【課題】光ファイバの端面を容易に、かつ確実に観察し検査する。
【解決手段】光ファイバ１０の端面１０ａを観察するための拡大レンズを備える本体部と、本体部に着脱可能であるとともに光ファイバ１０を把持し、光ファイバ１０の端面１０ａを観察するための鏡２４が設けられた光ファイバ把持具２と、を備える。鏡２４は、その鏡面２４ａが上側（拡大レンズが配される方向）から見て、光ファイバ１０の延在方向に直交する面Ａ（方向）に対して所定角度（θ２）傾斜している。 （もっと読む）

【課題】検査を短時間で行うことが可能であり装置や処理が煩雑にならず、欠陥を見逃すことがなく確実に検出することが可能である外観検査方法及び外観検査装置を提供する。
【解決手段】鋳造体からなる被検査体１の欠陥部に蛍光剤を浸透させマーキングを施した後、前記被検査体１をワーク回転装置２０に取り付けて連続回転させ、紫外線照射装置４１〜４６から紫外線を照射し、撮像装置３１〜３３で被検査体１を撮像し、前記欠陥部の発光を被検査体１の回転移動の軌跡として記録した蛍光発光画像の画像データを取得し、該画像データの画像処理を行い、欠陥部を検査する。 （もっと読む）

【課題】ロール・トゥ・ロールで製造する場合に、欠陥の不良モードの判定を高精度で容易にできる。
【解決手段】弁別条件を保存し、ワークを検査して得た欠陥データと弁別条件とに基づいて欠陥の不良モードを弁別するシステムであって、
不良削除装置に取り付けられたワークの欠陥データにより、不良削除装置に欠陥を特定させる手段と、
特定された欠陥を作業者に撮像させる手段と、
撮像により得られた画像を表示して、作業者に、画像を目視させることにより、特定された欠陥の不良モードを判定させて入力させる手段と、
特定された欠陥の欠陥データと、入力された不良モードとに基づいて弁別条件を更新する手段とを備えることを特徴とする学習型欠陥弁別処理システム。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ等の被検査体の端部の欠陥の種類を効率的に自動判別することが可能な検査装置を提供する。
【解決手段】 被検査体の端部を第１の偏光状態の光で照明する照明部と、前記端部で拡散反射される反射光の第２の偏光状態の成分を透過する透過部と、前記透過部を透過した成分により前記端部の第１の像を形成する第１の像形成部と、を有することを特徴とする端部検査装置である。 （もっと読む）

【課題】精密ソルダレジストレジストレーション検査方法を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムを動作させて、蛍光材料内の特徴の位置を再現可能に特定するために、蛍光画像を取得するための蛍光撮像高さを決定する方法が開示される。蛍光材料外に露出した露出ワークピース部分の高さが特定される（例えば、高さセンサまたはオートフォーカス動作を使用して）。特定された高さは再現可能である。露出部分は、蛍光材料および／または蛍光材料内に配置された特徴に対して特徴的な高さを有する。蛍光材料内部であり得る蛍光撮像高さが、特定された露出部分の高さに相対して決定される。蛍光撮像高さは、結果として生成される蛍光画像において蛍光材料内に配置された所望の特徴の検出を向上させるように決定される。様々なワークピースに対して、この方法は、従来既知の方法よりも確実に、適宜合焦された蛍光画像の自動取得を提供する。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムの低コントラストの欠陥でも欠陥抽出を容易にする反射防止フィルム欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】透明なフィルム状の基材に反射防止材料をコーティングして製造される反射防止フィルムの欠陥検査装置であって、少なくとも、前記反射防止フィルムを搬送する搬送手段と、搬送される反射防止フィルムを裏面から押し当て、円周表面に黒色部材を備えた検査ローラと、前記黒色部材に付着した異物を洗浄するローラと、前記検査ローラに押し当てられた反射防止フィルムの表面を照明する手段と、照明された前記反射防止フィルムを撮像して撮像画像を得る撮像手段と、撮像画像を処理して欠陥を抽出する画像処理手段と、欠陥を抽出した場合に製造工程に欠陥検出信号を出力する手段と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルム欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】基板が備えるそりやうねりの影響を考慮しながら、正確かつ簡便に、異物の付着や欠陥を有した箇所を異常箇所として検出することができる基板の検査方法、及び、この方法を利用した基板の検査装置を提供する。
【解決手段】基板の表面に対してｐ偏光の光を照射して得られた鏡面反射光から、基板の表面を複数の小領域に分割した分割小領域に対応する画素を有した基板画像を取得し、該基板画像に基づき、異物の付着や欠陥を有した箇所を異常箇所として検出する基板の検査方法であり、ｉ）基板の理論上のブリュースター角θ_Bを含む角度範囲ｄでｐ偏光の入射角を相対的に変化させる入射面内走査とii）入射面と基板とが交わる線を中心軸にして基板を相対的に傾斜させる傾斜走査とを組み合わせて基板画像を取得し、上記で得られた全基板画像において画素の光量が一度もゼロにならない分割小領域を基板の異常箇所として検出するようにする。 （もっと読む）

