【課題】周期性パターンが形成された基板は、周期性パターンの回折現象によって生じる擬似欠陥をスジ状ムラ欠陥として誤判断し易く、検査精度に問題が残る。本発明の課題は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、実欠陥と擬似欠陥とを高精度に弁別できる検査用パターン及び検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
ムラ欠陥検査装置に用いるムラ検査用パターンが、前記基板と同一の材料でかつ同一の製法でパターンが形成され、該パターンが互いに直行するＸ方向、Ｙ方向において、それぞれ最小パターンピッチをＭｉｎ、パターンピッチ増量分をΔ、最大パターンピッチをＭａｘとすると、Ｍｉｎ，Ｍｉｎ＋Δ，Ｍｉｎ＋２Δ・・Ｍｉｎ＋ｎΔ，Ｍａｘの少なくとも１種類のパターンピッチでパターンが等間隔に配列していることを特徴とするムラ検査用パターン。 （もっと読む）

【課題】近赤外線吸収性能の面均一性を容易に測定できる、近赤外線吸収性能の面分布測定方法と、この測定方法を利用した近赤外線吸収フィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材シート２上に近赤外線は吸収し且つ可視光は吸収しない近赤外線吸収層３を積層した帯状の近赤外線吸収フィルタ１に対して、搬送させながら、その幅方向ＴＤ及び流れ方向ＭＤに亘る所定領域面Ａ毎に、近赤外線光源５からの透過光の面分布を、近赤外線領域に感度を有する二次元イメージセンサ５による二次元画像として撮影し、画像処理装置７で画像処理して、その輝度分布から近赤外線吸収性能の面分布を測定し、ディスプレイ８に表示する。更に、判定基準に従い面分布の不良品と良品とをマーキング等で識別できる様にすると良い。この方法を用いて、近赤外線吸収フィルタを製造する。 （もっと読む）

【課題】干渉光学系を用いて検査対象の欠陥を検出する場合に、高精度で欠陥検出することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】欠陥検査装置１０は、予め定めたパターンが形成された透光性を有する検査対象物に照明光を照射する光源１４、照明光が照射された検査対象物を透過した光を結像する、対物レンズ１５及び結像レンズ１７からなるレンズ群、レンズ群を透過する光を二つの光に分割するハーフミラー１８、分割された二つの光が、予め定めた方向に横ずれするように偏向させる偏向器２０Ａ、２０Ｂ、偏向された二つの光の位相をシフトさせる位相シフタ２８、位相シフトされた二つの光を合波するハーフミラー３０、合波された光の光学像を撮像する撮像素子３４を備え、結像レンズ１７を透過した二つの光が平行で且つ二つの光の主軸が平行となるように、対物レンズ１５及び結像レンズ１７が配置されている。 （もっと読む）

【課題】低コストな欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】実施形態の欠陥検査装置は基板表面又は膜表面に製造過程で発生した複数の欠陥を検出する検出手段４０と検出手段に検出された複数の欠陥を位置に基づいて欠陥群に分類するクラスタリング手段４１と欠陥群及び欠陥に識別情報を付与する識別情報付与手段４２と欠陥群及び欠陥の位置情報を識別情報付与手段が付与した識別情報と共に保持する記憶手段３４を備える。さらに実施形態の欠陥検査装置は欠陥群及び欠陥から２つを選択して直線を引きそのなかで傾きの差が所定範囲内である直線の上の欠陥群及び欠陥を同一グループに属するとして同一のラベルを付けて位置情報及び識別情報と共に記憶手段に保持するグルーピング手段４２とグループ毎にそこに属する欠陥群及び欠陥の中から２つ以上の欠陥群または欠陥についての位置情報を残して他の位置情報は記憶手段から削除する削除手段４２を備える。 （もっと読む）

