【課題】半田の印刷不良を効果的に抑制し、生産品質及び歩留まりの向上を図る。
【解決手段】半田印刷検査装置１は、記憶媒体１１、理想半田情報生成手段１２、画像処理手段１３を備える。記憶媒体１１には、設計データ等が記憶されており、理想半田情報生成手段１２は、設計データ等上の理想半田領域から「理想半田位置情報」及び「理想半田サイズ」を生成する。画像処理手段１３は、ＣＣＤカメラ４によって撮像された撮像データからプリント基板Ｋ上の半田７の実半田領域を抽出し、実半田領域から「実半田位置情報」を生成する。また、「理想半田位置情報」と「実半田位置情報」との「位置ずれ量」を生成するとともに、「理想半田サイズ」に対する「位置ずれ量」の程度を示す「印刷ずれ率」を生成し、「印刷ずれ率」に基づいて印刷位置に関する補正値を演算し、補正値信号を半田印刷機１５に出力する。 （もっと読む）

【課題】被検査成形品の外周部に生じた微小なバリを正確に検出して成形品の良否を判定できるとともに、被検査成形品に対する汎用性が高いバリ検出方法を提供する。
【解決手段】成形品のバリ検出方法は、被検査成形品２のバリ２１ａを有するＶ形溝の山部２１を、山部２１を照らす平行光透過照明器１に対向して山部２１の接線方向に配置されたカメラ３によって被検査成形品２を回転させながら複数箇所において連続的に撮影し、撮影した複数の画像に処理を施してバリ２１ａを検出するものである。この処理は、連続的に撮影した複数の画像の中から、二つの画像を選択して比較し、この二つの画像を重ねたときの明るさが異なる部分の大きさを用いてバリ２１ａの有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの検査工程を効率化することのできる半導体ウェハの表面検査装置を提供すること。
【解決手段】光照射手段２、受光手段、光電変換手段６、信号増幅手段２６、計測手段２２、及び計数手段２３を備えた半導体ウェハの表面検査装置は、信号増幅手段２６による増幅倍率を固定したときに、予め標本測定により算出された半導体ウェハ表面の異物又は欠陥の大きさに応じて設定された信頼区間幅が格納された信頼区間幅格納手段２５と、信号増幅手段２６による増幅倍率を固定して、異物又は欠陥の大きさに応じた信頼区間幅に基づいて、計測手段２２により計測された半導体ウェハ表面の異物又は欠陥の大きさを算出し、該半導体ウェハ表面の異物又は欠陥の大きさに応じた計数値から、半導体ウェハ表面の良否判定を行う良否判定手段２４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ノズルのストロークを稼ぎつつ、ノズルの伸縮がスムーズに行われるようにする。
【解決手段】ノズル２から圧延ロール５０の表面に水を吐出し、ノズル２の先端部と圧延ロール５０との間に水柱１０１を形成して、その水柱１０１を介して圧延ロール５０の表面を撮像して観察するためのノズル装置１００において、水が供給されるボディ１と、ボディ１から二段階のテレスコープ式に伸縮するノズル２と、ノズル２を縮ませる方向に付勢力を付与するスプリング４、６とを備え、ボディ１内の水圧によりノズル２がスプリング４、６の付勢力に抗して伸びる構成にした。この場合に、内側ノズル２２の後端にドーナツ状の円板材２８を接着等により固定し、両ノズル２１、２２の前進開始が略同タイミングとなるように調整する。 （もっと読む）

【課題】バックグランドからの反射光の影響を受けず、被検査物が非透明体であってもその表面の微小な異物の検査が可能な異物検査方法及び装置を提供する。
【解決手段】被検査物１の表面に線状光２を照射する線状光照射手段１３と、遮光板５ａ及びこれに受光面５ｂを並置させた光電変換素子５ｃからなる受影器５と、光電変換素子５ｃの出力信号に基づいて異物６の有無を検出する異物検出手段４４とを設ける。異物６がない場合の反射光像は遮光板５ａ上に投影され、異物６がある場合の反射光像は光電変換素子受光面５ｂ上に及んで投影されるように、上記受影器５を配置することで、バックグランドからの反射光の影響を受けず、したがって被検査物が非透明体であっても、また微小な異物であっても、その検査を可能とした。 （もっと読む）

