【課題】 対物レンズの鏡筒に設けた純水供給流路及び純水回収流路の内壁に熱を加えたり又は薬液を流したりすること無く、直接紫外線を照射してＵＶ殺菌を行うこと。
【解決手段】 明視野観察時には、ハーフミラー７は、液浸対物レンズ８の光軸（Ｌ１）位置にあり、照明光源２の紫外光の略半分はウエハＷに落射させる。殺菌時には、反射ミラー３０を、液浸対物レンズ８の光軸（Ｌ１）位置に移動させる。照明光源２の紫外光は、反射ミラー３０の丸穴３０ａのため、中央部の紫外光は、液浸対物レンズ８の方向に行かない。一方、その周辺部のミラー面３０ｂで反射された紫外光は、純水供給・回収流路２１，２２の中心軸（Ｌ２）に沿って進み、カバーガラス２５を介して、純水供給・回収流路２１，２２に入射して、この内部の純水ＰＷを殺菌する。 （もっと読む）

【課題】 ２画像の対応部分のグレイレベル差を検出し、この分布に基づき閾値を自動設定し、これら閾値とグレイレベル差とを比較し、グレイレベル差が閾値より大きい場合に欠陥であると判定する画像欠陥検査方法及び装置において、グレイレベル差の分布が通常の分布と異なる場合、閾値を補正することにより、疑似欠陥の発生を抑えつつ高い検出感度を実現すること可能とする。
【解決手段】 ２画像の対応部分のグレイレベル差の累積頻度を算出し（S103）、仮定した所定の分布で、累積頻度がグレイレベル差に対してリニアな関係になるように変換して変換累積頻度を算出し（S104）、グレイレベル差が正及び負である各領域で近似直線を算出し（S105）、各近似直線同士の傾きの差が所定値より大きいとき（S106）、傾きの小さい方の近似直線をその傾きが増大するよう補正し（S107）、この近似直線に基づいて所定の累積頻度の値から所定の算出方法に従って閾値を決定する。 （もっと読む）

【課題】
被検査体を高い真直度で移動させることができ、正確な検査を行うことができる検査装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置は、一対のガイド軸５２の間にＸ方向に沿って移動可能に設けられたエアスライダ５１であって、ガイド軸５２との間で微小隙間を発生させるエアスライダ５１と、エアスライダ５１をＸ方向に移動させる直線駆動機構４０と、エアスライダ５１とともに移動し、マスクをＹ方向に保持するマスクホルダ７と、マスクホルダ７の上側に設けられ、Ｘ方向に沿って設けられたガラスレール７１と、Ｘ方向と垂直なＺ方向から、ガラスレール７１を挟むように設けられた一対のエアパッド７２と、一対のエアパッド７２に対応して設けられ、マスクホルダ７の上部を挟むように配置された一対のホルダ挟持具７３とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】時間の掛かる調整を行うことなく、基板を平坦に支持しながら、基板の全面を検査する。
【解決手段】基板１を搭載するステージは、ステージベース１１及びブロック１２を含んで構成されている。ステージベース１１の上面には、細長い長方形のブロック１２が、所定の間隔で複数取り付けられている。ブロック１２は、ステージベース１１に取り付けられた後、機械加工によって上面が均一な高さに削られている。各ブロック１２には、吸着孔１３が所定の間隔で複数設けられている。吸着孔１３から空気を吸引することにより、ブロック１２によって支持された基板１が真空吸着されてステージに固定される。基板１のブロック１２で支持されていない部分には、光学系から検査光２が照射される。ステージに搭載された基板１の位置を検査光２の走査方向と直交する方向へ移動して、基板１のブロック１２で支持される箇所を変更する。 （もっと読む）

