【課題】スリット光によって測定対象物に形成される光切断線における干渉縞を低減して良好に表面測定が行われる表面検査装置を構成する。
【解決手段】半導体レーザＬＤからのレーザ光ＬＢから直線状の領域に拡がるスリット光Ｓを作り出してワークに照射し、これを撮影ユニットで撮影した画像データからスリット光Ｓが照射された光切断線を抽出してワークの表面形状データを生成するように表面検査装置を構成する。半導体レーザＬＤが、ＰＮ接合型で接合面の境界部分に沿って直線方向Ｍに形成される発光層１７を有し、この直線方向Ｍが、スリット光Ｓの拡がり方向と直交するように相対的な姿勢を設定した。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハなどのパターンが形成された試料のマクロ検査装置において、寸法・形状の異常を高感度で検出可能にする。
【解決手段】パターンが形成された試料の検査装置において、パターンが形成された該試料に光を照明する照明光学系と、該パターンの散乱光を受光する検出光学系と、該検出光学系の瞳面に配置され、該パターンのフーリエ像を撮像する撮像素子と、該フーリエ像を正常なパターンのフーリエ像と比較し、該パターンの異常を検出する処理部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＭＴ法を利用して検査品の良否判定を行う技術において、良否判定をするための処理時間を短縮し、なおかつ検査品に偏りがある場合であっても、良否判定を精度良く行うこと。
【解決手段】マハラノビス距離を算出するためのマハラノビス基準空間の生成にあたり、先ず、良品サンプルの良品画像を取得する（Ｓ１）。次いで、その良品画像に対して、２値化処理→平滑処理→差分処理の画像処理を施して、良品画像に含まれる、他の領域に比べて良品の程度が劣る良品グレー領域を検出する（Ｓ２）。次いで、検出した良品グレー領域の輝度分布データを算出する（Ｓ３）。次いで、その輝度分布データに基づいて、マハラノビス基準空間を生成する（Ｓ４）。 （もっと読む）

【課題】
欠陥信号を低下させて欠陥を見逃してしまうことのない欠陥検査装置および欠陥検査方法と提供する。
【解決手段】
表面にパターンが形成された検査対象物に光を照射し、この光が照射された検査対象物から発生する反射、回折、散乱光を集光して第１の遮光パターンを備えた第１の空間フィルタを透過した光による第１の光学像を第１の検出器で受光して第１の画像を取得し、光が照射された検査対象物から発生する反射、回折、散乱光を集光して第２の遮光パターンを備えた第２の空間フィルタを透過した光による第２の光学像を第２の検出器で受光して第２の画像を取得し、取得した第１の画像と第２の画像を統合的に処理して欠陥候補を判定する欠陥検査方法及びその装置とした。 （もっと読む）

【課題】
複数条件の画像を同時に検出して統合する構成を用いた場合、高レートのデータ転送手段と大容量のメモリや記憶媒体が必要となる。
【解決手段】
複数の撮像条件にて試料の画像データを取得する工程と、前記複数の撮像条件にて取得した複数の画像データを画像記憶部へ格納する工程と、前記複数の画像データのそれぞれより欠陥候補を取得する工程と、前記画像記憶部に格納された、少なくとも２つの撮像条件の前記画像データから、前記複数の画像データのいずれかで検出した前記欠陥候補位置とその周辺を含む部分画像を切り出す工程と、前記欠陥候補に対応する少なくとも２つの撮像条件で取得した前記部分画像を統合処理することで、欠陥候補を分類する工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】基板表面の印刷物の位置の変化や濃淡などの影響を低減して、基板上の異物の有無を高精度に判定する異物検査方法を提供する。
【解決手段】撮像部と画像データ演算部とを備える基板検査装置を用いた基板上の異物検査方法であって、良品基板の参照画像データ上で印刷領域を抽出する工程Ｓ１と、印刷領域を所定量だけ膨張させて膨張領域を演算する工程Ｓ３と、検査基板の検査画像データ上で印刷物が占めると推定できかつ膨張領域に含まれる印刷推定領域を抽出する工程Ｓ４と、参照画像データの印刷領域ならびに検査画像データの印刷推定領域に中間色を上書き補正して補正後参照画像データならびに補正後検査画像データとする工程Ｓ５と、補正後参照画像データと補正後検査画像データとを相互に比較して輝度情報に一定以上の差がある輝度差異領域を特定する工程Ｓ６と、輝度差異領域に基づいて検査基板上の異物の有無を判定する工程Ｓ７と、を有する。 （もっと読む）

