【課題】例えば欠陥を探しての試料の検査のあいだ、試料を照射する方法および装置を提供する。
【解決手段】ある局面において、照射装置は、それぞれ第１端および第２端を有する光ファイバの束を含む。照射装置は、１つ以上の入射ビームを、光ファイバの１つ以上の対応する第１端に選択的に伝達することによって、選択された１つ以上の入射ビームがファイバの１つ以上の対応する第２端から出力されるようにする照射セレクタをさらに含む。照射装置は、ファイバの対応する１つ以上の第２端から出力された選択された１つ以上の入射ビームを受け取り、選択された１つ以上の入射ビームを試料に向けて導くレンズ構成も含む。レンズ構成およびファイバは、ファイバの第２端において試料の画像化平面を画像化するよう互いに対して構成される。ある局面において、入射ビームはレーザビームである。本発明の具体的な応用例において、試料は、半導体デバイス、半導体ウェーハ、および半導体レチクルからなるグループから選択される。 （もっと読む）

基板上に堆積された物質の画像を分析する方法であって、画像は複数の画素を含み、この方法は、画像内で興味の対象となる領域を規定するステップと、第１および第２の垂直な軸に、興味の対象となる領域を関連付けるステップとを含み、画像内の１組の画素は、第１の軸に沿って位置し、この方法はさらに、興味の対象となる領域内の画素を、第１の軸にアライメントされかつ第２の軸に沿って突出する一次元アレイに変換するステップと、一次元アレイに少なくとも１つのしきい値を適用するステップとを含み、しきい値は、予め定められた限度に少なくとも部分的に基づく。
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被検査体の表面に形成されたパターンに発生する複数種類のムラ欠陥
を高精度に検出できること。
単位パターン５３が規則的に配列されてなる繰り返しパターン５１を表面に備えたフォトマスク５０に光を照射する光源１２と、上記フォトマスクからの散乱光を受光して受光データに変換する受光部１３とを有し、この受光データを観察して上記繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を検出するムラ欠陥検査装置１０において、複数の波長帯の光から所望の波長帯の光を一または複数選択して抽出する波長フィルタ１４を有し、この選択して抽出された波長帯の光を用いて上記繰り返しパターンのムラ欠陥を検出することを特徴とするものである。 （もっと読む）

半導体ウェハ上に形成された構造を、一つの入射角及び一つの方位角でその構造に入射光線を向けることによって検査する。入射光線は、方位角の走査を得るために方位角の範囲全体にわたって走査される。方位角の走査中、回折光線の交差偏光成分が測定される。
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本発明は、照明光を短波長化しなくても、確実に繰り返しピッチの微細化に対応できる表面検査装置および表面検査方法の提供を目的とする。そのため、被検基板２０の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光Ｌ１により照明する手段１３と、表面における直線偏光Ｌ１の振動面の方向と繰り返しパターンの繰り返し方向との成す角度を斜めに設定する手段１１，１２と、繰り返しパターンから正反射方向に発生した光Ｌ２のうち、直線偏光Ｌ１の振動面に垂直な偏光成分Ｌ４を抽出する手段３８と、偏光成分Ｌ４の光強度に基づいて、繰り返しパターンの欠陥を検出する手段３９，１５とを備える。 （もっと読む）

物体の三次元モデルを構築するための走査システム及び方法であって、走査システムは走査装置（２）と走査テンプレート部材（４）とを含む。走査装置（２）は光を投影するためのエミッター（２０）と像を撮像するためのセンサー（２２）とを有し、エミッターとセンサーが使用時に相対的に固定された位置に配置される。走査テンプレート部材（４）は既知の二次元テンプレート（４２）を有する。処理手段は、データを生成して走査装置（２）と走査テンプレート（４２）との間に配置された物体（８）の三次元モデルを構築することができ、使用時に走査テンプレート（４２）に対する物体（８）の情報を生成し、この情報はエミッターによって投影光が投影される同一の像から生成される。測定は同一の基準面に対して行われる。 （もっと読む）