【課題】 試料を照射する装置を提供する。
【解決手段】 本装置は、入射レーザビームを試料に向けて出力するレーザと、複数の回折パターン部分を有する第１回折要素とを含む。第１回折要素は、その回折パターン部分のそれぞれが入射ビームパス内で選択的に配置されえるよう移動可能であり、第１回折要素の回折パターン部分は、入射ビームが異なる空間照明プロファイルを入射ビームの瞳平面において有するように設計され、一方で入射ビームのコヒーレンスによって生じる効果を減らす。この装置は、入射ビームの照射平面において光を空間的に分散させるよう構成される照明プロファイル要素と、入射ビームを試料に向けて導く複数の照明光学要素とをさらに備える。 （もっと読む）

【課題】基板検査装置を小型化して、設置面積を小さくする。
【解決手段】光学ユニット２０ａ，２０ｂ，２０ｃは、検査光を基板１へ斜めに照射する投光系と、検査光が基板１の欠陥により散乱された散乱光を受光する受光系とを有する。基板１を搭載するステージ１０と光学ユニット２０ａ，２０ｂ，２０ｃとを互いに逆方向に移動して、検査光による基板１の走査を行う。移動前にステージ１０及び光学ユニット２０ａ，２０ｂ，２０ｃを配置するだけのスペースを設ければ、移動後も両者を配置することができるので、基板検査装置が小型化され、設置面積が小さくなる。また、装置の重心の移動が小さくなり、装置の歪みが抑制される。さらに、検査光による基板１の走査が短時間で行われ、検査時間が短縮される。 （もっと読む）

【課題】パッド上の針痕を精度よく検出する。
【解決手段】針痕検出装置では、撮像部により基板上のパッドを含む領域を示す多階調の対象画像が取得され、処理部４のパッド領域取得部４２により対象画像からパッドを示すパッド領域が取得される。針痕領域取得部４３では、対象画像のパッド領域を分割して得られる複数の分割領域において、パッド領域のエッジ近傍の分割領域における針痕閾値を、パッド領域の中央部の分割領域の針痕閾値よりもパッド領域外の画素値に近い値としつつ、各分割領域に個別に針痕閾値が設定される。そして、分割領域毎に針痕閾値を変更して対象画像のパッド領域が２値化されることにより、対象画像においてパッドのエッジに起因するパッド領域のエッジ近傍のぼけの影響を抑制して、針痕領域を適切に取得することができ、その結果、パッド上の針痕を精度よく検出することができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、ユーザインターフェースの改善によって、解析時間の短縮および解析精度を向上することにある。
【解決手段】
本発明は、上記目的を達成するために、ワークにおける複数個の画像を撮影する撮像装置と、該撮像装置が撮像した撮像画像を記憶する記憶手段と、該記憶手段が記憶した複数個の撮像画像を表示する第一のエリアと該撮像画像の特徴に応じて分類する複数個の第二のエリアとを有する表示手段とを有し、該複数個の撮像画像を該第一のエリアから該当する該第二のエリアへ画面上で移動させて該複数個の撮像画像を該第二のエリアに分類できるように構成した解析ユニットを備えたものである。
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【課題】 データの数に基づいて導出した関数を用いて、最終的なクラスタの数を自動算出することができるクラスタリング方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、Ｘ個のデータの中から互いに類似したものを集めてＹ個のクラスタに分類するクラスタリング方法において、データの数Ｘに基づいて導出した関数（例えば、Ｙ＝round｛logＸ×（ｂ_３／（１＋ｃ_３×exp（−ａ_３Ｘ）））｝…関数（４））を用いて、前記クラスタの数Ｙを算出するものである。 （もっと読む）

【課題】
光学式異物検査装置とＸ線分光集光素子及び複数種の特性Ｘ線を使用する微小部蛍光Ｘ線分析装置との複合異物検査装置における各装置間の座標位置合わせを最適化する。
【解決手段】
Ｘ線分光集光素子を使用したＸ線光学系における最適測定高さへの位置合わせを行う高さ移動機構１１、及び複数種特性Ｘ線を使用した同数個のＸ線分析測定座標への位置移動を行うための水平移動機構３，４を備える。特に水平移動機構が回転ステージより構成される際はＸ線分析装置に別途一軸水平移動機構１２を備える。 （もっと読む）

