【課題】
検査対象基板において不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する課題があった。
【解決手段】
光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件をもって導く照明工程と、前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分を受光器に導き電気信号を得る検出工程と、該検出工程において得られる複数の電気信号に基づいて欠陥を判定する欠陥判定工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】 画像処理等に精通したオペレータを必要とすることなく、検査対象物の検査面の性状を簡単且つ正確に検査することができ、コスト低減を図ることができる外観検査装置および外観検査方法を提供する。
【解決手段】 外観検査装置は、照明装置１と、撮像装置２と、表示装置３とを有する。照明装置１は、検査面Ｗａに入射する光の濃淡の形態に対して、検査対象物Ｗの検査面Ｗａでの反射光による生じる濃淡の形態が、検査面Ｗａの性状により異なるように、検査面Ｗａに濃淡の光を照射する。検査面Ｗａの加工目の状態そのものを撮像して検査するものではなく、濃淡の光を照射によって検査面Ｗａに映り込む形態で検査する。 （もっと読む）

【課題】安価でありながら、被検査基板へ照明仰角の変更に伴う調整を容易に行うことが可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】レンズホルダ５１０に支持された平行平面基板５１１及びシリンドリカルレンズ５１２は水平面５３０に対して同じ傾斜角θで対称に配置され、シリンドリカルレンズ５１２の回転に伴う光１０１の焦点位置での光軸ずれを防ぐことができ同一焦点位置で光１０１の光軸を一致させたまま光１０１をモータ５２５、ベルト５１６により回転機構により回転できる。レンズホルダ５１０と回転機構は上下方向移動機構５２６に接続され、移動機構５２６のガイド５２４に沿って移動させることによりシリンドリカルレンズ５１２の焦点位置が調整される。これにより、照明光の仰角変更に伴い、容易に線状照明光の位置、焦点、回転位置を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】セラミック成型体に対して検査液を適量かつ持続的に付与でき、簡便にセラミック成型体の外観を検査できる外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置１では、検査対象のセラミック成型体Ｓが載置される載置部１１が複数の孔を有する多孔質体からなり、載置部１１の底面１１ｂ側が検査液貯留部１３内に配置されている。したがって、検査液貯留部１３内の検査液Ｖが毛管現象によって載置部１１の底面１１ｂから載置面１１ａに伝わり、載置面１１ａにおいて、セラミック成型体Ｓに対して検査液Ｖを適量かつ持続的に付与できる。これにより、外観検査装置１では、簡便にセラミック成型体Ｓの外観を検査することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】コストを増加させずに処理の高速化と解像度の変更が可能な光電変換素子と、それを用いた欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】複数のセンサ画素を有する光電変換素子１において、マルチプレクサ５と、複数の水平転送レジスタ３ａ〜３ｄとを有する。センサ画素は、水平転送レジスタ３ａ〜３ｄのそれぞれに対応するように、複数のブロック２ａ〜２ｄに分割される。複数のブロック２ａ〜２ｄの電荷が、対応するそれぞれの水平転送レジスタ３ａ〜３ｄを介してマルチプレクサ５に読み出され、マルチプレクサ５を介して出力されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上のＬＰＤを検出して結晶欠陥と付着異物とに分類する精度を向上させる方途を提供する。
【解決手段】ウェーハの表面に対して垂直の方向に照射させる垂直照射光の該照射表面からの散乱光のうち、高角度範囲に散乱する散乱光の検出強度から照射表面における輝点欠陥の第１のサイズを求め、照射表面に対して斜めの方向に入射させる斜め照射光の該照射表面からの散乱光のうち、低角度範囲に散乱する散乱光の検出強度から輝点欠陥の第２のサイズを求め、輝点欠陥を、第２のサイズに対する第１のサイズの比および予め求めた閾値に基づいて結晶欠陥と付着異物とに分類するに際し、垂直入射光の波長と斜め入射光の波長とを異ならせるようにする。 （もっと読む）

【課題】 不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。
【解決手段】 基板試料を載置してＸ-Ｙ-Ｚ-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、基板試料を斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を受光器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記基板試料上に発生する反射散乱光を集光する。更に、互いに異なる複数の偏光成分を同時に検出する偏光検出部を有する。更に、上記偏光検出部で検出される互いに異なる複数の偏光成分信号を複数チップ間あるいは所定領域の画像内で比較して、統計的な外れ値を試料上の欠陥として検査する。 （もっと読む）

