【課題】非接触で物体の厚さ、物性などの性状の値、或いはそれらの分布を同時に取得できる検査装置、検査方法を提供する。
【解決手段】物体検査装置は、物体２に電磁波を照射する照射手段９と、物体からの電磁波を検出する検出手段１０と、取得手段２６と、記憶手段２１と、演算手段２０を有する。取得手段は、検出手段による電磁波の検出時間に係る電磁波の伝搬時間と検出された電磁波の振幅とを取得する。記憶手段は、伝搬時間及び電磁波振幅と、物体の電磁波に対する性状の典型値との関係データを予め格納する。演算手段は、取得した伝搬時間及び電磁波振幅と格納した関係データとを用いて、物体２の厚さと性状の絶対値を求める。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置のチャンバあるいは搬送経路などの分析対象部に残留する物質を検出できる半導体装置の製造装置、残留成分の分析装置及び分析方法を提供する。
【解決手段】半導体製造のための所定の処理工程のために内部に基板が保持され、あるいは、処理工程の前後において内部に基板が搬送または収容される半導体装置の製造装置を構成する部分であり、内部における残留成分の分析対象となる分析対象部（１）と、分析対象部の内部に存在する残留成分から発せられる電磁波を受信する受信部５と、受信部で受信されて得られた信号を分光する分光部６とを有し、上記のように分光することにより、分析対象部の内部における残留成分を分析する。 （もっと読む）

【課題】Ｓ／Ｎ比の良好なテラヘルツ光のスペクトル測定を可能とする
【解決手段】テラヘルツ分光装置１は、テラヘルツ光を照射する光照射部２と、照射されたテラヘルツ光を用いて干渉光を生成し、この干渉光を試料ＳＰに照射する干渉光生成部３と、試料ＳＰを透過した干渉光を検出する検出部４とを備える。光照射部２は、テラヘルツ光の波長が変更可能に構成される。干渉光生成部３は、ビームスプリッタ４１と固定鏡４２と移動鏡４３を有し、ビームスプリッタ４１と、固定鏡４２及び移動鏡４３それぞれとの間の距離が変更可能に構成される。そして、テラヘルツ光の波長又は固定鏡４２の位置が変更される毎に、ビームスプリッタ４１と移動鏡４３との間の距離が所定範囲の間で変化するように移動鏡４３の位置を移動させながらテラヘルツ光を照射して、干渉光を検出部４で検出することによりインターフェログラムを測定する。 （もっと読む）

本発明によると、電場増幅のためのナノギャップデバイスであって、導電性の物質からなるフィルムと、前記フィルム上に形成され、前記電磁波及び前記導電性物質によって決定されるトーマス・フェルミ遮蔽長さと表皮深さの間の幅を有するナノギャップを含むことを特徴とする電場増幅のためのナノギャップデバイスおよびこれを用いたナノ粒子検出のためのシステムが提供される。 （もっと読む）

【課題】特定波長の先鋭性の高いテラヘルツ波発生手段を実現し、分解能に優れた分光装置を提供する。
【解決手段】本発明は、１ＧＨｚ以上の或る特定の波長領域の電磁波（テラヘルツ波）を可変的に発振可能な光源装置１と、該光源装置１から発振された電磁波に対して共鳴条件に合った特定波長の電磁波を反射光として選択的に反射させるチューナブル波長選択フィルタ３０１とを具備した分光装置であって、前記チューナブル波長選択フィルタ３０１は、光束が入射する側に一定周期の複数の溝構造を有しており、電磁波の入射角を光源装置１からの発振波長と連動させて可変可能な駆動手段３に、チューナブル波長選択フィルタ３０１が保持されている構成とした。 （もっと読む）

【課題】 優れた深さ空間分解能および空間分解能を有する赤外分光装置の提供
【解決手段】試料照射部および光検出器を具備した赤外顕微鏡であって、前記試料照射部が赤外線が照射されるための試料が載置される試料台、および前記試料に照射するための赤外線または試料を透過したもしくは試料から反射された赤外線を通過させるための小孔を有するプローブを試料が載置される部位の近傍に有することを特徴とする赤外顕微鏡装置。
（もっと読む）

【課題】表面特性を決定する方法および装置を提供すること。
【解決手段】解析されるべき表面（８）上に放射を放つ少なくとも第一の放射デバイス（３）と、該少なくとも１つの放射デバイス（３）によって放たれ、次いで、該表面（８）によって散乱および／または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および／または散乱された放射の特徴である少なくとも第一の測定信号を出力する少なくとも第一の放射検出デバイス（５）と、該少なくとも１つの放射デバイス（３）によって放たれ、次いで、該表面（８）によって散乱および／または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および／または散乱された放射の特徴である少なくとも第二の測定信号を出力する少なくとも１つのさらなる放射検出デバイス（７）とを備える、表面特性を決定する装置（１）。 （もっと読む）

