【課題】検出系からの検出画像信号を補正することにより、複数の検査装置（機体）間での検査感度の機体差を低減することにある。
【解決手段】被検査対象００１に光束を照射する光源と、被検査対象から反射する反射散乱光を導く光学系１００と、導かれた反射散乱光を電気の検出信号に換える複数の光電セルが配列されている光電イメージセンサ４００と、前記光電イメージセンサを分割した複数の領域ごとに、それぞれに対応する信号補正部、Ａ／Ｄ変換器および画像生成部から構成される検出信号伝送部と、前記検出信号伝送部が出力する部分的な画像を合成する画像を作成する画像合成部と、合成された画像を処理することで被検査対象表面の欠陥あるいは異物の検査を行なう検査装置において、検出信号伝送部は、光電セルからの検出信号を各チャンネル毎に定めた基準検出信号強度の基準目標値に近づけるように補正できる検出信号補正機能を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数のろ過膜板が搭載されるろ過装置において、亀裂や膜形成不具合などの欠陥の有るろ過膜板を自動的に特定することができる画像処理によるろ過膜板検査装置を提供することにある。
【解決手段】水槽内の液体に浸漬して配置された複数のろ過膜板を撮影する上部カメラ１１と、複数のろ過膜板を上部カメラにより撮影した基準画像と、複数のろ過膜板へ気体を圧送しつつ上部カメラにより撮影した入力画像とを比較して、差分画像を作成する差分処理部１３と、差分画像に対して二値化処理を行うことにより二値画像を作成する二値化処理部１４と、二値画像に基づき変化が発生した画素の分布を計算して分布データを出力する変化分布計算部１５と、分布データに基づき、欠陥の有るろ過膜板を特定して結果データを出力する欠陥有無判断部１７とを備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】検査費用のコストダウンを可能とする自走コンベア搬送方式の搬送装置を用いた自動欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ基板やタッチパネル基板の欠陥を検査する自動欠陥検査装置であって、基板を搬送する自走コンベアと、搬送された基板表面を照明する照明手段と、照明された基板表面を撮像する撮像手段と、基板上に設けられた特徴点を撮像する特徴点撮像手段と、基板上に設けられた特徴点の設計上の座標値と、特徴点撮像手段によって撮像された特徴点の座標値を比較して、特徴点撮像手段によって得られた座標値を補正する座標補正手段と、撮像手段によって撮像された検査画像を座標補正手段によって得られた座標補正に基づいて画像処理して検査する画像処理手段と、を備えたことを特徴とする自動欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】外観検査の欠陥分類において、重要欠陥のピュリティまたはアキュラシーまたはその両方が目標値以上になるように調整するなどのニーズがあるが、教示型の欠陥分類は平均的に分類正解率が高くなるよう条件設定されるため、そのようなニーズに応えられないという問題があった。
【解決手段】特徴量抽出部、欠陥分類部、分類条件設定部を含み、分類条件設定部は、欠陥の特徴量と正解のクラスを対応づけて教示する機能と分類の優先順位を指定する機能を有し、優先順位の高い分類の正解率が高くなるよう条件設定を行う。 （もっと読む）

【課題】基板装置表面のパターン欠陥の致命度をより信頼度高く判定する。
【解決手段】データ処理部１０は、欠陥レビュー部１２を介して基板装置のパターン欠陥を含んだレビュー画像を取得し（レビュー画像取得部１０４）、そのレビュー画像と欠陥のない参照画像とを比較することにより欠陥画像を抽出するとともに、前記レビュー画像とそのレビュー画像に対応する領域の同じレイヤの設計データから生成した自レイヤ設計パターン画像との位置合わせを行う（画像位置合わせ部１０５）。そして、その位置合わせの結果に基づき、前記レビュー画像に対応する領域の他のレイヤの設計データから他レイヤ設計パターン画像を生成し、前記欠陥画像と他レイヤ設計パターン画像との合成画像に基づき、前記欠陥と他レイヤのパターンとの相対位置関係を求め、その相対位置関係に基づき致命度を判定する（致命度判定部１０６）。 （もっと読む）

【課題】多重解像度解析により物体検出を行う際に用いる画像処理フィルタのパラメータを、操作者による最適パラメータの指定を要さずに最適化して、精度よく物体を検出することができる物体検出装置を提供する。
【解決手段】物体検出装置は、候補フィルタを記憶する候補フィルタ記憶部と、候補フィルタで多重解像度の学習用サンプル画像の各解像度画像を走査する候補フィルタ走査部と、候補フィルタ走査部による走査の結果を用いて学習用サンプル画像の各解像度画像の走査結果についての競合学習を行う競合学習部と、候補フィルタを、競合学習部による競合学習の結果において極値を示した学習用サンプル画像の解像度の最適フィルタに決定する最適フィルタ判定部と、多重解像度の被験対象画像を最適フィルタで画像処理して被験対象画像に含まれる物体を検出する物体検出部と、を有する。 （もっと読む）

