【課題】生体細胞のような位相物体の観察に用いられてきた従来の位相差顕微鏡に代わって、広くて深い測定視界を持ち、位相差の干渉画像が鮮明に得られる、単純で簡便な位相物体画像の識別、検査の方法と装置を提供する。
【解決手段】可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。また、位相物体の位相差を含めて異なる形状の複数形状粒子群を形状ごとに数や挙動や位置を自動計測するために、多重マッチトフィルタ法を含んだ位相差画像を検査する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の表面や欠陥の形状に関わらず、欠陥を精度良く検出できるようにする。
【解決手段】検査対象物の表面に生成される照射パターンが少なくとも十字形状及びリング形状となる２種類以上のパターン光を発光部６０１から検査対象物の表面に照射する。そして、所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面にパターン光を照射するようにする。一方、撮像部６０２は、照射されたパターン光により生成される照射パターンを含む画像を撮影し、画像処理部６０３は、前記撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】被検査物表面の微細な欠陥を検出可能な表面検査装置の検査ヘッドを提供する。
【解決手段】レーザーダイオード１４から射出された検査光を導いて被検査物１００の表面に投光し、その反射光を受光して反射光の強度を検出するフォトディテクタ１５に反射光を導く投受光ファイバ１１を有し、フォトディテクタ１５の検出結果に基づいて被検査物１００の表面を検査する表面検査装置の検査ヘッド１であって、投受光ファイバ１１が、２本の光ファイバ１１ａ、１１ｂの一部を熔融延伸接合した熔融延伸部１１ｃを有する光ファイバカプラであり、熔融延伸部１１ｃから分岐した一方の光ファイバ１１ａはレーザーダイオード１４からの検査光を導き、他方の光ファイバ１１ｂはフォトディテクタ１５に反射光を導き、熔融延伸部１１ｃの端面１１ｆから検査光が被検査物１００の表面に投光され、その反射光を端面１１ｆが受光する。 （もっと読む）

【課題】基板表面の離散的であって線状に分布する欠陥(線状スクラッチ欠陥)を他のランダムに分布する微小な欠陥と区別して分類することを可能にする。
【解決手段】基板表面欠陥検査装置１０００は、基板１を載置して回転可能なステージ手段１９０と、基板１に光を照射する照明光源１１０と、基板１からの反射・散乱光を検出する検出手段１２０，１３０，１４０と、検出される信号を増幅してＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換手段１５１，１５２，１５３と、このＡ／Ｄ変換手段で変換された検出器から出力される信号を処理して基板上の欠陥を検出して検出した欠陥を分類する欠陥検出手段１６０とを備えて構成し、欠陥検出手段１６０は、検出器から出力される信号を処理して基板の表面の微小な欠陥を抽出し、この抽出した微小な欠陥の中から線状の領域に離散的に存在する線状欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】表面に光沢を持つ製品の表面形状の検査に用いる光学的な検査装置において、少ないカメラ台数でも広い範囲を検査可能な検査装置を提供すること。
【解決手段】表面に光沢のある検査対象物を検査する検査装置であって、検査対象物を保持または搬送する検査対象物保持搬送手段と、検査対象物の表面状態を撮像可能な撮像手段と、検査対象物と撮像手段の間に配置されるホログラムと、ホログラムの撮像手段がわの面に平行光を照射する照明光源と、を有し、ホログラムは、照明光源から平行光を照射されたときに、前記検査対象物がわの面から所定の距離に収束するような収束光を回折光として発生させるものであり、検査対象物の表面に回折光が照射され、正反射した正反射光が収束する位置に撮像手段およびその撮像光学系が配置されていることを特徴とする表面光沢物の検査装置。 （もっと読む）