【課題】 被検査体の撮像方向における寸法が変化しても精度のよい検査を実行可能とする外観検査装置の提供。
【解決手段】 基板２の外観を検査するための外観検査装置２００は、基板２の表面を撮像する表面側撮像ユニット８０ａと、表面側撮像ユニット８０ａに対応して設けられて基板２の画像データに基づいて検査を行うスレーブＰＣ１４０ａおよび１４０ｂと、基板２の裏面を撮像する裏面側撮像ユニット８０ｂと、裏面側撮像ユニット８０ｂに対応して設けられて基板２の画像データに基づいて検査を行うスレーブＰＣ１４０ｃおよび１４０ｄとを備え、表面側撮像ユニット８０ａには、基板２の厚さに応じて像倍率を変えることなく被検査体である基板２に焦点を合わせる焦点合わせ機構を構成する焦点調整モータ４０等が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ディスク状対象物を検査するシステムを提供する。
【解決手段】ディスク状基板３２を検査するシステムを開示する。システム１００は筐体に囲まれている。少なくともＸ方向およびＹ方向に移動可能であるとともに載置板２２により担持される台２が筐体５０内に設けられている。載置板２２は筐体５０に対して防振されている。同様に排気ユニット４０が載置板２２の下方に設けられているとともにそこから離れて配置されている。排気ユニット４０は空気流入用開口３６を有する。空気流入用開口３６は排気ユニット内で載置板２２の端部と筐体５０の壁との間に設けられている。 （もっと読む）

【課題】 観察すべき検査対象欠陥を簡単、かつ、迅速に抽出することができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供すること。
【解決手段】 ＧＵＩ画面１３は、欠陥情報として欠陥表示付きウェハマップ１５と、観察範囲を設定するための所望の領域を特定するための図形を選択する図形指定部１６と、特定した領域内を観察範囲とするか否かを選択する検査対象欠陥設定部１７と、例えば、複数の領域１８、２０、２１を特定した際にそれらの間で重複する部分がある場合、何れか一の領域を観察範囲として選択するために領域の優先順位の付け方を選択する領域優先設定部２２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 赤外線の照射により被検体の異物部分・異常部分を検出する赤外検査装置において、適切に微小な異物部分・異常部分を検出できるようにする。
【解決手段】 本発明に係る赤外検査装置は、被検体に赤外線を照射する赤外光源と、被検体を透過した赤外線を集光する赤外線レンズと、前記赤外線レンズにより集光された赤外線を電気信号に変換して出力する赤外線カメラと、前記赤外線カメラの出力する電気信号を入力して画像信号に変換し画像信号に基づいて画像を表示するモニタとを備える赤外検査装置であって、被検体の温度を設定温度の近傍に保つ冷却装置を更に備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 単純化された装置構成によって、短時間での適切な光量の調節を実現する。
【解決手段】 検査装置１の画像処理部１１０は、カメラより得た画像の明るさを調節してモニタ５４に表示する。輝度情報算出手段は、カメラより得た画像をモニタ５４に表示したときの、画像の参照領域における輝度を算出する。調光テーブルは、カメラへの入射光量と、入射光量の制御によって調節される、調光レベルとの関係を示す。調光レベル変更量算出手段は、輝度と調光テーブルとに基づいて、画像に対する調光レベルの変更量を算出する。光量制御情報生成手段は、調光レベルの変更量と現在の調光レベルとを比較して、変更する光量についての光量制御情報を生成する。制御回路２３は、光量制御情報に基づいて、カメラへの入射光量を制御する。 （もっと読む）

【課題】白色光・レーザ光、あるいは電子線を照射して形成された画像を用いて微細な回路パターンを検査する技術において、検査に必要な各種条件を設定する際にその操作性効率を向上するめの技術を提供する。
【解決手段】回路パターンが形成された基板表面に光、あるいは光および荷電粒子線を照射する手段と、該基板から発生する信号を検出する手段と、検出手段により検出された信号を画像化して一時的に記憶する手段と、上記記憶された当該領域の画像を他の同一の回路パターンが形成された領域と比較する手段と、比較結果から回路パターン上の欠陥を判別する手段からなる回路パターンの検査装置であって、検査用および検査条件設定用の操作画面に操作内容あるいは入力内容を表示する画面領域とその画面を表す項目名を表示する手段を備えており、且つ該項目名は該操作画面領域で一体化して表示する。 （もっと読む）

