【課題】マスク基板に形成された光学歪みによる不具合が解消され、欠陥検出の感度を高くできる検査装置を提供する。
【解決手段】光源装置１から出射した照明光をフォトマスク８に向けて透過検査用として投射する第１の照明光学系（４〜７）と、前記フォトマスク支持すると共に第１の方向及び第１の方向と直交する第２の方向に移動可能なステージ９と、フォトマスクを透過した透過光を対物レンズ１１及び偏光分離手段１３を介して受光する光検出手段（１７，１８）と、光検出手段から出力される輝度信号を受け取り、フォトマスクに存在する欠陥を検出する信号処理装置１９とを具える。信号処理装置は、マスクパターンが形成される前のマスク基板の透過光の輝度分布データを記憶したメモリと、前記輝度分布データに基づいて前記光検出手段から出力される輝度信号又は光源装置から放出される照明光の強度を補正する補正手段を有する。 （もっと読む）

【課題】圧着端子をより正確に検査することができ、構成の簡単化または検査時間の短縮を図ることのできる圧着端子の検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置４０は、第１検査ユニット４１、第２検査ユニット４２、および第３検査ユニット４３を備える。第１、第２、第３検査ユニット４１，４２，４３は、それぞれ連続端子３０の移動経路から外れた位置に配置された第１、第２、第３投光装置および第１、第２、第３受光装置６１，６２，６３を備える。第１投光装置は、端子３５の長手方向に延びる帯状の第１の光７１を照射する。第２および第３投光装置は、端子３５の長手方向と直交する方向に延びる帯状の第２の光７２を照射する。コンピュータは、第１、第２、第３受光装置６１，６２，６３の各受光量に基づいて、端子３５の良否を判定する。 （もっと読む）

【課題】異なる板厚を持つ複数枚の板材をレーザーで溶接する場合でも溶着状態をリアルタイムでかつ正確に検出することができる溶着状態検出方法を提供する。
【解決手段】板厚の異なる複数枚の板材を準備しＳ１、準備した複数枚の板材を少なくとも一部が重なるように固定しＳ２、固定した複数枚の板材が重なる部分に向けてレーザー光を照射しＳ３、前記レーザー光を移動させＳ４、レーザー照射部に形成されるキーホールが反射したレーザー光を受光しＳ５、受光したレーザー光の強度波形に基づいて前記板材の溶着状態を検出するＳ６。 （もっと読む）

【課題】検査装置の透過光量分布のデータを用いて転写用マスクの内部欠陥等を検出する。
【解決手段】Ｄｉｅ−ｔｏ−Ｄｉｅ比較検査法を適用し、薄膜の第１領域に対して検査光を照射して第１の透過光量分布を取得し、第２領域に対しても、検査光を照射して第２の透過光量分布を取得し、第１の透過光量分布と第２の透過光量分布との比較から算出される差分光量値が第１しきい値以上であり、かつ第２しきい値未満である座標をプロットした所定範囲差分分布を生成し、所定範囲差分分布でプロットの密度が高い領域が検出されない転写用マスクを選定する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの表面に生じうる特定欠陥をより確実に検出することが可能な検出方法、検出システムおよび検出プログラムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の特定欠陥の検出方法は、ウェーハの表面に光を照射して該ウェーハの表面上の欠陥の位置に対応して検出される輝点の面内位置情報である輝点マップを取得する工程（Ｓ１０１）と、前記輝点マップにおいて、特定欠陥の発生が予想される領域である判定対象領域と、該判定対象領域以外の所定領域である参照領域とを特定し、前記判定対象領域における輝点密度の、前記参照領域における輝点密度に対する比を算出する工程（Ｓ１０２）と、算出された前記比の値に基づいて、前記特定欠陥の発生の有無を判定する工程（Ｓ１０３）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥の捕捉率、及び分類性能を向上させる。
【解決手段】互いに平行な直線群を含む回路パターンが形成された被検査物を載置して走行するステージと、スリット状の光であるスリット状ビームを複数生成し、前記被検査物の表面に第１の照明領域、及び第２の照明領域を形成する照明光学系と、前記第1の照明領域からの第１の光と前記第２の照明領域からの第２の光とを分離し、前記第１の光は第１のイメージセンサで、前記第２の光は第２のイメージセンサで検出する検出光学系と、前記第１のイメージセンサ、及び前記第２のイメージセンサで得られた信号に基づいて欠陥を示す信号を得る処理部と、を成す。 （もっと読む）

