【課題】測定対象の汚染を適切に防ぐことができ、また、測長処理にかかる時間を短縮することができる電子ビーム測長装置及び測長方法を提供する。
【解決手段】電子ビームを発生する電子銃１６と、電子ビームを偏向する偏向器２６と、測長対象１２を載置可能なステージ１４部と、電子ビームに起因して飛散する電子を検出する検出器３６と、測長対象内の所定の測長部分が存在すべき設計位置を特定する設計位置情報を記憶する記憶部５０と、設計位置情報に基づいて、偏向器２６により所定の測長部分が存在すべき設計位置に電子ビームが照射されるように電子ビームを走査し、電子ビームが走査されている際に、検出器３６により逐次検出される電子の変化状況に基づいて、測長部分の長さを測る測長制御部５８とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドにおける液滴の挙動を観察する。
【解決手段】ノズル１３が連通する液室１２に充填された液に振動印加または加熱により液滴１５をノズル孔１４から射出させる液滴吐出ヘッド１０に対しエックス線をパルス照射する照射手段と、照射手段により照射された液滴吐出ヘッドのエックス線透過像または反射像を画像化する画像化手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】
試料像のふちにカーソルを正確に位置付けすることを可能として、２本のカーソル間の寸法を求めることができる電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
試料の画像を表示するディスプレイと、試料の画像上に寸法測定用のカーソルを重ねて表示させるコンピュータとを備え、該コンピュータは、カーソルをディスプレイへ表示された試料の画像の所望の位置へ移動させることによって、カーソル間の距離を演算し、ディスプレイへ表示させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細な半導体パターンに対する広視野な撮像領域（ＥＰ）において、コンタミネーション、画像の撮像ずれや歪みに対してロバストなパノラマ画像合成を実現できるようにした走査荷電粒子顕微鏡を用いたパノラマ画像合成技術を提供することにある。
【解決手段】走査荷電粒子顕微鏡を用いた広視野な撮像領域（ＥＰ）におけるパノラマ画像合成技術において、各調整ポイントの配置並びに各局所撮像領域（及び各調整ポイントの撮像順からなる撮像シーケンスを最適化して撮像レシピとして作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの複雑な構造のばらつきを直感的かつ定量的に評価することができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物の像を検出する画像検出部６、検出した画像を処理する画像処理部９１、被検査物をスキャンするビーム制御系９２およびステージ制御系９３を有するスキャン制御部を備えた画像検出部１０と、検出した画像から外観を検査する外観検査処理部２０とを備えた外観検査装置において、外観検査処理部１０が、取得した複数の像を重ね合わせ、像の各点（ｘ，ｙ）における代表的な値（代表値データμ(ｘ，ｙ)）を求める代表値データ作成処理機能２１２と、複数の像の各点（ｘ、ｙ）における許容範囲の値（ばらつきデータσ(ｘ，ｙ)）とを求めるばらつきデータ作成処理機能２１３と、代表的値データとばらつきデータとを元に、検査対象物の良否を判定する判定処理機能２１４を有する。 （もっと読む）

【課題】シリンダーの長さについて調整する必要がなく、連続的に検出可能である距離測定装置を提供すること。
【解決手段】放出信号を、反射体を有する伝導構造体の中へ送り込むための少なくとも一つの結合プローブを有し、分析エレクトロニクスとセンサー装置とを有し、伝導構造体は、ＨＦトランシーバーを、誘電体支持装置を有する導波管を介して、結合プローブに接続する送り領域を有する送りブロックを有する距離測定装置であって、結合プローブは、三段位相モジュールとして設けられ、その中央に平らなベース領域を有し、その次に、シリンダーが設けられ、ピンが設けられ、そのピンによって、送り領域が、結合プローブに接続される距離測定装置。 （もっと読む）

【課題】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた回路パターンの寸法計測において、試料上の任意の評価ポイント（ＥＰ）を自動で撮像し，評価ポイントに形成された回路パターンを自動で計測することを可能にする。
【解決手段】
本発明では、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた回路パターンの寸法計測において、ＥＰの座標データと前記ＥＰを含む回路パターンの設計データを入力とし，前記ＥＰ座標データと設計データから，前記ＥＰ内に存在するパターンを計測するための測長カーソルの生成および測長方法の選択あるいは設定を自動で行うようにしてレシピを自動生成し，このレシピを用いて自動撮像・計測を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】
コンクリートを始めとする媒質中の異性物の変質部、特に異性物である金属又は鉄筋の変質部である腐蝕部の厚さの計測を可能とする。
【解決手段】
媒質の表面に対向して設けられた送信アンテナから電磁波を前記媒質に向けて発信し、信号伝播モデルに基づく予測波形と実際に得られた波形とのパターンマッチングにより、前記変質部の上面からの反射波と前記変質部の下面からの反射波の大きさ及び伝播時間の差を求めることにより前記変質部の厚さを測定する。 （もっと読む）

