【課題】船舶、橋梁、配管などに用いられている様々な溶接形状を計測し、実際の溶接形状に即した溶接の形状パラメータを算出し、自動的に溶接部の疲労強度を算出する溶接形状評価装置及び方法を提供する。
【解決手段】溶接形状評価装置１が照射部１３からレーザーを照射し、溶接部を複数の２次元座標（直交座標又は極座標）を持った計測点で計測する計測装置１０と、前記計測点を用いて疲労強度を算出する演算装置２０とからなり、溶接形状評価方法が座標から計算式により溶接の形状パラメータを算出して簡易式により応力集中係数を算出する簡易式工程と、有限要素法（ＦＥＭ）を用いて溶接部を解析して応力集中係数を算出する有限要素法（ＦＥＭ）工程とを備えた応力集中係数算出工程と、複数の提案式と方法を備えて疲労強度を算出する疲労強度算出工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】
光検査装置において、検出する光が微弱な場合に問題となる量子ノイズの影響を抑制する。
【解決手段】
光検査装置を、試料に光を照射する光照射手段と、参照光を発射する参照光手段と、光照射手段により光が照射された試料からの透過光または散乱光または反射光と、参照光手段から発射された参照光とを干渉させて干渉光を生成する光干渉手段と、光干渉手段により生成した干渉光を検出する光検出手段と、光検出手段により干渉光を検出して得られた検出信号に基づいて欠陥の有無を識別する欠陥識別手段と、試料からの透過光または散乱光または反射光の状態または参照光手段から発射された参照光の状態または光干渉手段により生成した干渉光の状態のうち少なくとも一つを変換する光変換手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】紫外線を用い、空間分解能数ミクロン以下で液体ナトリウム中の可視化が行えるようにする。
【解決手段】フッ化マグネシウム窓２８を備えナトリウム中に浸漬可能な紫外線照射・検出装置１０、及びナトリウムバウンダリ外に設置される画像化装置１２を具備し、紫外線照射・検出装置は、ナトリウムバウンダリ外から供給される外部エネルギーにより波長１００〜１３０ｎｍの真空紫外線を発生し、その紫外線をフッ化マグネシウム窓を通して液体ナトリウム中の被検査体に向けて照射する紫外線発生部２２と、該被検査体からの反射・散乱光をフッ化マグネシウム窓を通して検出し可視光へ変換する紫外線検出部２４を備えた構造とする。紫外線検出部２４で得られた光信号は、多チャンネル光ファイバケーブル１４によって前記画像化装置へ送られ、可視化できる状態となる。 （もっと読む）

【課題】口金近くに設置された基板上の異物を検知する異物検知装置が気流等の外乱で検知精度が低下することを防止する。
【解決手段】シート状基板と相対的に移動することにより基板を走査し、基板表面に塗布液を吐出する塗布装置において、塗布液の吐出装置の走査方向上流側に配置され、基板上の異物を検知する検知装置を少なくとも有し、前記検知装置はレーザー光を基板表面と平行に照射する投光装置と、前記投光されたレーザー光を受光する受光装置と、少なくとも前記投光領域直下の空気流れを遮蔽する装置を設ける。 （もっと読む）

【課題】外観検査の欠陥分類において、重要欠陥のピュリティまたはアキュラシーまたはその両方が目標値以上になるように調整するなどのニーズがあるが、教示型の欠陥分類は平均的に分類正解率が高くなるよう条件設定されるため、そのようなニーズに応えられないという問題があった。
【解決手段】特徴量抽出部、欠陥分類部、分類条件設定部を含み、分類条件設定部は、欠陥の特徴量と正解のクラスを対応づけて教示する機能と分類の優先順位を指定する機能を有し、優先順位の高い分類の正解率が高くなるよう条件設定を行う。 （もっと読む）

【課題】等速自在継手用ブーツ等の成形部品の欠陥を安定して効率的にしかも安価に検出することができる欠陥検出方法及び欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】軸方向両端部に開口部を有し、かつこの開口部に外径側に突出する突起部２を設けた弾性材料からなる筒状の成形部品３０における欠陥を検査する。軸心廻りに回転している成形部品に対してその突起部２の突起量を検出する。その後、その検出した測定データから成形部品３０の回転振れ及び変形に基づく変位を修正した修正データを算出する。次に、設定された欠陥判断基準となる閾値と修正データとの比較と、設定された区間内での修正データの傾きの正常値との比較とを行う。これらの比較に基づいて成形部品の欠陥を検査する。 （もっと読む）