基板及び被覆膜を有するオブジェクト及びフォトリソグラフィ装置の一部分の互いに対する位置を決める装置は、フォトリソグラフィ・システムと、ポジショナーと、光学システムと、プロセッサと、を備える。フォトリソグラフィ・システムは、オブジェクトの一部分を第１光パターンで照射するように構成され、かつ基準表面を含む。ポジショナーは、フォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えることができる。光投影装置は、第２光パターンをオブジェクトの被覆薄膜に投影するように構成されている。光学システムは、基板によって拡散散乱される第２光パターンの光を撮像する。プロセッサは、オブジェクトの空間特性を拡散散乱光に基づいて求め、かつポジショナーを動作させてフォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えさせるように構成されている。
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透過型の空間ヘテロダイン干渉法（ＳＨＩＦＴ）測定のシステムおよび方法が記載される。方法は、少なくとも一部は半透明である対象物（６３０，７３０）を透過した基準ビームおよび対象ビームを用いてフーリエ解析のために、空間ヘテロダイン干渉縞を含む空間ヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録すること；解析されるイメージを規定するために、基準ビームと対象ビームとの間の角度によって規定される空間テロダインキャリア周波数の上にデジタル記録された空間的にヘテロダイン化されたホログラムの元の原点を重ねるためにホログラムの元の原点を移動することによって、デジタル記録された空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析すること；元の原点周辺の信号を切り離し、結果を規定するために、解析されたイメージをデジタルフィルタリングすること；および、その結果に逆フーリエ変換を施すことを含む。
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透過および反射型の空間ヘテロダイン干渉法（ＳＨＩＲＴ）測定のシステムおよび方法が記載される。方法は、第１の基準ビームおよび対象ビームを用いて、第１の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録し、第２の基準ビームおよび対象ビームを用いて、第２の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録する。また方法は、第１の解析されるイメージを規定するために、デジタル記録された第１の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析し、第２の解析されるイメージを規定するために、デジタル記録された第２の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析し、第１の結果を規定するために第１の解析されたイメージをデジタルフィルターし、第２の結果を規定するために第２の解析されたイメージをデジタルフィルターし、そして第１の結果に第１の逆フーリエ変換を施し、第２の結果に第２の逆フーリエ変換を施す。
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計測学ツール較正方法および装置が開示される。前記装置は、その上に形成された少なくとも一つの較正サイトを備える。前記較正サイトは、基板の表面に配置された少なくとも一つのフィーチャーを有するセルのパターンを含む。前記フィーチャーは、ステップ高さ計測学ツールと位相計測学ツールを較正するために、ステップ高さ計測学ツールと位相計測学ツールによる計測に供される。
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半導体ウェハ上に形成された構造を、測定装置を用いて測定された第１の回折信号を取得することにより検査する。第２の回折信号は、機械学習システムを用いて生成される。機械学習システムは、第２の回折信号を生成するために、構造のプロファイルを特徴付ける１以上のパラメータを入力として受け取る。第１の回折信号と第２の回折信号は比較される。第１の回折信号と第２の回折信号が一致基準の範囲内で一致する場合、構造の形状は、第２の回折信号を生成するために機械学習システムで使用されたプロファイル又は１以上のパラメータに基づいて求められる。
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テンプレートマッチングのために有効な基準パターンを適切に効率良く抽出することのできる基準パターン抽出方法を開示する。本発明において、ウエハを撮像して得た画像情報上の観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）となり得る最大の範囲である最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内において、ユニークさが互いに異なり、かつ、その最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内に任意に配置される観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）内においてもユニークであると認識されるユニークなパターンを複数抽出する。そして、抽出されたユニークなパターンの全てを、観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）が取り得る範囲とは無関係に、基準パターン（テンプレート）として設定する。各ユニークパターンは、各々がユニークなパターンであるエレメント、又は、ほぼユニークなパターンであるエレメントの組み合わせにより表される。
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【課題】カメラによるキャリブレーションシートの撮影が容易に行えるキャリブレーションチャート表示装置を提供すること。
【解決手段】所定のキャリブレーション撮影方向から撮影されたキャリブレーションチャート１の画像を記憶する校正画像記憶部５９と、校正画像記憶部５９に記憶されたキャリブレーションチャート画像を、前記キャリブレーション撮影方向と所定の画像回転角度に応じて表示するキャリブレーションチャート画像表示部６１とを備えている。 （もっと読む）