【課題】確実に欠陥を検出する。
【解決手段】固体撮像装置のカバーガラスの表面にピントを合わせて撮像し、表面画像を得る。同様に、カバーガラスの裏面にピントを合わせて撮像し、裏面画像を得る。表面画像と裏面画像を合成して合成画像６０を作成する。動的閾値法を用いて、合成画像６０の各画素ごとに第１閾値Ｔｈ１を設定する。輝度値が第１閾値Ｔｈ１を超える画像を欠陥候補画像６１，６２，６３として特定する。欠陥候補画像６１，６２，６３の最高輝度値ＭＬ１，ＭＬ２，ＭＬ３に所定の比率を掛け合わせて、第２閾値Ｔｈ２１，Ｔｈ２２，Ｔｈ２３を設定する。輝度値が第２閾値Ｔｈ２１，Ｔｈ２２，Ｔｈ２３未満の画像をボケ画像４３，５１，５２として欠陥候補画像６１，６２，６３から除去する。これにより、合成画像６０には、ブツ欠陥画像４１、許容欠陥画像４２、ヨゴレ欠陥画像５３のみが残り、欠陥を確実に検出することができる。 （もっと読む）

【目的】素子間でのばらつきに起因する測定データの誤差を抑制する検査装置及び方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の検査装置１００は、被検査試料を載置するＸＹθテーブル１０２と、ＸＹθテーブル１０２と相対的に移動する第１の方向と直交する第２の方向に並ぶ複数の受光素子を有し、これら複数の受光素子を用いて被検査試料の光学画像を撮像するラインセンサ１０５と、第２の方向に画素単位でずらした位置でラインセンサ１０５によって重複して撮像された各画素データを画素毎に累積する累積部１３２と、画素毎に累積された画素データと所定の参照データとを比較する比較部１３９と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、異なる受光素子で撮像された画素データが画素毎に累積されるので素子間の特性のばらつきを平均化することができる。 （もっと読む）

【課題】規則性ピッチがカラーフィルタの色画素パターンピッチよりも大きいＰＳ付きのカラーフィルタにおいて、ＰＳの有無を検査するＰＳ付きカラーフィルタの検査方法を提供すること。
【解決手段】液晶のギャップ制御用に形成された複数種類のフォトリソスペーサー（ＰＳ）で、前記複数種類のＰＳが形成されている規則性ピッチがカラーフィルタのＲＧＢパターンピッチよりも大きい複数種類のＰＳ付きのカラーフィルタにおいて、前記複数種類のＰＳ付きのカラーフィルタをラインカメラで撮像し、その画像データをカラーフィルタのＲＧＢピッチにて比較処理を行うことで前記ＰＳの有無を検査することを特徴とするＰＳ検査方法を用いる。 （もっと読む）

【目的】短波長のパルス光源を用いた検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の検査装置１００は、パルス光を発生するパルス光源１５０と、フォトマスク１０１を載置するＸＹθテーブル１０２と、２次元配列された複数の受光素子を有し、複数の受光素子を用いてパルス光が照射されたフォトマスク１０１の２次元領域のパターン像を撮像する２次元センサアレイ１０５と、パターン像のデータを所定の参照パターンデータと比較する比較回路１０８と、を備え、ステージは、パルス光のパルス間に１画素の自然数倍の画素数だけずれるように移動することを特徴とする。本発明によれば、短波長のパルス光源を用いた場合でも検査時間の増大化を抑制すると共に光量誤差を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 ノイズの影響を簡便に低減させ、高画質で高品質の画像データを取得する多重スキャンによる画像取得方法、画像取得装置および試料検査装置を提供する。
【解決手段】 マスク１１が載置されたステージに対して、１次元画像センサのライン方向と交差するＸ方向の走行移動と、ライン方向であるＹ方向のステップ移動と、を繰り返して第１スキャン・・・第９スキャン・・・第ｎスキャンの多重スキャンを行い、１次元画像センサによりマスク１１の２次元画像データを取得する画像取得方法において、ステップ移動量を、１次元画像センサのライン方向の画素数からなるセンサ幅Ｗより小さくして、マスク１１の同一領域の画像を１次元画像センサのライン上の異なる画素で複数回撮像し、これ等の異なる画素で撮像して得た画像データを画素間演算し平均化処理あるいは比較処理する。 （もっと読む）

