【課題】環境が悪くても、走行金属面上の突起物を確実に検出する。
【解決手段】突起物検出装置１００は、電磁波を放射する送信用アンテナ２３と、反射された電磁波を受信する受信用アンテナ２４と、送信信号及び受信信号を処理する送受信信号処理部２００と、を備える。前記送信用アンテナ及び前記受信用アンテナは単方向指向性を有し、前記受信用アンテナは、前記送信用アンテナから放射され前記金属面３００に反射された電磁波を捉えることがなく、前記送信用アンテナから放射され前記金属面上の突起物３０５に反射された電磁波のみを捉えるように設置されている。 （もっと読む）

【課題】高精度かつ短時間で結晶格子像と相似のモアレパターンを得ることを可能にする。
【解決手段】走査型顕微鏡を用いて、結晶構造の結晶格子モアレパターンを取得する方法であって、前記結晶構造の走査面において、前記結晶構造と方位に対応して、複数の仮想格子点を周期的に配置する工程と、入射プローブを用いて複数の前記仮想格子点からの信号を検出する工程と、検出した前記信号に基づいて、前記結晶構造の結晶格子モアレパターンを生成する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】加熱装置において、被加熱物のカロリーを非接触で簡易に算出し、そのカロリー値を簡易に管理することを目的とする。
【解決手段】テラＨｚ帯の高周波通信手段１０，１１による吸収量、反射量から被加熱物５のカロリー情報を非接触で検出する被加熱物カロリー算出手段１２と、被加熱物のカロリーを算出するために必要な重量、形状を測定する物理量検出手段１３と、被加熱物を加熱する加熱手段１と、加熱手段等を制御する制御手段１５により被加熱物のカロリーを算出し、カロリー情報を管理蓄積するカロリー管理手段２０で構成する。これによって、非常に簡単に被加熱物の種類によらずカロリーを測定、管理することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】新たな設備を設けないで、被測定物の上下動による誤差を補正し、測定精度の向上を図った放射線厚さ計を提供することを目的とする。
【解決手段】被測定物３を搬送するパスライン平面と垂直な方向で、被測定物を挟むように設けるＣ型フレーム１ｄと、Ｃ型フレームの対向する一方の腕部に設ける放射線源１ａと、他方の腕部に設け、透過放射線を検出する主検出器１ｂと、主検出器１ｂの周囲で、被測定物から散乱する散乱線を検出する副検出器１ｃとを備える検出部１と、主検出器で検出する放射線の増減による出力変化と副検出器で検出される散乱線成分の出力変化とが一致するように予め求められる補正計数を記憶し、前記被測定物が前記パスライン平面と垂直な光軸方向に移動した場合に、副検出器の出力から補正計数を選択して乗じ、さらに、主検出器と副検出器との差を求める補正演算部２ａと厚さを求める厚さ演算部２ｂとを備える演算部２とを備える。 （もっと読む）

【課題】感光体の表面に生じている電荷分布あるいは電位分布を、ミクロンオーダーの高分解能で計測することが可能な静電潜像の測定装置、測定方法および測定された感光体を用いた画像形成装置を得る。
【解決手段】感光体試料２０に電子ビームを照射して帯電させ、露光部６によって静電潜像を形成し、電子ビームの走査によって感光体試料２０からの放出電子を検出し、この検出信号により感光体試料面の静電潜像分布を測定する。露光部６は、ＬＤ光源６１と、光偏向器６５と、レーザー光の走査範囲の端部で同期信号を生成する同期信号生成手段と、同期信号に基づきレーザー光が感光体試料面を走査するときの発光タイミング制御信号を生成する書込みタイミング信号生成手段と、を備え、露光部６による露光の終了から所定のタイミングで静電潜像の分布を測定する。 （もっと読む）

【課題】被測定木材の表面凹凸の分布のみではなく、密度や含水率に起因する誘電率を含む分布を測定することを第１の課題とし、その誘電率のみの分布を測定することを第２の課題とする。
【解決手段】被測定木材２０に対して導波管１１ａから電磁波を照射し、反射した電磁波を用いて反射強度分布を生成する。また、電磁波の振動方向（電界振動面）が異なる向きで走査して得られた２つの反射強度分布の差分を求める。 （もっと読む）

