【課題】投光器および受光器の診断機能を有する鋼帯の穴欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】連続的に搬送される鋼帯１を挟んだ上下に配置された投光器２および受光器３と、光ファイバ４と、これらより少し上流に配置された溶接穴検出器５と、トラッキング装置６と、穴欠陥検出制御装置７と、表示装置８とからなる。穴欠陥検出制御装置７は、鋼帯１に穴欠陥があるかどうかを常時検出する穴欠陥検出部７１と、投光器２を常時診断する投光器診断部７２と、受光器３を所定のタイミングで診断する受光器診断部７３を有する。受光器診断部７３は、鋼帯１のコイル間の溶接部に設けた穴が穴欠陥として検出されたタイミングとほぼ同時か、前記穴が前記受光口の上を通過し前記溶接部が前記受光口の上に存在すると予測されたタイミングで、前記溶接部に対する穴欠陥検出が行われている間に、受光器の光検出器に診断光を入射して、受光器の光検出器からの光検出信号に基づいて受光器を診断する。 （もっと読む）

【課題】苦味と、酸味およびす上がりとの強い相関に着目し、柑橘類の苦味を光学的にかつ非破壊的に測定・評価することを目的とする。
【解決手段】受光部において受光した透過光を、複数の波長帯チャンネルのスペクトルに分光し、複数の波長帯チャンネルのスペクトルから、複数の波長帯チャンネルの吸光度を算出し、所定の波長帯チャンネルの吸光度、吸光度の差分、吸光度の２次微分のいずれか、または、これらの組み合わせからなる検量線式と、複数の波長帯チャンネルの吸光度とに基づいて、柑橘類の内部品質を評価する。 （もっと読む）

【課題】投光器および受光器の診断機能を有する鋼帯の穴欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】連続的に搬送される鋼帯１を挟んだ上下に配置された投光器２および受光器３と、これらより少し上流に配置された溶接穴検出器５と、トラッキング装置６と、穴欠陥検出制御装置７と、表示装置８とからなる。穴欠陥検出制御装置７は、鋼帯１に穴欠陥があるかどうかを常時検出する穴欠陥検出部７１と、投光器２を常時診断する投光器診断部７２と、受光器３を所定のタイミングで診断する受光器診断部７３を有する。受光器診断部７３は、鋼帯１のコイル間の溶接部に設けた穴が穴欠陥として検出されたタイミングとほぼ同時か、前記穴が前記受光口の上を通過し前記溶接部が前記受光口の上に存在すると予測されたタイミングで、受光器の光検出器に診断光を入射して、受光器の光検出器からの光検出信号に基づいて受光器を診断する。 （もっと読む）

【課題】多段積みされた裁断対象を精度良く検査できる裁断対象検査装置等を提供する。
【解決手段】多段積みされた裁断対象Ｂｋを検査する裁断対象検査装置において、所定形状のレーザ光Ｌ１、Ｌ２が投影された裁断対象の画像データを取得し（Ｓ７）、画像データからレーザ光が投影された部分の画像を抽出し、抽出されたレーザ光の画像からレーザ光の投影形状の情報を算出し（Ｓ８）、所定形状の情報と投影形状の情報とに基づき、多段積みされた裁断対象の良否を判定する（Ｓ１１）。 （もっと読む）

【課題】ユーザそれぞれが、自身がその存在を感得しているレシピについて、他のユーザがその存在を含めた設定内容を感得できないように、そのレシピの存在自体も含めてレシピの設定内容を隠蔽しておくことができる検査装置及びその隠蔽方法を提供する。
【解決手段】ユーザそれぞれが、自身の閲覧設定画面５００上でその存在を感得しているレシピについて、他のユーザがその存在を含めた設定内容を感得できないように他のユーザを隠蔽先に含む隠蔽ＩＤ情報を生成するレシピ隠蔽情報作成機能部１１６と、ユーザそれぞれの閲覧設定画面５００を表示する際、隠蔽ＩＤ情報ファイル２４０に格納されている隠蔽ＩＤ情報に基づいて、ユーザそれぞれの閲覧設定画面５００の生成のためのレシピ表示情報を作成する表示情報作成機能部１２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡素化を図りつつ、対象物を短時間で高精度に検査することができる。
【解決手段】撮像手段１１と対象物Ｔとの間に光軸Ｏに交差する方向に向けて光線Ｌを放射する光源１２と、光源１２から放射された光線Ｌを撮像手段１１の光軸Ｏ方向に沿って対象物Ｔ側に向けて反射するハーフミラー１３と、ハーフミラー１３と対象物Ｔとの間に光軸Ｏと同軸に配置され、外周面１４ａにハーフミラー１３により反射された光線Ｌが入射する円錐状または円錐台状の内ミラー部材１４と、内ミラー部材１４よりも大径の円錐台状の孔部１５が光軸Ｏと同軸に貫設され、孔部１５の内周面１５ａに内ミラー部材１４の外周面１４ａにより反射された光線Ｌが入射する外ミラー部材１６とを備え、外ミラー部材１６は、内ミラー部材１４の外周面１４ａから孔部１５の内周面１５ａに入射した光線Ｌを、対象物Ｔの外周面Ｔ１に垂直に入射するように反射する検査装置１０を提供する。 （もっと読む）

