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Fターム[2G001QA01]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 試料保持、収容手段、状態等 (844) | 測定装置内の手段 (507)

Fターム[2G001QA01]に分類される特許

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【課題】 従来のナライザによるけられ(遮蔽)を解消し、分解能に優れたデバイシェラー光学系を備えたX線回折測定装置とそのための方法を提供する。
【解決手段】 被測定試料Sに照射する特性X線を発生するX線源10と;試料を中心に取り囲んで配置されたX線フィルム30と;試料とX線フィルムとの間に配置され、試料からの散乱X線を、当該試料を中心に所定の角度で集めてX線フィルムの所定の位置に照射する放物面を有する人工多層膜からなるミラー100を備えたデバイシェラー光学系を備えたX線回折測定装置により、散乱X線を、当該試料を中心に所定の角度で集め、当該試料を中心に取り囲んで配置されたX線フィルム上にデバイ環を得る。 (もっと読む)


【課題】 信頼性の高い放射線検出器を提供する。
【解決手段】 X線ラインセンサ1では、低エネルギ範囲のX線を吸収して光を発するシンチレータ層24と、高エネルギ範囲のX線を吸収して光を発するシンチレータ層26とが接触させられており、更に、後側のシンチレータ層26の厚さよりも、前側のシンチレータ層24の厚さが薄くなっている。これらにより、同じ角度で前側から入射した低エネルギ範囲のX線及び高エネルギ範囲のX線に対するシンチレータ層24での発光位置P1とシンチレータ層26での発光位置P2とのずれ量が小さくなるため、このとき、シンチレータ層24が発した光及びシンチレータ層26が発した光は、対向する光検出部16及び光検出部23によって検出されることになる。従って、同時に取得された低エネルギ範囲のX線透過像と高エネルギ範囲のX線透過像とがずれるのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】平行ビーム法を用いたX線回折法において、角度分解能が優れていて、X線強度の低下が少なく、構造が簡素化されたX線回折装置およびX線回折方法を提供する。
【解決手段】平行ビームのX線24を試料26に照射して、試料26からの回折X線28をミラー18で反射させてからX線検出器20で検出する。ミラー18の反射面は複数の平坦反射面の組み合わせからなり、回折平面に平行な平面内において、各平坦反射面の中心点は、試料26の表面上に中心を有する等角螺旋の上にある。X線検出器20は、回折平面に平行な平面内において1次元の位置感応型である。異なる平坦反射面で反射した反射X線が、X線検出器20の異なる地点にそれぞれ到達するように、複数の平坦反射面とX線検出器20との相対位置関係が定められている。 (もっと読む)


【課題】透視拡大率を大きくした場合にも試料ステージとX線放射窓が直接接触しないようにする。
【解決手段】 X線管1は鉛直の上方に向かってX線を放射するように配置され、X線検出器6は2次元的にX線を検出する検出面7がX線管1に対向するように下方に向けて配置される。X線管1とX線検出器6との間には試料ステージ3が配置される。試料ステージ3は試料5を載せてX線光軸9の方向に駆動されるとともに、水平面内で2次元的に駆動される。試料放射窓13の周囲にフッ素樹脂からなる保護部材11を配置し、保護部材11の先端表面12は試料放射窓13の先端表面14よりわずかに突出させる。大きな拡大率の透視像を得る場合に試料ステージ3の試料載置部15がX線管1に接触するが、試料載置部15は保護部材11に接触するのみであって、試料放射窓13には直接的には接触しない。したがって試料ステージの駆動による摩擦の影響が少なくなる。 (もっと読む)


【課題】 試料中に微量に含有している化学結合状態の分析を短時間に適切に行う。
【解決手段】 エネルギーアナライザを通過する光電子のパスエネルギーを一
定にする様にしたX線光電子分光分析方法において、パスエネルギーを、分析
すべき試料2に含まれる化学結合状態の固有エネルギースペクトルのピーク位
置とピークの半値幅、前記エネルギースペクトルに最も近接した他の化学結合
状態の固有エネルギースペクトルのピーク位置とピークの半値幅、及び、試料
に照射されるX線のエネルギースペクトルのピークの半値幅に基づいて設定す
る。 (もっと読む)