【課題】空間フィルタの設定には、オペレータの目視によるスキャン画像の確認と空間フィルタの調整の繰り返し作業が必要とされる。また、設定状態がオペレータに依存する。
【解決手段】散乱光の像（ビーム像）と回折光の像（フーリエ像）を同時に観察すると共に、散乱光の像（ビーム像）と回折光の像（フーリエ像）の各強度プロファイルを同時に監視する。１本の空間フィルタだけを回折光の像の視野範囲でスキャンし、空間フィルタを挿入しない場合の強度プロファイルに対する状態変化を検出する。検出された状態変化に基づいて空間フィルタの設定条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】立体角をわずかに変えて観察した際に表面塗装に生じる変化も表面特性検査の際に分解できるようにすることである。
【解決手段】本発明は、表面の光学的特性を検査するための装置に関するものであり、所与の一つ目の立体角で検査表面に光を照射する、少なくとも一つの主照射装置を備え、表面に照射され、そこから反射して戻ってきた光を補足するための少なくとも一つの主検出装置を備え、このとき主検出装置は位置分解して光を検出することができ、所与の二つ目の立体角で表面に対して配置されており、少なくとも一つの副照射装置または副検出装置を備え、これは所与の三つ目の立体角で光を検査表面に照射するか、または表面に照射されてここから反射して戻ってきた光を検出する。 （もっと読む）

【課題】数秒／枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】基板に形成された寸法が１００nm以下の繰り返しパターンを検査する方法において、基板に複数の波長成分を含む光を照射し、この光を照射した基板からの反射光を分光して検出し、この分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、この求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定するようにした。 （もっと読む）

【課題】安価でありながら、被検査基板へ照明仰角の変更に伴う調整を容易に行うことが可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】レンズホルダ５１０に支持された平行平面基板５１１及びシリンドリカルレンズ５１２は水平面５３０に対して同じ傾斜角θで対称に配置され、シリンドリカルレンズ５１２の回転に伴う光１０１の焦点位置での光軸ずれを防ぐことができ同一焦点位置で光１０１の光軸を一致させたまま光１０１をモータ５２５、ベルト５１６により回転機構により回転できる。レンズホルダ５１０と回転機構は上下方向移動機構５２６に接続され、移動機構５２６のガイド５２４に沿って移動させることによりシリンドリカルレンズ５１２の焦点位置が調整される。これにより、照明光の仰角変更に伴い、容易に線状照明光の位置、焦点、回転位置を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、オートフォーカス動作を行わなくとも、多分割セル方式によるＳ／Ｎ向上を可能とし、高感度の検査を実現できる光学式表面欠陥検査装置または光学式表面欠陥検査方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、被検査体に検査光を照射し、該被検査体の表面からの散乱光を受光器に結像し、該受光器からの出力に基づいて前記被検査体の表面の欠陥を検査する光学式表面欠陥検査装置または光学式表面欠陥検査方法において、前記受光器は一端が前記散乱光を受光する円形上の受光面を形成し、他端が複数の受光素子に接続された光ファイバーバンドルを有し、該光ファイバーバンドルは前記受光面において扇形状を有する複数のセルに分割され、該セル単位で該受光素子に接続されており、複数の前記セルの出力に基づいて前記検査を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。
【解決手段】 基板試料を載置してＸ-Ｙ-Ｚ-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、基板試料を斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を受光器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記基板試料上に発生する反射散乱光を集光する。更に、互いに異なる複数の偏光成分を同時に検出する偏光検出部を有する。更に、上記偏光検出部で検出される互いに異なる複数の偏光成分信号を複数チップ間あるいは所定領域の画像内で比較して、統計的な外れ値を試料上の欠陥として検査する。 （もっと読む）

