【課題】視差生成部材の設置状態を定量化すること。
【解決手段】本発明の検査装置は、スリット状の開口部を備える視差生成部材と、前記視差生成部材のスリット状の開口部に対応する明暗模様を保持する保持手段と、前記視差生成部材を通して前記明暗模様の明暗の状態を検出し、検出した明暗の状態に基づき、前記明暗模様と前記視差生成部材との角度を算出する算出手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は集積回路、磁気ヘッド、磁気ディスク、太陽電池、光モジュール、発光ダイオード、液晶表示パネルなど基板上に発生した欠陥や異物の画像を撮像し、欠陥や異物を種類ごとに分類する欠陥分類装置において、撮像した画像に写っている欠陥の重要度を定量的に計算し、重要度の高い欠陥が写っている画像だけをデータベースに保存することで、ネットワーク負荷やデータベース負荷を低減する。
【解決手段】
本発明は、欠陥座標データを入力し、画像撮像プログラム５０１にて画像を撮像し、特徴量抽出プログラム５０２にて撮像した画像から欠陥の特徴量を抽出し、欠陥分類プログラム５０３にて欠陥を種類別に分類し、重要度予測プログラム５０４にて欠陥毎に重要度を計算し、画像選別プログラム５０６にて重要度に基づいて画像をデータベースに伝送するか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】検査対象領域を撮像して取得した多値画像の明暗が変化した場合であっても、非検出対象物であるノイズを効果的に除去し、検出対象物であるブロブ（集合体）状の傷、汚れ等の欠陥の有無、大きさ、形状等を検査する画像検査装置、画像検査方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】検査対象領域の多値画像を取得し、取得した多値画像の濃度情報に基づいて基準濃度値を算出する。多値画像の各画素の濃度値と算出した基準濃度値との差分を画素ごとに算出し、基準濃度値の変化に追従して変化するように基準濃度値に対して相対的に閾値を設定して記憶する。算出した差分が閾値より大きい複数の画素を抽出し、抽出された複数の画素の輝度値の連結性に基づいて画素の集合体を特定し、特定された画素の集合体に対して、差分を用いた特徴量を算出する。算出した特徴量に基づいて、特定された画素の集合体の欠陥を判別する。 （もっと読む）

【課題】半田の撮像画像の欠落を無くすことが可能な印刷半田検査装置を提供することにある。
【解決手段】印刷半田検査装置の撮像素子７０は、走査方向の垂線に対してなす角θが０度を超え９０度未満となるように傾けられ、その撮像領域の長手方向とスリット照明の長手方向が平行となるように照射し走査したとき、そのときの角度を存在率の低いもしくは存在しない長方形や楕円形等の前記半田の回転角度に設定されている。これにより、照射光の長手方向中心軸と、半田の短手方向中心軸を平行にならないようにし、明るさが落ち込む場所が非常に長くなる現象の発生を防ぎ、また、サチュレーション部の欠落画像の補間を可能となる。 （もっと読む）

【課題】
検査装置の感度設定にかかる処理時間とユーザ負担を低減すると共に、ＬＳＩテスタによる電気的特性検査にかかるコストの増加、及び、電気特性検査が困難な領域の発生に対処する。
【解決手段】
パターンが形成された試料に光源から発射された光を照射し、この光が照射された試料からの反射光を検出器で検出して画像を取得し、この取得した画像を処理して該画像の特徴量を抽出し、この抽出した画像の特徴量を予め設定した基準値と比較して試料上の欠陥を検出する欠陥検査方法において、予め設定した基準値をパターンが形成された試料を別の検査装置で検査して得た試料の検査結果を用いて作成するようにした。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンの線幅の測定精度を向上させた表面検査方法を提供する。
【解決手段】所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に直線偏光を照射する照射ステップ（Ｓ１０２）と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光を受光する受光ステップ（Ｓ１０３）と、対物レンズの瞳面と共役な面において、反射光のうち直線偏光の偏光方向と垂直な偏光成分を検出する検出ステップ（Ｓ１０４）と、検出した偏光成分の階調値から繰り返しパターンの線幅を求める演算ステップ（Ｓ１０５）とを有し、演算ステップでは、瞳面における対角線上の瞳内位置および対角線外の瞳内位置での階調値から、繰り返しパターンの線幅を求める。 （もっと読む）

【課題】回折格子の形状特徴物などの小寸法の形状特徴物のプロフィールを見出すためのシステムを提供する。
【解決手段】シード・プロフィールのギャラリが作られ、半導体装置についての製造プロセス情報を用いて該プロフィールに関連する初期パラメータ値が選択される。回折構造および関連するフィルムを測定するとき、反射率Ｒ_s，Ｒ_pなどのいろいろな放射パラメータおよび楕円偏光パラメータを使用することができる。放射パラメータのうちのあるものは、該プロフィールまたは該フィルムのパラメータ値の変化に対してより敏感な１つ以上の放射パラメータを選択してより精密な測定に到達することができる。プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック／ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。 （もっと読む）

