【課題】締結具の緩み検出システム及び検出方法に関し、締結具がナットの場合であっても緩みによる回転を検出しやすく且つ描画しやすい検出用マークによって、高速で精度よく締結具の緩みを検出することできるようにする。
【解決手段】締結具３の締結後に締結具３の表面に所定方向に向けて配備された検出用マーク５１，５２と、検出用マークを含んだ締結具３の外観を、予め設定され締結具３の軸心線に対して傾斜した撮影方向から撮影する撮影装置と、この撮影装置により撮影された画像中の検出用マーク５１，５２の数に基づいて、締結具３の緩みを判定するように構成する。 （もっと読む）

【課題】緩やかに湾曲する面に含まれる検査領域の欠陥を精度よくかつ容易に検出する。
【解決手段】欠陥検出装置１は、対象物９を移動する移動機構１１、検査領域において移動方向に垂直な方向に帯状に伸びるとともに移動方向に沿って並ぶ複数の照射領域に平行光を照射する複数の光照射部２、および、複数の照射領域からの乱反射光を受光して複数の照射領域を同時に撮像する撮像部３を備える。複数の照射領域の各位置における法線の方向を平均した方向を示す平均法線を含み、かつ、移動方向に平行な参照面に複数の光照射部２の光軸Ａ１〜Ａ３を投影した場合に、検査時において、投影された複数の線が平均法線に対して同じ側に傾斜し、複数の線と平均法線とのなす角が互いに異なるように光照射部２が設定され、対象物９が複数の照射領域の幅の最小値以下の距離だけ移動する毎に撮像動作が行われる。これにより、検査領域の欠陥が精度よくかつ容易に検出される。 （もっと読む）

【課題】被検査体における被検査面の立体形状を高速かつ高精度に把握することが可能な被検査体の検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査システムにおいて、第１走査ユニット３０のラインセンサ３８は、テレセントリックレンズ４０を介して基板２の被検査面を垂直に見た映像を走査する。第２走査ユニット３２のラインセンサ３８は、被検査面と垂直な方向から第１角度αだけ第１方向側に傾いた角度で基板２の被検査面を見た映像を走査する。第３走査ユニット３４のラインセンサ３８は、被検査面と垂直な方向から第２角度βだけ第２方向側に傾いた角度で基板２の被検査面を見た映像を走査する。判定部は、第１走査ユニット３０、第２走査ユニット３２、および第３走査ユニット３４によって取得された画像データを利用して基板２の被検査面の高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】 誤検出や検出誤差を抑えて、測定精度および測定繰り返し性能を向上させること。
【解決手段】 パターン光を、被検物体に対して特定の方向から投射する投射手段と、被検物体上におけるパターン光の投射位置と、被検物体との相対位置を変更する変更手段と、パターン光が投射された被検物体の像を、特定の方向と異なる方向から撮像して画像を生成する撮像手段と、相対位置に対する、撮像手段による受光光量を示すプロファイルを、受光光量と所定の閾値とを比較することにより複数のプロファイルに分割する分割手段と、複数のプロファイルのうち、検出に用いる１つのプロファイルを選択する選択手段と、選択手段により選択した１つのプロファイルに基づいて、被検物上におけるパターン光の位置を検出する検出手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 検査結果を出力させる際に画像処理を優先させるのか出力処理を優先させるのかを選択することができる検査支援システムを提供する。
【解決手段】 制御プログラムの実行時に得られる検査結果を出力バッファ５６に書き込む検査結果書込み部５３と、出力バッファ５６内のカメラ画像を読み出して出力するカメラ画像出力部５７と、出力バッファ５６内の計測結果を読み出して出力する計測結果出力部５８により構成される。検査結果書込み部５３は、出力バッファ５６内の空き容量が不足した場合に、新たに得られた検査結果を書き込まずに制御プログラムの実行を継続させる画像処理優先書込み部５４と、検査結果が読み出されることによって出力バッファ５６に検査結果が書き込めるようになるまで制御プログラムの実行を中断させる出力処理優先書込み部５５とからなる。 （もっと読む）

【課題】測定精度の劣化を低減することのできる干渉計を提供する。
【解決手段】干渉計は、レーザ光源１０と、レーザ光源１０から照射されたレーザ光Ｌ１を測定対象に２分波照射し各々の変位情報を有する光を合成する光波分割合成部２０と、合成レーザ光Ｌ６から第１位相を有する第１干渉光、第１位相と１８０度位相が異なる第２位相を有する第２干渉光、第１位相と９０度位相が異なる第３位相を有する第３干渉光、及び第１位相と２７０度位相が異なる第４位相を有する第４干渉光を生成する多位相干渉光生成部３０と、第１〜第４干渉光に基づく第１〜第４干渉信号Ｓａ〜Ｓｄの差に基づいて９０度位相差３相信号を生成する３相信号生成部４４と、９０度位相差３相信号をベクトル合成することにより９０度位相差２相信号を生成する２相信号生成部４５とを備える。 （もっと読む）

