【課題】移動体の位置情報を精度良く計測できる位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置は、移動面内を移動する移動体の位置情報を計測する。位置計測装置は、移動体の第１面に配置された移動格子に光を照射する光源と、光源との位置関係が固定で、移動格子で回折された光が入射する第２面を有し、入射した光を回折又は反射して移動格子に戻す固定光学部材と、移動格子を再度介して干渉された光を検出する検出装置と、を備え、第１面と第２面とはほぼ平行である。 （もっと読む）

【課題】高感度の分光散乱計を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上の回折構造体からの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計または分光エリプソメータを使って構造体の下に位置する膜の膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体を測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。この署名をデータベース内の署名と適合させて構造体の格子型パラメータを判定する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、被験者の視線を推定・追跡することで、評価対象印刷物の掲載情報または陳列棚の商品の注目度を分析評価するシステムを提供することである。
【解決手段】
メガネを通して見るシーン画像とシーン画像上の注視点座標を視線分析装置に送信する視線追跡メガネと、基準画像および基準画像の分割画像の、特徴点の座標と特徴量を記憶する手段と、視線追跡メガネからシーン画像と注視点座標を受信する手段と、シーン画像の特徴点の特徴量と分割画像の特徴点の特徴量とに基づき最も類似度評価の高い特徴点を組み合せる手段と、最も多い組合せ個数を持つ分割画像の特徴点の座標とシーン画像の特徴点の座標に基づいて座標変換行列を算出する手段と、座標変換行列とシーン画像上の注視点座標から算出した分割画像上の注視点座標を、基準画像に変換して注視点マークを合成する手段と、を備える視線分析装置と、特徴とする視線計測システムである。 （もっと読む）

【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】ランダム柄を正確に計測しやすい柄計測装置を提供する。
【解決手段】凹凸型を用いてプレス成型された基材３０の凹凸柄を計測する柄計測装置に関する。前記凹凸型の三次元の加工データを記憶する加工データ記憶手段１１。前記加工データから選択された任意の特徴部ｓのデータを記憶する特徴部データ記憶手段１２。前記基材に形成された前記凹凸柄を全面計測して得られる三次元データを記憶する凹凸柄データ記憶手段１３。前記特徴部データと前記凹凸柄データとを比較することによって、前記特徴部により前記基材に形成される特徴柄が基材３０の一端からどの位置に現れるかを検出すると共に、検出された前記特徴柄の位置を基準にして前記加工データと前記凹凸柄データとを比較することによって、前記加工データと前記凹凸柄データとのズレを算出する算出手段１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高いパターン画像の表示を低コストにて実現する。
【解決手段】パターン画像表示装置の画像取得部１３は、光照射部１３１、ラインセンサ１３２、角度変更機構、および、表示対象であるガラス基板９を移動する移動機構を備える。光照射部１３１からは、ガラス基板９の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部１３１からの光の照射角θ１およびラインセンサ１３２により撮像が行われる検出角θ２は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン画像表示装置では、予め画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてコントラストの高い画像をラインセンサ１３２により取得し、ディスプレイに表示することができ、パターン画像表示装置の製造コストも削減することができる。 （もっと読む）

【課題】 遮光位置のずれを低減する技術の提供。
【解決手段】 原版を光で照明する照明系、前記原版のパターンの像を基板に投影する投影系を有する光学系を備える露光装置で、前記光学系の光路上の前記投影系の物体面と共役な面かその近傍に配置され、前記像が前記基板上に投影される領域の外縁の一部を円弧状に規定する円弧状部を有する遮光板と、前記光学系の光路に沿った回転軸まわりに前記遮光板を回転駆動する回転駆動部と、前記回転軸と交わる方向に前記遮光板をシフトするシフト駆動部と、前記回転駆動部により前記遮光板を回転駆動させ、前記光学系により前記像を前記基板に投影する際の基準となる基準軸と前記回転軸との相対位置の情報を取得する取得部と、前記基板の周辺部に対して前記像を投影する場合、取得した前記相対位置に関する情報に基づき、前記遮光板が所定の位置になるように前記回転駆動部と前記シフト駆動部を制御する制御部を有する。 （もっと読む）

