青果物の損傷に基づいて青果物を選別する方法および装置が開示される。ビームエミッタ（１０２Ａ、１０２Ｂ）は、青果物の外面に向けて照明光を放射する。ビーム検出器（１０４Ａ、１０４Ｂ）は、照明光に対応して青果物が生成した反射光のほぼ単一波長を検出する。制御ユニットは（１０６）は、反射光に応じて損傷の存在、量及びひどさの少なくとも１つを判定する。制御ユニット（１０６）は、損傷の判定に応じて青果物に損傷分類区分を割り当てる。

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本発明の側面は、マイクロ電子フィーチャのアレイの対称性／非対称性を測定するための方法及び機構を提供する。本発明の一実施形態は、マイクロ電子デバイスにおける三次元構造の非対称性を測定する方法を提供する。本方法により、光は、マイクロ電子デバイスのマイクロ電子フィーチャのアレイに向けられる。光は、複数のマイクロ電子フィーチャの全長及び全幅を含むアレイの一部を照射する。アレイから散乱し戻された光は、一又はそれ以上の反射角、一又はそれ以上の波長、或いはそれらの組み合わせから成る群より選択された条件で検出される。本方法はまた、反射の余角からのデータを調べることを含む操作を実行することにより、戻り散乱光の一又はそれ以上の特性を調べることも含む。
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ここには、タイヤにおける異常を検出するための異常検出装置１０が記載してある。この異常検出装置１０は、タイヤ表面２４に直接光２７をあて、タイヤから光を反射３２させるコヒーレント光の光源１８と、タイヤに圧力をかけることができる圧力付与装置１２と、タイヤが応力をかけられた状態、応力をかけられていない状態にあるときにタイヤ表面２４から直接反射してきた光３２を受け取る反射光受け取り装置４０と、タイヤが圧力をかけられているときおよび圧力をかけられていないときの反射光受け取り装置４０からの反射光イメージを比較し、タイヤにおける異常を確認し、比較から得た出力を生成するプロセッサ４４と、プロセッサに電子的に接続してあってプロセッサからの出力を表示できるディスプレイ装置４６とを含む。 （もっと読む）

異なるパラメータを使用して試験片の検査を行うための方法とシステムを提供する。コンピュータによって実施される方法は、選択された欠陥に基づいて検査のための最適パラメータを決定することを含む。またこの方法は、検査に先行して、検査システムのパラメータを最適パラメータに設定することを含む。試験片を検査するための別の方法は、約３５０ｎｍより下の波長を有する光と、約３５０ｎｍより上の波長を有する光を用いて試験片を照明することを含む。またこの方法は、試験片から収集された光を表す信号を処理し、試験片上の欠陥または工程の変動を検出ことも含む。試験片を検査するように構成された１つのシステムは、広帯域光源に結合された第１の光学サブシステムと、レーザに結合された第２の光学サブシステムを含む。またこのシステムは第１と第２の光学サブシステムから、光を試験片上に集束させる対物鏡に光を結合するように構成された第３の光学サブシステムも含む。 （もっと読む）

試料特に（製薬）錠剤を調査するための方法及び装置である。放射体及び/又は試料は、最初は、放射体が所定の距離にあり、試料表面の最初に照射した点の法線方向に位置する。放射体は25GHz〜100THzの範囲で複数の周波数を持つ光を試料の複数の点に照射する。放射体と試料とは相対的に位置を変えることが可能である。ただし、その位置の変更は、放射体と試料との間では所定の距離（試料表面と放射体との）を保存し、放射体は各照射点の法線と一致させ、透過又は反射した光を各点で検出することが可能になるようにする。この特徴的な応用として（製薬）錠剤のコーティングの形状及び組成を画像化するというのがある。
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【課題】 表面検査ツールおよび方法を提供する。
【解決手段】 検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。この実施形態は、前記ワークピースから散乱された光を受け取り、前記ワークピースの欠陥から散乱された前記光を、この光を電気信号に変換する前記フォトセンサに選択的に導くプログラム可能な光選択アレイを含む。処理回路は、前記光検出要素からの電気信号を受け取り、ワークピースの欠陥の特徴付けを含みえる前記ワークピースの表面分析を行う。プログラム可能な光選択アレイは、以下に限定されないが、反射器アレイおよびフィルタアレイを含みえる。本発明はまた関連付けられた表面検査方法も含む。 （もっと読む）

【課題】光学検査ツールによって与えられるヘイズデータを分析する方法および装置を提供する。
【解決手段】ヘイズデータは、試料表面に関連付けられた欠陥を検出するよう分析される。一般に、ヘイズデータは、試料上の低い周波数のバラツキに対応するバックグラウンドノイズが、そのようなヘイズデータの分析の前にヘイズデータから分離または除去されるよう、まず条件付けられる。具体的な実施形態において、試料表面における低い周波数のバラツキは、実質的には、入射ビームがその上に導かれる光学表面として特徴付けられる。ある例では、試料表面に対応するヘイズデータは、ゼルニケ方程式のような多項式で特徴付けられる。換言すれば、多項式方程式は、ヘイズデータの低い周波数の、つまりバックグラウンドのノイズにあてはめられる。この結果として生じる多項式方程式に合致するヘイズデータは、それから元のヘイズデータから引かれて、残差データを作り、ここで表面粗さにおける遅いバラツキが差し引かれ、残差ヘイズデータ中には可能な欠陥情報を残す。この残差ヘイズデータは、試料が欠陥を含むかを決定するために分析されえる。残差データを分析することによって欠陥の検出を向上させる技術も開示される。好ましくは、異なる検査ツール間で正規化されるように、結果として生じる残差データを較正する技術も提供される。 （もっと読む）

