【課題】、マスク上の欠陥とそれがウェハに及ぼす影響、修正による改善の程度まで推定可能な欠陥推定装置と欠陥推定方法を提供する。欠陥判定処理を容易にし、マスク上の欠陥とウェハ像への波及を推定可能な検査装置と検査方法を提供する。
【解決手段】マスク検査結果２０５のうち、欠陥箇所のマスク採取データは、模擬修正回路３００に送られて模擬修正が行われる。模擬修正されたマスク採取データは、マスク検査結果２０５に戻された後、対応する箇所の参照画像とともにウェハ転写シミュレータ４００に送られる。ウェハ転写シミュレータ４００で推定されたウェハ転写像は比較回路３０１に送られ、比較回路３０１で欠陥と判定されると、その座標と、欠陥判定の根拠となったウェハ転写像とが、転写像検査結果２０６として保存される。マスク検査結果２０５と転写像検査結果２０６はレビュー装置５００に送られる。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の表面において濃淡ばらつきと欠陥とが混在する場合であっても、欠陥のみを確実に検出することができる表面外観検査装置を提供する。
【解決手段】表面外観検査装置１００に、ＬＥＤマトリクス照明１と、ＣＣＤカメラ５と、画像処理ユニット６と、を備え、画像処理ユニット６が、基準調光設定値Ｄ１を、（１）式を用いて決定し、輝度閾値Ｌｔｈを（２）式を用いて決定し、（７）式を満たさない場合には、半導体モールドパッケージ２００に濃淡ばらつきがあると判断し、画像をｍ×ｎ個に分割して分割領域を生成し、分割領域毎の平均輝度階調値Ｌ１（ｍ，ｎ）ｍｅａｎに基づいて、分割領域毎に調光設定値Ｄ２（ｍ，ｎ）を決定し、ＬＥＤマトリクス照明１が分割領域毎の調光設定値Ｄ２（ｍ，ｎ）で照明光を出射し、ＣＣＤカメラ５によって生成された画像データに対して、輝度閾値Ｌｔｈを用いて２値化処理を行うように構成した。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置が出力する欠陥候補の座標誤差が大きいと、レビュー装置上で欠陥候補の座標に移動しても視野内に欠陥が見つからない場合がある。移動した座標に欠陥が存在しない場合、周辺に移動して欠陥を探索したり、虚報として判定して見逃す場合がある。本発明の目的は、レビュー時の欠陥探索にかかる作業を軽減させるために、検査装置において、欠陥候補の座標誤差のばらつきを抑制することにより、欠陥候補の座標精度を向上したパターン付き半導体ウエハの検査装置を提供することである。
【解決手段】上記目的を達成するため、本発明では、定点観測位置設定処理により半導体ウエハ上で基準となるパターンを選定し、定点画像切出し処理で当該基準パターンと同じ座標の定点画像を切出して、欠陥座標補正処理により、それらの画像間のずれ量を算出して、各ずれ量で欠陥候補の座標データを補正する。 （もっと読む）

【課題】基板の反りに起因する検査対象部の位置ずれを簡易に測定して補正することができる基板外観検査装置および基板外観検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板外観検査装置１は、基板に反りが生じていない場合に撮影手段（カメラ１１）の視野内の基準となる位置に基準パターンが位置するように設定された相対位置において、撮影手段により、基板の反りに起因する基準パターンの位置ずれ量を測定するための基準位置ずれ量測定用画像を取得し、当該画像内における基準パターンの位置と基準となる位置との距離を基準位置ずれ量として測定する基準位置ずれ量測定手段（基準位置ずれ量測定部２６）と、基準位置ずれ量および基準パターンの基板上の位置に基づいて基板の反り起因する検査対象部の位置ずれ量を推定し、相対位置を当該位置ずれ量分補正する相対位置補正手段（補正座標算出手段２７）と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の不良品に生じた欠陥を写した画像が少数しか得られない場合でも、検査対象物が良品か否かを識別する識別器を十分に学習させることが可能な外観検査用識別器生成装置を提供する。
【解決手段】外観検査用識別器生成装置は、検査対象物の表面に生じる欠陥の像を擬似的に表した複数の擬似欠陥画像について、擬似欠陥画像上の欠陥の像が検査対象物の良品または不良品の何れに対応するかを表す良否判定情報を取得する良否判定情報取得部（１５）と、複数の擬似欠陥画像と対応する良否判定情報から検査対象物の良品と不良品とを識別する境界を決定する境界決定部（１２）と、欠陥の像についての特徴量とその境界に従って決定されるその特徴量に対する検査対象物の良否判定結果を表す値との組である学習サンプルを複数生成するサンプル生成部（１６）と、その複数の学習サンプルを用いて外観検査用識別器を学習する識別器学習部（１７）とを有する。 （もっと読む）