【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】製造ラインを連続して搬送される開口を塞ぐシール部を有する被検査物に対して、特殊領域特定のために準備工程を必要とせず、検査時間の大幅な短縮が可能な、効率の良い検査性能に優れた検査装置を提供する。
【解決手段】容器を搬送する手段と、第一の光学手段と、第一の光学手段の容器搬送方向の下流に設けられた第二光学手段と、第一の特殊領域特定手段と、第一の特殊領域に基づいてシール部の液漏れ欠陥を検出する第一の検査手段と、前記エッジ座標と、第一の撮像手段と第二の撮像手段の取り付け角度の角度差と、第一の撮像手段と第二の撮像手段から得られた撮像画像における検査領域の中心座標から、第二の撮像手段によって得られた画像の第二の特殊領域を特定する第二の特殊領域特定手段と、第二の撮像手段によって撮像した画像の第二の特殊領域に基づいて容器の異物欠陥を検出する第二の検査手段と、を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】反射面を通過した光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれなどの影響を実質的に受けることなく、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。
【解決手段】投射系は、第１反射面７ｂ，７ｃを有する投射側プリズム部材７を備えている。受光系は、投射側プリズム部材に対応するように配置された第２反射面８ｂ，８ｃを有する受光側プリズム部材８を備えている。第１反射面および第２反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】回路基板の個体識別を簡便かつ容易に実現する回路基板の個体識別装置および個体識別方法を提供すること。
【解決手段】回路基板１００上の複数の計測対象１１０の位置を計測し、計測対象１１０の計測値と計測対象１１０の設計値との差を計測対象１１０ごとの位置情報として取得する位置情報取得手段１０と、位置情報取得手段１０によって取得された位置情報の組み合わせを基板識別符号として登録する登録手段２０とを備える回路基板の個体識別装置。 （もっと読む）

【課題】箱体の姿勢にかかわらず接合部の精度を正確に検査でき、箱体の形状精度や印刷品質、異物の有無も同時に検査することができ、検査スペースの効率化を図ることができる品質検査装置を提供する。
【解決手段】接合部を挟んで隣り合う２つの領域を撮像する撮像手段３と、照明手段４と、基準形状データ記憶部、及び基準画像データ記憶部を有する記憶手段５０と、撮像される画像に基づき形状データを検出し、各領域の基準形状データと対比することにより各領域のずれ量を算出し、各領域の形状精度の良否を判定する形状精度判定手段と、形状精度判定手段により算出される各領域のずれ量に基づき、当該箱体の接合精度の良否を判定する手段と、撮像手段により撮像される画像に基づき各領域の画像データと基準画像データ記憶部に記憶された各領域の基準画像データとを対比することにより各領域の印刷品質の良否及び異物の有無を判定する手段とを備えた。 （もっと読む）