【目的】より高精度に光軸調整がなされたレーザ光で検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン検査装置１００は第１から第４象限の面で独立に受光するフォトダイオードアレイ２１２が受光したレーザ光の光量を用いて、レーザ光と供に発生するノイズ成分光の発生方向を特定するノイズ方向特定回路１２８と、レーザ光の光量を用いて、ノイズ成分光の光量を演算するノイズ光量演算回路１３０と、ノイズ成分光の発生方向の重心値の絶対値がノイズ成分光の光量をレーザ光の総光量で除した値になり、ノイズ成分光の発生方向と直交する方向の重心値が０になるように、ミラー２０２，２０４の反射面の位置を制御するミラー制御部１２１，１２２と、光軸が調整されたレーザ光を用いて、被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、参照画像を入力し、光学画像と参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ（２３）により受光され、その出力信号は信号処理装置（１１）に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する２次元画像生成手段（３２）を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段（３４）に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段（３６）に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物品の色に応じた最適な検査手段、方法により、誤判定を無くすための技術を提案する。
【解決手段】検査対象となる物品（実施例では瓶２）を撮像するための少なくとも一つの撮像装置１１ａ・１１ｂ・１１ｃ・１１ｄ・１１ｅと、前記物品に対して光を照射するための少なくとも一つの照明装置１２と、を有し、前記光が照射された前記物品を前記撮像装置１１ａ・１１ｂ・１１ｃ・１１ｄ・１１ｅにて撮像し、撮像された画像に基づいて前記物品の欠陥を判定するための反射系検査部１０を有する、物品の欠陥検査装置１であって、前記照明装置１２は、検査対象となる物品（瓶２）に対して照射する光の色を変更できる構成とする。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ（２３）により受光され、その出力信号は信号処理装置（１１）に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する２次元画像生成手段（３２）を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段（３４）に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段（３６）に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 （もっと読む）

【課題】製造ライン上を搬送される基板の搬送速度の変化に対応してリアルタイムに位置ズレ誤差を補正できるようにする。
【解決手段】インライン基板検査方法は、上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させながら、移動中の基板と直交する方向へ投光系及び受光系からなる光学系を移動させて検査光を照射すると共に基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光し、受光した基板からの反射光又は散乱光又は透過光に基づいて基板の欠陥を検出するものであり、この検査時に基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて基板の欠陥検出位置を補正するようにした。 （もっと読む）

【課題】従来技術では、メモリセル部等の繰り返しパターン部分以外では、検出感度（最小検出異物寸法）が低いという課題がある。これは空間フィルタの遮光パターンが一様であることに起因している。
【解決手段】本発明は、基板の異常を検査する検査装置において、基板に光を照明する照明光学系と、前記基板からの光を検出して像として結像する検出光学系と、前記像を用いて前記異常を検出する処理部と、を有し、前記検出光学系は、フーリエ面に配置された薄膜を有し、前記薄膜は、前記パターンに対応した遮光パターンを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】デバイスが形成されている半導体基板の全面について厚さムラを短時間で検査することができる検査装置を実現する。
【解決手段】本発明による検査装置は、半導体基板（７）のデバイス形成面とは反対側の裏面（７ａ）に向けて、前記半導体基板に対して半透明な照明光を照射する照明手段（１，２，３）と、半導体基板の裏面に入射し、デバイス構造面（７ｂ）で反射し、前記裏面側から出射した照明光を受光する撮像手段（１５）と、 撮像手段からの出力信号を用いて厚さムラを検出する信号処理装置（２０）とを具える。信号処理装置は、前記撮像手段からの出力信号を用いて、半導体基板に形成されているデバイスの半導体基板の裏面側から撮像した２次元画像を形成する手段（２１）と、撮像されたデバイスの２次元画像と基準画像とを比較し、画像比較の結果に基づいて前記半導体基板の厚さムラを検出する厚さムラ検出手段（２２，２３，２４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】試料を検査するために使用される検査システムの欠陥検出を強化する。
【解決手段】光電子増倍管（ＰＭＴ）検出器の測定検出範囲の制限要因として陽極飽和に対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路、方法が提供される。検査システムの測定検出範囲の制限要因として増幅器及びアナログ・デジタル回路の飽和レベルに対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路及び方法も提供される。加えて、表面検査の走査の間に試料に供給される入射レーザ・ビームパワー・レベルを動的に変更することによって大きな粒子に対する熱破損を削減することにより欠陥検出を強化するための検査システムや回路、方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プリント基板の検査装置に関する。
【解決手段】本発明によるプリント基板の検査装置は、第１レーザー光源と、第１レーザー光源から出射された光を基板に集光させる第１集光部と、第１集光部によって集光される光によって基板から発生した蛍光と第１レーザー光源から出射された光とを分離する第１二色性ビーム分離部と、第１二色性ビーム分離部を透過した光から基板の未メッキ状態を判定するための判定部と、を含み、基板に形成されたビアホールの内部側面にはメッキされていない未メッキ部分を含み、第１集光部から出射された光は基板と第１角度を有して入射され、ビアホールの内部側面の未メッキ部分に集光されることができる。これにより、回路基板の不良を迅速に判別することができる。 （もっと読む）

