【課題】パターン形状の測定精度を向上させた検査装置を提供する。
【解決手段】下地層の上に所定のパターンを有するウェハ５のパターンを検査する検査装置であって、対物レンズ７の瞳面もしくは該瞳面と共役な面における領域毎の光の強度情報を検出する撮像素子１８と、パターンの形状変化に対しては強度情報の変化が異なり、下地層の変化に対しては強度情報の変化が同程度である、瞳面もしくは該瞳面と共役な面内の第１領域と第２領域の位置情報をそれぞれ記憶する記憶部と、撮像素子１８で検出される、第１領域の強度情報と、第２領域の強度情報との差異に基づいてパターンの形状を求める演算処理部２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】光源を内蔵せずに任意の方向から観測可能な位置計測用パターンを有する計測用マーカであって、計測用パターンの作製精度を維持しつつ従来と比べて製造工程を減少する計測用マーカ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】計測用マーカ１Ａは、基材１１と、基材１１上に貼り合わされて照射光ｌ_ｅを再帰反射する再帰反射材１０と、照射光ｌ_ｅを透過する複数の開口部１４を有するパターンが印刷され、再帰反射材１０上に貼り合わされる透明基材１２とを有する。 （もっと読む）

【課題】容器に貼付されたラベルの良否がラベラ内で検査できるラベル検査装置を提供する。
【解決手段】自転しながら公転軌道３ａを公転する容器２にラベル７を貼付するラベラ１と、ラベラ１の公転軌道３ａを挟んで対向し、かつラベルの正面方向またはラベルの側面方向に設置された少なくとも一対の撮像手段１２ａ〜１２ｄと、撮像手段１２ａ〜１２ｄが撮像した容器２の画像をから容器２に貼付されたラベル７の特徴点を計測する画像計測演算手段２２と、ラベル７の良否を判定する基準値が設定された良否判定基準値設定手段２３と、画像計測演算手段２２が計測した特徴点と基準値とを比較演算してラベル７の良否を判定する良否判定演算手段２５とから構成したもので、ラベラ１内に撮像手段１２ａ〜１２ｄを設置するだけでよいため、既存のラベラにも容易かつ安価に実施することができる。 （もっと読む）

【課題】プリント板上の測定しようとするはんだ箇所に対し、高さの基準となる基準面を設定し、その基準面に対するはんだの高さを求めるときに、部品実装後のプリント板を分割するために加工された分割用加工部の影響を受けないようにする技術を提供する。
【解決手段】変位センサがはんだが印刷されたプリント板を光学的に計測し、このプリント板の高さの変位を示す変位情報を出力し、分割ライン決定部がプリント板を分割するための分割用加工部を変位情報に基づき検出し、プリント板の分割ラインを分割ライン情報として出力する。基準面算出領域設定手段は、分割ライン情報を受け分割ラインの内側の領域内に基準面算出領域を設定し、基準面算出手段が基準面算出領域内の変位情報に基づいて、基準面算出領域に形成される平面を基準面として設定する。変位測定部は、はんだ箇所のはんだの高さを、はんだ箇所の変位情報と設定された基準面とから算出する。 （もっと読む）

【課題】パターン付きウェハの表面粗さを高精度で非破壊に測定できる平坦な検査範囲を、目視によらず探索できる表面検査装置を提供する。
【解決手段】照射される照射光により生じる散乱光の散乱光強度を、パターン付きウェハ２００上の測定座標に対応付けて測定し、ウェハ２００の表面粗さを検査する表面検査装置において、制御部が、下限閾値以上である散乱光強度の測定座標を抽出し、抽出された測定座標の周辺に相当するパターンの全体レイアウト４０１の一部の部分レイアウト４０５ａ内に、表面粗さの検査の検査範囲４０６を設定し、検査範囲４０６における表面粗さを求める。 （もっと読む）