【課題】
測長ＳＥＭは高速な寸法計測が可能であるが，原理上，パターン形状に依存したシステマティックな計測バイアスを有す問題がある。測長ＳＥＭの計測値を校正するには，例えば，ＡＦＭの計測値との比較が必要であるが，従来，測長ＳＥＭとＡＦＭとで同一箇所の寸法計測を行うのは容易ではなかった。
【解決手段】
設計レイアウトデータを用い，測長ＳＥＭとＡＦＭの撮像レシピを自動作成する。また，両装置間の撮像位置ずれ，撮像倍率ずれを自動補正する。これにより，両装置の寸法計測結果の照合を，より容易かつ高精度に行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波レベル計のみでスラグの厚さを正確に測定する方法及び装置を提供する。
【解決手段】溶鉱炉内において溶鉄上に浮遊するスラグの厚さ測定する方法であって、上端または管内にマイクロ波送受信用のアンテナが設置されたガイドパイプを、スラグに向けて降下させながら該ガイドパイプの下端の開口を通じてマイクロ波の送受信を行い、降下位置毎に反射位置と受信強度とをモニタするとともに、最も大きな２つの受信強度のピークが現れた降下位置における前記ピークの反射位置の差をスラグの厚さにする。 （もっと読む）

【課題】プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けするシステムを提供する。
【解決手段】既知のオブジェクトのイメージ４２を取り込むこと、及び、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル２０を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎に調節される４０ことによって、調節された推定プロファイルが、上記イメージに関連する当該回折スペクトルとともに記憶される。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る。 （もっと読む）

【課題】
計測対象パターンのＳＥＭ信号波形と，シミュレーションにて算出した断面形状と信号波形を関連づけるライブラリとのマッチングにより計測対象パターン断面形状を推定する手法において、対象パターンの近傍のパターン密度／配置の影響が考慮されるようにする。
【解決手段】
入射電子線の内部拡散長に基づいて周囲パターンの有無を考慮すべき領域のサイズを決定し，設計レイアウトデータを用いて，前記領域サイズ内のパターンの三次元情報を作成，この三次元情報を用いて，ＳＥＭ信号波形と断面形状とを関連づけるライブラリを作成する。従来，計測対象パターン近傍のパターン密度／配置の違いが断面形状計測の誤差要因となっていたが，この方法によれば，必要十分な領域範囲内でのパターン密度／配置の情報がライブラリに反映されるため，計測精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】高炉に挿入された装入物の表面のプロファイルを面状に測定でき、プロフィール測定中でも装入操作が可能で測定したプロフィールに応じて迅速な導入操作を可能にし、更に装置全体の小型軽量化を図る。
【解決手段】マイクロ波送受信手段に連結するアンテナと、反射角度可変の反射板とを容器内に収容し、該容器を高炉上部の適所に設けた開口に気密に取り付け、アンテナから発射されたマイクロ波ビームを反射板で反射して装入物の表面を面状に走査するとともに、表面で反射されたマイクロ波をマイクロ波送受信手段で検波して走査位置に対応する距離データを求めてマップ化する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、微細化されたデバイスの特性評価のために、プローブ相互間及び試料とプローブとの位置関係を把握して、信頼性の高い検査装置及び検査方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、電子源と、前記電子源から放出される電子線を試料に照射し、試料から放出される信号を検出する検出器と、試料を搭載するステージと、前記試料に触針する探針と、を有する検査装置において、前記試料の形状及び前記探針の形状及び配置の情報に基づいて、前記試料と前記探針の三次元画像を構成する演算部を備え、当該三次元画像を表示する表示装置を備えたことを特徴とする検査装置を提供する。前記三次元画像は、任意の方向からの画像を表示することができることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ光源の光出力の時間変化を測定することにより、感光体に形成された静電潜像を評価し、レーザ光源などの性能ないしは特性を評価する画像評価装置、画像評価方法を得る。
【解決手段】感光体１３９上に形成される静電潜像を評価する。レーザ光源１３１と、レーザ光源を所定の変調信号で駆動することによりレーザ光を射出させる駆動装置と、レーザ光源１３１からのレーザ光を感光体１３９上で走査して感光体上に静電潜像を形成する走査装置と、感光体１３９上の静電潜像の測定装置と、を有し、測定装置は、静電潜像の形成開始時と形成完了時の形状の変化を測定することができ、この形状の変化からレーザ光源の光出力の時間変化特性を評価する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、実波形とライブラリとの比較に基づいて、形状を推定するに際し、適正な形状推定を行うことができるパターン形状選択方法、及び装置の提案を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、取得された波形をライブラリに参照することによって、パターンの形状を選択する方法、及び装置であって、試料に対する荷電粒子線の照射に基づいて、複数の波形取得条件にて波形情報を取得し、当該複数の波形情報を、複数のパターン形状毎に、異なる波形取得条件で取得された波形情報が記憶されたライブラリに参照することによって、前記ライブラリに記憶されたパターン形状を選択する方法、及び装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】舗装の内部損傷箇所を非破壊で迅速に定量調査できる方法を提供する。
【解決手段】上記課題は、舗装路面Ｒにおける検出対象領域の全体にわたり所定の間隔で、電磁波レーダーｋによる探査を行い、各反射波検出位置４０について前記内部損傷で反射した部分を含む又は含まない反射波データ５０を取得し、この反射波データ５０に基づき、各反射波検出位置４０の所定深さにおける反射波強度５５を取得し、この反射波強度５０が所定の強度しきい値以上となる反射波検出位置４０を、内部損傷で反射した部分を含む反射波が検出された内部損傷箇所とし、且つ反射波強度が所定の強度しきい値未満となる反射波検出位置４０を、内部損傷で反射した部分を含まない反射波が検出された非内部損傷箇所として、検出対象領域に占める内部損傷箇所の割合を定量化する、ことを特徴とする舗装の内部損傷箇所の非破壊調査方法により解決される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料を変えることなく、スケールレベルが異なる歪みを一貫して計測できる歪み計測手段を提供することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、歪み計測用パターンは、歪み計測方法にて試料の歪みを可視化する為に試料表面に形成され、異なるスケールレベルの歪みに適合した複数のパターンを同一試料面に重ねて形成してあること、また、前記各パターンは、相互にその規則性、形状又は大きさが異ならせてあることを特徴とする手段を用いた。
また、前記歪み計測用パターンにおいて、モアレ法用のグリッドパターンと画像相関法用のドットパターンとが重ねられてなること、ミリスケール用パターンと、ナノスケール用パターンとにより構成されていることを特徴とする手段を採用した。 （もっと読む）