【課題】被検査試料に形成されたパターンの位置ずれマップを高精度に作成する装置を提供する。
【解決手段】位置ずれマップ作成装置２００は、被検査試料から取得された光学画像と参照画像との間での位置ずれ量に基づいた位置ずれマップ（１）に対し、ワイドパスフィルタ処理をおこなって位置ずれマップＢを作成するＷＰフィルタ処理部５６と、ローパスフィルタ処理をおこなって位置ずれ量マップＣを作成するＬＰフィルタ処理部５８と、座標計測装置で計測された複数の位置計測用パターンの各パターンの位置の位置ずれ量に基づく位置ずれマップ（２）に対し、ＬＰフィルタ処理をおこなって位置ずれマップＣを作成するＬＰフィルタ処理部６４と、位置ずれマップＡと位置ずれマップＢの差分に位置ずれマップＣを加算することによって合成して位置ずれマップＤを作成する合成部６６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】所定の特性を有する微小細粒（タガント）を物品に付与し、更にその分布位置に基づいて高精度に個々の物品を識別することが可能な個体識別装置等を提供する。
【解決手段】個々の物品１の基材１０上に、基材とは異なる光学反射特性を有し、かつ、異色の微細物質１２、並びに特徴的な図案及び形状等を有する微細物質をランダムに配置しておく。また個々の物品をスキャナ等により光学的に読み取り、所定の画像処理を施して微細物質の特徴点及びその特徴点における色情報に関する特徴量を抽出し、基準特徴量データとして記憶部に記憶しておく。識別対象となる物品を上述の読み取りの際と同様の手法で読み取り、同様の画像処理を施して微細物質の対象物特徴量データを抽出する。そして、抽出した対象物特徴量データと記憶されている基準特徴量データとを比較することにより識別対象とする物品と基準物品とが同一個体であるか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】基板上のパターンに損傷を与えることなく欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の欠陥検査装置は、半導体基板を測定光学系によって表面観察し、観察結果に基づいて前記半導体基板の欠陥検査を行う基板検査部を備えている。また、前記欠陥検査装置は、前記測定光学系のうち前記表面観察を行う際に前記半導体基板の表面に近接する底部近傍を撮像し、撮像した画像である第１の撮像画像を用いて前記底部近傍の状態検査を行う測定光学系検査部を備えている。前記測定光学系検査部は、前記基板検査部が前記半導体基板の欠陥検査を行っていない間に、前記底部近傍の状態検査を行う。また、前記測定光学系検査部は、前記状態検査の基準となる基準画像と、前記第１の撮像画像と、を比較し、比較結果に基づいて、前記底部近傍の状態検査を行う。 （もっと読む）

【課題】ブランクマスクの欠陥等に起因する測定値の誤り発生を招くこと無しに、ブランクマスクの所望領域の表面粗さを迅速に測定する。
【解決手段】露光用マスクを作製するためのブランクマスクの表面粗さを測定するマスク表面粗さ測定方法であって、ブランクマスクに測定光を入射させ、該マスクによる暗視野像を取得する光学系を用い、該マスク上の任意領域の暗視野像を取得する第１のステップと、任意領域内の注目位置における暗視野像の像強度が予め定めておいたしきい値未満の場合に、該注目位置の周辺領域の像強度と予め定めておいた関係式とを用いて表面粗さを求める第２のステップと、任意領域の全ての点において第２のステップを繰り返し、得られた表面粗さを平均化する第３のステップと、第３のステップで得られた平均値を、任意領域の表面粗さとして出力する第４のステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】貼合わせウェハ全体について厚さを測定できる装置の提供。
【解決手段】貼合わせウェハ１の厚さ測定光学系及び観察光学系と、測定光学系から出力される信号を用いて貼合わせウェハ１の厚さを算出する信号処理装置とを具え、測定光学系は、第１の波長域の測定用光源３０と、この測定光を投射して光スポットを形成する対物レンズ１７と、その反射光の光検出手段４０とを有し、観察光学系は、前記第１の波長域とは異なる第２の波長域の観察用照明光を放出する照明光源４１と、照明光を投射する対物レンズ１７と、その反射光を受光して２次元画像を撮像する撮像装置４８とを有する。これらで共通の対物レンズ１７と測定光源及び観察光源との間の光路中には、前記測定光学系と観察光学系とを光学的に結合する波長選択性を有するカップリング素子３４を配置する。撮像装置４８は、前記測定光により形成された光スポットの像が重畳された像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】シート材の影響を抑制してテストパターンの位置を検出する画像形成装置を提供すること。
【解決手段】液滴の吐出タイミングを調整する装置１００であって、テストパターンからの反射光を読み出す読み取り手段３０と、均一パターンの印刷データを記憶する印刷データ記憶手段５４と、均一パターンを記録媒体に印刷した後、テストパターンを均一パターン上に印刷するパターン形成手段５２と、読み取り手段を等速で移動させる相対移動手段３１３と、テストパターンが形成された記録媒体に対し読み取り手段が相対移動しながら、テストパターンを光が横断する際に前記受光手段が受光した反射光の第１の検出データを取得する第１の検出データ取得手段６１７と、予め定められた上限値と下限値の間に含まれる第１の検出データにライン位置決定演算を施してテストパターンの位置を検出する位置検出手段６１６、を有する。 （もっと読む）