【目的】より高精度に光軸調整がなされたレーザ光で検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン検査装置１００は第１から第４象限の面で独立に受光するフォトダイオードアレイ２１２が受光したレーザ光の光量を用いて、レーザ光と供に発生するノイズ成分光の発生方向を特定するノイズ方向特定回路１２８と、レーザ光の光量を用いて、ノイズ成分光の光量を演算するノイズ光量演算回路１３０と、ノイズ成分光の発生方向の重心値の絶対値がノイズ成分光の光量をレーザ光の総光量で除した値になり、ノイズ成分光の発生方向と直交する方向の重心値が０になるように、ミラー２０２，２０４の反射面の位置を制御するミラー制御部１２１，１２２と、光軸が調整されたレーザ光を用いて、被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、参照画像を入力し、光学画像と参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ（２３）により受光され、その出力信号は信号処理装置（１１）に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する２次元画像生成手段（３２）を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段（３４）に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段（３６）に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 （もっと読む）

【課題】検査対象領域を撮像して取得した多値画像の明暗が変化した場合であっても、非検出対象物であるノイズを効果的に除去し、検出対象物であるブロブ（集合体）状の傷、汚れ等の欠陥の有無、大きさ、形状等を検査する画像検査装置、画像検査方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】検査対象領域の多値画像を取得し、取得した多値画像の濃度情報に基づいて基準濃度値を算出する。多値画像の各画素の濃度値と算出した基準濃度値との差分を画素ごとに算出し、基準濃度値の変化に追従して変化するように基準濃度値に対して相対的に閾値を設定して記憶する。算出した差分が閾値より大きい複数の画素を抽出し、抽出された複数の画素の輝度値の連結性に基づいて画素の集合体を特定し、特定された画素の集合体に対して、差分を用いた特徴量を算出する。算出した特徴量に基づいて、特定された画素の集合体の欠陥を判別する。 （もっと読む）

【課題】検査データと組み合わせて設計データを使用するためのさまざまな方法及びシステムが実現される。
【解決手段】設計データ空間における検査データの位置を決定するための一コンピュータ実施方法は、ウェハ上のアライメント部位に対する検査システムにより取り込まれたデータを所定のアライメント部位に対するデータにアラインさせることを含む。この方法は、さらに、設計データ空間における所定のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置を決定することを含む。それに加えて、この方法は、設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間における検査システムによりそのウェハについて取り込まれた検査データの位置を決定することを含む。一実施形態では、検査データの位置は、サブピクセル精度で決定される。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の課題は従来技術の問題を解決するものであって、多数の果菜の検査が可能であって、虫害を受けた果菜を不良品として確実に検出することができる果菜の検出方法及びその検出装置を提供することにある。
【解決手段】 本願発明の果菜の検出方法は、果菜のうち蔓付近の部分、又は蔓のうち果菜付近の部分、を切断し、果菜の切断面画像、又は蔓の切断面画像、を画像取得手段によって取得し、画像判別手段に切断面画像を入力し、且つこの画像判別手段に切断面画像を画像処理させることで、切断面における虫害痕の有無を判別し、切断面に虫害痕を有する果菜を、不良品として検出する方法である。 （もっと読む）

【目的】コヒーレント光の干渉性をより排除することが可能な照明装置を提供する。
【構成】照明装置３００は、コヒーレント光を発生する光源１０３と、ランダムに配置された、波長以下の高さの複数の段差領域が形成され、光源からの光線を通過させて位相を変化させる回転位相板１４と、複数のレンズがアレイ状に配列され、回転位相板を通過した光線を通過させるインテグレータ２０と、を備え、複数の段差領域の最大サイズと回転位相板から蝿の目レンズの入射面までの光学倍率の積が、複数のレンズの配列ピッチ以下となる箇所と、複数のレンズの配列ピッチより大きくなる箇所とが混在するように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの全ての領域で欠陥検査が可能であり、欠陥検査が不可能な領域をなくすことができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】欠陥が検出される試料の画像を取得する画像取得手段１１０と、取得した試料の画像を複数の画像ブロックに分割する分割手段１４０と、複数のプロセッサエレメントが、画像ブロックから切り出された画像から２枚の差画像を生成し、この２枚の差画像を用いて試料の欠陥検出処理を行い、検出した欠陥の位置を含む欠陥情報を出力する第１の画像処理手段１５０と、第１の画像処理手段から出力された欠陥情報に従って、画像取得手段１１０で取得した試料の画像から画像を切り出す画像切り出し手段１３０と、複数のプロセッサエレメントが、画像切り出し手段で切り出された４枚の画像から２枚の差画像を生成し、この２枚の差画像を用いて試料の欠陥検出処理を並列に行う第２の画像処理手段１５１を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の歩留りを効率的に、かつ高精度に算出する。
【解決手段】薄膜を一様に形成した半導体ウェハ２の画像データを取得し、品種ごとに形成された欠陥識別データ３８と製品パターン３９とを用いて、薄膜に形成された欠陥を抽出する。欠陥識別データ３８は、半導体装置の電気特性に影響を与える欠陥サイズの情報であり、製品パターン３８は、回路パターンが疎な領域をマスクしたパターンである。さらに、抽出した欠陥が存在するチップの数から歩留り率の予想値を算出し、その品種に必要とされる規定の歩留り数と比較して半導体ウェハ２の良否を判定する。 （もっと読む）