【課題】欠陥観察時に観察顕微鏡のレンズ部と基板又は基板保持機構との衝突を防止する。欠陥観察に必要な時間を短縮化する。
【解決手段】基板の表面に照射された高さ調整用のレーザビームは、その高さに比例してスポットの直径が変化し、フォーカス面で最小となり、さらに下降移動により拡大する。観察顕微鏡手段を上方から下降させることによって、レーザビームのスポット径の最小位置を検出し、登録した対物レンズの倍率におけるフォーカス時のスポット径と比較することによって、対物レンズがフォーカス位置より下方向に移動し続けて、基板又は基板保持機構と接触するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】テラヘルツ波の反射波を利用して金属の腐食を防ぐための塗膜や半導体ウェーハのエピ層等の積層物中の欠陥（気泡）検査を行う際に測定対象物の位置合わせを容易に行えるテラヘルツ波を用いた検査装置及び検査方法。
【解決手段】第１レーザ光の照射によりテラヘルツ波を発振するテラヘルツ波発振アンテナ５、第２レーザ光に時間遅延を与える時間遅延機構７と、第２レーザ光に基づいた検出タイミングでテラヘルツ波を検出し、検出したテラヘルツ波の強度に応じた検出信号を生成するテラヘルツ波受信アンテナ８、測定対象物１００の位置と傾きとが所定の状態にあるか否かを検出する状態検出部、測定対象物の位置と傾きとが所定の状態にあり、時間遅延機構７で与えられる時間遅延を変化させた場合のテラヘルツ波受信アンテナで生成された検出信号に基づく時系列信号強度データのピーク値に基づいて測定対象物の欠陥の有無を検査する検査部部５４を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体基板表面の清浄度を正確に確認することのできる半導体基板洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体基板洗浄装置１００は、半導体基板１０を洗浄する洗浄部１と、洗浄部１で洗浄された半導体基板１０の表面の反射強度を測定する反射式センサ２と、反射式センサ２による反射強度の測定結果に基づき、半導体基板１０の洗浄の適否を判定する判定部３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】高精度なウエハステージの移動制御を行う。
【解決手段】ウエハステージの位置を計測するために用いられるスケール３９Ｙ₂に対して検出装置ＰＤＹ₁の照射系６９Ａからの検出ビームを照射し、スケール３９Ｙ₂を介した検出ビームを受光系６９Ｂで検出することにより、スケールの表面状態（異物の存在状態）を検出する。これにより、スケールに対して非接触で表面状態の検出を行うことができる。さらに、この表面状態を考慮することで、ウエハステージの移動制御を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ウェハを外周で保持する機構では、ウェハが自重で撓む場合がある。そこで平面度を保持するためにウェハとウェハ下の保持台との間に空気を供給する方法がある。しかし、この方法では異物がウェハに付着する場合がある。
【解決手段】ウェハの平面度を保持するためにウェハ、及びウェハ下の保持台に負電圧をかける。この静電力によってウェハに上向きの力を与え、平面を保持する。また、この方法により負に帯電した異物の付着を防止する。 （もっと読む）

【課題】被検レンズが曲率半径の小さい形状であっても、１回の撮像によって被検レンズの全体について異物の検出を可能とする手段を提供する。
【解決手段】本発明に係るレンズ異物検出装置１０は、被検レンズＬを挟んで光軸方向一方側に配置され、平行でコヒーレントなレーザ光束を被検レンズＬに照射するレーザ照射機構１２と、被検レンズＬを挟んで光軸方向他方側に配置され、被検レンズＬを透過したレーザ光束を受光して被検レンズＬの画像１５を取得する撮像機構１３と、被検レンズＬの画像中における干渉縞１７の存否に基づいて、被検レンズＬにおける異物１６の付着の有無を判定する制御部１４１と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】 タイヤ表面の薄広凸欠陥を高精度に検出することができるタイヤの欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】 ステップＳ１を開始するまでに、予め連続的にスリット光像を含む２次元画像を取得しておく。ステップＳ１では、撮像された複数の２次元画像データから、スリット光像を抽出する。ステップＳ２では、抽出されたスリット光像から偏心によるぶれである偏心成分を除去する。ステップＳ３では、偏心成分を除去した光像に基づいて特徴量を算出し、ステップＳ４で、算出された特徴量に基づいて薄広凸欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】検査装置の検査情報とレビュー装置で取得した観察情報とを用い、欠陥の高さ、屈折率、材質の情報を取得して欠陥材質・屈折率分析や、微細なパターン形状の三次元解析を行う方法、並びにこれを搭載した欠陥観察装置を提供する。
【解決手段】試料上の欠陥を観察する方法において、光が照射された試料からの反射・散乱光を受光した検出器からの検出信号を処理して検出した検査結果の情報を用いて観察対象の欠陥が存在する位置を走査電子顕微鏡で撮像して画像を取得し、この取得した観察対象の欠陥の像を用いて欠陥のモデルを作成し、作成された欠陥のモデルに対して光を照射したときに欠陥モデルから発生する反射・散乱光を検出器で受光した場合のこの検出器の検出値を算出し、この算出した検出値と実際に試料からの反射・散乱光を受光した検出器の検出値とを比較して観察対象の欠陥の高さ又は材質又は屈折率に関する情報を求めるようにした。 （もっと読む）

