【課題】表面の凹凸、輪郭線近傍の欠陥等の存在を高い精度で検出することができ、良品判定を確実に行うことができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】撮像手段で撮像された、良品に関する複数の第一の多値画像を取得し、取得した第一の多値画像の画素ごとに、撮像手段からの距離を濃淡値に変換した第一の距離画像を生成する。生成した第一の距離画像の画素ごとの濃淡値の、良品判定を行うための分布範囲を算出する。判定対象物に関する第二の多値画像を取得し、取得した第二の多値画像の画素ごとに、撮像手段からの距離を濃淡値に変換した第二の距離画像を生成する。生成した第二の距離画像の画素ごとの濃淡値が対応する分布範囲に含まれているか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置を提供する。
【解決手段】第１の検出データと前記第１の遅延データとから解像限界以下のパターンのデータを抽出する第１の抽出部３３と、前記抽出された第１の検出データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の検出データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第１の出力変位演算部３４ａと、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第２の出力変位演算部３４ｂと、前記第１及び第２の出力変位演算部による演算結果に基づいて、パターン欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハに形成された半導体チップのメモリマット部の最周辺部まで高感度に欠陥判定できる検査装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】所定パターンがＸ方向，Ｙ方向ないしＸＹ両方向に所定のピッチで繰返し形成された回路パターンの形成領域を備えるダイの画像を取得して欠陥を判定する回路パターン検査装置において、前記取得された回路パターンの画像を記憶する画像メモリと、該画像メモリに記憶された画像を、当該画像データを前記Ｘ方向，前記Ｙ方向ないし前記ＸＹ両方向のいずれかの方向に加算平均して得られる加算平均画像と比較して差分画像を生成し、該差分画像の差分値が予め定められたしきい値より大きい領域を欠陥と判定するプロセッサエレメントと、を備える。 （もっと読む）

【課題】レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出するためのコンピュータに実装された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィック変数の異なる値に対する該レティクルの画像を取得する工程において、画像は、ノミナル値で得られた二つまたはそれ以上の参照画像および一つまたはそれ以上の変調された画像を含む、該取得する工程と、該二つまたはそれ以上の参照画像から複合参照画像を生成する工程と、を含むことを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】基材の色調と光沢の検査にあたり、簡便な構成を有し且つ検査効率の向上が可能な基材の外観検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る外観検査装置は、光源２と、可視光検出器３と、紫外光検出器４と、制御装置５とを備える。光源２は検査対象である基材１へ向けて、可視光域から紫外光域に亘る光を照射する。可視光検出器３は、光源２から照射されて基材１で反射された可視光域の光を受光して検出する。紫外光検出器４は、光源２から照射されて基材１で反射された紫外光域の光を受光して検出する。制御装置は５、可視光検出器３での検出結果に基づく基材１の色調不良の有無の判定をおこなうと共に紫外光検出器４での検出結果に基づく基材１の光沢不良の有無の判定をおこなう。 （もっと読む）

【課題】１枚の対象基板の測定結果だけで，パーティクル分布が異常か否かを極めて容易に判定できるようにする。
【解決手段】パーティクル分布解析を行う対象基板について，その基板上のパーティクル座標データからパーティクル相互間距離についてのヒストグラムデータを作成するとともに，その対象基板上のパーティクルと同数のパーティクルを計算上ランダムに分布させた複数枚の仮想基板について，パーティクル相互間距離のヒストグラムデータを作成する。これら対象基板と各仮想基板のヒストグラムデータ群との差異に基づいて，対象基板のヒストグラムデータについて仮想基板のランダムなヒストグラムデータ群からの距離を数値化した判定データを算出して表示部に表示する。 （もっと読む）

【課題】 欠陥検査方法、工程管理方法及び欠陥検査装置に関し、複数品種の電子デバイスの欠陥数データを同一のチャートにプロットして、工程管理を定期的に精度良く行う。
【解決手段】 電子デバイスチップが形成されたウェーハ表面に光を照射し、反射光強度を予め設定した閾値と比較してハレーションの有無を判定し、前記ハレーションの有無により前記ウェーハ中のハレーションのない領域の面積を算出し、前記測定した反射光強度の内の前記ハレーションのない領域の反射光強度について、互いに隣り合う前記電子デバイスチップ間で比較して欠陥の有無を判定し、前記判定結果より前記ウェーハ全体の欠陥数を集計し、前記集計した欠陥数を前記ハレーションのない領域の面積で割って実質欠陥密度を算出する。 （もっと読む）

