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Fターム[2G059JJ13]の内容

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【課題】発生するテラヘルツ波を比較的高いスピードで変調することが可能な電気光学結晶を含むテラヘルツ波発生素子などを提供する。
【解決手段】テラヘルツ波発生素子の一例は、光を伝播させる電気光学結晶4を含む導波路と、導波路を伝播する光から発生するテラヘルツ波を空間に取り出す光結合部材7と、少なくとも2つの電極6a、6bを備える。電極6a、6bは、導波路に電界を印加することにより、電気光学結晶4の1次電気光学効果により導波路を伝播する光の伝播状態に変化を与える機能を有する。導波路の電気光学結晶4の結晶軸は、2次非線形過程により発生するテラヘルツ波と導波路を伝播する光との位相整合が取れる様に設定される。 (もっと読む)


【課題】試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを同時、または、短時間のうちに行うことができる観察装置を提供する。
【解決手段】観察装置1は、電気光学結晶6と、試料Aに向けてテラヘルツ波Lを照射し、試料Aを透過するテラヘルツ波Lを電気光学結晶6に結像させるテラヘルツ波照射光学系4と、電気光学結晶6に向けて近赤外光Lを照射する近赤外光照射光学系5と、電気光学結晶6を透過することによって状態変化した近赤外光Lを検出する近赤外光検出系7と、励起光Lの照射により試料Aで発生した蛍光を検出する蛍光検出光学系9とを備える。テラヘルツ波Lの照射領域と近赤外光L照射領域は、少なくとも一部が電気光学結晶6内で重なり、蛍光検出光学系9は、試料A上のテラヘルツ波Lが照射された領域と少なくとも一部が重なった領域から出射した蛍光を検出するように構成される。 (もっと読む)


【課題】 光源の波長掃引が高精度で安定して行ない得ない場合に生じる断層画像の位置精度の低さを解消し、優れた画像を安定的に取得できるOCT装置を提供する。
【解決手段】 発振周波数を掃引可能な光源部と、光を測定物に照射するための測定部と、参照用に前記光源部より光を照射する参照部と、前記測定部からの反射光と前記参照部からの反射光とを干渉させる干渉部と、干渉信号を検出する光検出部と、断層画像を得るための信号処理を行なう信号処理部と、を有する光干渉断層撮像装置であって、
前記信号処理部は、ビート周波数を検知して前記信号処理を行なうものであり、前記光源部に接続された前記発振周波数の掃引速度を検出するための掃引速度検出部を有し、該掃引速度検出部で得られた信号を前記信号処理部に供給する光干渉断層撮像装置。 (もっと読む)


【課題】一つの光検出器でフーリエ変換により断層像を構築するOCT装置を提供すること。
【解決手段】OCT装置を構成する干渉計の後段に、前記第1の結合光パルス(干渉光パルス)に対して第2の結合光パルス(干渉光パルス)を所定の遅延時間遅らせた後、前記第1の結合光パルスと前記第2の結合光パルスを合流して、前記第1の結合光パルスと前記第2の結合光パルスを交互に出射する光パルス時分割多重化ユニットを設けること。 (もっと読む)


【課題】容器の位置及び姿勢が所定の位置及び姿勢からずれ難い容器トレー、該容器トレーと共に使用されるトレーベース、及び観察ユニットを提供する。
【解決手段】本発明に係る容器トレー8は、容器7が載置されるべき載置面811を有する載置板81と、弾性体82と、付勢機構とを具えている。ここで、弾性体82は、載置板81の載置面811の内、容器7が載置されるべき載置領域Rの周囲に設置されている。付勢機構は、弾性体82の周囲に設置されて、該弾性体82に対して外側から押圧力を付与することにより弾性体をその内側へ付勢した付勢状態と、該弾性体82への付勢を解除した付勢解除状態との間で状態を変更することが可能である。そして、付勢機構が付勢解除状態に設定されているとき、弾性体82は、容器7の載置領域Rとの間に僅かな隙間を有する。本発明に係る観察ユニットは、上記容器トレー8と、該容器トレー8が設置されるトレーベース9とを具えている。 (もっと読む)


【課題】断層像の重なりの影響を抑制したOCT装置を提供すること。
【解決手段】時間と共に離散的に変化する中心波長を中心として、波長が振動する単一波長レーザ光を発生する波長可変レーザ光発生ユニットと、前記単一波長レーザ光を参照光と測定光に分岐し、前記測定光を測定対象に照射して後方散乱光を発生させ、前記後方散乱光と前記参照光を結合して干渉光を生成する干渉計ユニットと、前記干渉光の強度を測定し、前記波長が振動する夫々の期間における前記強度の時間平均と前記中心波長の関係に基づいて前記測定対象の断層像を導出する断層像導出ユニットとを有するオプティカル・コヒーレンス・トモグラフィー装置。 (もっと読む)