【課題】処理に必要な資源を抑える技術を提供することにある。
【解決手段】照明ユニット３０の点灯状態に応じて、増幅制御ユニット６２が増幅器６０による画像信号の増幅率を調整することにより、複数の検査用画像の光量を平衡させる。したがって、複数の検査用画像に対する画像処理を円滑化できる。 （もっと読む）

【課題】診断対象部位からレプリカを採取する必要がなく、現場で簡単かつ短時間に金属組織を観察することができる材料組織観察装置を提供すること。
【解決手段】本発明の材料組織観察装置は、画像データ上の結晶粒界を画定する境界線の内部に最初の位置である中心点を指定する中心線指定手段と、上記中心点を含む閉曲線を境界線の近傍に設定する閉曲線設定手段と、上記閉曲線近傍の画像データの濃淡情報に基づいて閉曲線を変形する閉曲線変形手段と、変形した閉曲線が画像データ上の結晶粒界を画定する境界線のすべてと重なった場合に当該閉曲線を結晶粒界とする結晶粒界決定手段と、結晶粒界決定手段により決定された結晶粒界から結晶粒の変形度を求める第一演算処理手段と、記憶手段に予め記憶された同一材料のクリープ損傷度と結晶粒の変形度との検定曲線に基づいて第一演算処理手段で求めた結晶粒の変形度からクリープ損傷度を求める第二演算処理手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子回路基板の製造と共にマスク欠陥検査装置自体の検査を実行可能なフォトマスクを製造するフォトマスク製造方法、そのフォトマスクを用いたフォトマスク欠陥検査装置判定方法、及びフォトマスク欠陥検査装置判定装置を提供する。
【解決手段】電子回路基板を製造する際に用いられるフォトマスクの欠陥を検査するフォトマスク欠陥検査装置の検査をするための欠陥検査用パターンを、前記電子回路基板における電子回路領域を避けて配置したマスクパターンを示すマスクパターンデータを作成する作成段階と、前記作成段階により作成されたマスクパターンデータが示すマスクパターンを、フォトマスクに転写する転写段階と、を有する。 （もっと読む）

【課題】簡単な装置構成で連続的に製造される長尺の被検査対象物の外周面全てを検査することが可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】延長方向に移動する長尺の被検査対象物の外観検査装置であって、被検査対象物を外側から囲むように配置された複数のカメラと、被検査対象物を延長方向に複数のカメラにより撮像した被検査対象物の外観画像を処理する画像処理手段とを備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】噴射装置から噴射される流体の噴射方向を精度良く測定することができる噴霧測定方法及び噴霧測定装置を提供する。
【解決手段】制御装置１０は、実空間上で噴口３２から燃料を噴射した際に面状光２０上に形成される噴霧断面画像４０を取得し、噴霧断面画像４０上で抽出した噴霧断面像４０ａに対応する重心算出領域Ｄを可変設定するとともに、可変設定された重心算出領域Ｄ内の各画素の輝度を重みとして当該重心算出領域Ｄの重心位置Ｐｇを算出し、重心算出領域Ｄの重心位置Ｐｇと中心位置Ｐｃとが設定誤差範囲内で一致するときノズル３１から重心位置Ｐｇに向かう方向を噴霧方向として特定する。これにより、インジェクタ３０から噴射される燃料の噴射方向を精度良く測定することができる。 （もっと読む）