【課題】貼り合わせた２つの基板層のいずれかに検査光の透過しない部分があっても、貼り合わせ界面に発生し得る微小空洞を検査することのできる基板検査装置を提供することである。
【解決手段】基板１００の表面に対して斜めに入射するように検査光を帯状に照射する光源ユニット３０と、前記検査光により前記基板の表面に形成される帯状照明領域を挟んで光源ユニット３０と逆側の所定位置に配置されるラインセンサカメラ２０とを有し、照明ユニット３０及びラインセンサカメラ２０と基板１００とが相対移動している際にラインセンサカメラ２０から出力される映像信号に基づいて基板画像情報を生成し、基板画像情報に基づいて基板１００の第１基板層１０１と第２基板層１０２との界面に生じ得る微小空洞についての検査結果情報を生成する構成となる。 （もっと読む）

【課題】ひび割れの深さに関係なく、精度良くひび割れ深さの測定を行うこと。
【解決手段】構造体Ｓの表面を照射加熱する加熱用レーザー装置１と、前記照射加熱に伴って、構造体Ｓに発生した弾性波を前記照射加熱の位置から所定距離だけ離れた検出位置で検出する第一検出用レーザー装置２と、前記照射加熱の位置から前記所定距離だけ離れた位置まで、ひび割れＣの無い部分を通って弾性波が伝播する際の基準信号９の信号強度を測定する第二検出用レーザー装置３と、両検出用レーザー装置２、３での検出結果から、ひび割れ深さを導出する演算装置１０とでひび割れ深さ測定装置を構成する。この演算装置１０において、両検出用レーザー装置２、３で検出された測定信号８及び基準信号９の時間差Δｔ又は信号減衰比ｒからひび割れ深さを導出する。このように、異なるパラメータに基づいて導出を行い得るようにしたので、その導出値の信頼性が向上する。 （もっと読む）

【課題】内部空間形成体内側の観察対象部にレーザ光を結像させつつ、レーザ光の結像サイズを調節可能であるとともに、レーザ投光装置を狭隘な点検穴から内部空間形成体内へ挿入できるようにする。
【解決手段】内部空間形成体３内へレーザ光を投光するレーザ投光装置２０は、バリフォーカル光学系７を有する。バリフォーカル光学系７は、複数のレンズ体１１ａ，１１ｂ，１１ｃを有する。各レンズ体は、レンズ１２と、該レンズを保持するとともに光軸方向に移動可能な保持移動片１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、を有する。アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃが、ぞれぞれ、光軸方向に保持移動片を駆動することにより、内部空間形成体３内側でのレーザ光の結像位置と結像サイズを調節する。各保持移動片において対応するアクチュエータから駆動力を受ける駆動力伝達部分１３ａ１，１３ｂ１，１３ｃ１は、周方向において互いにずれており、各アクチュエータは、光軸方向から見て、対応する駆動力伝達部分に重なる。 （もっと読む）

【課題】配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現する。
【解決手段】欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。偏光（アルファ）は、ｐ偏光とｓ偏光との間にある。算出した偏光（アルファ）の光を試料に照射して欠陥を検査する。これにより、配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムの低コントラストの欠陥を容易に検出するために、反射防止フィルムに付着した薬液を拭取る薬液拭取り装置を提供する。
【解決手段】反射防止フィルムの欠陥を検査する場合にフィルムに付着させた薬液を検査後に拭取る装置であって、土台に設けられ昇降が可能な支柱と、拭取りヘッドベースと拭取りヘッド中間部材と拭取り部材を順に重ねた構造を有し、前記支柱に支えられた拭取りヘッドと、を備え、前記拭取りヘッドを薬液が付着したフィルム面に接触させて薬液を拭取ることを特徴とする薬液拭取り装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学ガラスの洗浄時に生じるダメージを定量的に評価し、硝材に対して好適な洗浄条件の調査に有用な光学ガラスの潜傷評価方法及び潜傷評価装置を提供する。
【解決手段】評価対象の光学ガラスの表面に潜傷を付与する潜傷付与手段２と、潜傷付与手段２により付与された潜傷の形状を測定する第１の形状測定手段３と、第１の形状測定手段３により潜傷の形状を測定された光学ガラスの表面に洗浄液を接触させ、潜傷を拡大させる洗浄手段４と、洗浄手段４による洗浄後に、潜傷の形状を測定する第２の形状測定手段５と、第１の形状測定手段３及び第２の形状測定手段５で得られた結果から光学ガラスの洗浄前後の潜傷の状態を対比する対比手段６と、を有する光学ガラスの潜傷評価装置１。 （もっと読む）