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Fターム[2G046FE39]の内容

Fターム[2G046FE39]に分類される特許

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【課題】従来のヒーターでガス感応膜を高温に保持しガス濃度検出を行うダイヤフラム構造ガスセンサにはヒーター温度を測定する機構が設けられておらず、ヒーター抵抗値が一定範囲内に収まるように、ヒーター構成材料膜厚及びヒーターパターン幅を高精度で作製し、一定電力をヒーターに供給する手法で温度一定化を図っていた。このため、ヒーターパターン形成工程要求精度高であり、作製困難であった。
【解決手段】二種の物質で構成された熱電対の温接点をダイヤフラム上のヒーター近傍に形成し、周囲ヒートシンク部上に冷接点を形成したヒーター温度を測定するサーモパイルを設ける。
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【課題】エアベースの変動に伴う誤動作を軽減することができるガス警報器を提供すること。
【解決手段】ガスセンサ3の検出電圧が警報濃度設定レベルを超えた場合に警報を報知するガス警報器であって、一定時間毎に前記ガスセンサ3のセンサ抵抗を測定し、測定されたセンサ抵抗のうちの最大値を記憶する測定・記憶手段164−1と、所定期間経過毎に、所定期間の経過時に記憶されたセンサ抵抗の最大値が、当該所定期間の1つ前の所定期間経過時に記憶されたセンサ抵抗の最大値より小さいか否かを判定する判定手段164−2と、当該所定期間の前記センサ抵抗の最大値が当該所定期間の1つ前の所定期間のセンサ抵抗の最大値より小さいと判定された場合、当該所定期間のセンサ抵抗の最大値に応じて警報濃度設定レベルを変更する警報濃度設定レベル変更手段164−3と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】感応層と電極との接合強度を高めるようにしたガスセンサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アンモニアガスセンサのセンサ素子1は、絶縁基板10と、この絶縁基板10上に設けた接着層20と、この接着層20上に設けた一対の櫛歯状電極30、40と、この一対の櫛歯状電極30、40を介し接着層20上に設けた感応層50とを備えている。ここで、一対の櫛歯状電極30、40は、所定量のウイスカーを含有する電極材料でもって作製され、感応層50は、所定量のウイスカーを含有する感応材料でもって作製されている。従って、ウイスカーによるアンカー効果が一対の櫛歯状電極30、40と感応層50との間に発揮される。 (もっと読む)


【課題】水素等の可燃性ガスの影響及びNOx等の酸化性ガスの影響を低減することができ、従来に比べて臭気ガスに対する検知精度及び検知感度の向上を図ることのできるガスセンサを提供する。
【解決手段】ガスセンサ1は、矩形状の平面形状を有し、シリコン基板2の上面に絶縁被膜層3が形成され、この絶縁被膜層3には、発熱抵抗体5が内包されるとともに、その上面には密着層7およびガス検知層4が形成された構造を有する。ガス検知層4は、金属酸化物半導体としてのSnO2を主成分とし、さらに、少なくともV25と、Irとを含む。 (もっと読む)


【課題】複数の特定ガス成分のうち、ある一つの特定ガス成分を他の特定ガス成分より優先的に検出可能なガスセンサを提供する。
【解決手段】ガスセンサ1は、環境気体中の複数の特定ガス成分の濃度変化を検出する第1〜3感ガス膜11b、12b、13bと、内部に第1〜3感ガス膜11b、12b、13bを収容し、ガス導入口91が形成されたケース90と、ガス導入口91を閉塞するフィルタ膜80とを備える。
複数の特定ガス成分のうち他に対して検出優先度が求められる特定ガス成分を第1ガス成分とし、第1ガス成分に対応した感ガス膜を第1感ガス膜11bとし、環境気体がガス導入口91の重心C0を通過してから各第1〜3感ガス膜11b、12b、13bに達するまでの距離を通気最短距離D1、D2、D3としたとき、通気最短距離D1は、通気最短距離D2、D3よりも短い関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】半導体ガスセンサの濃度特性の直線性を改善する。
【解決手段】対象ガスに感応して電気抵抗値が変動する感ガス体111と、感ガス体111に対して直列に接続された分圧抵抗112と、感ガス体111に対しては並列に、分圧抵抗112に対しては直列に接続された並列抵抗113と、分圧抵抗112、感ガス体111または並列抵抗113の両端間の電圧を示す信号を外部へ出力する出力端子115とを備える半導体ガスセンサ110を提供する。 (もっと読む)