【課題】高精度のパターン検査を行うことが可能なパターン検査方法等を提供する。
【解決手段】披検査パターンの設計データを、披検査パターンの検査に用いる照明の照明条件に依存した情報に基づいて加工する工程（Ｓ１２）と、加工された設計データから披検査パターンの参照データを生成する工程（Ｓ１４）と、実際に形成された披検査パターンのデータと参照データとを比較する工程と（Ｓ１５）、を備える。 （もっと読む）

【課題】
プリント配線基板等、特に光透過型電子基板の欠陥を、基板のずれを気にせずに光学的処理により高精度、迅速、かつ、自動的に検出することができる形状欠陥等の検査方法および検査装置を提供する。
【解決手段】
可干渉性レーザ光源、可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズと、そのレンズの前方に設置された検査物体の回転を抑えるためのガイド溝を通して搬送する検査物体の導入手段または検査物体形状写出手段と、前記レンズの光軸中心の後焦点面または光軸中心の後焦点面付近に設置された形状識別手段としての光差分または排他的論理和を行う光学フィルタ(光差分フィルタまたは光相関フィルタ)を含む光差分器や光相関器と、光学フィルタを前焦点面として設置された逆フーリエ変換レンズと、逆フーリエ変換レンズからの画像を撮り込む電子カメラ、とで構成される画像の差異や画像欠陥を検査する方法および装置。 （もっと読む）

【課題】光学画像のパターンと基準画像のパターンとの位置合わせを高い精度で行いつつ、且つ、高速で欠陥検出のできる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】画像センサから試料の光学画像を取得する工程と、光学画像および判定の基準となる基準画像のいずれか一方について、そのＸ方向とＹ方向の移動量をそれぞれα（０≦α＜１）とβ（０≦β＜１）として、αおよびβと光学画像と基準画像の差分の２乗和との関係を表す方程式を求める工程と、この方程式から得られる差分の２乗和が最小となる（α，β）の組から、位置合わせに最適な移動量を求める工程とを有する。この方程式についてαおよびβの偏微分を解くことにより、位置合わせに最適な移動量を求めてもよい。 （もっと読む）

【課題】熱間圧延により形成される線材の表面傷を光学的に検査する際に、外部光源を用いることなくかつ圧延ライン内でその検査を実現する。
【解決手段】圧延ライン１上の冷却部３と巻き取り部４との間に探傷装置１０を設置する。圧延ローラ群２および冷却部３を経て赤熱する線材ｗを直接ＣＣＤカメラ１１で撮像する。画像処理機１２が、得られた画像の隣接する明部領域と暗部領域のコントラスト差に基づき線材ｗの傷の有無を検査する。線材ｗは赤熱し発光しているため、外部光源を用いずともコントラストの明瞭な画像を得ることができる。外部光源を用いないぶん、設備コストを抑えられる。圧延ライン１内で検査をおこなうため、検査ラインを別途設けることを要さず、検査ラインに移す手間および検査ラインのためのスペースを省略できる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ表面や表面近傍に存在する異物や欠陥等に由来して発生する散乱光の強度が照明方向に依存する異方性を有する場合であっても主走査方向の回転角に依存せずに均一な感度で異物や欠陥等の検査が可能な表面検査装置を実現する。
【解決手段】光源１１からの光はビームスプリッタ１２で、略等しい仰角を有し、互いに略直交する２つの方位角からの２つの照明ビーム２１、２２となり、半導体ウェハ１００に照射され、照明スポット３、４となる。照明光２１、２２による散乱・回折・反射光の和を検出するとウェハ１００自身又はそこに存在する異物や欠陥が照明方向に関する異方性の影響を解消できる。これにより、異物や欠陥等に由来して発生する散乱光の強度が照明方向に依存する場合であっても主走査方向の回転角に依存せずに均一な感度で異物や欠陥等の検査が可能となる。 （もっと読む）