【目的】光量センサ出力と画像取得用のセンサ出力の応答速度のずれによる補正誤差を低減する。
【構成】パターン検査装置１００は、光源１０３と、被検査試料にレーザ光を照明する照明光学系１７０と、レーザ光の光量を測定する光量センサ１４４と、パターンの光学画像を撮像するＴＤＩセンサ１０５と、ＴＤＩセンサ１０５の出力タイミングが早い場合に、出力タイミングとの時間差分の期間、ＴＤＩセンサ１０５の出力データを一時的に記憶する記憶装置１４０と、光量センサ１４４の出力タイミングが早い場合に、出力タイミングとの時間差分の期間、光量センサ１４４の出力データを一時的に記憶する記憶装置１４２と、光学画像の階調値を時間差分ずらした時刻に出力された光量値を用いて補正する補正回路１４８と、比較対照となる参照画像を入力し、階調値が補正された光学画像と参照画像とを画素単位で比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ワークに設けられる貫通孔の内部に生じたバリを、ロボットを用いて確実に検出する。
【解決手段】各孔検出カメラ５１ａ，５１ｂにより各油孔２１ａ〜２１ｇの両端側を撮像し、ずれ算出部で各油孔２１ａ〜２１ｇの軸線と軸線Ｃ２とのずれ量を算出し、ずれ量に基づいてロボット３０を駆動制御してクランクシャフト２０をバリ検出カメラ５３と正対させる。軸線Ｃ１は軸線Ｃ２と平行なので、バリ検出カメラ５３は各油孔２１ａ〜２１ｇの内部を全域に亘ってとらえることができる。したがって、ロボット３０によりクランクシャフト２０を精度良く移動して、バリ検出カメラ５３により各油孔２１ａ〜２１ｇの内部に生じたバリを確実に検出し、バリ有無判定部により各油孔２１ａ〜２１ｇの内部に生じたバリの有無を間違えること無く判定することができる。 （もっと読む）

【課題】不完全エリアを有効に検査することで歩留り管理の精度向上を図ることができる検査装置を提供する。
【解決手段】基板１に光を照明する照明部１０と、前記基板１からの光を検出し検査画像を得る検出部２０と、処理部１００と、を有し、前記検査画像には、前記基板１の端部より内側の形成すべきパターンの一部が欠けた領域と、前記端部より外側の前記一部が形成されるべきであった領域と、が含まれ、前記処理部１００は、前記検査画像と前記パターンよりも内側の完全なパターンの画像を含む参照画像とを使用して検査を行う。 （もっと読む）

【課題】レーザー光を利用した基板上の異物を検知する異物検知装置の光軸がズレることなく、吐出装置と固定する。
【解決手段】シート状基板と相対的に移動することにより基板を走査し、基板表面に塗布液を吐出する塗布装置において、塗布液の吐出装置の走査方向上流側に配置され、基板上の異物を検知する異物検知装置を少なくとも有する塗布装置であって、前記異物検知装置はレーザー光を基板表面と平行に照射する投光装置、前記投光されたレーザー光を受光する受光装置、投光装置ならびに受光装置それぞれに当接する面に弾性体を有し前記投光装置または受光装置の保持部材に対し接離自在のＬ型部材、および前記Ｌ型部材を前記投光装置または受光装置の保持部材に対し接離動作を行う作動部材により構成する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の種類、材料、形状によらずコントラストを高くする。
【解決手段】実施の形態のパターン検査装置は、光源と、光透過率を変更可能な透過率制御素子と、ビームスプリッタと、偏光制御部と、位相制御部と、波面分布制御部と、検出部とを含む。前記ビームスプリッタは、前記光源から出射された光を分割し、検査対象のパターンが形成された基体と前記透過率制御素子とに照射し、前記基体からの反射光である信号光と、前記透過率制御素子からの反射光である参照光と、を重ね合わせて干渉光を生成する。前記偏光制御部は、前記参照光の偏光角および偏光位相を制御する。前記位相制御部は、前記参照光の位相を制御する。前記波面分布制御部は、前記透過率制御素子における前記参照光の波面分布を制御する。さらに、前記検出部は、前記干渉光を検出する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の検出感度を向上させる。
【解決手段】実施形態のパターン検査装置は、ステージ駆動手段と光源と検出手段と光学系とフォーカス位置変動手段と制御手段と判定手段とを含む。前記ステージ駆動手段は、検査対象のパターンが形成された基体を支持するステージを前記基体の表面に水平な方向に移動させる。前記検出手段は、前記基体からの反射光を検出して信号を出力する。前記光学系は、前記光源から照射された光を前記基体に導き、前記反射光を前記検出手段に導く。前記フォーカス位置変動手段は、照射された光の前記基体におけるフォーカス位置を前記基体の表面に垂直な方向に変動させる。前記制御手段は、前記ステージの移動と前記パターンの位置への前記光の照射とを対応させて前記フォーカス位置が変動するように前記ステージ駆動手段と前記フォーカス位置変動手段とを制御する。前記判定手段は、前記検出手段からの信号に基づいて前記パターンの欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】対象物の表面における光の照射位置に微小な凹凸が形成されている場合でも、この凹凸の影響を排除しつつ、予め規定された高さ以上の異物欠陥が対象物の表面上に存在するか否かを判定する。
【解決手段】表面欠陥検査装置１０は、ウェハ２６の表面に斜方から光を照射するラインレーザ１４と、ウェハ２６の表面におけるラインレーザ光２８の照射位置Ｐ２よりもラインレーザ１４側の位置であってウェハ２６の表面から予め規定された高さ離間した規定高さ位置Ｐ１において反射したラインレーザ光２８の反射光を検出するための第一ラインカメラ１６と、照射位置Ｐ２において反射したラインレーザ光２８の反射光を検出するための第二ラインカメラ１８と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】検出系からの検出画像信号を補正することにより、複数の検査装置（機体）間での検査感度の機体差を低減することにある。
【解決手段】被検査対象００１に光束を照射する光源と、被検査対象から反射する反射散乱光を導く光学系１００と、導かれた反射散乱光を電気の検出信号に換える複数の光電セルが配列されている光電イメージセンサ４００と、前記光電イメージセンサを分割した複数の領域ごとに、それぞれに対応する信号補正部、Ａ／Ｄ変換器および画像生成部から構成される検出信号伝送部と、前記検出信号伝送部が出力する部分的な画像を合成する画像を作成する画像合成部と、合成された画像を処理することで被検査対象表面の欠陥あるいは異物の検査を行なう検査装置において、検出信号伝送部は、光電セルからの検出信号を各チャンネル毎に定めた基準検出信号強度の基準目標値に近づけるように補正できる検出信号補正機能を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】デバイス作製時に耐圧不良やリーク不良を起こさず、低コストで低酸素濃度のウェーハを提供することを目的とする。
【解決手段】チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶インゴットから切り出されたシリコン単結晶ウェーハであって、該シリコン単結晶ウェーハが、酸素濃度８×１０^１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３（ＡＳＴＭ ’７９）以下のシリコン単結晶インゴットから切り出され、選択エッチングによりＦＰＤ欠陥及びＬＥＰ欠陥が検出されず、かつ、赤外散乱法によりＬＳＴＤが検出される欠陥領域を含むものであることを特徴とするシリコン単結晶ウェーハ。 （もっと読む）