【課題】ダイレクトセンシングにおける屈折率分布型レンズアレイの収差による搬送誤差を低減する搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送ベルトに設けた複数の孤立点を含む検出用パターンと、前記検出用パターンを異なるタイミングで撮像して複数の画像データを取得する屈折率分布型レンズアレイを備えたイメージセンサと、前記複数の画像データの一の画像データから前記検出用パターンの一部であって、前記複数の孤立点のうち２以上の孤立点を含む１以上のテンプレート画像を切り出し、他の画像データから前記テンプレート画像と類似する領域を検索して前記搬送ベルトの移動状態を求める処理部と、を備え、前記２以上の孤立点は、一の孤立点と他の孤立点の結像位置が、前記屈折率分布型レンズアレイのレンズによる検出量ズレの周期性の半周期の位相差でずれた位置になるよう、前記検出用パターン上の一の孤立点と他の孤立点の位置を定めた、１組の孤立点を含む。 （もっと読む）

【課題】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】クロストークによる検出誤差を軽減し、移動体の高帯域速度変動を高精度に検出することができる変位計測装置を得る。
【解決手段】移動体に設けた光学的に識別可能なマークを照明する第１の発光部と前記マークを介した光を検出する第１の受光部とを備える第１の検出部と、前記第１の検出部に対して前記移動体の移動方向に所定の間隔を隔てて配置され、前記マークを照明する第２の発光部と前記マークを介した光を検出する第２の受光部とを備える第２の検出部と、前記第１の発光部と、前記第２の発光部を時分割で発光させる時分割発光手段と、前記マークのうち同一のマークを前記第１、第２の検出部で各々検出する第１のタイミングと前記第１のタイミングと異なる第２のタイミングを検出する検出手段と、前記検出手段で得られた前記第１のタイミング及び前記第２のタイミングを用いて前記移動体の移動速度を算出する速度算出手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】被写体の表面に現れている線の幅を短時間に精度よく算出可能な線幅算出装置と算出方法並びに算出プログラムを得る。
【解決手段】記憶手段には、画像データに含まれる画素の大きさと被写体の表面上の大きさとの換算値が記憶されていて、画像処理手段は、画像データに含まれる画素ごとの輝度値を算出する輝度値算出手段と、画像データに含まれる画素ごとに算出された輝度値と所定の基準値とを比較し、比較の結果に基づいて画像データに含まれる画素の中から線が撮像されている可能性の高い線画素を特定する線画素特定手段と、画像データに含まれる画素のうち特定された線画素の周辺に位置する周辺画素を特定する周辺画素特定手段と、特定された周辺画素ごとに線境界を特定する線境界特定手段と、特定された線境界と換算値とに基づいて線幅を算出する線幅算出手段とを有してなる。 （もっと読む）

【課題】数秒／枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】基板に形成された寸法が１００nm以下の繰り返しパターンを検査する方法において、基板に複数の波長成分を含む光を照射し、この光を照射した基板からの反射光を分光して検出し、この分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、この求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定するようにした。 （もっと読む）

【課題】基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。
【解決手段】基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第１のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第２のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 （もっと読む）

【課題】基準面と、基準面と同一の光路内にある対象面を良好に調整できる、光学系調整方法を提供する。
【解決手段】光学系調整方法は、観察対象の像を投影する投影面、パタンが形成されたマスク、及び、マスクと観察対象との間に設置され観察対象からの光を投影面に向けて反射するハーフミラーを有する光学系のマスクの表面を観察対象の方向から撮像する調整用カメラと、光学系に対する調整用カメラの位置を調整するステージと、投影面の位置を調整する調整手段とを有する調整装置における調整方法であって、投影面が取り付けられる前に、調整用カメラに撮像されたマスクの画像を基に調整用カメラの位置を調整するステップと、投影面が取り付けられた後に、調整用カメラに撮像された投影面の位置を調整するステップと、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で容易に撮像面の傾斜状態を検出可能な傾斜検出方法を提供する。
【解決手段】２つの撮像装置のそれぞれについて、撮像装置の傾斜状態を検出する傾斜検出工程と、撮像装置の傾斜を調整する傾斜調整工程と、撮像装置の位置を検出する位置検出工程と、撮像装置の位置を調整する位置調整工程と、を有し、傾斜検出工程は、均等間隔で設けられたパターンを、撮像装置の焦点位置を順次変化させて撮像し、撮像画像におけるパターン位置を検出してパターン領域を設定し、パターン領域における各画素の輝度値を検出し、検査方向に沿って画素間の輝度変化量を算出し、各パターン領域における輝度変化量の積算値を算出し、積算値が最大となる撮像画像に対応した焦点一致位置を検出し、焦点一致位置に基づいて、撮像装置の傾斜状態を検出することを特徴とする調整方法。 （もっと読む）