【解決手段】画像収集モジュール１が一個の画像取得位置に位置する時、複数個の光入力側１１０はそれぞれ載置台２と運び台３に向くように形成され、そして複数個の光出力側１１１はそれぞれ二個の画像取得ユニット１２、１２’に向くように形成されることにより、載置台２と運び台３の場所の光線は同時に複数個の光入力側１１０を経由してそれぞれ二個の光反射プリズム１１２ａ、１１２ｂに入射し、そして二個の光反射プリズム１１２ａ、１１２ｂの光反射面Ｒ１、Ｒ２に反射される光線は複数個の光出力側１１１を通じて上記光伝送経路に沿ってそれぞれ二個の画像取得ユニット１２、１２’まで到達するように構成されている。
【効果】簡単な操作の形態で物体に対して精確なアライメントを行うことにより、アライメントに必要な時間とコストを低く抑えることができ、さらに作業上の便利性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】ステレオカメラの校正装置および校正方法を提供すること。
【解決手段】ステレオカメラの校正装置３００は、第１カメラ３２０と、第２カメラ３１８と、カメラステー１４０とを含んでおり、コリメータユニット３０２がステレオカメラから距離を隔てて配置されたテストチャート３０６が無限遠位置に配置されたと等価な光路を形成させている。視差算出部３６２は、ステレオカメラが撮影した左右画像からテストチャート３０６とステレオカメラとの間の異なる光学的距離に相当する視差データを計算し、パラメータ算出部３６４が、視差算出部３６２が計算した視差データおよびテストチャートまでの実距離データを使用してステレオカメラの測距パラメータである視差オフセットｂおよび距離換算パラメータａを算出している。 （もっと読む）

【課題】
複数の方向に配置した複数の検出器からの信号を基板の高さ変動の影響を受けることなく処理して基板上のより微細な欠陥を検出することを可能にする。
【解決手段】
第１の集光検出手段と第２の集光検出手段とにそれぞれ複数列の光センサアレイを有する光電変換器を備え、処理手段は第１及び第２の集光検出手段のそれぞれの複数列の光センサアレイからの検出信号を用いて試料の表面に対する第１及び第２の集光検出手段の焦点位置のずれを求め、この求めた第１及び第２の集光検出手段のそれぞれの焦点位置のずれに応じて第１の集光検出手段から出力された検出信号と第２の集光検出手段から出力された検出信号とを補正し、この補正した第１の集光検出手段から出力された検出信号と第２の集光検出手段から出力された検出信号とを統合して試料上の欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】大きな校正儀であっても、その運搬、設置、撤去における負担を軽減し得るカメラ用校正儀およびその使用方法を提供する。
【解決手段】このカメラ用校正儀３０１は、特徴点Ｐ１０１が表面に形成された板状をなす複数の校正儀片１０１、１５１、２０１、２５１と、その複数の校正儀片と着脱可能に且つ板の延在方向への移動を拘束するように連結する複数の連結部材５１とを備えている。そして、このカメラ用校正儀３０１を使用する際には、複数の校正儀片１０１、１５１、２０１、２５１を複数の連結部材５１によって相互に組み立てて市松模様を構成する。その組み合わせパターンや大きさは、空間的な制約や、カメラとの位置関係に応じて適切に変える。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置を高精度に制御しつつ、物体上の複数のマークの検出時間を短縮する。
【解決手段】 露光装置は、ウエハＷを保持してＸＹ平面内で移動するとともに、上面にＹ軸方向を周期方向とする格子を有する一対のＹスケール３９Ｙ_１、３９Ｙ_２が設けられたウエハステージＷＳＴと、Ｘ軸方向に関して検出領域の位置が異なる複数のアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４と、Ｘ軸方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対のＹヘッド６４ｙ_１、６４ｙ_２を含む複数のＹヘッド６４を有し、一対のＹスケールの少なくとも一方と対向するＹヘッドによって、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するＹエンコーダと、を備えている。このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。 （もっと読む）

【課題】高い精度で、微細加工処理が施された基板上のパタン形状ならび欠陥を測定することが可能な形状測定装置を提供する。
【解決手段】本発明は、反射型サンプル基板２上の被検パタン領域に対し、空間領域及び／又は時間領域でのコヒーレントな光を、照射位置をシフトさせながら複数回照射する照射部１０と、照射部１０により照射された被検パタン領域からの回折光を受光する撮像素子１５と、撮像素子１５による受光結果である画像情報を記録する記録部１６ａと、記録部１６ａに記録された画像情報から、反復計算により演算に最適な照明形状を導出し、記録部１６ａに記録された画像情報のうち、導出された照明形状を用いて、実波長でのパタン形状ならび欠陥を抽出する測定処理部１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料に形成されたパターンに起因する高さ測定誤差を低減して、描画精度の向上を図ることのできる高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】本発明の一態様によれば、高さ測定方法は、高さの基準となる範囲を決定する工程と、ＰＳＤを含むアナログ信号処理回路上でのオフセット値を求める工程と、ＰＳＤの出力値からオフセット値を差し引いた値を用いて試料の高さの測定データを求める工程と、試料の高さの測定データの内で基準となる範囲に含まれない値を除き、残った値を用いてフィッティングを行い、試料の高さデータを作成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は検査方法に関し、より詳細には基板の検査方法を提供する。
【解決手段】基板を検査するために、まず、基板上に測定領域を設定し、続いて、測定領域に対する基準データ及び測定データを取得する。次に、測定領域内の所定の形状を含むようにブロック単位の複数の特徴ブロックを設定し、特徴ブロックのうちオーバーラップされる特徴ブロックをマージして統合ブロックを設定する。続いて、統合ブロック以外の特徴ブロック及び/または統合ブロックに対応する基準データと測定データとを比較して歪曲量を取得し、歪曲量を補償してターゲット測定領域内の検査領域を設定する。これにより、歪曲を補償した正確な検査領域を設定することができる （もっと読む）