【課題】検出光がフォトディテクタに入射されない暗状態の直後であっても高精度かつ簡便に基板の面位置を検出しうる露光装置を提供する。
【解決手段】基板４の表面で反射された検出光のフォトディテクタ１３への入射位置に応じて基板の面位置を検出する面位置検出器を備え、検出された第１面位置情報を、検出光がフォトディテクタに入射しない暗状態の期間に応じて補正して、第２面位置情報を出力する補正部１５ｃを備える。または、検出光を検出領域に投光する投光系と検出領域で反射された検出光を検出するフォトディテクタとを有し、フォトディテクタへの検出光の入射位置に応じて検出領域の面位置を検出する面位置検出器を備える。そして、検出領域の外側に基板のショット領域が位置するときに、検出光を投光させ、検出領域で反射させた検出光をフォトディテクタに入射させて、フォトディテクタを所定の状態にセットする制御部１５を備える。 （もっと読む）

【課題】測定者の意図した測定が行われなかった場合であっても容易に測定条件の再設定を行う。
【解決手段】被測定物に投影光を投射する投光手段と、前記投影光による前記被測定物の投影光画像を取得する撮像手段であって、該撮像手段の撮像面を区分する部分領域毎の撮像による部分的な前記投影光画像を順に読み出す部分読み出しが可能に構成されるとともに、前記撮像面全面での撮像による前記投影光画像を読み出す全面読み出しが可能に構成された撮像手段と、前記撮像手段から部分読み出しされた複数の部分投影光画像に基づいて、前記被測定物の距離画像を算出する算出手段と、当該距離画像と前記撮像手段から全面読み出しされた全体投影光画像とに基づいて、前記被測定物の再測定部位を指定する指定手段と、前記指定された再測定部位に対応する測定条件を設定する設定手段とを備える３次元形状測定装置とする。 （もっと読む）

【課題】 通路を移動する被測定体の寸法を光電的に無接触かつ高分解能で測定する。
【解決手段】 移動経路Ｂを移動中の被測定体Ａの測長に際して、移動経路Ｂに沿って配置し、それぞれ複数個の発光素子１２ａ、１２ｂ、・・・及び複数個の受光素子１３ａ、１３ｂ、・・・を有する複数組の測定ユニット１１を用いて同時に測定を始める。つまり、各測定ユニット１１の各発光素子１２ａ、１２ｂ、・・・からの発光、消灯が順次に行われ、これと同期して対応する各受光素子１３ａ、１３ｂ、・・・が作動する。そこで、或る時点で各測定ユニット１１における光ビームを検知せずオフ出力をした受光素子１３ｉの総数を求めれば、被測定体Ａの長さを知ることができる。 （もっと読む）

【課題】表面状態に影響されずに、測定対象の表面形状を正確且つ簡便に測定する。
【解決手段】測定対象物の表面に板状のスリット光を照射して、表面に形成された照射像を二次元撮像手段によって検出する。二次元撮像手段には、受光感度の異なる複数種類の走査線が隣接して設けられている。受光感度の違いによって各走査線で得られる受光量は異なるが、光感度が所定の許容範囲外にある走査線は除いて、許容範囲内の走査線で得られた出力から、照射像の受光位置を走査線毎に検出する。そして、各走査線で得られた受光位置に基づいて測定対象物の形状を測定する。こうすれば、少なくとも何れかの受光感度の走査線では受光位置を検出できるので、受光位置が検出できた走査線を用いて測定することで、測定対象物の表面状態に、より影響されることなく形状を測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】対象物に反射率の高い部分と低い部分とが混在していても、対象物の測定を迅速かつ正確に行うことができる測定装置を提供する。
【解決手段】測定装置１０においては、投光素子１１からワークＷ及び測定台Ｔに線状の光が照射され、イメージセンサ１２においてその反射光が受光され、走査線毎に受光量に応じた受光信号が出力される。そして、その受光信号を入力したＣＰＵ１３において、ワークＷ及び測定台Ｔの受光位置が検出される。ＣＰＵ１３は、投光素子１１から照射する光の投光量を増減させるとともに、各投光量において検出された受光位置に基づいて、ワークＷ及び測定台Ｔの受光位置を求める。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定環境の明暗に依存することなくモニタ表示およびＦＯＶ表示をより良好に行うことができる三次元形状測定装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明における測定対象物の三次元形状を非接触で測定する三次元形状測定装置Ｄｉは、モニタ表示用の投光パターンを含む複数の投光パターンで光を投光する投光部１と、複数の投光パターンのうちの１つの投光パターンで光を投光するように投光部１の投光パターンを制御する投光制御部５１と、投光制御部５１が投光部１にモニタ表示用の投光パターンで光を投光させている場合に、撮像面に結像した光像を撮像する受光部２を備える。 （もっと読む）