【課題】
パターンの形状や試料特性に応じて，高速・高性能な画質改善処理を行う。
【解決手段】設計データや，設計データ上の各領域に対応する試料特性情報を用いて画質改善処理を行うことにより，画像上の個々の領域に対応する試料特性に応じて適切な画質改善処理を施し，画像上の領域分割を高速に行うといった処理を可能とする。さらに，設計データと対応する画像情報を保存したデータベースを利用することにより，類似した設計データにおいて過去に撮像した画像との差が大きい箇所を自動で強調する等の画質改善処理を可能とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的はパターンエッジの傾斜を評価するのに好適な試料測定方法、及び試料測定装置の提供にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、以下にパターンエッジについて、複数の輪郭線を形成し、その輪郭線間の寸法を評価する方法、及び装置を提案する。このように複数の輪郭線を形成することによって、パターンのエッジ部分の傾斜の程度を評価することが可能となる。また、エッジ部分の傾斜の程度の評価値を、面内分布表示することによって、テーパーが形成される要因を特定することが容易になる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、同種画像間の画像認識に用いられるテンプレートと同等の情報を、設計データに基づいて形成されるテンプレートに付加することで、実画像を取得することなく、設計データに基づいてテンプレートを作成することのできる容易性の維持と、テンプレートと実画像の一致度を高めることによる画像認識技術性能向上の両立にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、以下に設計データに基づいて、画像認識用のテンプレートを作成する際に、当該テンプレートによって特定される領域の材料情報に基づいて、当該テンプレート内の各位置の輝度情報を設定する方法，装置、及びプログラムを提案する。また、その一例として、材料の情報に加えて、上記領域上に配置されたパターンの大きさ，画像取得装置の装置条件，試料の層情報，パターンの線分情報の少なくとも１つの情報に基づいて、輝度レベルを設定する。 （もっと読む）

【課題】耐ノイズ性が高く，僅かな解像力の差異が抽出可能な静電潜像評価方法、静電潜像評価装置、画像形成装置を得る。
【解決手段】静電潜像パターンが形成された光導電性試料の面を荷電粒子ビームにより走査し，パターンによる電気的影響を受けた荷電粒子を捕獲して強度信号を検出し，強度信号から潜像パターンを含む断面プロファイルを抽出し，露光部，非露光部の強度信号から基準量，特徴量を抽出し，光導電性試料の潜像解像力を算出する。空間周波数の異なる複数の静電潜像パターンを光導電性試料の面に形成し，それらの断面プロファイルにおける露光部，非露光部の強度信号のうち，最も空間周波数の低いパターンの露光部における強度信号値，パターン外の非露光部における強度信号値を基準量として，各空間周波数において潜像の解像力を算出し，潜像のレスポンス関数を算出する。 （もっと読む）

【課題】鋼鈑の表面に形成されている、マグネタイトを含む酸化膜の厚さを非接触で測定できるようにする。
【解決手段】表層からヘマタイト２ｂ及びマグネタイト２ａが形成されている２層構造のスケール２が表面に形成されている熱延鋼鈑１に対してテラヘルツ波３を照射することにより、ヘマタイト２ｂの厚さを求める。そして、熱延鋼鈑１に対してレーザ光を照射して、ヘマタイト２ｂを除去すると共に、マグネタイト２ａを、そのマグネタイト２ａと略同じ厚さのウスタイト２ｃに変態させる。このようにしてスケール２をウスタイト２ｃだけにした後、熱延鋼鈑１に対してテラヘルツ波３を照射することにより、ウスタイト２ｃの厚さを求める。そして、算出したヘマタイト２ｂの厚さとウスタイト２ｃの厚さとから、スケール２の全体の厚さを算出する。 （もっと読む）

【課題】薄膜積層体の膜厚を高い精度で計測し、検査することが可能な薄膜積層体検査方法を提供する。
【解決手段】可干渉距離の長いＸ線を入射Ｘ線１とし、回転台３上に置かれた試料２で鏡面反射されたＸ線の一部をプリズム６で曲げ、直進したＸ線とプリズムで曲げられたＸ線を干渉させ、干渉縞を得る。試料は薄膜積層体であるが試料の一部に、薄膜が無く基板５が露出した部分がある。プリズムで曲げられなかったＸ線の一部に基板部分で鏡面反射されたＸ線９を含み、入射角を０．０１°から１°の範囲で変えて鏡面反射したＸ線の干渉縞を測定し、積層膜界面で反射されたＸ線の位相変化から膜厚を計測する。 （もっと読む）