【課題】 装置の専有面積を小さくすることができ、高精度の検出結果を短時間で行なうことができる撮像光学検査装置を提供する。
【解決手段】 単一のリニア撮像素子３ａと、被検査物１００上のリニア撮像素子３ａによる撮像領域１０２を変更する搬送装置２と、リニア撮像素子３ａに入射する光の特性が異なる複数の照明装置４，５，６，７と、被検査物１００の所定の領域がリニア撮像素子３ａの撮像領域内にある時間内に複数回のデータ転送が可能となるように、搬送速度又は転送速度を制御する撮像制御部１０と、照明装置の点灯のタイミングをリニア撮像素子３ａのデータ転送回ごとに変更する照明制御部９と、リニア撮像素子３ａからの画像データを同じ照明装置が点灯した画像データごとに集積する画像処理部１１と、集積画像データから合成画像データを作成する画像合成部１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 高感度に欠陥可視化が可能な照明遷移領域を利用し、レンズ全面に対して前記の照明遷移領域を利用した欠陥検査手法を提供する。
【解決手段】 明部及び暗部からなるパターン照明により被検査レンズを透過照明する。被検査レンズに対して照明とは反対側に撮像手段が設けられており、被検査レンズに焦点が合わせられている。投影されるパターン形状はレンズパワー中心軸もしくはパワー中心面に対して対称であり、少なくとも一つの明部及び暗部からなる。さらに被検査レンズに対して、前記の中心軸もしくは中心面に対して対象性を維持したまま異なる複数のパターンを投影することでレンズ全面に照明遷移領域が存在するようにし、投影された複数のパターンごとに画像を取得する。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスに発生した欠陥の要因を効果的に解析できる欠陥解析方法及び欠陥解析装置を提供する。
【解決手段】一態様に係る欠陥解析方法は、半導体デバイスの欠陥検査で得られた欠陥の位置及び大きさと、光学検査で得られた欠陥を含む領域の反射光の波形を取得するステップと、半導体デバイスを製造する複数の工程と、工程毎の処理内容を含む工程情報を取得するステップと、欠陥の位置及び大きさと、工程情報に基づいて、半導体デバイスのプロセスシミュレーションを行うステップと、シミュレーション結果に対して光学シミュレーションを行い、反射光の波形を生成するステップと、取得した反射光の波形と、生成した反射光の波形との類似度を算出するステップと、算出された類似度が、予め登録された閾値を超えているか否かを判定するステップと、を具備する。 （もっと読む）

【課題】
光学式の磁気ディスク欠陥検査装置で、基板表面のより微細な欠陥、例えば浅い傷欠陥（シャロー欠陥）や基板内部の欠陥を他の欠陥と弁別して検出することを可能にする。
【解決手段】
光学式欠陥検査方法において、試料を回転させて一方向に連続的に移動させながら試料の表面に対して傾いた方向から照明光を入射させて試料の表面に照明光を照射し、この照明光が照射された試料の表面からの正反射光と正反射光の光軸の周辺の前方散乱光とを含む反射光のうち正反射光を除いて正反射光の光軸の周辺の前方散乱光の像を検出し、照明光が照射された試料の表面からの散乱光のうち照明光の入射方向に対して側方へ散乱した側方散乱光を集光して検出し、正反射光の光軸の周辺の前方散乱光の像を検出して得た信号と側方散乱光を集光して検出して得た信号とを処理して試料上の任意の方向のスクラッチ欠陥を含む欠陥を抽出するようにした。 （もっと読む）

【課題】フィルムの外観検査を容易に行うためのフィルム検査装置を提供すること。
【解決手段】フィルムの巻き出しまたは巻き取りロール２本と、前記ロール１本毎に各巻き芯の軸部の両端を平行な２本のアームの一方の端で保持するスイングアーム機構２組と、全てのアームの他端部を共通に貫く旋回中心軸と、を有し、２本のロールは平行に配置され、各ロールにより両端部を固定したフィルムの一部を平面状に保持して検査することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
パルスレーザ光源から発射されるパルスレーザのパルス発振周波数よりも高いサンプリングレートで試料にダメージを与えることなく検査することを可能にする。
【解決手段】
パルス光源から発射されたパルス光の１パルス分の光を複数のパルスに分割し、この分割されたパルス光を試料に照射し、照射により試料から発生した散乱光を集光して検出し、試料からの散乱光を集光して検出して得た情報を用いて試料上の欠陥を検出する欠陥検出方法において、１パルス分の光を複数のパルス光に分割することを、分割した各パルス光のピーク値がほぼ一定になるように制御して分割するようにした。 （もっと読む）