【課題】手軽に使用可能であって、半導体ガスセンサの劣化による測定精度の低下を抑制することができるガス組成測定器を提供する。
【解決手段】呼気中の対象ガスの濃度を推定して呼気の組成を測定する測定処理を繰り返し行う呼気組成測定器100を提供する。呼気組成測定器100は、呼気に曝露される位置に設けられ、対象ガスに感応して値を出力する半導体ガスセンサである測定用センサ106と、測定用センサ106を校正するための第1〜第3の校正係数を記憶する記憶部110と、時間を計るタイマ109と、CPU105とを有する。CPU105は、二回目以降の測定処理の各々において、測定用センサ106の出力値と、第1〜第3の校正係数と、前回以前の測定処理に係る測定期間の長さと、今回の測定処理の開始以前に終了している非測定期間の長さとを用いた演算により、呼気中の対象ガスの濃度を推定する。 (もっと読む)


【課題】水素等の可燃性ガスの影響及びNOx等の酸化性ガスの影響を低減することができ、従来に比べて臭気ガスに対する検知精度及び検知感度の向上を図ることのできるガスセンサを提供する。
【解決手段】ガスセンサ1は、矩形状の平面形状を有し、シリコン基板2の上面に絶縁被膜層3が形成され、この絶縁被膜層3には、発熱抵抗体5が内包されるとともに、その上面には密着層7およびガス検知層4が形成された構造を有する。ガス検知層4は、金属酸化物としてSnO2とIn23の少なくとも2種と、Irとを含む。 (もっと読む)


【課題】素子形状等による感度及びガス検知の応答性への影響を抑制するセンサ装置を提供する。
【解決手段】素子300をケース200内に収容して備え特定ガスを検出する装置100であって、ケース200は素子300を収容している凹形状をなす収容部211を有するケース本体部210と、天板221を有すると共に本体部210に装着されて収容部を閉塞している内蓋部220と、内蓋部220を覆って内蓋部の天板の外表面との間に対象ガスを導く間隙を形成している外蓋部230とを備え、内蓋部220の天板221は、収容部221内に収容された素子300に向かって突出して形成されると共に素子300に近い側の端部に測定対象ガスを導くガス流通口を形成してなる筒状部222を備え、その端部に、ガス流通口を閉塞する形態でフィルタ224が配置されている。 (もっと読む)


【課題】被測定ガスである酸化性ガスのNOを吸着することなく、有機シリコーンガスを選択的に吸着させることができるようにして、センサの感度や応答特性の低下を防止し、センサ性能の長期安定を図る。
【解決手段】 ケース20の内部に、酸化性ガスに感応するガスセンサ素子50を収容し、ケース20には同ガスが同センサ素子50に接触可能のガス導入口23がある。同ガスを同センサ素子50に接触させてその濃度を検出する構成のガスセンサ1で、被測定ガスが、ガス吸着フィルタ71を通過して同センサ素子50に接触する構成のガスセンサで、ガス吸着フィルタ71に、挟雑ガス吸着剤として、TiO粉末を含ませてなるものを用いた。TiO粉末を含ませてなるガス吸着フィルタ71は、NOを吸着することなく、有機シリコーンガスを選択的に吸着、除去するから、酸化性ガスの検知感度がよくなる。 (もっと読む)


【課題】長期間に亘ってガス選択性を有する半導体式ガス検知素子を提供する。
【解決手段】ガス感応部2と、ガス感応部2を被覆する触媒層3とを備える半導体式ガス検知素子Rsであって、触媒層3は、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウムからなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物を含む金属酸化物半導体に、セリウム、スズ、アルミニウム、ランタン、ニオブ、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、ルテニウム、ネオジム、ガドリニウム、バナジウム、シリコン、マグネシウムからなる群から選択される少なくとも1種の金属元素を固溶させた金属複合酸化物を含有する。 (もっと読む)


【課題】複雑な演算を伴うことなく、還元性ガスを検出する。
【解決手段】ヒータコイル12への電圧印加を電圧印加サイクルに従って1サイクル変化させた場合におけるセンサ素子10の出力信号Vsを取得する。この取得したセンサ素子10の出力信号Vsから極値出現時刻検知部24によって極値出現時刻を取得する。ガス種特定部25によって極値出現時間記憶部23に記憶された還元性ガスのガス種毎の極値出現時間に対応した値と、極値出現時刻検知部24が検知した最初の極値の出現時刻に対応した値とを比較して還元性ガスのガス種を特定する。 (もっと読む)


【課題】ガス感応層(SnO層)の導入孔を大きくし、ガス感応層(SnO層)内部におけるガスの浸透能力を向上させた薄膜ガスセンサおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】一対の感知電極層51,51を渡すように電気絶縁層4上に設けられるガス感応層52は、電気絶縁層4の表面に対して傾斜する多数の傾斜柱状晶521を成長させることで導入孔522が多数形成されるような層とした。大きくなった導入孔522を通じてガスがガス感応層52の内部へ浸透し、検出能力を高める。 (もっと読む)


