【課題】テラヘルツ領域の、改良された多チャネル光学セルを提供する。
【解決手段】視野反射鏡１２と複数の対物反射鏡対１４，１６とを含むデュアルチャネル光学セル１０は、複数の光源ポート２０および検出器ポート２２の対を含み、各光源ポートは放射線ビーム２４を通すように構成されていて、各検出器ポートは放射線ビームを受信するように構成されている。各対の光源ポートおよび検出器ポートは、視野反射鏡の光軸がそれぞれ光源ポートおよび検出器ポートの間にあるように視野反射鏡の外側エッジに近接して配置されている。各対物反射鏡と光源ポートおよび検出器ポートの各対は光源ポートおよび検出器ポートの各対が別個のチャネルを形成する各対物反射鏡対に関連付けられるように配置されていて、各チャネルの光源ポートおよび検出器ポートの対ならびに関連付けられた対物反射鏡対の各中心は、それぞれ別個の面内に位置する。 （もっと読む）

【課題】量子効率の測定時における再励起（二次励起）に起因する誤差を低減できる量子効率測定方法、量子効率測定装置、およびそれに向けられた積分器を提供する。
【解決手段】本実施の形態に従う光学測定装置は、分光測定器５０と、測定対象の光を伝搬するための入射側ファイバ２０と、内壁に光拡散反射層１ａを有する半球部１と、半球部１の開口部を塞ぐように配置された、半球部１の内壁側に鏡面反射層２ａを有する平面部２とを含む。平面部２は、入射側ファイバ２０を通じて射出される光を半球部１と平面部２とにより形成される積分空間内へ導くための入射窓５と、出射窓６を通じて積分空間内の光を分光測定器５０へ伝搬するための出射側ファイバ３０を含む。 （もっと読む）

【課題】製作性に優れるとともに安定したセンシングを可能とすることができる流路チップを提供する。
【解決手段】流体を流すための流路１１を備えた流路チップ１であって、光を透過可能な材料からなり、流路１１を形成するための溝が形成された基板２と、光を透過可能な材料からなり、感圧型接着剤により基板２に貼り付けられて溝を封止するフィルム３と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】励起光の反射抑制と光伝導層の高抵抗化を実現した光伝導素子を提供することである。
【解決手段】光伝導素子１００は、化合物半導体結晶からなる光伝導層１０２と、光伝導層の上に配置された２つ以上の電極１０３を少なくとも備える。光伝導層１０２は、光による光励起キャリアが発生するキャリア発生部１０４と、キャリア発生部１０４の表面に電気的に接続され幅とピッチがλ未満（λ：前記光の波長）の複数の突起構造１０６を含み構成される表面部１０１を有する。 （もっと読む）

【課題】波形の拡大表示を操作性よく行うことができ、且つ、拡大表示された波形が拡大前の波形のどの範囲のものであるかを判断しやすい分析データ解析装置を提供する。
【解決手段】波形表示手段１１により分析装置で取得されたデータを表示部に波形として表示し、その表示の或る位置がオペレータにより選択されると、範囲設定手段１２によりその位置を含む基準範囲２７を設定し、拡大表示手段１３により基準範囲２７と重ならない表示部の領域に基準範囲２７を拡大したポップアップウィンドウ２３を表示する。これにより、オペレータは拡大前後の波形を同時に視認することができ、ポップアップウィンドウ２３の波形がメインウィンドウ２１の波形のどの領域を拡大したものであるかを判断しやすい。 （もっと読む）

【課題】試料の形態的診断に影響を与えることなく、迅速に分子レベルの情報に基づく検査を行う。
【解決手段】試料を複数の部分的な小領域に区画して、各小領域の拡大明視野画像を取得するとともに、取得された各小領域の拡大明視野画像を貼り合わせて全体画像を生成するバーチャルスライドを用いた検査方法において、１以上の拡大明視野画像内の１以上の位置を指定する位置指定ステップＳ９と、該位置指定ステップＳ９において指定された位置にレーザ光を入射させて、試料の振動スペクトルを取得する分光ステップＳ１２と、該分光ステップＳ１２において取得された試料の振動スペクトルを解析する解析ステップＳ１３とを含むバーチャルスライド検査方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体のような試料の表面特性を測定するためのシステムに関し、自己較正機能を備えたエリプソメータを提供する。
【解決手段】照会用放射ビーム１１を試料２０に照射する前および後に、前記ビームの偏光を変調するために２つの位相変調器または偏光要素が用いられる。試料からの変調放射が検出され、検出された信号から解析器２６までの高調波が導出する。解析器２６までの高調波は、固定偏光要素、円形減衰補償、偏光要素の偏光解消および位相変調器のリターダンスなどのエリプソメトリックパラメータおよびシステムパラメータを導出するために用い得る。自己較正エリプソメータならびに組合わせシステムは、膜厚および試料により引き起こされた放射の偏光解消さなどの試料特性を測定するために用い得る。 （もっと読む）

