【課題】
ディスク基板のような基準位置を作成できない円形の試料において、欠陥検査の結果も同様に基準が無いため、同一試料の再検査、製造工程間での比較検査、検査装置の再現性評価、他検査装置との突合せなどが曖昧である。
【解決手段】
本発明では、これらを正確に合せるために、検査装置から出力される欠陥座標の姿勢の影響を許容し、相互に検査データの座標を補正し、複数検査データ間の一致ないし不一致状態を出力或いは表示することにした。検査データは、欠陥の種類、種類の相違、寸法を含むことにした。欠陥の種類あるいは寸法毎に、あるいはこれらを適宜グループ化したものを対象として検査データ間の一致ないし不一致状態を出力或いは表示することにした。同一の試料を製造プロセスを経る毎に検査し、検査データ間のデータの増減、或いは一致ないし不一致の状態を出力或いは表示することにした。 （もっと読む）

【課題】
ディスクのハンドリング時間を短縮して、ディスク検査のスループットを向上させることができるようなディスクの表面欠陥検査方法および検査装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、ディスクカセットの底面側からディスクカセットに収納されたディスクをディスクカセットの前方に押出してディスクカセットに隣接するこれの外側の検査位置にまでディスクを移動させかつ検査位置に設定されたディスクをディスクカセットに対してそのまま前後移動させて光ビームによりディスクを走査してディスクの欠陥検査をする。 （もっと読む）

【課題】装置に組み込んだ状態での検査が可能なウェハチャックの検査方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る検査方法は、上面において半導体ウェハを吸着保持するウェハチャック３１の検査方法であって、ウェハチャック３１の上面に所定のテストウェハＷ２を載置するとともに、テストウェハＷ２の上面にオプティカルフラット４０を重ねて載置し、テストウェハＷ２の上面に重ねて載置されたオプティカルフラット４０に現れる干渉縞の所定の状態からの変化よりウェハチャック３１の上面における欠陥を検出し、オプティカルフラット４０を用いてウェハチャック３１の上面における欠陥が検出された場合に、ウェハチャック３１の上面において干渉縞の変化が生じた箇所を顕微鏡で観察することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の表面上の欠陥分布を分類するために、分類の基準となる欠陥分布パターンの特徴が記述されたテンプレートを調整するテンプレート調整方法であって、人が設定したテンプレートを、実際の欠陥分布により正確に適合するように自動的に調整できるものを提供すること。
【解決手段】或る基板群の欠陥分布を分類するために設定されたテンプレート１００と、基板群の欠陥分布がテンプレート１００に記述された欠陥分布パターンに該当するか否かを分類して得られたデータ群１０１，１０２とを用意する。テンプレート１００における欠陥分布パターンの特徴に変更を加えるとともに、データ群１０１，１０２を用いて変更後のテンプレート１０７の良否を評価する調整処理をコンピュータに実行させる。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学的テスト装置は、ａ）磁気ディスク基板のようなワークピースを回転するスピンドルを回転するためのモーターと、ｂ）ワークピースの上面に上部レーザビームを供給するレーザ、上面から反射された光を受け取る上部レンズ、及びその受け取った光を表す電気信号を発生するための上部検出器を含む上部テストヘッドと、ｃ）ワークピースの下面にレーザビームを供給する下部レーザ、下面から反射された光を受け取る下部レンズ、及びその受け取った光を表す電気信号を発生するための下部検出器を含む下部テストヘッドと、を備えている。下部レーザビームの経路は、ワークピースの半径方向から変位されていて、下部レーザビームが変位されない場合よりも下部レンズをレーザスポットにより接近して配置できるようにする。 （もっと読む）