【課題】 半導体デバイスの表面で構成部品が空間的に上下に重なる場合でも、上側の部品に影響されず、下側の部品の撮像と検査を行なう。
【解決手段】 半導体デバイス１の被撮像面に対向する対物レンズ系５と、この対物レンズ系５と撮像素子４との間に配置された結像レンズ系６とを備え、対物レンズ系５のＦ値を１．５以下として、被撮像面を撮影し検査する。
また、被撮像面に対向する対物レンズ系５と、この対物レンズ系５と撮像面４ａとの間に配置された結像レンズ系６とを備え、前記結像レンズ系６が焦点距離の異なる複数のレンズ６ａ，６ｂを有し、所望の倍率に応じて光軸の所定の位置に前記複数のレンズのうち所定のレンズを配置し、他のレンズを光軸から退避させ、被撮像面を撮影し検査する。 （もっと読む）

【課題】 欠陥が許容内にあるか否かをより正確に判定し得る外観検査方法および装置を提供する。
【解決手段】 被検査体１１ａの画像２１Ａの検査領域上からテンプレート（２１Ａ）との比較によって抽出された欠陥が許容内か否かを判定することを含む外観検査方法。検査領域が互いに許容度ａ、ｂ、ｃを異にする複数のエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃに区画される。検査領域上で抽出された一つの欠陥部位２７が互いに許容度を異にする複数のエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃ上にわたって存在するとき、欠陥部位２７の各エリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃ上に存在する欠陥部位部分２７ａ、２７ｂ、２７ｃ毎に、該欠陥部位部分が存在するエリア２８ａ、２８ｂ、２８ｃの許容度ａ、ｂ、ｃに基づいて該欠陥部位部分の欠陥が許容内であるか否かの予備判定を受ける。それら予備判定の結果に基づいて欠陥部位２７の欠陥が許容内であるか否かの判定を受ける。 （もっと読む）

【課題】レシピ作成及び欠陥確認の使い勝手がよく、かつ迅速に行うことのできるパターンの検査装置を提供する。
【解決手段】欠陥確認画面は、ウェハマップを表示する「マップ表示部」６１、欠陥画像を一覧表示する「画像表示部」６２、欠陥の詳細情報を表示及び設定する「リスト表示部」６３、選択された欠陥項目についてグラフ表示する「グラフ表示部」６４を有する。それぞれの表示部は連動して動作し、選択されたマップ情報に対応して欠陥画像、欠陥情報リスト、欠陥グラフが変化する。これら情報を利用して入力された分類コード及びクラスタリング条件及び表示フィルタはレシピに登録される。 （もっと読む）

【課題】 液浸系対物レンズを用いた半導体ウエハ等の標本の外観検査後に、標本上に残存する液体を速やかに乾燥して、標本への塵埃等の付着やウォーターマークの発生を著しく減少させることができる顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】 ウエハＷの外観検査を行う顕微鏡装置１において、、ウエハＷを保持する保持ステージ３１及び保持ステージ３１を傾斜させる駆動部３２を有する液体乾燥装置３０と、検査ステージ２１と保持ステージ３１との間でウエハＷの搬送を行うウエハ搬送装置４０とを備え、外観検査終了後、吸引ノズル２２ｄにより液体Ｅが吸引されたウエハＷを、搬送アーム４２により検査ステージ２１から保持ステージ３１へ搬送した後に、この保持ステージ３１を駆動部３２により傾斜させ（図２中の矢印（１）参照）且つ回転部３３により回転させて（図２中の矢印（２）参照）、該ウエハＷの表面に残留した液体Ｅを振り切って、ウエハＷを乾燥させる。 （もっと読む）