【課題】 ビニング処理を実行するか否かの選択等によって、画像データの画素数を切り替えても、所望の画像処理を実行し続けることができるX線検査装置を提供する。
【解決手段】 標準画像データを作成する標準画像データ作成部31と、複数個のブロック画素からなる画像を示すビニング画像データを作成するビニング処理制御部32と、標準画像データかビニング画像データのいずれを作成させるかを決定する画像データ決定部35と、コンボリューションフィルタを用いて所望の画像処理を実行するコンボリューションフィルタリング処理制御部36とを備えるX線検査装置1であって、コンボリューションフィルタリング処理制御部36は、画像データ決定部35で標準画像データを作成させると決定されるに伴い、標準画像データ用コンボリューションフィルタに切り替え、一方、ビニング画像データを作成させると決定されるに伴い、ビニング画像データ用コンボリューションフィルタに切り替えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、被検査対象物の各部の厚みや密度の違いによってX線透過率に大きな差が出るような場合であっても高X線透過率部分での異物検出感度と低X線透過率部分での異物検出感度とを良好に保つX線検査装置を提供することにある。
【解決手段】本発明に係るX線検査装置10では、X線照射部13がX線を照射し、X線検出部14が被検査対象物Gの各部分を通過してきたX線を受光してそれらの透過X線の強さに応じたアナログ信号AS0を出力する。A/D変換部41A,41Bは、アナログ信号AS1,AS2をデジタル信号DS1,DS2に変換する。判定処理部20は、デジタル信号からX線画像を生成して被検査対象物の良否判定を行う。アナログ信号処理部43A,43Bは、被検査対象物の各部分について、A/D変換部から異なる2以上のデジタル信号DS1,DS2が出るように、アナログ信号AS0を処理する。 (もっと読む)


【課題】一次電子ビームと二次電子ビームとの重複領域で二次電子ビームの空間電荷効果による収差増大を抑制する。
【解決手段】電子ビームを生成して試料である基板Sに一次電子ビームBpとして照射する電子銃11と、一次電子ビームBpの照射を受けて基板Sから放出される二次電子、反射電子および後方散乱電子の少なくともいずれかを検出して基板Sの状態を表わす信号を出力する電子検出部30と、上記二次電子、上記反射電子および上記後方散乱電子の少なくともいずれかを導いて二次電子ビームBsとして拡大投影し、電子検出部30のMCP検出器31の検出面に結像させる二次光学系20と、を備える基板検査装置1に、一次電子ビームBpの軌道と二次電子ビームBsの軌道との重複領域が縮小するように一次電子ビームBpを偏向する偏向器68をさらに設ける。 (もっと読む)


【目的】本発明は、パターンを転写するモールド上に作成されたパターンを検査するモールド検査方法およびモールド検査装置に関し、微細寸法のモールド(押し型)上のパターンの検査をする新たな方法を提供し、しかも、極めて短時間に微細寸法のモールド上のパターンを検査することを目的とする。
【構成】モールド上に作成されたパターンに対応する部分とそれ以外の部分との電子放出を異ならせて予め作成した転写板に、励起源を照射して励起させ、転写板上から放出された電子を、電圧により引き出して拡大画像を生成するステップと、生成された拡大画像をもとにモールド上に作成されたパターンを検査するステップとを有するモールド検査方法である。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス製造工程において電子顕微鏡を用いて試料の材料分析を簡便に行う。
【解決手段】材料分析装置1は、試料12に電子線EBを照射する電子銃13と、試料12の表面から飛び出す反射電子REを検出する電子検出部14と、電子検出部14による反射電子REの検出強度に応じて試料の材料を分析する材料分析部30を備え、材料分析部30は、原子量N1、N2が既知の材料A1、A2に電子線EBを照射したときの反射電子REを電子検出部14で検出した検出強度B1、B2に基づき、ある材料に電子線EBを照射するときの反射電子REを電子検出部14で検出した検出強度とその材料の原子量との間の近似一次式を決定する近似式決定部33と、決定した近似一次式に従って試料12に電子線EBを照射したときの反射電子REを電子検出部14で検出した検出強度Bxから、試料12の材料の原子量Nxを決定する原子量決定部34とを備える。 (もっと読む)


【課題】コンピュータ断層撮像方法による正確な再構成画像を、簡単な構成により得る。
【解決手段】複数の被検査体3の投影データよりその被検査体3の内部構造データを再構成するX線断層撮像装置であって、X線源1と、被検査体3の透過X線を撮像する二次元検出手段4と、X線源1のX線焦点1aと二次元検出手段4との間に配置され、被検査体3を載置してX線源1から出射されたX線により形成される円錐の底面の中心とX線焦点を結ぶ線分とほぼ平行な回転軸R2を中心に、設定された角度変位で回転する回転機構と、回転軸R2に対し、被検査体3をその回転軸R2を中心線とする所定角度の頂角を持つ仮想円錐の円錐面10に接した状態に把持する把持手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】 試料表面の帯電の斑(不均一)の影響を低減したエネルギースペクトルを得る。
【解決手段】 試料2表面にX線3を照射すると同時に、中和電子銃6からの電子ビーム6を試料2表面に照射し、試料2表面から放出された光電子を光電子分光器7に導き、ここでエネルギー分光してエネルギースペクトルを得る。試料2をセットしているステージ4にバイアス電圧電源21からバイアス電圧を印加することにより、中和電子銃6からの電子ビームでこの帯電が一様に中和されるようにする。 (もっと読む)