【課題】励起光の反射抑制と光伝導層の高抵抗化を実現した光伝導素子を提供することである。
【解決手段】光伝導素子100は、化合物半導体結晶からなる光伝導層102と、光伝導層の上に配置された2つ以上の電極103を少なくとも備える。光伝導層102は、光による光励起キャリアが発生するキャリア発生部104と、キャリア発生部104の表面に電気的に接続され幅とピッチがλ未満(λ:前記光の波長)の複数の突起構造106を含み構成される表面部101を有する。 (もっと読む)


【課題】半導体のような試料の表面特性を測定するためのシステムに関し、自己較正機能を備えたエリプソメータを提供する。
【解決手段】照会用放射ビーム11を試料20に照射する前および後に、前記ビームの偏光を変調するために2つの位相変調器または偏光要素が用いられる。試料からの変調放射が検出され、検出された信号から解析器26までの高調波が導出する。解析器26までの高調波は、固定偏光要素、円形減衰補償、偏光要素の偏光解消および位相変調器のリターダンスなどのエリプソメトリックパラメータおよびシステムパラメータを導出するために用い得る。自己較正エリプソメータならびに組合わせシステムは、膜厚および試料により引き起こされた放射の偏光解消さなどの試料特性を測定するために用い得る。 (もっと読む)



【課題】大型化及び作業性を低下させることなく、高い画像品質を維持することができる画像形成装置を提供する。
【解決手段】 プリンタ制御装置は、第1の基準受光量Ds1、第2の基準受光量Ds2、及びそれぞれ0以上で1以下の係数αとβを用いて、矩形パターン毎に、該矩形パターンで反射された光を受光した受光部の受光量をα×Ds1+β×Ds2で表し、該矩形パターンで反射された光を受光した受光部の受光量の実測値と第2の基準受光量Ds2とから係数βを算出し(ステップS419)、該算出された係数βと該矩形パターンで反射された光を受光した受光部の受光量の実測値と第1の基準受光量Ds1とから係数αを算出する(ステップS421)。 (もっと読む)


本発明の態様は、部分的に、電磁放射光源および干渉原理を用いる光干渉断層撮影システムなどのデータ収集システムにおける強度および/またはパターンライン雑音の低減のための方法、装置、およびシステムに関する。1つの実施形態において、雑音は強度雑音またはパターンライン雑音であり、光源は掃引レーザーなどのレーザーである。1つの実施形態においては、アナログまたはデジタルフィードバックネットワークと併せて、1つ以上の制御信号に応答する1つ以上の減衰器を用いることができる。
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【課題】光学系の調整が容易で、かつ装置全体を小型化することができる光学的測定装置及び光学的測定方法を提供する。
【解決手段】流路内を通流する試料に励起光5を照射する光照射部2と、励起光5が照射された試料から発せられた蛍光6及び散乱光7を、励起光5の進行方向前方側で検出する光検出部4とを有する光学的測定装置において、検出部4に、散乱光7を、特定の開口数以下の低開口数成分と、それよりも開口数が高い高開口数成分とに分離するNA分離マスク45と、このNA分離マスク45上に対物レンズ40の瞳と共役面を形成するリレーレンズ系(レンズ43a,43b)と、低開口数成分を検出する散乱光検出器49と、高開口数成分を検出する散乱光検出器47を設ける。 (もっと読む)


【課題】 所望の波長範囲で、安定的に発振可能で且つ高速に波長掃引可能な光源装置を提供する。
【解決手段】 発振波長を連続的に変化可能な波長掃引光源装置であって、共振器内に、光を増幅させる光増幅媒体と、該光増幅媒体より放出される光を波長に応じて分散させる第一の手段と、第一の手段により分散した波長の異なる光束同士を平行化させる非集光光学素子で構成された第二の手段と、第二の手段により平行化した光束から所定波長の光束を選択する選択手段と、を備え、前記選択手段により選択された前記所定波長の光束を前記光増幅媒体に帰還させる波長掃引光源装置。 (もっと読む)


【課題】コンクリート構造物の内部状態を効率良く非破壊検査する検査線発生装置を提供する。
【解決手段】フェムト秒レーザパルスを発生するフェムト秒レーザ発生装置1aと、該フェムト秒レーザ発生装置1aから入射したフェムト秒レーザパルスを第1の方向あるいは第2の方向に択一的に出射する可動ミラー1bと、該可動ミラー1bによって第1の方向に出射したフェムト秒レーザパルスをテラヘルツ光に変換し、検査線として外部に出射する光伝導アンテナ1jと、上記可動ミラー1bによって第2の方向に出射したフェムト秒レーザパルスに基づいて所定元素のイオン線を発生するイオン線発生器1nと、該電子線発生器1nから入射したイオン線に基づいて中性子線を発生し、検査線として外部に出射する中性子線発生器1sとを具備する検査線発生装置により、効率的な非破壊検査が可能となる。 (もっと読む)