【課題】３台以上のカメラを複数とおりに組み合わせた３次元計測と２次元計測処理とを合わせた処理のシーケンスを、容易に設定できるようにする。
【解決手段】４台のカメラにそれぞれ個別のカメラコード０／１／２／３を設定するとともに、２次元画像処理および３次元計測の各処理対象画像の切替を示す処理項目（２次元カメラ切替、３次元カメラ切替）を個別に設定し、これらの処理項目を切替後の画像に対応するカメラのカメラコードの入力とともに受け付け、シーケンスに組み込むようにする。シーケンスを実行する場合には、２次元画像処理および３次元計測につき、それぞれカメラコードによる管理情報を個別に設定し、『２次元カメラ切替』または『３次元カメラ切替』として、この処理項目に対応づけられたカメラコードにより管理情報を更新する処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】微小線幅測定装置等の検査装置においては、カメラのブラックレベルが固定で、調光器により、光量を調整するだけのため、測定するパターンによっては、コントラストが悪い画像となってしまう。
【解決手段】画像処理部と、顕微鏡と、光源と、光源の光量を調整する調光器と、カメラと、調光器による調光を画像の輝度値から行い、測定パターンによってカメラのブラックレベルを最適な値に設定する制御部とを設け、最低輝度の数によって、カメラのブラックレベルを測定パターン毎に最適な値に設定することで、コントラストの高い画像を得る。これによって、カメラのダイナミックレンジを有効利用することが可能となり、高精度な測定を可能とした。 （もっと読む）

【課題】測定時間を短縮することができ、Ｖ字溝やＵ字溝状で形成された刻印文字の深さ計測を可能とするとともに、鏡面反射する刻印面であっても測定精度への影響が少ない刻印検査装置を提供する。
【解決手段】レーザスリット光源４１〜４５を走査ユニット７１の移動ステージ７２に支持し、Ｙ方向７３へ移動可能とする。各レーザスリット光源４１〜４５からのスリット光３１の照射位置を、対応したＣＣＤカメラ８１〜８５で斜め上方から撮像する。刻印面２で正反射するスリット光３１の正反射光９１が対応するＣＣＤカメラ８１〜８５に直接入力されないようにレーザスリット光源４１〜４５とＣＣＤカメラ８１〜８５との関係を設定する。各ＣＣＤカメラ８１〜８５で取得した画像を制御装置１０１で解析する。 （もっと読む）

【課題】 ラインセンサからの受光量の出力時間を短縮化させ、応答性を向上させた光学式変位計を提供することを目的とする。
【解決手段】 同一の半導体基板上に奇数素子２０ａ及び偶数素子２０ｂが交互に配置されたラインセンサ２０と、奇数素子２０ａの受光量が入力され、当該受光量を順に出力する第１シリアル出力部２１ａと、偶数素子２０ｂの受光量が入力され、当該受光量を順に出力する第２シリアル出力部２０ｂとを備え、奇数素子２０ａ及び偶数素子２０ｂのいずれか一方から出力される同時に露光して求められた受光量に基づいて、上記ラインセンサの投受光条件を求めるフィードバック制御を繰り返し、受光量調整のための時間を短縮化させる。 （もっと読む）

位相解析を用いて対象物体を検査するための非接触法および装置。プロジェクタは、検査される対象物体の表面上に光学的パターンを投影する。次いで、光学的パターンが投影される表面の少なくとも第１の画像および第２の画像を得る。表面上の光学的パターンの位相は、対象物体に相対的にプロジェクタを移動することによって前記第１の画像と第２の画像との間で変化される。
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【課題】隠れ点を考慮して簡易に精度良くマッピング画像を取得できるようにする。
【解決手段】同期制御部２０により距離画像を取得するための撮像部２Ａおよび撮像部２Ｂの駆動を同期させて距離画像および２次元画像を取得する。対応関係算出部３０により、距離画像上における画素と、２次元画像上における画素との対応関係を算出する。この際、隠れ点検出部３１において、撮像部２Ａからは臨むことができるが撮像部２Ｂからは臨むことができない被写体上の隠れ点を距離画像および２次元画像上において検出する。マッピング部３２により、対応関係に基づいて、隠れ点を視認可能に２次元画像を距離画像にマッピングしてマッピング画像を生成する。 （もっと読む）

光学測定装置は光学系（１００）を含む。光学系（１００）は、放射源（１０２）と、撮像装置（１１２）とを含む。放射源（１０２）は、使用時に電磁放射のビームを生成するように構成される。更に光学系（１００）は、電磁放射のビームを測定部位（１３２）に入射するように構成される。光学測定装置は、測定部位から反射ビームを受光し且つ反射ビームの受光に応答して光学系との測定部位の位置合わせの程度を示すフィードバック情報を提供するように構成されるフィードバック構成（４００、６０２、６０４）を更に含む。
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【課題】欠陥検査の条件設定にかかる負荷を軽減すると共に、条件設定を含む欠陥検査を効率化することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】カメラに対してウェハを移動させながら撮像し、撮像された画像に基づいてウェハｗの欠陥を検査する欠陥検査装置において、ウェハの撮像領域を分割して複数の分割領域を生成する撮像領域分割部２０８し、分割領域がカメラに撮像されるウェハの撮像位置を少なくとも含むパラメータを設定するパラメータ設定部２０３、撮像位置にウェハが達するタイミングを検出し、トリガ信号を発する撮像タイミング制御部２０２を設け、トリガ信号をトリガとしてカメラがウェハを撮像するよう構成する。 （もっと読む）