【課題】安価で耐久性のある偏光子アレイ、偏光センサー、およびそれを用いた偏光解析装置を提供する。
【解決手段】偏光回折格子アレイは、常光屈折率がｎoであり異常光屈折率がｎeである複屈折を有する光学媒質１２と、屈折率がｎoあるいはｎeである等方性媒質１３とが周期的に交互に配列され、常光偏光及び異常光偏光のいずれか一方のみを回折させる複数の偏光回折格子１１を備える。複数の偏光回折格子１１は、複屈折を有する光学媒質と等方性媒質とが交互に配列された方向が少なくとも２種類以上存在するように同一面内に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＣＮＴ懸濁液あるいはＣＮＴ薄膜の単分散性を効率的に評価でき、定量評価が可能な評価方法がなかった。
【解決手段】分散媒にＣＮＴ（カーボンナノチューブ）を分散させたＣＮＴ懸濁液又は該ＣＮＴ懸濁液を基板表面に施して形成したＣＮＴ分散薄膜に対して、入射光として紫外線を照射し、該ＣＮＴ懸濁液からの透過光又は該ＣＮＴ分散薄膜からの反射光から吸光度を計算して、該ＣＮＴ懸濁液又は該ＣＮＴ分散薄膜のＣＮＴの単分散性を評価する方法であって、吸光度から吸光曲線を求める工程と、該吸光曲線において２つの特定のエネルギーレベルを中心とした２箇所の吸収ピークの強度をそれぞれ抽出する工程と、該２箇所の吸収ピークの強度比を計算する工程と、を含むことを特徴とする、ＣＮＴの単分散性を評価する評価方法。 （もっと読む）

【課題】本発明はチタンホワイトの生産過程で灰色変化点を判断する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の方法は、含チタン溶液の透光度の変化を測定することによって加水分解含チタン溶液の灰色変化点を判断することを特徴とする、チタンホワイトの生産過程で灰色変化点を判断する方法である。本発明では、加水分解含チタン溶液の透光度の急降下する転換点又は加水分解含チタン溶液の透光度の一次導関数の極値点が含チタン溶液の灰色変化点であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第２の特徴とする （もっと読む）

【課題】検査対象物の透過光の特性を利用して検査を行う技術を提供する。
【解決手段】本発明は、生物の光の透過特性に基づいて検査を行う生物検査装置５０を提供する。本生物検査装置５０は、生物に照射光を照射する照射部１１と、照射光が生物を透過した光である透過光を受光する受光部１２と、透過光のスペクトルＤｓの波形に基づいて良品と不良品とを含む複数の分類のいずれであるかを判定する判定部３０と、を備える。判定部３０は、良品の透過光のスペクトルの波形の特徴である良品特徴と、不良品の透過光のスペクトルの波形の特徴である不良品特徴と、の少なくとも一方を使用して判定を行う。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成した薄膜の物性を非破壊かつ高精度で測定することができる物性測定装置、物性測定方法、薄膜基板製造システム及びプログラムを提供する。
【解決手段】基板Ｋ表面に形成された薄膜Ｈの物性を測定する物性測定装置において、テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生源と、基板Ｋ表面に薄膜Ｈが形成された成膜領域Ｆ及び該基板Ｋ表面に薄膜Ｈが形成されていない非成膜領域Ｎに、テラヘルツ波発生源からのテラヘルツ波が照射されるように、基板Ｋ及び薄膜Ｈを移動する移動手段と、成膜領域Ｆ及び非成膜領域Ｎからの透過波又は反射波の電場強度を複数回検出する検出手段と、検出手段が複数回検出した透過波又は反射波の電場強度を積算する積算手段と、積算手段が積算した透過波又は反射波の電場強度の時間変化を測定する測定手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】感度の高い観察を行なうこと。
【解決手段】観察対象である観察面１４を保持する第１部品１２と、観察面１４から離間して設けられた金属粒子１６を保持する第２部品１８と、光２４を前記第１部品１２または前記第２部品１８を介し前記観察面１４に照射する照射部２０と、前記観察面１４を反射または透過した前記光から前記観察面１４の状態を観察する観察部２２と、を具備し、前記第１部品１２および前記第２部品１８は、前記観察面１４および前記金属粒子１６が前記光２４の電磁場内となるように、前記観察面１４および前記金属粒子１６を保持することを特徴とする観察装置。 （もっと読む）