【課題】好適に円形エッジを有する物体の品質を、物体のエッジの確実で再現可能な検査を非常に高精度で可能なように、光学的に試験するための冒頭に記載したタイプの方法と装置を改良しさらに展開すること。
【解決手段】好適に円形エッジを有する物体の品質を、該円形エッジに光を当てる光学的に試験するための方法において、反射、屈折及び／又は回折により該物体から放射する光が測定ユニット（１）により検出され、該物体の表面及び／又は内部の欠陥が検出画像信号によって判定されることを特徴とする、物体の品質を光学的に試験する光学的試験方法。 （もっと読む）

【目的】被検体表面の塵埃，膜厚むら等の欠陥を単純な画像として観察することができ、従って画像処理装置と組合わせて自動欠陥検査装置を構成するのが容易になる表面欠陥検査装置を得ることにある。
【構成】表面に薄膜を有する被検体２１の直前に配置され、かつ２１の観察視野とほぼ等しい大きさであって、光源１からの光を略平行な光束として２１に照射するとともに、２１の表面からの正反射光を通過させるコリメータレンズ１２と、１２の焦点近傍に配置され、任意に選択可能な複数の中心波長を持ち、１２に光を入射する狭帯域光源２〜５と、この光源からの光を反射または透過により１２を通過させて２１に垂直に照射させるハーフミラー１１と、２１の表面からの正反射光を１２に通過させ、１１で透過または反射させ、光源２〜５と共役な位置に入射瞳を有し、２１の表面を観察する結像レンズ１３を具備したもの。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ハーベスタで収穫されたサトウキビの梢頭部を収穫後に迅速且つ構成度で分別、除去するサトウキビ梢頭部の識別装置を提供する。
【解決手段】本発明は、製糖原料であるサトウキビの茎部と、ショ糖の結晶化を阻害し製糖効率を低下させるサトウキビの梢頭部とを分別する、製糖工程におけるサトウキビ梢頭部の識別装置に関する。同装置では、サトウキビ１にレーザ光源３からのレーザ光を照射し、後方反射光を光センサ７にて検出して、信号処理部９にて得られた受光パターンに基づいて茎部と梢頭部とを識別する。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の存在だけでなく試料表面の凹凸形状をに検出できる光分解能の光学式走査装置を実現する。
【解決手段】 光源１から試料４に向かう光ビームと試料から光検出器６に向かう反射ビームとを分離するビームスプリッタ２と、試料と光スポットとを相対的に移動させる手段とを具え、試料表面を光スポットにより走査し、試料表面からの反射光により試料の表面領域の情報を検出する光学式走査装置において、ビームスプリッタと光検出器との間の光路中に遮光板を配置し、試料表面における光スポットの走査方向と対応する方向の片側半分の光路を遮光する。遮光板を光路中に配置することにより、試料表面に欠陥の要因となる微小な傾斜面存在する場合、反射の法則により光スポットからの反射光は光軸から変位するので、遮光板により遮光される光量が変化する。この結果、光検出器からの出力信号により凸状欠陥及び凹状欠陥を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】 透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。
【解決手段】 本来同一形状となるべきパターンが複数規則的に配置された被検査物の検査装置において、解像度０．１８μｍ以下、より好ましくは０．１３μｍ以下となる照明波長と対物レンズ開口数の関係を備えた撮像光学系と、撮像光学系の結像位置に配置された光電変換器と 撮像光学系とは別に設けられた光路からなり入射角度８５度以上、より好ましくは８８度以上で照明する自動焦点光学系と、自動焦点光学系の検出信号に基づき撮像光学系の焦点位置を調節する手段と、光電変換器の電気信号を処理する手段とを、具備した構成をとる。 （もっと読む）

【課題】 受光素子の画素サイズと電極パターンの繰り返しピッチとの関係が整数倍でなく、位相ずれを有する場合でも、この位相ずれによる各画素データの信号品質の低下を抑制し、画素サイズに対して微小な異物を高精度に検出できるようにする。
【解決手段】 パターンピッチが３００［μｍ］で画素サイズが１４［μｍ］の場合には、パターンのピッチを画素サイズで除することによって得られるパターン相当の画素数は約２１．４である。この画素数に第１の整数として５を乗じると、その値は１０７となるので、５個のパターンで疑似パターンを形成することによって、疑似パターンと画素との間の相対的な位置関係がほぼ同位相となる。差分データ作成手段３０はこの疑似パターンの隣接するもの同士の画素を用いて、差分データＶを作成する。しきい値作成手段５０は、差分データＶから欠陥検出時のしきい値Ｔを作成する。欠陥検出手段８０，９０は差分データＶとしきい値Ｔとを比較して欠陥の検出を行う。 （もっと読む）