【課題】連続して搬送されるタイヤコードの断線部、結節部、表面状態を同時に検出し、精度良くタイヤコードの表面状態を検査することを可能にする判定装置，タイヤコード処理装置及び状態判定方法を提供する。
【解決手段】直線方向に移動するタイヤコード３を所定の周期で撮像するカメラ２０；２１；２２；２３及び当該カメラ２０；２１；２２；２３の出力画像を処理する処理手段からなる判定装置において、タイヤコード３の移動速度を検出する速度検出手段と、カメラ２０；２１；２２；２３によるタイヤコード３の移動方向ｍの有効画素数Ｎをタイヤコード３の移動速度に基づき所定の画素数に設定する有効画素設定手段とを備え、有効画素範囲における現フレームＦ１の後部と次フレームＦ２の前部との移動方向重なりに基づく二重処理領域Ｎ０を、有効画素数Ｎをタイヤコード３の移動速度に基づき制御して最適化する。 （もっと読む）

【目的】予め歪ませたパターンが形成された被検査対象試料をダイーダイ検査する際に、高精度な検査が可能なパターン検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、複数の同一パターンが形成位置にそれぞれ歪みをもって形成された被検査試料の光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、前記光学画像データを複数の部分光学画像データに切り出す切り出し部７２と、前記被検査試料に形成されたパターンの歪み量を取得可能な歪情報を用いて、前記複数の部分光学画像データの位置を補正する補正部７４と、補正された前記複数の部分光学画像データ同士を画素毎に比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】例えば糖衣錠等の外部成分を有する錠剤に対して近赤外光を用いても、確実に錠剤の異種品を判別することのできる錠剤検査装置を提供する。
【解決手段】錠剤検査装置１００を、近赤外光照射部１１、透過光検出部１７、データベース３２及び比較演算部３１を備える構成とする。近赤外光照射部１１から試料錠剤１３の内部成分１３ｉを特定する所定波長の光成分を含む近赤外光１２を試料錠剤１３に照射し、透過光検出部１７で試料錠剤１３からの透過光１６を検出する。そして、比較演算部３１において、透過光検出部１７での透過光１６の検出結果に基づいて得られる試料錠剤１３の透過特性と、データベース３２に予め格納された対応する参照錠剤の透過特性とを比較して、試料錠剤１３が参照錠剤と同種であるか否かを判別する。 （もっと読む）

【課題】欠陥検出の精度を高めるとともに、生産性の低下を防止する。
【解決手段】受光ユニット１３を、ウェブ１１を正透過したレーザ光２４を遮光するマスク３７と、レーザ光２４の照射範囲内でウェブ１１の両側方に位置する標準板３９Ｌ，３９Ｒと、ウェブ１１や標準板３９Ｌ，３９Ｒを通った光を受光する受光器３０とで構成する。標準板３９Ｌ，３９Ｒに、レーザ光２４の走査線Ｌに対するマスク３７の中心線のずれに応じて走査線Ｌ上での幅が変化する形状のスリット穴４２，４３を形成する。スリット穴４２，４３を通過したレーザ光２４を受光器３０で検出した結果に基づき、走査線Ｌに対するマスクの中心線のずれが補正されるように、受光ユニット１３の姿勢を調整する。これにより、マスク３７の幅を極力細くして欠陥検出の精度を高めることができ、さらに、表面検査と並行してずれ補正を実施できるので生産性の低下が防止される。 （もっと読む）

【課題】被検査対象物の検査の実行には、多数の検査条件データの設定が必要である。しかし、オペレータが各項目に、検査条件データのパラメータを任意の数値によって設定する方法は作業負担が大きい。また、設定作業に個人差が現れるパラメータもある。
【解決手段】オペレータが必要最低限のパラメータを最初に設定すると、当該パラメータに基づいて検査装置が被検査対象物を自動的に評価し、評価結果から被検査対象物の検査に必要な検査条件データのパラメータを算出し、検査レシピを自動的にセットアップする。 （もっと読む）