【課題】ＰＴＰシートの表面上にある連続的なメッシュがシートの欠陥検査に及ぼす影響を少なくし、ＰＴＰシートの検査の精度を上げることができる。
【解決手段】錠剤包装検査装置であって、ＰＴＰシートを撮像する撮像部と、ＰＴＰシート上の連続的なメッシュ形状と同型のカーネルを用いて、撮像されたＰＴＰシートの画像に対して積分処理をする積分フィルタ部９３と、積分処理された画像に基づき、撮像部によって撮像されたＰＴＰシートの欠陥の有無を判定する欠陥判定部９５とを有する。 （もっと読む）

【課題】マルチスポットウエハ検査用照射サブシステムを提供する。
【解決手段】照射光ビーム３４を複数の光ビームに分離する回折光学素子３２と、前記複数の光ビームの光路に配置された補償回折光学素子４０であって、前記補償回折光学素子は、前記回折光学素子と同じ回折角度で符号が反転した回折次数を有する、補償回折光学素子と、前記補償回折光学素子から出る前記複数の光ビーム３６の光路に配置され、前記複数の光ビームのそれぞれの焦点を検査用ウエハ４６に個別におよび同時に合わせる、１つまたは複数の屈折光学素子４４と、を含む照射サブシステム。 （もっと読む）

【課題】水中ケーブルを曳航しながら航走する水中航走体と、その支援システム等の小型化と制御の簡単化を図ることができる、水中航走体、管内調査システム、水中航走体の上昇及び下降制御方法、及び、管内調査方法を提供する。
【解決手段】水中ケーブル４２の接続点Ｐを航走用推進器２２の推進軸の軸線Ｃから上下方向に関して距離Ｈを置いて設けるとともに、航走用推進器２２が発生する推進力Ｔによって発生する接続点Ｐ回りの第１モーメントＭ１と、水中航走体２０の水中重量の沈下力Ｗｔ又は浮上力Ｆｔによって発生する接続点Ｐ回りの第２モーメントＭ２とが、推進力Ｔが予め設定した設定推進力Ｔ０であるときに等しくなるように、水中重量の沈下力Ｗｔ又は浮上力Ｆｔを設定し、水中航走体２０の上昇又は下降の制御を、航走用推進器２２の推進力Ｔの増減によって行う。 （もっと読む）

【課題】従来技術では装置内の構成（例えば、ステージ用リニアスケールより上に搭載されているＺステージ，Θステージ，ウェハチャック、及び検出光学系等）の振動が座標値に正しくフィードバックされない。
【解決手段】本発明は、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を移動する移動部と、前記基板に光を照射する照射部と、前記基板からの光を検出し、電荷を蓄積する電荷蓄積型検出部と、前記基板保持部と前記移動部との相対的な位置の変化を計測する計測部と、処理部とを有し、前記電荷蓄積型検出部は、前記計測部の計測結果に基づいて得られた電荷転送信号に基づいて電荷を蓄積し、前記処理部は、前記電荷転送信号に基づいて電荷が蓄積されることにより生成された画像を使用して前記基板の欠陥を検出することを特徴とする検査装置。 （もっと読む）

【課題】アライメント精度を高める。
【解決手段】実施形態のアライメント方法は、局所領域設定ステップと、局所アライメントステップと、シフトステップとを、含む。局所領域設定ステップでは、局所領域設定部が、アライメント対象領域の中から、アライメント要求精度以上の精度で行われる局所アライメントの実行対象領域である局所領域を設定する。局所アライメントステップでは、局所アライメント部が、前記局所領域において、検査対象のパターン画像と検査基準の基準パターン画像との前記局所アライメントを行い、局所アライメント結果であるシフト量を得る。シフトステップでは、シフト部が、前記シフト量を用いて前記基準パターン画像全体をシフトする。 （もっと読む）