【課題】確認業務の精度を高めることができる確認業務支援システムを提供する。
【解決手段】本発明による確認業務支援システムは、少なくとも確認範囲を特定可能な確認範囲画像を含む確認情報を表示可能なヘッドマウントディスプレイ装置と、前記ヘッドマウントディスプレイ装置に設けられた撮影手段と、前記撮影手段が撮影した画像を用いた画像処理を行って、前記確認範囲中の異常箇所を判定する異常判定手段とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】信号振幅が低下したパターンが形成されたマスクを検査する場合であっても、検査で必要な十分なコントラストを得ることが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】実施形態によれば、パターン検査装置は、センサと、記憶装置と、階調変換部と、比較部と、を備えている。かかるセンサは、パターン形成された被検査マスクの光学画像を撮像する。記憶装置は、マスク種に応じて作成された複数の階調変換テーブルを記憶する。階調変換部は、前記記憶装置に記憶された複数の階調変換テーブルの中から前記被検査マスクの種類に対応する階調変換テーブルを選択し、選択された階調変換テーブルに沿って前記センサにより撮像された光学画像データの画素値を階調変換する。比較部は、階調変換された光学画像データの比較対象となる参照画像データを入力し、前記階調変換された光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に比較する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンのサイズエラーの検出を可能とするパターン検査装置を提供する。
【解決手段】設計データに基づきパターンが形成された試料を撮像する画像取得部１０と、設計データから展開画像を生成する展開画像生成部２２と、展開画像を参照画像生成モデルに入力して参照画像を生成する参照画像生成部２４であって、モデルパラメータを被検査画像と参照画像との間で画素の階調値の差が最小化されるよう最適化する参照画像生成部と、参照画像の基準パターンの測定値と、被検査画像の基準パターンの測定値から求められた基準パターンの変換差を用いて、参照画像と被検査画像のいずれか一方の被検査パターンの測定値を補正し、補正された参照画像の被検査パターンの測定値と、被検査画像の被検査パターンの測定値とを比較し欠陥の有無を検出する。 （もっと読む）

【課題】ＲＧＢ画素部のフォトレジストの膜厚ムラや素ガラス部のＢＭパターン、ＲＧＢパターン、ＰＳ／ＶＡパターンやマークや品種番号のパターン欠けや高さ不良の発生を防止するムラ検査装置を提供する。
【解決手段】カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタ基板を製造する工程において、ガラス基板に塗布されたフォトレジストの膜厚ムラを検査する装置であって、ガラス基板を搬送する搬送手段と、前記搬送されるガラス基板を照明する照明手段と、前記照明されたガラス基板を撮像する手段と、撮像された画像を処理する画像処理手段と、前記画像処理された画像に基づいて、ガラス基板の着色画素部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、着色画素部外の素ガラス部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板のムラ検査装置。 （もっと読む）

【課題】パターン検査における空気揺らぎの影響を軽減する。
【解決手段】第１と第２の開口部が形成されたスリット板１１２と、スリット板１１２を介して照明光を照射する照明光学系１１０と、照明光の一部を反射し、照明光の残部をパターン形成された対象物面１３１側に通過させる半透過反射板１２３と、半透過反射板１２３で反射された第１の像と、対象物面１３１で反射された第２の像とを結像する結像光学系１４０と、第１の像の内、第１の開口部を通過した第１の部分像の変位を測定する変位計測センサ１５３と、第２の像の内、第２の開口部を通過した第２の部分像を撮像する撮像センサ１５１と、第２の部分像の光学画像と比較するための基準画像を生成する基準画像生成回路１６２と、第１の部分像の位置の変位量を演算する演算回路１６１と、第１の部分像の位置の変位量を用いて光学画像と基準画像とを比較する比較回路１６３とを備える。 （もっと読む）

【課題】検出光学系で検出された検査光の照度分布に適合するようにしきい値の設定が可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】検出光学系で検出された光の照度分布を取り込み、取り込んだデータを基に、検出光学系の画素毎にしきい値を算出する。次に、検査結果データから、しきい値係数の変更による検査結果の再計算を可能とし、アシストツール画面(ＧＵＩ)上に表示させ、検出欠陥の観察も可能とする。また、複数個のしきい値係数の算出ができ、アシストツール画面(ＧＵＩ)上にそれぞれのしきい値係数で再算出した結果を表示させることができる。したがって、ＴＤＩセンサに取り込まれる光の照度分布に適合したしきい値を設定することができる。つまり、光学部品の劣化や装置固有の照射系、検出系の特性に適合したしきい値を設定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ユーザの意図を反映可能な分類条件設定機能を有する二分木構造を用いて欠陥を分類する装置の提供。
【解決手段】欠陥検査装置から取得される検出信号を基に抽出される欠陥の特徴量に基づいて二分木構造の分類器を用いて欠陥を分類する欠陥分類方法であって、予め欠陥クラスと対応付けられた特徴量データとの教示に基づいて、二分木構造の分岐点毎に、分岐の両側のグループにそれぞれ属する欠陥クラス、分岐に使用する特徴量および判別基準からなる分岐条件を設定することにより前記二分木構造の分類器を構築する分類器構築過程を有し、該分類器構築過程において、さらに予め欠陥クラス毎並びに全体および最悪のピュリティおよびアキュラシーの目標分類性能について優先順位をつけて指定しておく優先順位指定過程と、前記設定した分岐条件による前記指定した目標分類性能を満足するか否かを項目毎に評価して該項目毎の評価結果を表示する。 （もっと読む）