【課題】
検査対象基板において不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する課題があった。
【解決手段】
光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件をもって導く照明工程と、前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分を受光器に導き電気信号を得る検出工程と、該検出工程において得られる複数の電気信号に基づいて欠陥を判定する欠陥判定工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】エッジ（段差）近傍の表面プロファイルの測定結果を正確に取得することができる、物体の表面プロファイルを測定する方法を提供する。
【解決手段】物体の表面プロファイルを測定する方法であって、物体の表面の段差が走査方向に対して延在する第１の方向の情報を取得するステップと、前記情報に応じて、照射ビームに与える位相分布を設定するステップと、前記照射ビームで前記物体を前記走査方向に走査するステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が１ｎｍ又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】照明光源１からの照明ビームを被検査基板２１に向けて投射する対物レンズ２０と、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第１及び第２のサブビームに変換すると共に、基板の表面で反射したサブビーム同士を合成し、基板表面の高さ又は深さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系１６と、出射した干渉ビームを受光する光検出手段２８と有する。微分干渉光学系のリターデーション量は、ｍを零又は正の整数とした場合に、第１と第２のサブビームとの間に（２ｍ＋１）π又はその近傍の位相差が形成されるように設定し、前記光検出手段から出力される出力信号のバックグランドの輝度レベルがほぼ零となる検査状態において基板表面を照明ビームにより走査する。 （もっと読む）

【課題】表面疵検査の広範囲化、高速化に対応して安定した光切断凹凸疵検出ができる、スリット光輝度分布設計方法および光切断凹凸疵検出装置を提供することを課題とする。
【解決手段】測定対象にスリット光を照射し、その反射光をスリット光源とは異なる角度から撮像し、撮像画像に基いて凹凸疵を検出する光切断凹凸疵検出方法における、スリット光輝度分布設計方法であって、輝度分布が既知であるスリット光源Ａを用いた測定対象の撮像装置方向への平均反射率を測定する平均反射率測定工程と、測定された平均反射率に基いて、前記反射光が一様な輝度として撮像されるためのスリット光源の最適輝度分布を算出するスリット光輝度分布算出工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。
【解決手段】基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第１のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第２のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 （もっと読む）

【課題】マルチスポットウエハ検査用照射サブシステムを提供する。
【解決手段】照射光ビーム３４を複数の光ビームに分離する回折光学素子３２と、前記複数の光ビームの光路に配置された補償回折光学素子４０であって、前記補償回折光学素子は、前記回折光学素子と同じ回折角度で符号が反転した回折次数を有する、補償回折光学素子と、前記補償回折光学素子から出る前記複数の光ビーム３６の光路に配置され、前記複数の光ビームのそれぞれの焦点を検査用ウエハ４６に個別におよび同時に合わせる、１つまたは複数の屈折光学素子４４と、を含む照射サブシステム。 （もっと読む）

【課題】低コストで、且つ光ビームの広がりを抑えることができ、検査精度を向上することができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】光源からの光ビームを光照射手段を介して被検査物の被検査面である外周面に照射し、受光手段により被検査面からの反射光を受光し、受光した反射光の光量に基づいて被検査面上に存在する欠陥を検出する装置である。光照射手段は、回転せしめられる中空回転軸と、中空回転軸の端部の中心軸上に設けられた第１の平面ミラーと、中空回転軸の中心軸から離れた位置に設けられており第１の平面ミラーと同期して回転する第２の平面ミラーと、中空回転軸と同軸に周方向に沿って固定配置された円錐台ミラーとを備えている。光源からの光ビームが、中空回転軸内を介し、第１の平面ミラーと、第２の平面ミラーと、円錐台ミラーとによって反射され、円周方向に移動しながら一定の入射角度で被検査面に照射されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】 本発明はポリゴンミラーを回転させるスキャナモータの回転数を問題が生じない回転数に設定しても、その３倍以上の回転数に設定したのと同等な高速スキャンが可能で、微細な欠陥を検出することができる欠陥検査方法および欠陥検査装置を得るにある。
【解決手段】 搬送装置で搬送される検査物を、ポリゴンミラーを搭載したスキャナモータを使用した縦長のビームスポットを走査して行なう第1のスキャン工程と、この第1のスキャン工程の縦長のビームスポットの走査方向とは９０度異なる方向で、前記検査物をポリゴンミラーを搭載したスキャナモータを使用した縦長のビームスポットを走査して行なう第２のスキャン工程と、この第２のスキャン工程のデータと前記第1のスキャン工程のデータとを座標毎に二乗平均でデータを合成するデータ合成工程とで欠陥検査方法を構成している。 （もっと読む）