少なくとも１つの半導体光電池またはモジュールを製造し半導体材料を分類する方法（３００）が開示される。一実装形態（５００）において、この方法は、製造工程の複数の段階（３１２〜３２４）各々においてウェーハをルミネセンス撮像するステップと、同じウェーハに関する撮像ステップから獲得される少なくとも２つの画像を比較して製造工程によって誘起された障害の発生または増大を識別するステップと、を含む。所定の許容レベルを超えるプロセス誘起の障害が識別されまたは障害が修復され得る場合には、ウェーハは製造工程（３１０）から除去され（３５１〜３５６）、またはウェーハはその特性に適合する別の製造工程に渡される。別の実装形態において、この方法は半導体材料を分類するステップを含む。例えば、少なくとも２つのウェーハを用意し、各ウェーハのルミネセンス画像を獲得し、画像を比較してウェーハの電気的構造の類似性を判定し、所定のレベルの電気的構造の類似性を有するウェーハを同じ系統にグループ化する。本発明の方法は、様々な形の機械的、電気的、および外見上の異常を判定するのに適する。
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【課題】被検査物の顕著な欠陥などにより一時的にＰＭＴへの入射光量が過大となった際に、後続の正常な被検査物に対する異常判定を低減できる光学式検査装置、ピンホール検査装置、膜厚検査装置、および表面検査装置を提供する。
【解決手段】光学式検査装置は、被検査物に光を照射し、該被検査物を通過、透過もしくは反射した被検出光Ｐ２をＰＭＴ３により検出することによって被検査物を検査する装置であって、ＰＭＴ３からの出力電流Ｉを電圧信号Ｖ１に変換するＩ／Ｖ変換回路１１と、電圧信号Ｖ１から所定周波数より小さい低周波成分を抽出するローパスフィルタ回路１３と、ローパスフィルタ回路１３を通過した信号とローパスフィルタ回路１３を通過していない信号との差を出力する演算器１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】
光学的手法を用いて、被検査体面の長手方向に生じる微小凹凸状欠点を精度良く検出することを可能とする検査装置を提供すること。
【解決手段】
被検査体である連続走行しているシート状物の一面に高指向性の光照射手段、他面に受光手段を、光照射手段からの照射軸と受光手段の受光軸が被検査体で一致するように配設し、受光手段の開口角を光照射手段からの照射軸と受光手段の受光軸との角度θの２倍より小さくすることにより、受光手段で受光した透過光に基づいて、被検査体表面に存在する微小凹凸欠点を高精度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】撮像対象領域の設定を正確かつ効率良く行うとともに、必要以上の撮像が行われるのを防止できるようにする。
【解決手段】ワークＷの表面の凹凸欠陥を検査するのに先立ち、毎時の撮像対象領域を定めながら、その領域を撮像するのに必要なカメラ１の位置および撮像方向を設定する。この設定処理では、ワークの表面形状を三角平面の集合体として表したＣＡＤデータを用いて被検査面全体の法線方向ヒストグラムを作成し、そのヒストグラムから撮像中心点の法線方向に対する角度差が所定の許容値以内になる平面を抽出することにより、検査可能範囲を認識する。また、検査に必要な強度の反射光の進行方向のばらつきを示す角度を特定し、その角度に基づく値を許容値として設定することにより、検査可能範囲の認識精度を確保する。 （もっと読む）

本発明は印刷機内部で、特に枚葉紙印刷機内部で印刷された被印刷材料を測定技術によって認識するための方法に関する。当該方法において被印刷材料、特に印刷枚葉紙に印刷された印刷画線部の部分あるいは前記被印刷材料上の前記印刷画線部の外側に印刷された印刷管理用パッチがセンサを用いて測定技術によって認識され、前記被印刷材料上の前記センサの測定領域が測定用照明光源を用いて照明される。本発明により、前記測定領域を照明するための前記測定用照明光源と、前記印刷機の少なくとも一つの二次光源であって、当該二次光源の光が前記測定領域内に到達できる二次光源とは、前記測定用照明光源によって供給される光の周波数が単独のあるいは個々の前記二次光源によって供給される光の周波数よりも小さくなるように作動される。 （もっと読む）