【課題】撮像装置のキャブリレーションに用いる校正基準点を、小規模な装置環境で高精度に取得する。
【解決手段】校正対象の撮像装置２０に対してレーザ光のような広がりのない光を照射する発光装置１０、撮像装置１０の向きを調節する角度調節装置３０、該角度調節装置３０に角度指令を与える角度制御装置４０、撮像装置２０より得られる撮像画像から集光点位置を検出し、校正基準点を算出する画像処理装置５０を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】被検査体の高さを少ない撮像回数で求める。
【解決手段】外観検査装置１０は、周期的に明るさが変化する第１縞パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射して複数の第１投影画像を撮像する。外観検査装置１０は、第１縞パターンとは異なる周期で明るさが変化する第２縞パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射して複数の第２投影画像を撮像する。外観検査装置１０は、第２縞パターンに対応する被検査体の計測点の明るさ変動の位相を、第１投影画像及び第２投影画像における当該計測点の明るさと、第１縞パターン及び第２縞パターンのそれぞれに対応する明るさ変動の既知の関係とに基づいて求める。 （もっと読む）

【課題】受光部における誤検出を防止可能なロータリスケールを具備する位置検出装置、ロータリスケール、および位置検出装置を備える液体吐出装置を提供すること。
【解決手段】被検出物の位置検出を行う位置検出装置であり、発光部６２および受光部６４を備え、これらの間に空間部６１３を備えるフォトセンサ６０と、空間部６１３の間に差し掛かるロータリスケール５１と、ロータリスケール５１に設けられ、第１透光部および第１遮光部が交互に形成される位置検出パターン５３と、ロータリスケール５１に設けられ、第２透光部および第２遮光部が交互に形成され、通過する光量が位置検出パターン５３を通過する光量よりも少なくなる汚れ検出パターン５４と、フォトセンサ６０を移動させて、位置検出パターン５３の検出状態と汚れ検出パターン５４の検出状態とを切り替えるセンサ位置切替機構７０と、を具備している。 （もっと読む）

【課題】反射面を通過した光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれなどの影響を実質的に受けることなく、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。
【解決手段】投射系は、第１反射面７ｂ，７ｃを有する投射側プリズム部材７を備えている。受光系は、投射側プリズム部材に対応するように配置された第２反射面８ｂ，８ｃを有する受光側プリズム部材８を備えている。第１反射面および第２反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】 表示領域の端部近傍に線欠陥が生じている平面表示パネルであっても、表示領域の端部の位置を誤って検出してしまうことを防止する。
【解決手段】 表示領域検出装置は、予め定める複数種類の表示パターンを平面表示パネルにそれぞれ表示させる表示パターン指定部と、各表示パターンを表示させたときの平面表示パネルを撮像した画像の画像データを取得する撮像画像取得部と、撮像画像取得部によって取得された画像データと該画像データに対応する表示パターンとに基づいて、表示領域の端部の位置の座標を推定する端部位置座標推定部と、端部位置座標推定部によって表示パターンごとに個別に推定された各座標を比較して、表示領域の端部の位置の座標を決定する端部位置座標決定部とを含む。 （もっと読む）

【課題】センサ読み取り値のエラーのリスクを低減又は解消する。
【解決手段】第１のフロー特性を有する温度調整流体をセンサのビーム経路の少なくとも一部に提供する第１の出口と、第１の出口に関連付けられ、第１のフロー特性とは異なり、第１の出口から放出される温度調整流体の隣にある第２のフロー特性を有する温度調整流体を提供する第２の出口とを有するリソグラフィ装置。 （もっと読む）