パターン化と非パターン化ウェハの検査システムを提供する。１つのシステムは、検体を照明するように構成された照明システムを含む。システムは、検体から散乱された光を集光するように構成された集光器をも含む。加えて、システムは、光の異なる部分に関する方位と極角情報が保存されるように、光の異なる部分を個別に検出するように構成されたセグメント化された検出器を含む。検出器は、光の異なる部分を表す信号を生成するように構成されていてもよい。システムは、信号から検体上の欠陥を検出するように構成されたプロセッサを含むこともできる。他の実施形態におけるシステムは、検体を回転・並進させるように構成されたステージを含むことができる。１つの当該実施形態におけるシステムは、検体の回転および並進時に、広い走査パスで検体を走査するように構成された照明システムを含むこともできる。
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走査システムは、対象物（４０）の定性的及び定量的不規則性を検出する１以上の立体カメラ（１０）を有する。各立体カメラセット（１０）は、２つのカメラ（１２，１４）と投影器（１６）とを有する、各カメラ（１２，１４）は、ＣＣＤマトリックス配列（１８）の配列不良による歪みと光学システムの欠損とを補正するために較正される。投影器（１６）は、測定されるべき対象物（４０）に絶対符号パターン（３２，３４，３６）を投影し、赤外、可視、紫外スペクトルの電磁気エネルギーを放射可能である。複数のカメラセット（１０）は、３次元空間（２６）の対象物（４０）の不規則性を検出可能な走査システムマトリックス（４２，４４）と結合され得る。３次元空間（２６）は、立体カメラセット（１０）の数に応じて、任意の所望の寸法であり得る。カメラ（１２，１４）からのデータは、測定の表示用にデジタル信号プロセッサ（６６）を介してコンピュータインターフェース（６４）に送信される前に、ゲートアレイ（６２）により予備処理される。結果的に、送信されるデータ量は、簡素化され、従って動作時間を減少させ、走査システムが非常に短い時間で対象物（４０）の不規則性を非常に正確に測定することを可能にする。
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【課題】 暗くなる箇所が発生することなく、どの箇所においても均等に照らすことができる表面検査用照明装置を提供する点にある。
【解決手段】 多数の発光体が線状に配置された線状光源１４の光照射側に集光手段１６を配置してなる照明部３の複数のそれぞれを、検査対象物のほぼ同一箇所に対して照射し、該照明部３の各発光体ＶＬ１が検査対象物を照射するそれぞれの位置と該別の照明部３の各発光体ＶＲ１が検査対象物を照射するそれぞれの位置とが照射する線状の発光体群の長手方向において異なるように複数の照明部３の各発光体ＶＬ１、ＶＲ１を配置したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 多層プリント配線板の内層の各導体層の変形量を観測、記録する。
【解決手段】 多層プリント配線板６０の内層用の両面配線板６１の表裏の導体層に中実ガイドマーク２２と中空ガイドマーク２３が形成され、例えば、中実ガイドマーク２２−１ｂに、隣接した導体層に設けられた中空ガイドマーク２３−２ａが同心に配置され、隣接した導体層毎に同心に配置された中実、中空ガイドマーク２２、２３を形成する。Ｘ線カメラの視野内に納まる外形のガイドマーク枠２１内に、例えば３行３列に、同心の中実、中空ガイドマーク２２（１ａ〜５ａ）、２３（１ｂ〜５ｂ）の組が配されている。ガイドマーク群２０は多層プリント配線板の、たとえば４隅に配置され、１個のガイドマーク群は１回のＸ線照射で枠内のガイドマーク全ての像を取り込み、それらの座標値が計算される。４個のガイドマーク群内のガイドマークの座標値から、各導体層に形成された配線用パターンの変形量が計算され、結果を記録できる。 （もっと読む）

【課題】 液晶分子が存在する液晶層のみのリタデーション（ｄＬＣ・△ｎ）を求めることができ、セル厚を求めることができる液晶表示装置、そのセル厚測定装置及び測定法並びに位相差板を提供する。
【解決手段】 液晶領域中の液晶分子が電圧無印加時に略垂直に配向する液晶層と、液晶層を挾持する１対の基板と、を備える液晶表示装置の液晶セル５の厚さを測定するセル厚測定装置において、面内にリタデーションを有する１対の１軸性位相差板をその遅相軸方向をそろえて両外側表面に取付けた液晶セルを搭載するステージ１と、偏光子２３を有し、かつ、位相差板の遅相軸方向に対して方位角方向４４°〜４６°の偏光光を出射する光源２と、偏光光に対して偏光子とクロスニコルに配設された検光子３１を有し、かつ、偏光光の透過光量を検出する光検出器３と、位相差板に垂直な方向から偏光光の極角方向入射角を変化させる回転装置４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】透明膜の段差の測定方法に関し、非接触、非破壊で且つ簡単な操作で高速、高精度に位相シフターの段差を測定すること。
【解決手段】第１の透明膜１の一部に形成された複数の第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n の段差量ｔ₁ ，…．ｔ_n と該第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n からの反射光の偏光状態を示すパラメータの値との相関関係ｆ₁ を求めてデータベース化した後に、第２の透明膜４２の一部に形成された第２の溝４５の反射光の偏光状態を示すパラメータの第１の値を計測して、該第１の値と前記データベースの前記相関関係に基づいて該第２の溝４５の第１の段差量を求める工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 短時間で確実に、そして比較的容易に目視検査を行うことができる外観検査装置を得ること。
【解決手段】 本発明の実施形態の外観検査装置１は、基準基板Ｐｓと被検査基板Ｐｉとを隣接してＸＹテーブル２上に載置し、そのＸＹテーブル２の送りを検査場所の順に制御装置３内のコンピュータにプログラムし、そのプログラムに従って前記ＸＹテーブルを送り、基準用ビデオカメラ４１０で基準基板Ｐｓの所定部分を撮影し、検査用ビデオカメラ４２０で被検査基板Ｐｉの前記基準基板Ｐｓと同一の部分を撮影し、両映像を画面分割装置３１０を介してテレビモニタ５の画面上に隣接して映出し、両映像を比較して被検査基板Ｐｉの良否を目視検査できるように構成されている。 （もっと読む）