【課題】PBT組成物中の配合剤や重合触媒等、高分子材料に含まれる微量成分の分析法であって、該微量成分を検出できる高い感度、精度を有するとともに、煩雑な処理等を必要としない簡便性の高い分析法を提供する。
【解決手段】高分子材料中の微量成分の分析法であって、前記高分子材料を酸素存在下、加熱して灰化する工程、及び前記灰化後の試料に電子線を照射し、発生する特性X線による元素分析をする工程、を有することを特徴とする高分子材料中の微量成分の分析法。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストの特性化および分析を行う方法を提供する。
【解決手段】フォトレジストの特性化方法は、支持構造上にフォトレジストを形成する工程102と、フォトレジストをベーキングする工程104と、フォトレジストを染色剤により染色する工程106と、TEM、SEMおよびAFMのうちの少なくとも1つを利用し、フォトレジストを特性化する工程108と、を含む。 (もっと読む)


【課題】X線検査技術を利用してタービンブレード内の残留セラミックコアの検出を可能にしたX線検査方法を提供する。
【解決手段】本発明は、X線検査装置1を用いて被検査対象物WにX線を照射し、16ビット以上のコントラストレンジを持つX線ディテクタ2に被検査対象物のX線透過像3を結像させ、X線ディテクタが結像した被検査対象物のX線透過像をデジタル現像装置4にて現像してX線影像5を得、そのX線影像から被検査対象物内に残留するセラミック質の異物の有無を検査するX線検査方法を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】手動でフィルタの交換を簡単かつ容易に交換することができる安価な蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】蛍光X線分析装置100は、X線管1と、リッド2を有する試料室3と、試料室リークバルブ41と、蛍光X線12を検出する検出手段4を有する分光室5と、分光室リークバルブ51と、試料室3と分光室5との間の開口10を開閉する真空シャッタ6と、1次X線11をろ波するフィルタ7が交換可能に取り付けられるフィルタ進退手段と、試料交換機20と、X線管1、リッド2、真空ポンプ9、試料室リークバルブ41、分光室リークバルブ51、真空シャッタ6、フィルタ進退手段8および、試料交換機20を制御する制御手段30とを有し、制御手段30が第1指示に応じて、フィルタ交換準備手順を実行し、第2指示に応じて、前記手順実行前の状態に戻す初期化手順を実行する。 (もっと読む)


【課題】試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを容易に確認できる技術を提供する。
【解決手段】鏡面の試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、これら複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、その配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、試料面が自転軸に直交する同一面上にあることを確認する。 (もっと読む)


カニューレを有するシリンジ・キャップ(3)を検査するためのX線装置であって、X線源(5)と、X線検出器(9)と、シリンジ・キャップ(3)をビーム路(13)で検査個所(15)に保持する保持装置と、を具備するX線装置が提案される。このX線装置は、シリンジ・キャップの縦軸(17)が、ビーム路(13)の縦軸(19)と一致するように、シリンジ・キャップ(3)が、ビーム路(13)に設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】直接光の影響を効果的に低減できるFZP拡大法によるトポグラフィー測定装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、従来のX線トポグラフィー測定装置に加えて、回折X線ビーム103を遮る遮蔽体1と、その遮蔽体1を動かす遮蔽体駆動手段2と、所定の周期信号を発生する関数発生器3と、測定された回折X線ビーム103から遮蔽体1の動きの周期と同期した変動成分を抽出するロックインアンプ4と、プリアンプ5、及び周波数−電圧(F−V)変換器6を備える。遮蔽体駆動手段2は、関数発生器3が生成する周期信号に基づいて遮蔽体1を駆動し、ロックインアンプ4は、同じ周期信号に基づいて変動成分を抽出する。 (もっと読む)


【課題】二次イオン質量分析法において、二次イオン強度の変化を簡便に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】一次イオンの試料表面への照射中に、試料電流値の変化に応じて、一次イオンの入射方向に対する試料ステージの角度を変更することにより、一次イオンの試料表面への入射角度を補正する。 (もっと読む)


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