【課題】基板表面の研磨残渣を除去し、清浄な基板表面を得る基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】炭化珪素(SiC)研磨材などで研磨されたアルミナ基板を、500〜800℃に加熱された炭酸ナトリウムと炭酸リチウムとを混合した溶融塩中へ含浸することにより、アルミナ基板表面に存在する無機研磨材の残渣を除去する。その後、無機研磨材の残渣が除去されたアルミナ基板表面に、白金又は白金合金による薄膜電極及び白金又は白金合金によるヒータを形成する。 (もっと読む)


【課題】 ガス検知層が剥離することを防止するとともに、絶縁性の密着層を介したガス検知層と検知電極との電気的な接続を図り、特定ガスの濃度変化を良好に検知するガスセンサを提供すること。
【解決手段】 ガス検知層4とシリコン基板2および絶縁被膜層3,230から構成される基体15との間に密着層7を形成し、両者の密着性を高め剥離を防止する。この密着層7を絶縁性金属酸化物から構成されており、ガス検知層4の特性に対し影響を与えない。そして、検知電極6のガス検知層4と対向する側の面61は全面、ガス検知層4と当接することで、ガス検知層4と検知電極6とが電気的に接続され、特定ガスの濃度変化に応じて変化するガス検知層4の電気的特性が良好に検知される。 (もっと読む)


【課題】ガス漏れ警報機能及び不完全燃焼警報機能を併せ持つガス警報器において、点検を実施する際に誤作動を防止することができるガス警報器を提供すること。
【解決手段】点検モード時に、メタンガスの代用となる水素ガスと一酸化炭素ガスとを含む点検用ガス中の一酸化炭素ガス濃度に応じた感知素子3a出力を検出する点検用一酸化炭素ガス濃度出力検出手段11Aと、検出した一酸化炭素ガス濃度が不完全燃焼警報濃度に達した否かを判定する点検用一酸化炭素ガス濃度判定手段11Bと、不完全燃焼警報出力手段11Cと、点検用ガス中の水素ガス濃度を検出する点検用水素ガス濃度出力検出手段11Dと、点検用水素ガス濃度判定手段11Eと、ガス漏れ警報出力手段11Fと、点検時のヒートサイクルを通常モード用ヒートサイクルより短縮するように変更するヒートサイクル変更手段11Gとを備えている。 (もっと読む)


【課題】狭小部や可動部に容易に配置することのできる、物質検知センサを提供すること。
【解決手段】可撓性を有する絶縁層2を形成し、互いに間隔を隔てて対向配置される第1電極3Aおよび第2電極3Bと配線7とからなる導体パターン8を、絶縁層2の上に形成した後、導電性層4を、特定のガスの種類および/または量に応じて、膨潤する割合が変化する導電性材料から、絶縁層2の上に、第1電極3Aおよび第2電極3B間にわたって、形成する。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成を追加することでセンサ特性に与える影響を最小限に抑えつつガス感応層とガス選択燃焼層との接合強度を増大させ、パルス駆動時の昇温・降温による歪みに影響されにくくした薄膜ガスセンサおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】電気絶縁層4・一対の感知電極層51,51・ガス感応層52を覆う島状あるいは網目状の接合層53と、この接合層53を介して一対の感知電極層51,51の一部・ガス感応層52の全部・これらの周囲の電気絶縁層4の一部を覆うように設けられるガス選択燃焼層54と、を備えるような薄膜ガスセンサ1とした。そこで、接合層53を薄くして島状あるいは網目状に形成する製造方法を採用した。 (もっと読む)


【課題】GCオーブン内で水素等の可燃性ガスの漏洩により爆発などの危険な事態が生じることを防止するためのシステムを提供する。
【解決手段】ガス検出システムの一例はガスクロマトグラフオーブンと、ガス検出器と、試料ガス移動デバイスと、フロー検出器とを備えている。ガス検出方法の一例は上記オーブンから試料ガスを流出させる工程と、その流量が最小値以下であるかどうかを判定する工程と、上記試料ガス中の、可燃性ガスなどの第1のガスの濃度が最大値以上であるかどうかを判定する工程とを備えている。上記流量または上記濃度がエラー状態を示すかまたは限界値から外れている場合、警報応答が開始される。上記警報応答には、上記第1のガスの上記オーブンへの流れを遮断し、安全ガスなどの第2のガスを上記オーブンに流すことが含まれていてもよい。 (もっと読む)


【課題】SnO感知膜成膜前の下地面を平坦化して凹凸部の高低差を減少させ、柱状晶間が粗になる部分を極力少なくしてSnO感知膜の抵抗値のバラツキを低減させた薄膜ガスセンサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ダイアフラム構造のSi基板1と、Si基板1上に多層構造の支持層2,3,4,を介して形成されたヒータ層5と、ヒータ層5の上にSiO絶縁膜6を介して形成された一対の感知膜電極7と、これら一対の感知膜電極7にかかるように成膜されたSnO感知膜8と、を有する薄膜ガスセンサにおいて、感知膜電極7を、研磨加工により平坦化処理したSiO絶縁膜6の表面に形成する。 (もっと読む)


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