【課題】ハイライトからシャドーまでの全濃度域において一定の検査精度を確保する。
【解決手段】プリンタ１３は印刷媒体の属性情報を記憶するメモリ２９ａを有し、画像読取装置１５で読み取られて出力された検査画像データと、プリンタ１３へ入力された元基準画像データと、印刷媒体の属性情報と、を取得するデータ取得部２０と、属性情報の補正パラメータを記憶しておく補正パラメータ記憶部２１ａと、データ取得部２０で取得した属性情報に対応する補正パラメータを用いて元基準画像データを補正し、補正後基準画像データを生成する画像生成部２１と、検査画像データおよび基準画像データから検査画像データを生成し、検査画像データと補正後基準画像データとの一致度を、予め定めた値を用いて比較して印刷画像の画像検査を行う画像検査部２２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】容器に貼付されたラベルの良否がラベラ内で検査できるラベル検査装置を提供する。
【解決手段】自転しながら公転軌道３ａを公転する容器２にラベル７を貼付するラベラ１と、ラベラ１の公転軌道３ａを挟んで対向し、かつラベルの正面方向またはラベルの側面方向に設置された少なくとも一対の撮像手段１２ａ〜１２ｄと、撮像手段１２ａ〜１２ｄが撮像した容器２の画像をから容器２に貼付されたラベル７の特徴点を計測する画像計測演算手段と、ラベル７の良否を判定する基準値が設定された良否判定基準値設定手段と、画像計測演算手段が計測した特徴点と基準値とを比較演算してラベル７の良否を判定する良否判定演算手段とから構成したもので、ラベラ１内に撮像手段１２ａ〜１２ｄを設置するだけでよいため、既存のラベラにも容易かつ安価に実施することができる。 （もっと読む）

【課題】検査対象物について検査装置を用いて得た検査計量値を基に検査対象物の良否を判定する検査装置において、検査対象物が良品であるか不良品であるかを判定する良品判定基準を設定する良品判定基準設定方法。
【解決手段】複数の良品について検査装置を用いて得た良品計量値の分布と、複数の不良品について検査装置を用いて得た不良品計量値の分布とを求め、前記良品計量値の分布と、前記不良品計量値の分布とを、横軸を検出画素数、縦軸をサンプル数として同一の画面上に表示し、当該同一の画面上において両者を比較して、上限の良品判定基準を、前記良品計量値の分布において上限側における不良品計量値の分布の下限より小さなものに設定し、下限の良品判定基準を、下限側における不良品計量値の分布の上限より大きなものに設定する。 （もっと読む）

【目的】欠陥の検出および検出される欠陥種別の判定を行うパターン検査装置を提供する。
【構成】光源と、偏光状態の異なる第１の検査光と第２の検査光とを発生する検査光発生部を含み、第１の検査光と第２の検査光とを試料の同一面に照射する反射照明光学系と、試料に照射される第１の検査光と前記第２の検査光とを、それぞれ第１の像と第２の像として結像する結像光学系と、第１の像と第２の像とを拡大する拡大光学系と、拡大光学系で拡大される第１の像と第２の像とを撮像する画像センサと、画像センサで撮像される第１の像の画像である第１の検査画像と、第２の像の画像である第２の検査画像とを記憶する記憶部と、記憶部に記憶される第１の検査画像を第１の基準画像と比較し、第２の検査画像を第２の基準画像と比較して欠陥を検出する検出部と、欠陥の欠陥種別を判定する判定部と、を備えるパターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】被検査体の移動速度が大幅に変化する場合でも、被検査体上の疵を安定して検出する。
【解決手段】移動する被検査体２から反射された光を受光するラインセンサカメラ１と、ラインセンサカメラ１から一定周期で出力される撮像信号を一時記憶する撮像信号用バッファ６と、被検査体２の移動距離を検出するロータリエンコーダ９と、ロータリエンコーダ９によって検出された被検査体２の移動距離が所定間隔に達した時点で、撮像信号用バッファ６に一時記憶されている撮像信号を読み出す制御を行う画像取り込み制御ユニット８ｂと、撮像信号用バッファ６から読み出された撮像信号から被検査体の表面の疵候補点を検出する疵検出部とを備える表面検査装置。 （もっと読む）

【課題】２層塗工において基材側に形成される層の塗布状態を検査することができる塗工装置、塗工方法、電池の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様は、搬送される銅泊３０に対しダイ１０からバインダ液３２と負極ペースト３６を排出してバインダ層３４に重ねて負極ペースト層３８を形成する塗工装置１において、ダイ１０におけるバインダ液３２が排出される第１排出口２２を形成する中仕切部１８の内部にバインダ層３４を検査する検査機構１２が設けられていること、を特徴とする。 （もっと読む）