【課題】ロール疵発生時にロール疵の起因となっているロールを短時間に特定できると共に、高精度のロール疵判定ができる、ロール疵起因ロールの特定方法を提供することを課題とする。
【解決手段】複数のスタンドで構成される仕上圧延機を有する熱間圧延ラインにおいて、仕上圧延ロールが起因で鋼板表面に周期的に発生するロール疵を検出し、検出したロール疵の起因であるロールを特定する、ロール疵起因ロールの特定方法であって、ロール疵発生条件ステップと、表面疵の検知ステップと、疵の発生ピッチ演算ステップと、出側疵周期と発生ピッチとを比較する比較ステップと、一致する出側疵周期があれば、その圧延ロールを検出したロール疵の起因ロールであると特定する起因ロールの特定ステップと、一致する出側疵周期がなければ、検出したロール疵は非ロール疵であると判定する非ロール疵判定ステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の検出、並びに欠陥タイプ及び欠陥原因の分類を行う。
【解決手段】検出された欠陥の画像に関する欠陥マスク画像を受け取るステップと、複数のランドマークマスク画像を受け取るステップ（３０４）と、第１のランドマークマスク画像を用いて、上記検出された欠陥と上記第１のソースラインとの間のソース欠陥接続性計測を算出するステップ（５００）と、第２のランドマークマスク画像を用いて、上記検出された欠陥と上記第１のゲートラインとの間のゲート欠陥接続性計測を算出するステップ（５０２）と、上記ソース欠陥接続性計測及び上記ゲート欠陥接続性計測が共に０でない場合に、上記ソース欠陥接続性計測及び上記ゲート欠陥接続性計測に基づいて、上記検出された欠陥に関する欠陥タイプを識別するステップと、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】
従来技術によれば、試料に熱ダメージを与えることなく、短時間で高精度に欠陥検出・寸法算出することが困難であった。
【解決手段】
試料の表面におけるある一方向について照明強度分布が実質的に均一な照明光を、前記試料の表面に照射し、前記試料の表面からの散乱光のうち互いに異なる複数の方向に出射する複数の散乱光成分を検出して対応する複数の散乱光検出信号を得、前記複数の散乱光検出信号のうち少なくとも一つを処理して欠陥の存在を判定し、前記処理により欠陥と判定された箇所各々について対応する複数の散乱光検出信号のうち少なくとも一つを処理して欠陥の寸法を判定し、前記欠陥と判定された箇所各々について前記試料表面上における位置及び欠陥寸法を表示する欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】被写体からの光の直交する偏光成分を分離し結像させた重像の画像信号から、直交する偏光成分の像間の強度比を算出するに際し、計算を単純化し演算時間を短縮する。
【解決手段】複屈折特性を有する複屈折光学素子１３により、被写体１からの光Ｂを偏光方向が直交する常光線（Ｏ光線Ｂ_ｏ）と異常光線（Ｅ光線Ｂ_ｅ）とに分離し、マトリクス状に画素が配列された固体撮像素子１１の異なる位置にそれぞれＯ光線像Ｉ_ｏおよびＥ光線像Ｉ_ｅとして結像させる。ここで、Ｏ光線像Ｉ_ｏとＥ光線像Ｉ_ｅとの相対的変位方向である重像間変位方向Ｓ_２と、固体撮像素子１１の画素配列の一方向（ｘ方向）とが一致するように、複屈折光学素子が配置される。固体撮像素子１１より得られるＯ光線像Ｉ_ｏとＥ光線像Ｉ_ｅとが重ね合わされた像の信号、および、重像間変位量算出部２３により算出される重像間変位量Ｄ_ｘに基づき、Ｏ光線像Ｉ_ｏとＥ光線像Ｉ_ｅとの強度比を算出する。 （もっと読む）