【課題】 錠剤の振動やポケット内の姿勢に影響を受けることなく正確な検査が行えるようにすること
【解決手段】 ３Ｄカメラ装置は、容器フィルムのポケット部内に供給された錠剤を撮像し、三次元計測法により錠剤の表面の各位置の高さ位置を濃淡画像で表したプロファイル画像を求め、処理装置２２に送る。処理装置は、プロファイル画像に基づき錠剤の外観検査を行うもので、プロファイル画像中の錠剤を示す画像データを抽出する錠剤検出部３１と、抽出した画像データをその錠剤の表面が平坦になるように補正処理をして平坦化画像を生成する平坦化処理部３２と、その平坦化画像に基づいて外観異常の判定を行う欠陥解析部３４を備える。平坦化処理部３２により錠剤の表面の高さ位置が平坦（水平）に正規化されるので、簡単な閾値処理で異常の有無を判定できる。 （もっと読む）

【課題】検出信号の条件に応じて検出回路特性を可変制御することにより、高精度な信号検出を行うことができる半導体ウェハの異物検査装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェハの異物検査装置において、反射光を検出するＰＭＴ１０３と、ＰＭＴ１０３で検出された信号を増幅し、かつ増幅の応答特性が制御信号により制御される増幅回路３０１と、増幅回路３０１により増幅された信号を所定のコードに変換して出力するＡ／Ｄ変換器３０２と、反射光と相関を有する半導体ウェハ１０４の情報に基づいて、制御信号を生成する制御回路３０３と、Ａ／Ｄ変換器３０２から出力されたコードに基づいて、半導体ウェハ１０４上の異物を検出するデータ処理回路とを備えた。 （もっと読む）

【課題】管状体の内表面に発生しうる凹凸疵及び模様系の疵を同時に検出すること。
【解決手段】本発明に係る欠陥検出装置は、管状体の軸方向に沿って移動しながら管状体の内表面に対して環状のレーザ光を照射して環状ビーム画像を複数生成する管状体撮像装置と、生成された環状ビーム画像に対して画像処理を行い、管状体の内表面に欠陥が存在するかを判断する演算処理装置とを備え、演算処理装置は、各環状ビーム画像における環状のレーザ光の照射部分の重心位置を算出する環状ビームセンター算出部と、環状ビーム画像の座標系を変換して光切断画像を複数生成する座標変換部と、各光切断画像から生成された縞画像フレームに基づき管状体の内表面の凹凸状態を表す深さ画像及び管状体の内表面でのレーザ光の輝度分布を表す輝度画像を算出する画像算出部と、算出された深さ画像及び輝度画像に基づき内表面に存在する欠陥を検出する欠陥検出部とを有する。 （もっと読む）

【課題】平板ガラスの内部に含まれた異物を、ガラス品質に影響を及ぼす異物と、ガラス品質に影響を及ぼさない異物とに正確に判別する。
【解決手段】平板ガラスの異物検査装置は、平板ガラス１の上部または下部領域に設けられる照明部３１と、照明部３１と平板ガラス１との間に設けられる第１偏光板１１と、照明部３１に対して反対方向に取り付けられる第１及び第２カメラ１０、２０と、第１カメラ１０と平板ガラス１との間に設けられ、第１偏光板１１の偏光方向と０゜乃至２０゜の範囲の偏光方向を有する第２偏光板１３と、第２カメラ２０と平板ガラス１との間に設けられ、第１偏光板１１の偏光方向と７０゜乃至９０゜の範囲の偏光方向を有する第４偏光板１７と、第１及び第２カメラ１０、２０から獲得した映像を入力し、良品性異物であるか、または不良性異物であるかを判別する処理部５０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の内部欠陥による蛍光部画像がモヤ状画像でもそのエッジを検出して内部欠陥の検出精度を高める。
【解決手段】マスクブランク用ガラス基板の製造時に、２つの主表面と４つの端面を有するガラス基板を準備する基板準備工程と、いずれかの面から波長２００ｎｍ以下の検査光をガラス基板内に導入して内部欠陥を検出する欠陥検査工程とを有するマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、欠陥検査工程は、いずれかの面から前記ガラス基板を撮影し、当該撮影画像に対して遠隔差分により光量差を求める処理を含む画像処理を行うことで、検査光によって、ガラス基板の内部欠陥から発生する蛍光の有無を判定し、蛍光が無いと判定されたガラス基板を選定する。 （もっと読む）