【課題】生体細胞のような位相物体の観察に用いられてきた従来の位相差顕微鏡に代わって、広くて深い測定視界を持ち、位相差の干渉画像が鮮明に得られる、単純で簡便な位相物体画像の識別、検査の方法と装置を提供する。
【解決手段】可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。また、位相物体の位相差を含めて異なる形状の複数形状粒子群を形状ごとに数や挙動や位置を自動計測するために、多重マッチトフィルタ法を含んだ位相差画像を検査する。 （もっと読む）

【課題】被検査物表面の微細な欠陥を検出可能な表面検査装置の検査ヘッドを提供する。
【解決手段】レーザーダイオード１４から射出された検査光を導いて被検査物１００の表面に投光し、その反射光を受光して反射光の強度を検出するフォトディテクタ１５に反射光を導く投受光ファイバ１１を有し、フォトディテクタ１５の検出結果に基づいて被検査物１００の表面を検査する表面検査装置の検査ヘッド１であって、投受光ファイバ１１が、２本の光ファイバ１１ａ、１１ｂの一部を熔融延伸接合した熔融延伸部１１ｃを有する光ファイバカプラであり、熔融延伸部１１ｃから分岐した一方の光ファイバ１１ａはレーザーダイオード１４からの検査光を導き、他方の光ファイバ１１ｂはフォトディテクタ１５に反射光を導き、熔融延伸部１１ｃの端面１１ｆから検査光が被検査物１００の表面に投光され、その反射光を端面１１ｆが受光する。 （もっと読む）

【課題】長期的に安定した検出感度を得ることができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象が無い状態のラインＣＣＤカメラの各素子の出力値と目標値とから各素子のＳ補正係数を算出する第１のＳ補正係数算出部と、検査対象が有る状態のラインＣＣＤカメラの出力値が所定の範囲になるように照明光を調整する照明調光部と、ラインＣＣＤカメラの各素子に対する第１のＳ補正係数による補正後の出力値と目標値とから第２のＳ補正係数を算出する第２のＳ係数算出部と、ラインＣＣＤカメラの各素子に対する第２のＳ補正係数による補正後の出力値と予め設定された％閾値とから欠陥検査を行うための閾値を設定する閾値設定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターンマッチングし難い条件にあるアライメントマークを持つ半導体ウエハについて、高精度な試料の位置合わせ、高感度な検査を実現する。
【解決手段】アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】検査用スターホイールから排出される際に先行するキャップと後続のキャップとの間に定間隔を維持しつつ排出することができ、この定間隔を維持した状態で、キャップを直線搬送している間にキャップを検査することができる容器用キャップの検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の容器用キャップ１を複数のポケット５ａで支持して所定の円形軌道上を搬送する検査用スターホイール５と、検査用スターホイール５によって搬送される容器用キャップ１を照明とカメラとにより撮像する第１の検査ステーションと、検査用スターホイール５から検査用キャップを受け取って容器用キャップ１を真空吸着して直線経路上を搬送するバキュームコンベヤ１０と、バキュームコンベヤ１０によって搬送される容器用キャップ１を照明とカメラとにより撮像する第２の検査ステーションとを備えた。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査と位置精度測定を同時に行い、位置精度測定は、マスク上に位置精度測定用のモニターマークを必要とすることなく、任意のパターンで任意の測定点密度で測定する手法を提供する。
【解決手段】参照画像上の任意の場所に位置精度測定用のモニターパターンを生成し、マスク検査時に取り込まれるマスク画像と参照画像を比較することで、モニターパターンを欠陥として検出し、モニターパターンと対象のマスクパターンの相対位置ずれ量を算出することでパターンの位置精度測定を行う。 （もっと読む）