システムは、観察物体内に励起エネルギーを送信するための送信機と、物体への送信励起エネルギーに応答して受信されるエネルギーをエンコードする投影空間データを生成するための検出装置と、投影空間データを生成するための送信機および受信機を制御するためのコントローラと、投影空間データを受信するための画像再構成装置であって、投影空間データと予測投影データの間の差を特徴づける第１の量を計算し、各インパルス応答が単位強度の参照ボクセルに対応する少なくとも１つのインパルス応答に対応する第２の量を計算し、第１の量および第２の量の反転関数を使ってアップデート値を計算し、アップデート値を使って観察物体を表す物体空間画像を再構成することによって投影空間データを処理するための画像再構成装置とを含む。
（もっと読む）

【課題】構造で回折したビームの位相差および振幅を、既知の位相変調器を使用することなく、また、過剰な追加ハードウェアを組み込むことなく、複数の波長レンジで測定することができるよう、スキャトロメータにエリプソメトリック機能を提供する。
【解決手段】システムは、基板の特性を決定するために、基板で回折する際に個々に偏光される２つのビームを測定するように構成されている。２つの直交偏光放射ビームのうちの一方の位相をもう一方のビームに対して変化させるために、円偏光源または楕円偏光源が固定位相リターダを介して引き渡される。２つの放射ビームの相対位相およびディテクタで測定されるビームの他のフィーチャによって基板表面の特性が得られる。 （もっと読む）

【課題】干渉計デバイス及び干渉法を開示する。
【解決手段】一実施形態において、デバイスは、第１の平均波長λ_LEの放射線を放射する電磁放射線源と、第１のアスペクト比を持つ位相格子と、第２のアスペクト比を持つ吸収格子と、検出器と、を備えている。電磁放射線源、位相格子、吸収格子、及び検出器は、放射線に関して互いに連結されている。吸収格子は、検出器と位相格子との間に配置されており、電磁放射線源は線源格子の前方に配置されており、位相格子は、放射された放射線において、Πよりも小さい位相シフトを生じさせるよう設けられている。 （もっと読む）

【課題】エタノール混合ガソリンに含まれる成分を非破壊かつ非接触で短時間に測定することができるエタノール混合ガソリンの成分分析装置および方法を提供する。
【解決手段】ミリ波・テラヘルツ波２の透過性の高い素材からなり、内部にエタノール混合ガソリン１を封入又は流通させる検査セル１２と、検査セルを透過するようにミリ波・テラヘルツ波を照射する照射装置１４と、検査セルを透過したミリ波・テラヘルツ波の強度を波数毎に分解して計測する分光光度計１６と、検査セルにおけるミリ波・テラヘルツ波の透過率又は吸収率を演算して成分を分析する演算装置１８とを備える。 （もっと読む）

製造工程中に材料のシートの繊維配向パラメータを求めるための装置２００が、少なくとも１×１０^８Ｈｚの周波数を有する偏光した放射を与えるように動作することができる被偏光放射生成システム２０１、２０２を備える。該偏光した放射は、特徴付けられる材料のシート２０３に入射するように位置合わせされる。偏光計２０４、２０５が、材料のシート２０３によって透過される放射を受信するように位置合わせされる。光検出器２０６が、偏光計による偏光処理後に受信される放射を測定するために提供される。プロセッサ２０７が、光検出器２０６に接続され、受信した放射の強度に基づいて、動いているシートのストークスパラメータを計算し、該ストークスパラメータに基づいて動いているシートの繊維配向に関連する少なくとも１つのパラメータを求める。
（もっと読む）

【課題】被検体の生体組織の状態を高精度かつ簡単に判定する測定装置を提供する。
【解決手段】それぞれが６００ｎｍ乃至１０００ｎｍの異なる波長を有する複数の種類の光を被検体Ｅに照射することによって、被検体Ｅの内部の分光特性を測定する測定部と、コラーゲンと脂肪を含む複数の構成要素の全体に対するコラーゲンと脂肪のそれぞれの割合を、各構成要素の吸収係数と前記測定部の測定結果から算出し、脂肪及びコラーゲンのそれぞれのフィッティング係数と生体組織の状態の関係と、算出されたコラーゲンの割合と脂肪の割合から前記被検体の生体組織の状態を判定する演算処理部１４と、演算処理部１４による処理の結果を表示する表示部１７と、を有することを特徴とする測定装置１００を提供する。 （もっと読む）

【課題】電磁波を用いて検査対象物の電磁波応答情報を平均的な情報として高速に取得することができる検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】電磁波２を用いる検査装置は、電磁波を発生して検査対象物１１に照射する電磁波発生・照射手段９と、複数の検出部を備える電磁波検出手段１０と、を有する。複数の検出部は、電磁波発生・照射手段で発せられ検査対象物１１の異なる部位と相互作用して透過または反射した電磁波を検出する様に配置され、且つ異なる部位からの電磁波を夫々異なる検出時間或いは検出周波数で検出する様に構成される。検査装置は、複数の検出部からの検出信号に基づいて、検査対象物１１の電磁波応答の情報を取得する。 （もっと読む）