【課題】メタル層を除去することなく、簡単に且つ正確に炉底耐火物の侵食量を測定することができ、適性な運転計画を立てることができる溶融炉の炉底耐火物浸食検知方法を提供する。
【解決手段】炉内に投入された被処理物を溶融処理することにより、炉底にスラグ層２２と、その下方にメタル層２３とが堆積された溶融炉１０にて、炉底耐火物１８の侵食量を測定する溶融炉の炉底耐火物浸食検知方法において、予めスラグ温度−炉底耐火物温度の相関関係と、前記炉底耐火物の侵食速度式を求めておき、溶融炉の運転中に、前記スラグ層のスラグ温度を計測し、該計測されたスラグ温度から前記スラグ温度−炉底耐火物温度の相関関係に基づいて耐火物温度を推定し、該推定した耐火物温度から前記侵食速度式を用いて炉底耐火物の侵食量を算出し、この侵食量に基づいて溶融炉の運転計画を修正する。 （もっと読む）

【課題】試験構造を有する基板上のダブルパターニング・オーバレイ誤差の計算の信頼性を改良する。
【解決手段】基板上の第一構造と第二構造の間のオーバレイを測定する方法が提供される。構造は、平行線などの等距離要素を備え、第一及び第二構造の等距離要素が交互になる。本発明によれば、第一構造の要素の設計幅ＣＤ₁は、第二構造の要素の設計幅ＣＤ₂と異なる。設計幅の差を使用して、不適切に測定されたオーバレイ誤差を有する測定点を識別することができる。 （もっと読む）

【課題】薄膜結晶についても容易に表面形状や結晶性を評価可能な技術を提供する。
【解決手段】Ｘ線波面センサは、入射されるＸ線を複数の光束に分割する波面分割素子と、各光束を試料の異なる領域に照射し、それぞれの反射光を干渉させて検出する計測器とを備える。例えば、Ｘ線発生装置１０から入射されるＸ線をＸ線プリズム１２によって波面分割し、一方の光束はそのまま試料１４に当て反射光を検出器１６で検出する。もう一方の光束は、Ｘ線プリズム１５によって偏向して試料１４に当て反射光を検出器１６で検出する。検出器１６に現れる干渉縞の向きや間隔から、試料結晶１４の表面形状や結晶性の評価が可能となる。 （もっと読む）

【課題】エッジ部分のコントラストが希薄であってもラインプロファイルに基づくエッジを適切に判定し、パターンの測長を実行することのできるパターン寸法測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明は荷電粒子線の走査によって試料上に形成されたパターンの寸法を測定するパターン寸法測定方法及び装置に関する。当該方法及び装置では、荷電粒子線の走査によって、試料上の画像を形成し、形成された画像の一部の領域を選択し、選択された画像の一部の領域を他の像に置換し、画像の一部が他の像に置換された画像を用いて、パターンの寸法測定を行うようにしている。 （もっと読む）

【課題】わずかな間隔の違いを拡大して表現するモアレ法を、特に微細な領域での測定を得意とする電子線モアレ法を用い、容易に走査照射装置の走査精度を検定する方法を提供する。
【解決手段】検定試料として、グリッドを形成する材料と基板とが粒子線又はエネルギー線に対する透過性又は反射特性又は電子やイオンの発生特性が異なるようにして、前記基板にグリッドが形成された基準板に対して、平行にあるいは鋭角な角度を持って前記粒子線又はエネルギー線を走査状に照射して画像を得る。広範囲における倍率を検定できるよう、基準となるグリッドを校正すべき装置の能力に見合うように作製し、これを用いてモアレ縞を発生させ、このモアレ縞の形状より、走査幅の不均一や不正確さを検定校正する。 （もっと読む）

【課題】ランスと溶銑の液面との距離を、処理ガスの吹き付け中であっても正確に計測でき、処理ガスとの反応特性を改善できるランス装置を提供する。
【解決手段】ランスにマイクロ波距離計を組み込み、該マイクロ波距離計によりランスと溶融金属の液面との距離を検出し、検出した位置情報を基にランスの位置を制御するランスの位置制御方法、並びに炉内の溶融金属に処理ガスを吹き付けるための噴射口を備えるランスと、前記ランスに組み込まれ、該ランスから溶融金属の表面までの距離を測定するためのマイクロ波距離計とを備えるランス装置。 （もっと読む）