【課題】画像全体で位置補正してもなお高い精度で印刷物の状態を判定する。
【解決手段】印刷物の検査装置１は、撮像部が得た撮像画像と基準画像との比較結果を基に、印刷物の印刷状態を判定する欠陥判定部４４と、撮像画像全体を単位として全体補正情報を算出する全体補正情報演算部４１と、撮像画像全体を分割して得た分割画像単位で複数の細分化補正情報を算出する細分化補正情報演算部４２と、全体補正情報及び細分化補正情報を基に、欠陥判定部４４の判定における撮像画像と基準画像との位置ずれを補正する位置補正部４３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】輪郭線近傍の欠陥や色の相違についても、適切な特徴量を選択することにより、高い精度で存在を検出することができ、良品判定を確実に行うことができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】撮像手段で撮像された、良品に関する複数の第一の多値画像を取得し、取得した第一の多値画像の画素ごとに、色成分に関する画素値、及び異なる二方向におけるエッジ強度を少なくとも含む複数の特徴量を抽出する。抽出した複数の特徴量のうち、いずれか１つの特徴量の選択を受け付け、選択を受け付けた特徴量を抽出して、良品判定を行うための分布範囲を算出する。判定対象物に関する第二の多値画像を取得し、取得した第二の多値画像の画素ごとに、選択を受け付けた特徴量を抽出し、抽出した特徴量に対応する分布範囲に含まれているか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】黒色及び黒色以外のプリプレグの外観を検査するにあたって、プリプレグの地合によるノイズを低減でき、プリプレグに存在する異物、樹脂球、糸抜け、繊維等の微細な異常の検出精度を向上させることができるプリプレグの赤外検査装置を提供する。
【解決手段】プリプレグの赤外検査装置に関する。波長７５０〜２０００ｎｍの赤外光の平均透過率が１０％以上であるプリプレグ１０を検査対象として搬送する搬送装置２と、前記搬送装置２により搬送される途中のプリプレグ１０の一方の面を撮像する撮像装置３と、前記プリプレグ１０の他方の面に赤外光を照射する発光部７を有する赤外光源６とを備えている。前記赤外光源６は、前記発光部７が前記撮像装置３の撮像視野９内から外れ、かつ、前記赤外光が前記撮像視野９内のプリプレグ１０に照射されるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。
【解決手段】本発明に係る検査装置１０は、結像面に転写される主パターンと、主パターンに対して光学近接効果補正を行う補正パターンとを有するフォトマスクを検査する。検査装置１０は、照明光源１１１と、照明光源１１１からの光を集光して前記フォトマスクに照射する光学系と、フォトマスク２０の透過像を取得する検出器１４２と、検出器１４２により得られた透過像と補正パターンのみに対応する検索画像とを用いて補正パターンに対応する除外領域を決定し、当該除外領域を欠陥検出から除外するためのフィルタを生成する処理部３０と、フィルタを用い、除外領域を除外して欠陥検査を行う欠陥判定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の自動欠陥検査装置の立ち上げ時の検出条件の設定と、定期的に検出条件を校正する自動欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ基板の欠陥不良を検出する自動欠陥検査装置であって、カラーフィルタ基板を搬送する搬送手段と、搬送されたカラーフィルタ基板を照明する照明手段と、照明されたカラーフィルタ基板を撮像する撮像手段と、撮像された撮像画像から欠陥不良を抽出する画像処理手段と、前記搬送手段と、照明手段と、撮像手段と、画像処理手段と、を制御する制御手段と、を備え、かつ、カラーフィルタ基板を製造する製造工程中に配置された上流の自動欠陥検査装置で検査した検査結果を、下流の自動欠陥検査装置で利用して下流の自動欠陥検査装置の欠陥検出条件を設定する欠陥検出条件設定手段を備えたことを特徴とする自動欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】高分子及びコーティング素材の表面に生成された引っ掻き（ｍａｒ）及びスクラッチによる表面損傷程度を定量的な数値で評価できる方法を提供する。
【解決手段】高分子及びコーティング素材のスクラッチ表面損傷の定量化方法は、高分子及びコーティング素材の試験片を準備する段階と、前記試験片の表面にスクラッチ損傷を誘導する段階と、前記試験片の表面に生成されたスクラッチ損傷を該当する色座標で表す段階と、前記試験片の表面に作用した荷重とスクラッチ損傷に該当する色座標を組み合わせて定量化した数値であるスクラッチ損傷指数を算出する段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）