【目的】マスク面上のパターン領域と非パターン領域の間に段差があるマスクであっても、効率的に検査可能なマスク欠陥検査装置およびこれを用いたマスク欠陥検査方法を提供する。
【構成】マスク面に対するフォーカス合わせを行うフォーカス合わせ機構と、パターン画像の取り込み時の検査視野走査方向上の検査視野を挟む第１箇所と第２箇所のマスク面におけるフォーカスを、それぞれ検出する第１のフォーカス検出部および第２のフォーカス検出部と、第１および第２の箇所が、パターン領域と非パターン領域とのいずれに位置するかを判定する判定部と、判定部の判定結果に基づき、フォーカス合わせ機構に対しフォーカス合わせ方法を指示するフォーカス合わせ方法指示部と、を有することを特徴とするマスク欠陥検査装置およびこれを用いたマスク欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】 検査員によって黒シミ欠陥Ｇ等の判定結果が異なるようなことがなく、安定して黒シミ欠陥Ｇ等の検査結果を得ること。
【解決手段】 被検査体を撮像する撮像部と、撮像部の撮像により取得された画像データに基づいて被検査体における欠陥部分を抽出する欠陥抽出部と、欠陥抽出部により抽出された欠陥部分の輪郭部を取得する輪郭取得部と、輪郭取得部により取得された輪郭部における濃淡レベルの変化の大きさに基づいて欠陥部分の評価を行う欠陥評価部とを具備する欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】周期的に繰り替えられて形成された部分を有するワークの撮像及び検査に要する時間を短縮できるワーク検査装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】基準パルスＰＡに基づいてワークＷの歯部Ｗ１と撮像タイミングとを同期させ、撮像したｋ（ｋは整数）番目の画像と（ｋ＋１）番目の画像との差分を得る画像処理を行い、差分のデータに基づいて欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】周期的に繰り替えられて形成された部分を有するワークの撮像及び検査に要する時間を短縮しつつ、欠陥の見逃しを低減できるワーク検査装置及びワーク検査方法を提供する。
【解決手段】ワークＷを一定の回転速度で回転させつつ、一定の間隔で出力される基準パルスに基づいた一定の周期毎に、ワークＷの歯部Ｗ１を少なくとも２カ所以上含むように撮像し、撮像したｋ（ｋは整数）番目の画像と（ｋ＋１）番目の画像との差分データに基づいて欠陥を検出する構成で、撮像エリアＡＲ１内の基準の歯部Ｗ１Ａ〜Ｗ１Ｄに対して斜めに光を照射する照明装置１００を備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】低コストで、且つ光ビームの広がりを抑えることができ、検査精度を向上することができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】光源からの光ビームを光照射手段を介して被検査物の被検査面である外周面に照射し、受光手段により被検査面からの反射光を受光し、受光した反射光の光量に基づいて被検査面上に存在する欠陥を検出する装置である。光照射手段は、回転せしめられる中空回転軸と、中空回転軸の端部の中心軸上に設けられた第１の平面ミラーと、中空回転軸の中心軸から離れた位置に設けられており第１の平面ミラーと同期して回転する第２の平面ミラーと、中空回転軸と同軸に周方向に沿って固定配置された円錐台ミラーとを備えている。光源からの光ビームが、中空回転軸内を介し、第１の平面ミラーと、第２の平面ミラーと、円錐台ミラーとによって反射され、円周方向に移動しながら一定の入射角度で被検査面に照射されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】吸収体パターンを被着させる前のマスクブランクの段階で位相欠陥を検出することが可能な装置を提供する。
【解決手段】マスク検査装置１００は、ＥＵＶ光を反射する多層膜が形成されたマスクブランクの表面に照明光を照明する照明光学系と、マスクブランク表面から反射された同じ位置の像について、異なるデフォーカス量でデフォーカスさせた位置で撮像するセンサ１０５，３０５と、異なるデフォーカス量で撮像されたマスクブランク表面の同じ位置での第１と第２の光学画像を用いて、マスクブランクの欠陥の有無を判定する判定部１７６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】量産装置としての完成度が高く、かつ、大気中でのレンズを使用した検査光学系を使用できるＤＵＶ光を使用したマスクブランクの検査方法において、わずか数ｎｍの微細な凹凸欠陥（位相欠陥）を高感度に検出できる技術を提供する。
【解決手段】第１画像検出器ＳＥ１をレンズＬ３の結像面１６よりも光路長がＸＬ１だけ短い位置に配置することにより、マスクブランクＭＢ上の検査光照射領域１２の拡大検査像を負のデフォーカス状態で収集する。これに対し、第２画像検出器ＳＥ２をレンズＬ４の結像面１７よりも光路長がＸＬ２だけ長い位置に配置することにより、マスクブランクＭＢ上の検査光照射領域１１の拡大検査像を正のデフォーカス状態で収集する。 （もっと読む）