【課題】車両の停車誤差の影響を排除できるキャリブレーションを簡易な設備で実施する。
【解決手段】自車１２の形状に対応した２点と交わる線を含み、カメラ１０の撮像範囲内に少なくとも２本配置される参照線ＲＬと、この参照線ＲＬの間に予め定められたパターン形状を有する校正用パターンＰＰとを有する測定領域ＭＡと、画像処理部１４とを備えている。そして、画像処理部１４が、カメラ１０で校正用パターンＰＰ及び参照線ＲＬが配置される測定領域ＭＡを撮影することで前記測定用画像ＩＭを生成する撮像処理１８と、前記２本の前記参照線ＲＬに基づいて前記自車１２の停車位置と前記パターン形状との座標関係を停車誤差として算出する停車誤差算出処理２０と、当該停車誤差をキャンセルした状態で前記パターン形状に基づいて前記カメラ１０の取付姿勢に対応する外部パラメータを算出する外部パラメータ算出処理２２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】印刷検査によって取得した印刷状態計測情報を印刷品質向上のために有効活用することができる印刷状態計測結果の表示装置および表示方法を提供することを目的とする。
【解決手段】印刷検査装置Ｍ２による印刷検査において基板３のランドに印刷されたペーストの平面形状における面積値の正規の印刷面積に対する比率を示す面積率を複数のランドのそれぞれについて求めた面積率計測データ２３ａを、表示用データ作成プログラム２３ｂに規定された所定の処理アルゴリズムにしたがってデータ処理して、基板に印刷されたペーストの印刷状態を視覚的に表示するための表示用データを作成し、作成された表示用データを表示フォーマットデータ２３ｃに規定される所定の表示フォーマットにしたがって表示パネル２６の表示画面に表示する。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物２の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置１００である。マクロ検査装置１００は、被検査物２を乗せるためのステージ１と、被検査物２の表面に対して所定の角度方向から被検査物２側に光を照射する拡散光源５と、被検査物２の表面からの反射光を受光可能なラインセンサ９と、被検査物２とラインセンサ９との間に設けられ、反射光のうち拡散光源５のエッジ部からの光束に起因する反射光束が、ラインセンサ９の両端の少なくとも一方に設けられた所定領域でのみ受光されるように、反射光をラインセンサ９に導くための光学系と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 異なる２つの物体の回転ずれを計測する際に、従来と比較して計測時間の短い検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】 異なる２つの物体にそれぞれ形成された格子マークが重なることによって生じる干渉縞を用いて、前記２つの物体の相対的な回転ずれ量を求める検出装置において、前記干渉縞を検出する検出器と、該検出器で検出された前記干渉縞の傾きから前記異なる２つの物体の相対的な回転ずれ量を求める演算部と、を有することを特徴とする検出装置。 （もっと読む）

【課題】電子部品を、高速に検査する光学システムを提供する。
【解決手段】センサは、カメラのアレイに対してノンストップで移動する加工対象物に関する画像データを取得するように構成されたカメラのアレイを含む。カメラのアレイが画像データを取得するとき照明のパルスを提供するために照明システムが配置されている。少なくともいくらかの画像データは、加工対象物上のスキップマーク又はバーコードに関するデータを含む。又取得した複数の画像により立体画像化する。 （もっと読む）

【課題】検査装置における伝送プロトコルは画像データの送信側と受信側が使用する伝送プロトコルに応じて最適化されている。このため、使用する伝送プロトコルが変更されると、データの分配を実行する部分の再開発が必要とされる。
【解決手段】画像データに付加情報を付して出力する撮像部と画像データを処理する画像処理部との間に画像分配部を配置する。さらに、画像分配部を、第１の伝送プロトコルにより撮像部から入力される画像データを所定のデータ形式に変換する画像入力部と、所定のデータ形式に変換されたデータの分配を制御する分配制御部と、所定のデータ形式のデータを第２の伝送プロトコルの画像データに変換して画像処理部に出力する画像出力部とで構成する。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの上部及び下部の寸法を明確に区別して測定する。
【解決手段】基板５上に形成された凹凸パターンを拡大観察する顕微鏡１と、前記顕微鏡１を通して観察される前記凹凸パターンを撮像する撮像カメラ２と、前記顕微鏡１の対物レンズ７の視野外からその視野内に散乱光を照射する照明光学系３と、前記撮像カメラ２の画像を入力して表示部１７の画面１７ａ上に表示し、入力手段１６により入力して前記表示画面１７ａ上に指定された範囲内の前記凹凸パターンの上部及び下部のいずれか一方、又は両方の寸法を測定する制御手段４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】三次元計測を行うにあたり、計測効率の低下を抑制しつつ、計測精度の向上等を図ることのできる三次元計測装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置１０は、プリント基板１を搬送するコンベア１３と、プリント基板１の表面に対し斜め上方から所定の光を照射する照明装置１４と、当該光の照射されたプリント基板１を撮像するカメラ１５とを備えている。照明装置１４は、第１照明１４Ａ〜第８照明１４Ｈを備えている。そして、三次元計測を目的として第１輝度のパターン光の下で複数回の撮像が行われる合間に、三次元計測を目的とした第２輝度のパターン光の下での複数回の撮像や、輝度画像データを取得することを目的とした第１輝度及び第２輝度の各色成分の均一光の下での撮像が行われる。 （もっと読む）