【課題】高精度な材質予測を実現し、鋼材の品質管理、製品設計、制御装置の開発に用いることができる鋼材の材質予測装置を提供することを課題とする。
【解決手段】鋼板表面の欠陥を自動検出する表面検査装置を設置した工程の下工程における目視検査を助けるための鋼板の外観検査装置であって、表面検査装置からの欠陥検出情報に基き、下工程通板時におけるコイル先端からの欠陥位置を演算する、トラッキング演算装置と、欠陥位置演算結果に基いて、検出した欠陥が下工程の目視検査位置に達する際に、ライン速度を目視しやすい速度まで減速または停止する、再検ライン速度制御装置と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】検査完了までに要する時間の増加を抑制しつつ詳細な欠陥レビュー検査を可能にする。
【解決手段】基板検査装置１は、基板ＷをＸ方向へ搬送する基板搬送ユニット２２と、Ｘ方向へ搬送中の基板Ｗにおける欠陥を検出するラインスキャンカメラ１５、ラインスキャンカメラ駆動部１１５、欠陥検出部１２１および制御部１０１と、検出された欠陥の画像を同搬送中に取得するレビューカメラ１９、レビューカメラ駆動部１１９および制御部１０１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】例えば自走式電線点検装置を使用したビデオ映像に適した処理を行う。
【解決手段】撚られた複数の素線が表面に露出している電線に沿って撮像手段を移動させながら撮影した電線の複数の連続画像に基づいて電線の異常を検出する異常検出方法において、複数の連続画像４のうち、１枚の基準画像中の基準となる素線境界の位置情報及び素線の幅情報の入力を受け付け記憶する初期値設定処理（ステップＳ４３）と、連続画像の各々について素線の境界を検出して素線表面画像を切り出す画像切り出し処理（ステップＳ４４，Ｓ４５）と、素線表面画像中の素線の表面の明るさの変化に基づいて素線の異常を検出する異常検出処理（ステップＳ４６〜Ｓ４８）を備えている。 （もっと読む）

【課題】第１表面に対向する第２表面による反射像の影響を受けずに被評価物体の表面形状を精度よく評価することができるようにする。
【解決手段】評価装置は、評価対象である板ガラスなどの被評価物体３の表面３ａに映し出されたストライプパターン１を、ＣＣＤカメラ２によって撮像するように構成されている。ストライプパターン１は、光源の発光面に設けられている。また、被評価物体３の裏面３ｂには、屈折率が被評価物体３の屈折率に近い反射抑制層２０が、裏面３ｂに接するように配置されている。ＣＣＤカメラ２によって撮像された画像は、演算装置としてのコンピュータ４に取り込まれ、コンピュータ４によって画像解析が行われる。 （もっと読む）

【課題】 安定的に検査領域を特定することが可能な画像処理装置及び外観検査方法を提供する。
【解決手段】 濃淡画像を取得する濃淡画像取得手段１１０と、距離画像を生成する距離画像生成手段１３０と、濃淡画像と距離画像の一方の画像において、他方の画像上で検査範囲に相当する検査領域を特定するための特定パターンを検出する特定パターン検出手段１５０と、濃淡画像と距離画像の他方の画像において、特定パターン検出手段により検出された特定パターンの位置及び傾斜角度の少なくとも一方に基づいて、検査領域を特定する検査領域特定手段１７０と、特定された検査領域から特徴量を算出する特徴量算出手段１８０と、算出された特徴量に基づいて、ワークの良否を判定する判定手段１９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ラインセンサカメラのライン周期と比べてＰＷＭ周期が十分に短くなくても、所望の光量を各ライン周期に供給することができ、撮像された画像における明暗差が出るのを防ぐことができる光照射装置を提供する。
【解決手段】検査対象Ｗに光を照射する光照射機構１と、所定のＰＷＭ周期で点灯期間及び消灯期間を交互に繰り返すＰＷＭ制御により、前記光照射機構を所定の明るさに制御するＰＷＭ制御部２と、を備え、ラインセンサカメラの各ライン周期に含まれる前記点灯期間が、１期間分又は数期間分であり、前記ＰＷＭ周期が、前記ライン周期と同期しているとともに、受光素子が１ライン周期に撮像する１画素のアスペクト比が大きくなるほど、１ライン周期に含まれる前記点灯期間の数が多くなるように設定した。 （もっと読む）