【課題】 本発明は検査方法に関し、より詳細には基板の検査方法を提供する。
【解決手段】 基板を検査するために、先に基板上に測定領域を設定し、測定領域に対する基準データ及び測定データを取得する。 続いて、測定領域に対して変換条件を設定し、基準データと測定データとの間の歪曲量に従う変換関係を取得する。次に、比較用特徴客体が変換関係を充足するか、比較用特徴客体を除いた特徴客体から選択された検証用特徴客体が変換関係を充足するか及び基板上に形成された検査対象パッドが変換関係を充足するかを検証する検証方法うち少なくとも一つの方法を用いて変換関係の有効性を検証する。続いて、変換関係が有効であると判断された場合変換条件を確定し、確定された変換条件に従って検査領域を設定する。これにより、歪曲を補償した正確な検査領域を設定することができる。 （もっと読む）

【課題】小型で適正なカラー画像の位置検出ができるカラー画像位置検出装置を提供する。
【解決手段】用紙１２上の直交方向画像補正パターン１０と斜め方向画像補正パターン１１を検出するカラー画像位置検出装置であって、１つの共用緑色光源３と、それを中間にして一方側に設けられた第１の赤色光源２ａと、他方側に設けられた第１の青色光源４ａを用紙１２の搬送方向に対して直交する方向に配置した第１の検出グループ３６と、共用緑色光源３を中間にして一方側に設けられた第２の赤色光源２ｂと、他方側に設けられて第２の青色光源４ｂを用紙１２の搬送方向に対して斜め方向に配置した第２の検出グループ３９と、各光源からの反射光を受光する受光素子５ａ，５ｂとを１つの光源ホルダ１に設置したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】筐体の被照射面に付着した塵埃等の影響を排除して被照射面に付いた傷を正確に検出することを、装置構成の複雑化を招くことなく実現する。
【解決手段】傷検出用の放射線画像を撮影して白色線欠陥及び黒色線欠陥を検出し、X方向又はY方向に平行で太さが細く読出方向上流側又はドライバと反対側に白色線欠陥が位置している線欠陥は断線由来と判定し(「白色線欠陥Ａ」参照)、再撮影した傷検出用放射線画像((B)参照)で位置が移動している線欠陥は浮遊ゴミ由来と判定し(「白色線欠陥Ｂ」「黒色線欠陥Ａ」参照)、位置変化の無い白色線欠陥は筐体の被照射面に固着しているゴミに由来する線欠陥(「白色線欠陥Ｃ」参照)、位置変化の無い黒色線欠陥は筐体の被照射面に付いた傷に由来する線欠陥(「黒色線欠陥Ｂ」参照)と判定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は検査方法に関わり、より詳細には形状測定装置の測定対象物に対する検査方法を提供する。
【解決手段】基板を検査する検査装備において検査領域を設定するために、基板上に複数の測定領域を設定し、測定領域のうち測定対象物を検査するためのターゲット測定領域と隣接する少なくとも一つ以上の隣接測定領域の基準データ及び測定データを獲得した後、隣接測定領域内で少なくとも一つ以上の特徴客体を抽出する。特徴客体に対応する基準データと測定データとを比較して、歪曲量を獲得し、歪曲量を補償してターゲット測定領域内の検査領域を設定する。これにより、基準データと測定データとの間の変換関係をより正確に獲得することができ、歪曲を補償した正確な検査領域を設定することができる。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の測定精度を向上させた検査装置を提供する。
【解決手段】下地層の上に所定のパターンを有するウェハ５のパターンを検査する検査装置であって、対物レンズ７の瞳面もしくは該瞳面と共役な面における領域毎の光の強度情報を検出する撮像素子１８と、パターンの形状変化に対しては強度情報の変化が異なり、下地層の変化に対しては強度情報の変化が同程度である、瞳面もしくは該瞳面と共役な面内の第１領域と第２領域の位置情報をそれぞれ記憶する記憶部と、撮像素子１８で検出される、第１領域の強度情報と、第２領域の強度情報との差異に基づいてパターンの形状を求める演算処理部２０とを備えている。 （もっと読む）