【課題】板材の表面の側端部近傍における汚れ、傷、めっき不良、異物の付着等を検出することができる板材検査方法及び板材検査装置を提供すること。
【解決手段】板材Ｗの表面側から反射用の照明光を照射するとともに、板材Ｗの裏面側からバックライト用の照明光を照射して、板材Ｗの表面と板材Ｗの側端部よりも外側の部分までを含む範囲Ｓを撮像部４で撮像する。そして、その画像に基づいて板材Ｗの表面で反射した反射光１２の光量と、板材Ｗの側端部Ｗｂよりも外側部分のバックライト光１１の光量を測定して、これら２つの光量が同一且つ予め設定された範囲の光量となるように、反射用の照明光とバックライト用の照明光の光量を調節する。そして、光量の調節がなされた状態で、板材Ｗの表面と板材Ｗの側端部Ｗｂよりも外側の部分とを含む範囲を撮像して、その撮像した画像に基づいて板材Ｗの欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】部品のターミナルを短絡させるブリッジを検出することのできるブリッジ接続不良検出方法を提供する。
【解決手段】部品のターミナルの間を短絡させるブリッジ（bridge）を検出するためのブリッジ接続不良検出方法は部品が実装された基板に照射され反射された複数の光を通じて２Ｄイメージ及び高さ基準情報を獲得する段階と、２Ｄイメージ及び高さ基準情報のうち少なくとも一つ以上を用いて部品の回転情報を獲得する段階と、回転情報を用いて部品のブリッジ接続不良を検出するための検査領域を設定する段階と、２Ｄイメージを用いて検査領域内の第１ブリッジ領域を抽出する段階と、高さ基準情報を用いて検査領域内の第２ブリッジ領域を抽出する段階と、第１及び第２ブリッジ領域のうち少なくとも一つ以上を用いて部品のブリッジ接続不良可否を判断する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】多孔板の表面における汚れ、傷、めっき不良、異物の付着等を正確に検出することができる多孔板表面検査方法及び装置を提供すること。
【解決手段】多孔板Ｗの表面側から反射用の照明光を照射するとともに、多孔板Ｗの裏面側からバックライト用の照明光を照射して、多孔板Ｗの表面Ｗａを撮像部４で撮像する。そして、その画像に基づいて多孔板Ｗの表面Ｗａで反射した反射光１２の光量と、多孔板Ｗの透孔部Ｗｃを透過した透過光１１の光量を測定して、これら２つの光量が同一且つ予め設定された範囲の光量となるように、反射用の照明光とバックライト用の照明光の光量を調節する。そして、光量の調節がなされた状態で、多孔板Ｗの表面Ｗａを撮像して、その撮像した画像に基づいて多孔板Ｗの表面Ｗａの欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】高精度な印刷品質検査が行える検査装置、検査方法、検査プログラム、及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。
【解決手段】検査装置１００は、印刷面の読み取り画像により印刷物の印刷品質を検査する装置であって、読み取り画像を検査対象画像Ｇ２として所得し、印刷データをリッピングした画像を基準画像Ｇ１として取得する取得手段１１と、取得した基準画像Ｇ１において、画素値の変化を表す平坦度を解析する解析手段１２と、解析結果の平坦度に基づき、検査用の閾値を、画像領域の種別ごとに切り換え、基準画像Ｇ１と検査対象画像Ｇ２との比較から得た画素値の差分が検査用の閾値を超過しているか否かの判定結果に基づき、領域種別ごとに印刷品質を検査するように制御する制御手段１３と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光に起因する欠陥を特定する欠陥検査装置および欠陥特定方法を提供する。
【解決手段】複数の露光領域を有する半導体ウエハを示す画像信号を受け付ける欠陥検査装置は、複数の露光領域内のそれぞれに共通に設定される複数の分割エリアの位置を特定するエリア情報を保持し、検出部が、画像信号に示された半導体ウエハ内の欠陥を検出すると、特定部は、露光領域内における位置が同一の分割エリアにて構成される分割エリア群のうち、分割エリア群内の欠陥の数が第１欠陥閾値を超える欠陥候補エリア群を特定し、露光領域内で所定方向に連続している欠陥候補エリアの数が所定閾値を超えると、露光領域のうち、露光領域内の欠陥候補エリアに存在する欠陥の数が第２欠陥閾値を超える欠陥露光領域を特定し、欠陥露光領域の数が特定閾値を超える場合に、欠陥候補エリア内の欠陥を、露光による欠陥として特定する。 （もっと読む）

【課題】被写体の周期的な動きを撮影し、その各周期の動きを評価しながら、通常とは異なる画像のみを記録可能とする。
【解決手段】画像取得手段で取得した入力動画像を保持する一次記憶手段５３と、被写体の基準となる動きを表す、基準動きパターンを取得する基準動きパターン取得手段３７と、入力動画像の各フレームを、基準動きパターンの各フレームから計算される評価用データと比較することで、入力動画像と基準動きパターン同士の各フレームの異常度を算出し、これに基づいて入力動画像と基準動きパターン同士の全体の異常度を演算する異常度解析手段３８と、異常度解析手段３８で演算された異常度に基づき、異常度の高いフレームから順に一次記憶手段５３に残し、一次記憶手段５３の空きがなくなったら異常度の低いフレームから順に削除する保存画像抽出手段３６とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＰＴＰ包装済みの錠剤の画像データに基づいて高い精度で錠剤の識別を行うことを可能とする画像識別装置を提供する。
【解決手段】共分散行列算出手段８は、物体像画像の各画素の色ベクトルｐ_ｉの分散共分散行列Ｓを算出する。固有値・固有ベクトル演算手段９は、分散共分散行列Ｓの固有値λ_ｋ及び固有ベクトルφ_ｋを算出する。ＣＤＤ演算手段１０は、各固有値λ_ｋから寄与率ｒ_ｋ＝λ_ｋ／（λ_１＋…＋λ_Ｋ）を算出し、色分散記述子Ｄ＝｛ｒ_１φ_１，…，ｒ_Ｋφ_Ｋ｝を算出する。ＣＤＤ距離演算手段は、各テンプレート画像の色分散記述子Ｄ_αと色分散記述子Ｄとの距離Ｓ_ＣＶ（Ｄ，Ｄ_α）を算出する。テンプレート選択手段１２は、この距離Ｓ_ＣＶ（Ｄ，Ｄ_α）が最小のテンプレート画像を選択し、その番号αを識別結果として出力する。 （もっと読む）