【課題】自動的に基準軌跡の抽出と許容領域の生成とを実行することができ、容易に部品形状の変更に対応することができる塗布位置検査装置を提供する。
【解決手段】シール剤Ｓが塗布されたワークＷを撮像する撮像装置２と、撮像装置２によって撮像された撮影画像から、シール剤Ｓの塗布軌跡を抽出する軌跡抽出部４−１と、所定の基準軌跡を記憶する記憶部５と、軌跡抽出部４−１により抽出されたシール剤Ｓの塗布軌跡が、記憶装置５に記憶されている所定の基準軌跡を中心とする許容領域内に収まっているか否かを判定する形状判定部４−２とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスクの歪の影響によらずパターンの良否を正確に判定することのできる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】マスク上の任意の少なくとも４点の座標を測定する（Ｓ１０１）。次いで、これらの少なくとも４点について、それぞれ対応する設計データの各座標との差を求め、最も差の大きい１点を選択する（Ｓ１０２）。次に、選択した１点と設計データの座標との差が予め設定した閾値を超えるか否かを判定する（Ｓ１０３）。閾値以下であれば、少なくとも４点全てを用いて、光学画像と参照画像との位置合わせを行う（Ｓ１０４）。一方、閾値を超える場合には、この点を除外し、残りの少なくとも３点を用いて位置合わせを行う（Ｓ１０５）。 （もっと読む）

【課題】画像処理を用いてパレタイズ位置が特定可能な位置検出方法を提供する。
【解決手段】位置検出方法は、使用対象のパレット７０のＸ軸方向と、Ｘ軸に直交するＹ軸方向とに、ワーク６０を整列配置するパレタイズ位置を示すパレタイズパターンを撮像する工程と、前記パレタイズパターンの撮像データを用いて、Ｘ軸方向の列の輝度差、およびＹ軸方向の列の輝度差を検出して輝度検出パターンを作製する工程と、輝度検出パターンを用いてパレット７０の基準パレタイズパターンを特定する工程と、作業位置に載置されたパレット７０のパレタイズパターンを撮像する工程と、基準パレタイズパターンを、作業位置に配置されたパレット７０のパレタイズパターンと重なり合う位置に移動させて、作業基準位置Ｐに対する作業位置に載置されたパレット７０のパレタイズ位置を特定する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】表示パターンのフレームサンプリングから得られた撮像画像（シグナルイメージ）の収縮、膨張等のフレーム間の幅に不均等な部分が生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出し、液晶パネルのピクセル位置を正確に算出する。
【解決手段】表示パターンを撮像して得られる撮像画像（シグナルイメージ）において、実検出ラインの座標位置を検出した後、次に座標位置を検出する実検出ラインを求める際に、前の実検出ラインの信号強度パターンと比較することによってラインの良・不良の検出、および、不良ラインの収縮又は膨張の判定を行い、次の実検出ラインを求める。ラインの良・不良を検出し、不良ラインの収縮・膨張の判定することによって、ライン幅にばらつきが生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出する。 （もっと読む）

【課題】微小な電子部品であっても、その外形を示すエッジを正確に検出することができる基板の外観検査装置および外観検査方法を提供する。
【解決手段】照明パターン選択手段（照明パターン選択部４７）は、複数の方向からの照明光を同時に照射する照明パターン１と、照明パターン１よりも高い輝度で複数の方向からの照明光を別々に照射する照明パターン２と、から照明光照射手段（照明２０）による照明光の照射パターンを選択し、画像取得手段（カメラ１０）は、照明パターン２が選択された場合には、別々に照射された複数の方向別の照明光毎に画像を取得する。このようにして取得した画像には、電子部品の実装面に略平行な面（上面）および実装面に略垂直な面（側面）により形成されるエッジが、電子部品の側面からの拡散光によって電子部品の外形として表され、エッジ検出手段（エッジ検出部４８）はこれらの画像から電子部品の外形を示すエッジを検出する。 （もっと読む）