【課題】干渉位相測定系及び散乱光検出系による検査を行う表面欠陥検査装置の構成を簡略化する。
【解決手段】レーザー光源１０が発生したレーザー光は、偏光ビームスプリッタ２１で偏光面が異なる２つの光に分岐され、音響光学素子２２Ａ，２２Ｂでそれぞれ異なる周波数で変調されて、反射鏡２０又は磁気ディスク１の表面へ照射される。偏光器２９は、反射鏡２０で反射した反射光及び磁気ディスク１の表面で反射した反射光の偏光面を傾けて分割する。偏光器２９から透過光と垂直方向へ放出される光を散乱光検出系４０で利用することができるので、偏光手段を別に設ける場合に比べ、干渉位相測定系で利用できる光量が多くなる。 （もっと読む）

【課題】ディスク状サブストレートをただ１つの個所から同時に複数記録すること。
【解決手段】ディスク状対象物（６）の複数画像を記録するための装置であって、該装置は少なくとも２つの照明装置（８，１０）を備え、当該照明装置（８，１０）はそれらから発する光のスペクトルが異なるように構成されている形式の装置が開示される。ただ１つの記録装置（１２）が前記ディスク状対象物を基準（６）にして配置されており、これにより前記記録装置（１２）は前記ディスク状対象物（６）の、スペクトルの異なる複数の画像を同時に記録する。 （もっと読む）

【課題】 観察／検査装置における観察／検査条件の決定作業について、観察／検査条件の条件設定の指針となる情報を容易に得ることできるようにする。
【解決手段】 偏光板回転駆動手段９３を制御駆動して偏光板８９をその光軸を中心軸にして回転させている最中も、画像処理手段としてのコンピュータ１００が、イメージセンサ９１からＡ／Ｄ変換器９２を介して供給されるデジタル化された電気信号出力を逐次画像処理して試料表面の光学像の画像データを随時生成し、記録装置１０６に連続的に記憶管理していくことによって、偏光板回転方向の変化に応じて変化する試料表面の光学像の動画像データの取得を行う。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体表面の１０ｎｍ以下の突起の検出およびそれらの分布の把握を可能とする磁気記録媒体の表面品質評価方法を提供する。
【手段】 潤滑剤層を有する磁気記録媒体を回転させ、回転している前記磁気記録媒体の表面に圧接テープを圧接し、前記圧接テープを磁気記録媒体の外周部と内周部との間を往復摺動させる表面処理して、磁気記録媒体表面の突起部に潤滑剤を移動集積させ、２００〜８００ｎｍのレーザ光を用いる光学式測定装置により磁気記録媒体表面を観察する。 （もっと読む）

【課題】平均検出率を向上させ、又はＤＯＩ検出率を高める一方でノイズ検出率を抑制することが出来る欠陥検査条件を容易に決定する。
【解決手段】検査装置から出力される欠陥・画像情報と、観察装置から出力されるADR・ADC情報とをデータ処理装置上で突き合わせをし、一覧表示させると共に、そのデータを用いて欠陥特徴量と平均検出率の関係や、レビューカテゴリごとにその欠陥特徴量と検出数を示す。 （もっと読む）

【課題】ディスク状対象物を検査するための装置（１）を提供する。
【解決手段】装置（１）は、ディスク状対象物（１０）の構造のある又は構造化された表面を検査するために少なくとも１つのモジュール（２，４）を有する。ディスク状対象物（１０）の構造のある又は構造化された表面と異なるディスク状対象物（１０）の要素を検査する少なくとも１つの別なモジュールが装置（１）に挿入可能である。 （もっと読む）

【課題】 欠陥検査において欠陥検出閾値及び欠陥検出フォーカス等のパラメータを高精度で且つ短時間に設定できるようにする。
【解決手段】 検査対象基板にエネルギービームを照射することによって、当該検査対象基板から反射されたエネルギービームをディジタル画像信号として取得し、取得されたディジタル画像信号の強度が閾値を超える場合に当該ディジタル画像信号を欠陥として検出する。閾値は、ディジタル画像信号に含まれるノイズ信号の最大強度に基づいて設定される。 （もっと読む）