【課題】短時間で精度良く対象物の形状を推定できることができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る形状測定装置は、複数の搬送波を生成する複数の発振回路１２２と、変調信号を用いて前記複数の搬送波を変調する複数の送信回路１２４と、前記複数の送信回路１２４により変調された複数の搬送波を複数の放射波として放射する複数の送信アンテナ１３０Ａ〜１３０Ｃと、前記対象物で反射された前記複数の放射波それぞれの一部である複数の反射波を受信する複数の受信アンテナ１４０Ａ〜１４０Ｃと、前記複数の受信アンテナ１４０Ａ〜１４０Ｃで受信された前記複数の反射波と前記複数の放射波との相関を示す複数の相関波形を求める複数の受信回路１２５と、前記複数の相関波形に基づいて前記対象物の形状を推定する信号処理回路１５０とを備え、前記複数の搬送波それぞれの周波数は、独立に設定される。 （もっと読む）

【課題】
半導体パターンの広範囲の撮像領域（ＥＰ）を複数の撮像領域（ＳＥＰ）に分割し，ＳＥＰをＳＥＭを用いて撮像した画像群を画像処理により繋ぎ合せるパノラマ画像合成技術において，繋ぎ合せの手掛かりとなるパターンが少なくても全画像が繋がるＳＥＰを決定すること，およびそのようなＳＥＰを決定できなくてもユーザの要求項目をなるべく満たすＳＥＰを決定することである。
【解決手段】
一部のＳＥＰ間の重複領域に繋ぎ合せの手掛かりとなるパターンが含まれなくても全画像が繋がるケースがあることに着目し，ＳＥＰ配置の最適化により前記ケースを抽出することで全画像が繋がるＳＥＰを決定できるケースが増える。また，そのようなＳＥＰを決定できなくても，複数のＳＥＰ配置の候補とユーザの要求項目を可視化した情報を表示・ＳＥＰを選択させることでユーザの要求項目をなるべく満たすＳＥＰを容易に決定できる。 （もっと読む）

【課題】工業炉内の熱の影響を抑えると共に、ダスト等が付着することによる検知精度への影響を抑えることのできる層高レベル検知装置及び工業炉を提供する。
【解決手段】工業炉内の層高レベルをマイクロ波を用いて検知する層高レベル検知装置において、炉１内にマイクロ波を発信する発信部と、反射マイクロ波を受信する受信部と、を有するマイクロ波レベル検知計３２と、前記発信部及び受信部を炉内空間から隔てるセラミック系繊維フィルタ３５と、前記セラミック系繊維フィルタにパルスガスを供給するガス供給装置５と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】凹パターンと凸パターンを有する絶縁膜における凹パターンの底面を明瞭に観察する。
【解決手段】絶縁膜に形成された、ラインパターン２とスペースパターン３を有するパターン１を観察するパターン観察方法であって、パターン１に電子ビームを照射してパターン１の仮画像を取得し、この仮画像を用いてラインパターン領域４とスペースパターン領域５を算出し、ラインパターン領域４に対して正帯電条件で電子ビームを照射し、かつ、スペースパターン領域５に対して負帯電条件で電子ビームを照射することにより、ラインパターン２の上面とスペースパターン３の底面との間に、スペースパターン３の底面から放出される二次電子をパターン１の外側に引き出すための電界を形成し、その後、パターン１に電子ビームを照射して、スペースパターン３の底面の情報を有するパターン１の画像を取得する。 （もっと読む）