【課題】 食品を包装するフィルム状の包装袋を有する被検査物の噛み込みやシワに起因するシール不良等をシール部の折れ曲がりの影響を受けることなく、極めて良好に検査できる実用性に秀れた光学検査装置を提供する。
【解決手段】 搬送機構に設けられる間隙部１０においてこの搬送機構により搬送される被検査物７に照明光を照射する照明部３と、前記間隙部１０の下方から前記被検査物７を撮像する撮像部２と、該撮像部２で撮像した前記被検査物７の撮像データをもとに画像処理を行う画像処理部と、該画像処理部で行った画像処理の結果を表示する表示器８とを備えた光学検査装置１であって、前記照明部は搬送機構の上方に設けるとともに、前記照明部３の発光面９が間隙部１０の間隙距離よりも搬送流れ方向に広く設ける。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】光を生成して出射する光源１１と、光源１１から出射される光を基板２０にスキャンするスキャンミラー１４と、基板２０で蛍光された蛍光イメージを検出する蛍光イメージ検出部１７と、基板２０で散乱された散乱光イメージを検出する散乱光イメージ検出部１９と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】不良品を的確に排出可能な極めて実用性に秀れた光学検査装置の提供。
【解決手段】搬送機構により搬送される被検査物を照明する照明部と、被検査物を撮像する撮像部と、被検査物の撮像データをもとに画像処理を行う画像処理部と、画像処理の結果をもとに良否判定を行う良否判定部と、被検査物の通過を検知可能な通過検知部と、良否判定部により不良と判定された被検査物を排出する不良品排出部とを備え、不良品排出部は照明部及び撮像部の搬送下流側で所定時間の間作動させることで不良と判定された被検査物を排出するように構成した光学検査装置であって、被検査物の搬送方向長さを検出する長さ検出部を設けると共に、この長さ検出部により検出される被検査物の搬送方向長さが所定長さより長い場合に不良品排出部の作動時間を長くする排出制御部を設ける。 （もっと読む）

【課題】被検査体の検査効率を低下させることなく異なる角度の走査画像を取得し、欠陥判定の精度を高める表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置は、被検査体の軸に沿って導かれたレーザ光を反射するミラー手段と、ミラー手段によって反射され、被検査体の内側表面に印加されて反射されたレーザ光を受光する受光手段と、ミラー手段を被検査体の軸と同軸で回転させて周方向走査を行う周方向走査手段と、ミラー手段を被検査体の軸に沿って移動して軸方向走査を行う軸方向走査手段と、ミラー手段の被検査体の軸に対する反射角度を変更する反射角度変更手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷをセットしていない状態において、第１参照平面５６で反射された第１参照光と、ウエハＷをセットした状態において、ウエハＷを透過して後に第１参照平面５６で反射された被検光と、に基づいてウエハＷの表面性状を評価することを特徴とする。 （もっと読む）