【課題】必要性がますます増大している欠陥検出のための効率的な方法及びシステムを提供する。
【解決手段】対象物の初期走査に複数照明経路が対象物を同時に照射し；初期走査中に取得された検出信号に応答して対象物をセグメントにセグメント化し；各セグメントについて、セグメントの主材料及びセグメントの表面粗さレベルから選択された少なくとも１つのパラメータに応答して、セグメントの欠陥検出走査中に、活動状態にされるべき照明経路を選択し；対象物の各セグメントを、対象物の選択された照明経路のみによって照明し；当該照明するステップに応答して、欠陥を示す検出信号を発生する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク（マスク）の表面に透明粒子が散布されても、粒状物による影響なく、マスクの欠陥を正確に検出できる欠陥検査方法及び欠陥検査装置。
【解決手段】粒状物が散布されたマスクを照明する光源装置、マスクの透過光を受ける対物レンズ、対物レンズからの光を受けてマスクの透過画像を撮像する撮像装置を含むカメラヘッドとを用い、オートフォーカス機構（ＡＦ機構）により撮像装置のフォーカスを基準動作点に制御しながらマスクの透過画像を撮像し、撮像装置から出力されるビデオ信号に基づいて欠陥検出を行う。欠陥検査に先立ってＡＦ機構の基準動作点を設定する際、撮像装置のフォーカス点を対物レンズの光軸方向に変位させながら、マスクの透過画像を撮像する。また、粒状物の画像の輝度が周囲の画像の輝度とほぼ等しい輝度に移行するフォーカス点を検出する。最後に、検出されたフォーカス点をＡＦ機構のフォーカス位置の基準点に設定する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、試料の検査に用いられる検査システムの検出範囲を拡張する検査システムと方法に関する。一実施態様に準じ、検査システムは、散乱光を受け取り、出力信号に変換するように結合された複数のステージを有する光検出器と、少なくとも一つのステージを飽和させることで、それによって光検出器が非線形領域で作動するように強制し、光検出器の検出範囲（従って、検査システムの検出範囲）を拡張するように接続された電圧分割ネットワークを備え得る。このことは、光検出器が非線形的に作動することを強制する。しかしながら、測定の不正確さは、少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることで生成され得るあらゆる非線形効果を除去するように光検出器の出力を較正することで避けられる。一例に於いて、光検出器の出力を散乱光の実際量に変換するように較正中に値表を生成可能である。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の表面が平坦面でない場合にも表面欠陥の検出精度を高める。
【解決手段】周期的に変調された線状レーザ光の測定対象物２に対する照射位置を連続的にずらしながら、遅延積分型カメラ３０により測定対象物２からの反射光を撮像して光切断画像を出力し、測定対象物２の表面欠陥を検出する表面欠陥検査システムであって、カメラ３０で得られた光切断画像を順に配列することにより得られる縞画像の各位置における位相のずれを算出する位相算出部５０５と、位相算出部５０５で得られた位相のずれに基づいて位相のずれが不連続になっている位置を検出し、その検出した位置における位相のずれを繋ぐことにより位相のずれを連続化する位相連続化処理部５０６とを備え、位相連続化処理部５０６は、位相のずれを連続化する処理の後に、該連続化させた位相特性上における段差を検出して、その段差をなくす段差補正処理を更に施す。 （もっと読む）

【課題】周期的パターンを持つ検査対象を、画像のボケや劣化をほとんど生じさせることなくかつパターン周期とＣＣＤ分解能が接近した条件であってもモアレの影響なく検査および観察できる検査装置および観察装置を安価に提供する。
【解決手段】周期的パターンを持つ検査対象を光学的に検査する検査装置であって、検査対象の像を撮像する撮像素子と、少なくとも検査対象からの光を反射及び透過させて分割する光分離手段と、分割した光を導く導光手段と有することで、検査対象の二つの像を撮像素子に導く光学系と、前記検査対象の二つの像のうち少なくとも一方の像の撮像素子上での位置をずらす撮像位置ずらし手段と、を有する検査装置とする。 （もっと読む）