【課題】高抵抗な光伝導素子を提供することである。
【解決手段】光伝導素子は、励起光（４）の照射により光励起キャリアを発生する半導体材料からなる光伝導層（２）と、光伝導層（２）に配置された複数の電極（３）を有する。光伝導層（２）の材料は、光伝導層に生ずる空乏層（６）の厚さが励起光（４）の波長における光伝導層（２）の光学吸収長より小さい材料である。光伝導層（２）の膜厚は、光伝導層の複数の電極（３）の間の少なくとも一部分において空乏層（６）が膜厚方向全体に達する様に調整されている。 （もっと読む）

サンプルの少なくとも１つの部分に関連づけられたデータを生成することができるシステム及び方法の例示的実施形態を提供する。例えば、少なくとも１つの光学構成を介して少なくとも１つの第１の放射線を当該部分へ送ることができる。第１の放射線に基づく少なくとも１つの第２の放射線を当該部分から受けることができる。光学構成と、第１の放射線及び／又は第２の放射線との間の相互作用に基づいて、光学構成が第１の伝達関数を有することができる。また、このような光学構成を介して（又は別の光学構成を介して）当該部分へ少なくとも１つの第３の放射線を送り、第３の放射線に基づく少なくとも１つの第４の放射線を当該部分から受けることができる。光学構成（又は別の光学構成）と、第３の放射線及び／又は第４の放射線との間の相互作用に基づいて、光学構成（又は別の光学構成）が第２の伝達関数を有することができる。第１の伝達関数は、第２の伝達関数とは少なくとも部分的に異なることができる。第２及び第４の放射線に基づいてデータを生成することができる。 （もっと読む）

【課題】 サンプル信号スキャンを受け取りかつ処理するステップを含む方法が提供される。
【解決手段】 このサンプル信号スキャンを処理するステップには、内積演算をサンプル信号スキャンと複数の固有ベクトルのそれぞれに適用して、複数の対応する係数を発生するステップ、及びこのサンプル信号スキャンを固有ベクトルと対応する係数との１次結合から減算して、これにより補正されたサンプル信号スキャンを発生するステップが含まれる。この点で、複数のバックグラウンド基準信号スキャンを特異値分解技術に基づいて分解することによって、固有ベクトルが発生される。信号スキャンには、周波数の別個のセットにおける複数の電磁信号測定値が含まれる。ここで、電磁信号がベース媒体だけを含む（バックグラウンド基準信号スキャン用）、又はベース媒体とサンプル媒体との両方を含む（サンプル信号スキャン用）サンプル・セルを通過する分光計システムによって取得される。 （もっと読む）

【課題】極薄い液体セル、プリズム光学系、およびシリコンロッドなどを用いずに、テラヘルツ波に対して大きな吸収を有する物質のテラヘルツ透過スペクトル測定を良好に行うことを可能にする。
【解決手段】基板１０を貫通する複数の孔部（空孔１２）と、基板１０において、入力端１１と出力端１３との間でテラヘルツ波が伝搬されるように、周囲が複数の孔部に囲まれることによって形成されたフォトニック結晶型の導波路１４とを備える。被測定対象物を収容するための収容部１５を、導波路１４の周囲において、導波路１４を伝搬するテラヘルツ波がエバネッセント波として伝搬する領域を含む領域に形成する。 （もっと読む）