【課題】特別なソフトウェアを使用することなく、より正確な境界線を求めることができる境界線検出方法を提供する。
【解決手段】隣り合う各領域Ｚ１，Ｚ２のピッチをＰ１，Ｐ２とし、Ｒ１（ｍ）＝ｍｏｄ（ｍＰ１，Ｐ２／２），Ｒ２（ｍ）＝ｍｏｄ（ｍＰ１，Ｐ２），Ｒ（ｍ）＝Ｒ１ （Ｒ１≠Ｒ２の時），Ｒ（ｍ）＝Ｐ２／２−Ｒ１（Ｒ１＝Ｒ２の時），Ｅ（ｍ）＝Ｒ（ｍ）／（Ｐ２／２）において、ｍが整数であるときＥ（ｍ）が最も小さくなるｍを求め、両領域全体において距離ｍＰ１離れた画素同士の比較検査を行い、正常な画素を消去し、欠陥として残る画素の包絡線を境界線とし、同様の操作を他の領域間で行いピッチの異なる領域を検出する。 （もっと読む）

【課題】光学的自動検査システムと方法を提供する。
【解決手段】光学的自動検査システムは、イメージ捕捉モジュール、データ処理ユニット、及び、比較ユニット、からなる。イメージ捕捉モジュールは、単位時間に、異なる被写界深度（depth of field）状態で被検査物の複数の測定値を捕捉する。データ処理ユニットは、イメージ捕捉モジュールにより捕捉された測定値を受信し、演算後、比較値を出力する。比較ユニットは、データ処理ユニットに電気的に接続されて、比較値と参考値を比較し、被検査物に欠陥がないか判断する。上述のシステムは、被検査物が検査中の際に焦点から逸脱し、鮮明なイメージが捕捉できない問題を克服することができる。光学的自動検査方法も開示される。 （もっと読む）

【目的】パターン領域と非パターン領域の間に段差がある被検査試料であっても、効率的に検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン領域内に指定される被検査領域を記憶する被検査領域記憶部と、被検査試料上のパターン面高さ測定位置に対するパターン面高さ信号を検出するパターン面高さ検出部と、パターン面高さ検出部で検出されるパターン面高さ信号を用いて、被検査試料に対するフォーカスを合わせるオートフォーカス機構と、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置するか否かを判定する判定部と、判定部が、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置すると判定する場合にはオートフォーカス機構を駆動し、パターン面高さ測定位置が被検査領域内に位置しないと判定する場合にはオートフォーカス機構を停止するオートフォーカス機構制御部と、を有することを特徴とするパターン検査装置 （もっと読む）

【課題】検査対象と撮像装置との相対的な位置関係である視点位置が基準視点位置と同じになるように、撮像装置の姿勢を制御する。
【解決手段】特徴線抽出部１０５は、撮像装置が所定の姿勢で検査対象を撮像した画像データから検査対象の特徴線を抽出する。次に、移動量算出部１０９は、当該特徴線の位置と基準特徴線の位置とに基づいて、現在の視点位置から基準視点位置までの移動量を算出する。そして、反映部１１０は、当該移動量を姿勢制御情報に反映させる。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査と位置精度測定を同時に行い、位置精度測定は、マスク上に位置精度測定用のモニターマークを必要とすることなく、任意のパターンで任意の測定点密度で測定する手法を提供する。
【解決手段】参照画像上の任意の場所に位置精度測定用のモニターパターンを生成し、マスク検査時に取り込まれるマスク画像と参照画像を比較することで、モニターパターンを欠陥として検出し、モニターパターンと対象のマスクパターンの相対位置ずれ量を算出することでパターンの位置精度測定を行う。 （もっと読む）

【課題】パターンマッチングし難い条件にあるアライメントマークを持つ半導体ウエハについて、高精度な試料の位置合わせ、高感度な検査を実現する。
【解決手段】アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】数秒／枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】基板に形成された寸法が１００nm以下の繰り返しパターンを検査する方法において、基板に複数の波長成分を含む光を照射し、この光を照射した基板からの反射光を分光して検出し、この分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、この求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定するようにした。 （もっと読む）