果が設定画面上に表示される。 （もっと読む）

【課題】対象物ホルダの上面に配置した対象物を評価するためのシステム、装置、方法、及びコンピュータプログラム製品を提供する。
【解決手段】対象物ホルダ１１０を複数位置の各々に位置させながら、対象物１０２の取得部分の一部を現す少なくとも１つの第一フレームを取得する。対象物ホルダ１１０を各位置に位置させながら、対象物ホルダ１１０の少なくとも一つの別の面の取得部分を現す少なくとも１つの第二フレームを取得する。取得したフレームのうち少なくとも１つのフレームに基づいて、対象物１０２の取得部分に関連した少なくとも一つの空間特性を決定する。各第二フレームにおいて取得した複数の光学マーカーの値を決定する。ここで、少なくとも上記光学マーカーのうち少なくとも２つはそれぞれ異なった値を有する。少なくとも一つの異なる面の上記取得部分の値及び向きに関連した少なくとも一つの座標が決定される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬにおいて用いるＥＵＶマスクの信頼性を向上させる。
【解決手段】多層膜と吸収体パターンとを有するＥＵＶマスク上の基準パターンを基点にして、吸収体パターンのレイアウトデータをメッシュに区分する（ステップＳ０１）。その後、ＥＵＶマスク上に欠陥が無い場合におけるＥＵＶ光に対する散乱光の補正信号強度を、メッシュごとに算出する（ステップＳ０３）。それに並列して、ＥＵＶマスクにＥＵＶ光を照射し、その散乱光の測定信号強度を計測する（ステップＳ０４）。続いて、メッシュごとに、測定信号強度から補正信号強度を差し引くことでメッシュ信号強度を算出する（ステップＳ０５）。そして、メッシュ信号強度の値から位相欠陥の有無を判定する（ステップＳ０６）。ここでは、メッシュ信号強度が所定の閾値を超える場合に、そのメッシュのＥＵＶマスク上に位相欠陥が有ると判定する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを１台の撮像装置で撮像可能とする。
【解決手段】 マスクステージ１８は、マスクステージマーク２０を備え、マスク１６を支持する。ウェハステージ３２は、ウェハステージマーク４２を備え、ウェハ３０を支持する。撮像装置４８は、マスクステージマーク２０が撮像可能となる状態と、ウェハステージマーク４２が撮像可能な状態とに切替えられる。制御部４０は、撮像装置４８によって撮像されたマスクステージマーク２０の位置情報とウェハステージマーク４２の位置情報に基づいてアライメントを実行する。 （もっと読む）

【課題】フォーカス異常とドーズ量異常を区別して検出することが可能な表面検査方法を提供する。
【解決手段】所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に直線偏光を照射する照射ステップ（Ｓ１０４）と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光を受光する受光ステップ（Ｓ１０５）と、対物レンズの瞳面と共役な面において、反射光のうち直線偏光の偏光方向と垂直な偏光成分を検出する検出ステップ（Ｓ１０６）と、検出した偏光成分の階調値から繰り返しパターンの線幅および露光時のフォーカス状態を求める演算ステップ（Ｓ１０７）とを有し、演算ステップでは、瞳面において線幅との相関が高い瞳内位置での階調値から線幅を求めるとともに、フォーカス状態との相関が高い瞳内位置での階調値からフォーカス状態を求める。 （もっと読む）

【課題】対象物を撮像し、その画像に基づいて行う局所的な位置補正の精度を高める。
【解決手段】検査装置は、複数の検査対象要素を有する被検査体を撮像して検査する。この検査装置は、被検査体画像において検査対象要素を相互に接続するパターンから特徴点を生成し、特徴点の基準位置からの変位に基づいて被検査体画像の位置ずれを補正する位置補正部と、位置が補正された被検査体画像を検査する検査部と、を備える。位置補正部は、パターンを表す折れ線上に特徴点を生成してもよい。位置補正部は、パターンを表す折れ線に含まれる線分の延長線上に特徴点を生成してもよい。 （もっと読む）

【課題】測定精度が可動物体の動作によって実質的にほとんど影響されない、可動物体の位置依存信号を測定するように構成された好ましくはエンコーダ型高精度測定システムを提供する。
【解決手段】エンコーダ型測定システムは可動物体の位置依存信号を測定するように構成され、可動物体の上に取付け可能な少なくとも１つのセンサと、実質的に静止したフレームの上に取付け可能なセンサターゲットと、実質的に静止したフレームの上にセンサターゲットを取付けるように構成された取付けデバイスとを含む。実質的に静止したフレームに対するセンサターゲット物体の移動および／または変形を補償するように構成された補償デバイスをさらに含む。補償デバイスは受動型または能動型制振デバイスおよび／またはフィードバック位置制御システムを含むことができる。代替の実施形態において、補償デバイスは、センサターゲット物体の位置を固定する把持デバイスを含む。 （もっと読む）