【課題】細い金属線を枠体に長く平行に張ることによる金属線の切断や間隔の不揃いの問題、および基板や母材を用いてエッチング等で細線パターンにすることによる、基板や母材の多重反射や干渉などの問題がなく、製造が容易で低コストで高精度な電磁波偏光・検光用のワイヤーグリッドを得る。
【解決手段】ステンレスワイヤー１１を経糸、絹糸１２を緯糸とし、１本ずつ交互に交差させて織ることにより織物をなし、この織物を枠体２０に取り付けることによってワイヤーグリッド１００を構成する。ステンレスワイヤー１１のピッチは偏光・検光する波長に応じて定める。また、必要に応じて絹糸１２を除去する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で物質の周波数応答特性を測定可能な分光装置を提供することを課題とする。
【解決手段】所定の周波数の範囲で可変可能に電磁波の信号を発振する発振器１１と、発振した信号を信号１と信号２との２つに分配する分配器１２と、信号１を導波する導波管１３と、先の所定の周波数よりも小さい周波数特性を有する窓を長手方向側面に備え、この窓を介して測定対象となる物質を装填し、信号２を導波する窓付導波管１４と、窓付導波管１４の短手方向に形成され、装填された物質が窓付導波管１４から流出することを封じる封止材１５，１６と、導波管１３を介して導波された信号１を受信し、この信号１の受信強度を測定する第１受信器１７と、窓付導波手段を介して導波された信号２を受信し、この信号２の受信強度を測定する第２受信器１８と、第１受信器１７と第２受信器１８とで測定された受信強度の差分を計算するデータ処理部１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】密閉部品が実際に使用されるのと同じ環境で、密閉部品の漏れ検査ができ、密閉部品に生じている複数の漏れ箇所を特定でき、コストが低く、電磁波を用いて非破壊で検査可能な、密閉部品の漏れ検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明の密閉部品の漏れ検査装置１０は、密閉空間（２３）を有する密閉部品（２０）の該密閉空間（２３）が、所定の漏れ物質に対して漏れを有するのかを検査する装置であって、密閉部品２０の形成材料を透過し且つ漏れ物質に吸収される波長を有する電磁波Ｌを、密閉部品２０に照射する照射部１１と、密閉部品２０を透過したか、または、該密閉部品２０の表面から反射した電磁波Ｌを検出して電気信号に変換する検出部１５と、この電気信号から漏れ物質の漏れ量を演算する演算部１６と、上記漏れ量を用いて、密閉部品２０の漏れの良否を判定する判定部１７と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 テラヘルツ電磁波が全反射するプリズムと試料界面の近傍に存在する試料のスペクトル測定が可能であり、またテラヘルツ領域における試料の複素屈折率を測定することも可能であるテラヘルツ分光手法および装置を提供すること。
【解決手段】 テラヘルツ周波数における全反射減衰分光測定法及び装置は、テラヘルツ電磁波が全反射する際に生じるテラヘルツ周波数を有する表面波（エバネッセント波）を利用する。装置はポンプビーム及び信号ビームの２つの励起レーザをテラヘルツ電磁波発生用光学結晶へ入射しテラヘルツ電磁波を発生するテラヘルツ電磁波光源部と、テラヘルツ電磁波を入射してエバネッセント波を発生するためのプリズムとを有する構成とした。 （もっと読む）

Ｘ線又は他の放射ビームを使用した物体の検査の技術、特に、符号化放射ビームを用いて物体を照明し、物体によって散乱された及び／又は物体を通して伝達された放射線を検出することによって物体を検査するための装置及び方法を提供する。物体を検査するための装置は、物体の被検査領域を照明するために扇ビーム又はフラッドビームを利用する。可動マスクの形態を取ることができる変調器は、被検査領域の各セグメントが所定の時間的シーケンスに従って変動する放射線量を受け取るようにビームを動的に符号化する。物体からの放射線を受け取る後方散乱検出器又は任意的な透過検出器によって生成され得られる信号は、被検査領域の画像を構成することができるように、空間情報を再生するために復号される。 （もっと読む）

【課題】スループット時間を大幅に増加させることなく、ＴＩＳおよび／または瞳面の中心を求める際のエラーを補償し、或いは、軽減する方法および装置を提供する。
【解決手段】スキャトロメータの非対称性を測定する方法において、ターゲット部分を、第一には０°の基板回転で、第二には１８０°の基板回転で、２回照明する。これらの像の一方を回転し、次に回転したその像を他方の像から引く。この方法で、スキャトロメータの非対称性を補正することができる。 （もっと読む）