【課題】ショットキー接合部に光照射してテラヘルツ波を発生または検出するタイプの、テラヘルツ波発生効率及び検出効率を向上させた光素子を提供する。
【解決手段】光素子は、光のフォトンエネルギーよりも大きいエネルギーバンドギャップを持つ半導体層2と、半導体層2と電気的に接触した複数の電極3を備える。電極3のうち少なくとも1つは、半導体層2との間に光6のフォトンエネルギー以下の障壁高さを持つショットキー接合を形成する。ショットキー接合を形成する電極3と半導体層2との接合面の少なくとも一部は、電極3の形成されていない半導体層2の面側から光3が照射される光照射面を含み、且つ光3の照射により発生または検出するテラヘルツ波7と結合する結合構造体の構成部分となっている。 (もっと読む)


【課題】 平面、円筒、自由形状を含む各種形状の基板の外面および内面上に施したDLC薄膜の膜厚と屈折率を近赤外光を用いて精度良く測定することを目的とする。
【解決手段】 グラファイト成分を含むダイアモンド状カーボン薄膜が半透明な波長域の近赤外光を光源として利用することを特徴として垂直反射干渉スペクトル計測によって膜厚と屈折率の積を求める。
また、干渉測定する対象試料の同一点の屈折率を同一光源を用いて、傾斜入反射測定計で反射物質の屈折率のみで決まるブリュースター角を測定することで、屈折率を決定する。結果として、正確な膜厚が求まる。 (もっと読む)


【課題】 被検体と非接触で被検体の立体形状を測定することができるコモンパス型の測定システムを提供することを目的とする。
【解決手段】 測定システム(100A)は測定ビーム(L1)と測定ビームに対して基準となる基準ビーム(L2)とを出射する光源部11と、被検物体に隣接して配置され、基準ビームを反射させ測定ビームを被検物体へ透過させる平板状の参照素子(13)と、被検物体で反射された測定ビームと参照素子で反射された基準ビームとが干渉した干渉ビームを各波長に分光する分光素子(20)と、分光素子で分光された各波長を検出する検出部(24)と、光源部から被検物体および分光素子を介して検出部に至る測定ビームの光路長と、光源部から参照素子および分光素子を介して検出部に至る基準ビームの光路長とを揃える迂回路を有する測定光学系(12)を備える。 (もっと読む)


【課題】従来テラヘルツ帯の光学素子として用いられているワイヤグリッド偏光板は、非常に高価であり、しかも破損しやすいので使用や保管の条件に制限があった。また、基材や母材を用いるワイヤグリッドや、グリッドに直交する横桟部を設けたワイヤグリッドでは光学性能に問題があった。
【解決手段】樹脂基材と、前記樹脂基材上に形成された樹脂皮膜と、前記樹脂皮膜上に形成された金属ワイヤとを包含するワイヤグリッド偏光板であって、前記樹脂皮膜は、高さが0.01μm〜20μmであり、少なくとも一方向のピッチが0.01μm〜20μmの範囲である規則的な凸凹構造を表面に有し、厚みが0.01μm〜3μmの光硬化性の成形体であって、0.5THz〜1.5THzの帯域における消光比が20dB以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成した薄膜の物性を非破壊かつ高精度で測定することができる物性測定装置、物性測定方法、薄膜基板製造システム及びプログラムを提供する。
【解決手段】基板K表面に形成された薄膜Hの物性を測定する物性測定装置において、テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生源と、基板K表面に薄膜Hが形成された成膜領域F及び該基板K表面に薄膜Hが形成されていない非成膜領域Nに、テラヘルツ波発生源からのテラヘルツ波が照射されるように、基板K及び薄膜Hを移動する移動手段と、成膜領域F及び非成膜領域Nからの透過波又は反射波の電場強度を複数回検出する検出手段と、検出手段が複数回検出した透過波又は反射波の電場強度を積算する積算手段と、積算手段が積算した透過波又は反射波の電場強度の時間変化を測定する測定手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】周波数可変量に依存することなく測定対象物の深さ方向の分解能を向上させることが可能な光断層撮影装置及び光断層撮影方法を提供する。
【解決手段】発光周波数fを時間とともに変化させることが可能な可変周波数光源12と、発光した光を参照光と照射光とに分岐し、測定対象物20において反射した反射光と前記参照光との干渉光を形成する干渉光学系と、前記干渉光を受光して光量信号に変換する受光素子22と、前記光量信号を時系列で数値化した光量値Iiを目的変数とし、測定対象物20において光が反射した屈折率変化位置d、光の反射率r1及び反射時の位相変化φを説明変数とした回帰分析を行って屈折率変化位置dを推定する回帰分析手段(制御手段90)とを備える。 (もっと読む)


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