【目的】パターン領域と非パターン領域の間に段差がある被検査試料であっても、効率的に検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン領域内に指定される被検査領域を記憶する被検査領域記憶部と、被検査試料上のパターン面高さ測定位置に対するパターン面高さ信号を検出するパターン面高さ検出部と、パターン面高さ検出部で検出されるパターン面高さ信号を用いて、被検査試料に対するフォーカスを合わせるオートフォーカス機構と、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置するか否かを判定する判定部と、判定部が、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置すると判定する場合にはオートフォーカス機構を駆動し、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置しないと判定する場合にはオートフォーカス機構を停止するオートフォーカス機構制御部と、を有することを特徴とするパターン検査装置 （もっと読む）

【課題】画像検査システムにおける画像レイアウトを柔軟に変更する。
【解決手段】撮像部１によって製品を撮像して得た画像データを用いて、当該製品の良否を検査する検査制御／処理部４と、検査制御／処理部４によって検査される製品の画像データ又は製品の検査結果を含む画像を表示する表示部８と、表示部８の表示領域を分割し、当該分割領域のサイズ及び位置を調整して複数の画像を表示させる表示制御部６とを備え、検査制御／処理部４によって画像データの処理を行っている最中に、表示制御部６によって、分割領域のサイズ及び位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】空間フィルタの設定には、オペレータの目視によるスキャン画像の確認と空間フィルタの調整の繰り返し作業が必要とされる。また、設定状態がオペレータに依存する。
【解決手段】散乱光の像（ビーム像）と回折光の像（フーリエ像）を同時に観察すると共に、散乱光の像（ビーム像）と回折光の像（フーリエ像）の各強度プロファイルを同時に監視する。１本の空間フィルタだけを回折光の像の視野範囲でスキャンし、空間フィルタを挿入しない場合の強度プロファイルに対する状態変化を検出する。検出された状態変化に基づいて空間フィルタの設定条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】鋳造直後の鋼板に発生する微細な欠陥を確実に検出することができる、鋼板表面検査方法および装置を提供することを課題とする。
【解決手段】鋳造直後の鋼板に微細なミストをスプレーし表面を冷却するためのミストスプレーノズルと、冷却中又は冷却直後の冷却部分からの放射光を撮像する撮像装置と、撮像した画像を画像処理することにより前記鋼板に生じた欠陥を検出する信号処理装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上の欠陥分布を検査する表面検査装置において、欠陥検査と同時進行でウェーハの厚さとフラットネスを測定できるようにする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを固定し、回転及び直線移動を行う搬送系と、前記直線移動の経路上に配置されたウェーハ上の欠陥の位置とサイズを特定する散乱光学系と、前記直線移動の経路であって、前記散乱光学系よりも前に配置されたフラットネス測定系と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】数秒／枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】基板に形成された寸法が１００nm以下の繰り返しパターンを検査する方法において、基板に複数の波長成分を含む光を照射し、この光を照射した基板からの反射光を分光して検出し、この分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、この求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定するようにした。 （もっと読む）

【課題】コストを増加させずに処理の高速化と解像度の変更が可能な光電変換素子と、それを用いた欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】複数のセンサ画素を有する光電変換素子１において、マルチプレクサ５と、複数の水平転送レジスタ３ａ〜３ｄとを有する。センサ画素は、水平転送レジスタ３ａ〜３ｄのそれぞれに対応するように、複数のブロック２ａ〜２ｄに分割される。複数のブロック２ａ〜２ｄの電荷が、対応するそれぞれの水平転送レジスタ３ａ〜３ｄを介してマルチプレクサ５に読み出され、マルチプレクサ５を介して出力されるように構成する。 （もっと読む）