【課題】物体の位置の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで第１物体に対する第２物体の相対的な位置を測定する第１測定部１１０と、第１物体に対する第２物体の相対的な位置を求める処理を行う処理部と、を有し、処理部は、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ及び第２ヘッド１１３ａのうち一方のヘッドで以前に検出された回折格子１１１ａ、１１１ｂ上の位置を他方のヘッドの視野の中心に位置決めした状態で一方のヘッドで以前に検出された回折格子上の位置とは別の位置を一方のヘッドで検出する処理を、一方のヘッドが回折格子の全面を検出するまで繰り返して回折格子の変形量を求める第１処理と、回折格子の変形量に基づいて、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで測定された第１物体に対する第２物体の相対的な位置を補正する第２処理と、を行う。 （もっと読む）

【課題】物体上の複数のマークを効率的に、かつ高精度に検出する。
【解決手段】少なくとも１軸方向に関する検出領域が互いに異なる複数のアライメント系で、少なくともその１軸方向に関して互いに異なる位置に配置されたウエハ上のマークを検出するマーク検出方法であって、複数のアライメント系の検出領域にそれぞれウエハ上のマークを移動するステップ３１５と、ウエハをＺ方向にスキャンして複数のアライメント系の検出信号及びデフォーカス量に対応するフォーカス信号を取り込むステップ３１６と、複数のアライメント系の検出信号とフォーカス信号とからフォーカス信号のオフセットを求めるステップ３１７とを有する。 （もっと読む）

【課題】データ処理量を増大させることなく、パターンマッチングに適したパターンを正確にピックアップし、記録用紙上の移動量計測用パターンの正確な移動量を検出する。
【解決手段】記録媒体を所定の搬送方向に搬送する搬送手段を備え、搬送される記録媒体に記録ヘッドを用いて画像を記録する記録装置における記録媒体の搬送量を計測する搬送量計測装置であって、搬送される記録媒体に対して所定範囲の撮像領域を有し、記録媒体の搬送量を計測するための移動量計測用パターンの抽出および移動量計測用パターンの移動量を算出するための画像データを取得するイメージセンサ１０１−１と、搬送方向のイメージセンサ１０１−１の上流側に配置された所定範囲の撮像領域を有し、移動量計測用パターンを抽出する範囲を選択するためのイメージセンサ１０１−１よりも低解像度の画像データを取得するイメージセンサ１０１−２を有する。 （もっと読む）

【課題】集積回路のような電子素子の製造において、光計測を用いた測定の精度を改善する方法及びシステムを提供する。また、調節可能なレジストの光学特性を変化させる方法及びシステムを提供する。
【解決手段】その調節可能なレジスト層は反応性ガス、液体、プラズマ、放射線若しくは熱エネルギー又はこれらを結合させたものを用いて処理されて良い。それによってフォトレジストは露光前に第１組の光学特性と異なる第２組の光学特性を得て、露光波長で又はその近傍の放射線に対して透明ではなくなり、ＯＴＳＭ構造４２０が光線４２５、４２６及び４２７を反射する。 （もっと読む）

【課題】液浸法で露光を行う露光装置の液体に接する部分に異常があるかどうかを効率的に判定する。
【解決手段】露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐを露光する露光方法において、液体１に接する接液部を光学的に観察し、得られる第１画像データを記憶する第１工程と、接液部の液体１との接触後、例えば液浸露光後に接液部を光学的に観察して第２画像データを得る第２工程と、第１画像データと第２画像データとを比較して、その観察対象部の異常の有無を判定する第３工程とを有する。 （もっと読む）

【目的】光量センサ出力と画像取得用のセンサ出力の応答速度のずれによる補正誤差を低減する。
【構成】パターン検査装置１００は、光源１０３と、被検査試料にレーザ光を照明する照明光学系１７０と、レーザ光の光量を測定する光量センサ１４４と、パターンの光学画像を撮像するＴＤＩセンサ１０５と、ＴＤＩセンサ１０５の出力タイミングが早い場合に、出力タイミングとの時間差分の期間、ＴＤＩセンサ１０５の出力データを一時的に記憶する記憶装置１４０と、光量センサ１４４の出力タイミングが早い場合に、出力タイミングとの時間差分の期間、光量センサ１４４の出力データを一時的に記憶する記憶装置１４２と、光学画像の階調値を時間差分ずらした時刻に出力された光量値を用いて補正する補正回路１４８と、比較対照となる参照画像を入力し、階調値が補正された光学画像と参照画像とを画素単位で比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各吐出ノズルの吐出量を正確に把握し、精度良く全ノズルの吐出量を調整することができる塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】吐出ノズルから液滴を吐出し、基板へ塗布を行う吐出工程と、吐出ノズルから吐出した液滴の着弾面積を測定する測定工程と、前記吐出工程における各吐出ノズルの制御量を調節する調節工程と、を有する塗布方法において、前記調節工程では、前記吐出工程が行われる前に実施された前記測定工程の過去データの蓄積から得られる統計データにもとづいて、この吐出工程における各吐出ノズルの制御量の調節を行うことを特徴とする。 （もっと読む）