【課題】 従来検出が困難であった欠陥部について、その形状や方向性に関係なく検出可能な欠陥検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】 縞状のパターン１９０にてなる照射光１１１を被検査物５０へ照射し、被検査物の通過した縞状パターンから、被検査物の欠陥部に応じて現れた欠陥パターン１９５を検出する。このとき、被検査物に照射する縞状パターンの位置を変更することから、欠陥部の形状や方向性に関係なく欠陥部を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】ディスクの表面検査を効率よく行う、小型化が可能なディスク搬送機構およびこれを利用した小型な検査装置を提供する。
【解決手段】所定距離離れたそれぞれの初期位置に検査ステージを挟んで直線状に配置され、横方向に移動可能な第１，第２のスピンドル５，６、検査ステージの前側あるいは後ろ側のいずれか一方に横方向に移動可能なディスク反転機構８、前後方向に移動可能なローダハンドリングロボット２，及びアンローダハンドリングロボット３、表面検査光学系４で構成され、それぞれの初期位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６との直線運動のみでディスク９の搬送、反転、表面検査を行う。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学的テストヘッドは、レーザビームを発生するためのレーザソースを備えている。レーザビームは、ビームの形状を変更するための円筒状レンズと、ビームをワークピース（通常、磁気ディスクプラッター）に集中させるための球面レンズとを通過する。円筒状レンズは、ａ）プラッターの半径方向に沿ってレーザビームを延長させ（半径方向における有効開口数を減少することにより）、そしてｂ）ビームを半径方向に焦点ずれさせる（が、ビームは、通常、周囲方向に焦点が合わされる）。半径方向におけるビームのサイズは、円筒状レンズの位置に実質的に不感である。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】ワークピースの上面及び下面を同時に光学的に検査するための装置は、上部及び下部テストヘッドを備え、各ヘッドは、ワークピースの関連表面を走査するレーザビームを発生するための少なくとも１つのレーザと、反射されたレーザ光を検出するための少なくとも１つの検出器とを備えている。レーザビームの方向は、上部テストヘッドと下部テストヘッドとの間のクロストーク干渉を減少又は防止するように選択される。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】レーザビームが基板表面に沿った経路をトレースするようにして基板を検査するための方法及び装置。レーザビームは、例えば、１／４波長リターダーにより円偏光される。これは、レーザビームが円偏光されない場合より、スクラッチの方向に対する敏感さが低い状態で、基板を検査することを許す。 （もっと読む）

【課題】半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした表面検査装置およびその方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、研磨または研削された絶縁膜の表面に発生したスクラッチや異物に対してほぼ同じ光束で落射照明と斜方照明とを行い、該落射照明時と斜方照明時との間において浅いスクラッチと異物とから発生する散乱光強度の変化を検出することによって浅いスクラッチと異物とを弁別し、さらに、前記落射照明時における散乱光の指向性を検出することによって線状スクラッチと異物とを弁別することを特徴とする表面検査方法およびその装置である。 （もっと読む）

【課題】データ収集装置からメモリ及び／又は電子回路、例えばプロセッサにデータを通信するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学的テストヘッドは、ワークピース表面の状態を表わす出力信号を発生するための１つ以上の検出器を備えている。これらの検出器からのデータは、それが１つ以上の条件を満足する（例えば、それが特定のスレッシュホールドを越える）ときだけ、１つ以上のメモリに記憶される。次いで、データは、１つ以上のメモリから処理のために電気的回路へ通される。更に、検出器からのデータが１つ以上の条件を満足するときには位置情報が１つ以上のメモリに記憶されそして電気的回路へ通される。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学的テストヘッドは、光ビームを光源からワークピースへ通信する１つ以上の入力光学路と、ワークピースから反射された光を検出器へ通信する１つ以上の出力光学路とを備えている。これら入力光学路及び出力光学路は、１つ以上のミラー及び１つ以上のレンズを含むことができる。光学路の少なくとも１つは、漂遊光を捕獲し及び／又は吸収するための層を含む。１つ以上のレンズは、レンズからの望ましからぬ光の反射により生じるノイズを減少するための反射防止コーティングを含む。光学路は、漂遊光を減少するための１つ以上のマスクを含む。１つ以上のマスクは、調整可能なアパーチャー（例えば、虹彩）を有することができる。 （もっと読む）