説明

観察装置

【課題】試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを同時、または、短時間のうちに行うことができる観察装置を提供する。
【解決手段】観察装置1は、電気光学結晶6と、試料Aに向けてテラヘルツ波Lを照射し、試料Aを透過するテラヘルツ波Lを電気光学結晶6に結像させるテラヘルツ波照射光学系4と、電気光学結晶6に向けて近赤外光Lを照射する近赤外光照射光学系5と、電気光学結晶6を透過することによって状態変化した近赤外光Lを検出する近赤外光検出系7と、励起光Lの照射により試料Aで発生した蛍光を検出する蛍光検出光学系9とを備える。テラヘルツ波Lの照射領域と近赤外光L照射領域は、少なくとも一部が電気光学結晶6内で重なり、蛍光検出光学系9は、試料A上のテラヘルツ波Lが照射された領域と少なくとも一部が重なった領域から出射した蛍光を検出するように構成される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、細胞など生体関連物質を観察するための観察装置に関する。
【背景技術】
【0002】
生体関連物質などのセンシング技術として、従来、テラヘルツ波を使用したセンシング技術が知られている(例えば、非特許文献1参照)。このセンシング技術は、試料を透過したテラヘルツ波が、試料の成分分布に応じた強度分布を有することを利用している。
【0003】
例えば、非特許文献1では、試料を透過したテラヘルツ波を、結像用レンズを用いて、電気光学結晶に結像させ、この電気光学結晶上に複屈折の分布を生じさせる。さらに、試料と電気光学結晶との間に配置したダイクロイックミラーを用いてテラヘルツ波と同一光路上に近赤外光を導光し、上述の電気光学結晶に照射する。これによって、近赤外光が電気光学結晶を透過する際に、複屈折の屈折率分布による変調を受ける。そこで、非特許文献1では、変調された近赤外光を検出することによって、試料の成分分布を撮影している。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】西澤潤一郎著、「テラヘルツ波の基礎と応用」、株式会社工業調査会発行、2005年4月1日、p.160−161
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、細胞などの試料を観察する場合、テラヘルツ波による観察(以下、テラヘルツ波観察とも呼ぶ)のみでは、情報が不十分な場合がある。そこで、他のセンシング方法、とくに、蛍光顕微鏡など可視光による観察(以下、可視光観察とも呼ぶ)も併用できれば、取得できる情報が増え、観察の精度が向上する。しかし、テラヘルツ波による観察装置から、顕微鏡装置など他の観察装置に試料を移し変えて、順次観察を行うと、試料上での観察位置のずれや、経時変化等の問題が生じ得る。
【0006】
したがって、これらの点に着目してなされた本発明の目的は、試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを同時、または、短時間のうちに行うことができる観察装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記目的を達成する請求項1に係る観察装置の発明は、
光学結晶と、
試料に向けて第1の電磁波を照射し、該照射により試料を透過する光を前記光学結晶に結像させる第1の照射系と、
前記光学結晶に向けて第2の電磁波を照射する第2の照射系と、
前記光学結晶により変調された前記第2の電磁波を検出する検出系と、
前記試料の可視光観察光学系とを備え、
前記第1の電磁波は、パルス状のテラヘルツ波であり、
前記第2の電磁波は、前記テラヘルツ波よりも波長が短いパルス状の電磁波であり、
前記第1の電磁波の照射領域と前記第2の電磁波の前記照射領域との少なくとも一部が前記光学結晶内で重なるように、前記第1の照射系と前記第2の照射系とが配置され、且つ、
前記可視光観察光学系は、前記試料上の前記第1の電磁波が照射された領域と少なくとも一部が重なった領域を観察するように構成されたことを特徴とするものである。
【0008】
上記目的を達成する請求項2に係る観察装置の発明は、
試料を載置する載置面を有する光学結晶と、
該光学結晶に向けて第1の電磁波を前記載置面側から照射する第1の照射系と、
前記光学結晶に向けて第2の電磁波を照射する第2の照射系と、
前記光学結晶により変調された前記第2の電磁波を検出する検出系と、
前記試料の可視光観察光学系とを備え、
前記第1の電磁波は、パルス状のテラヘルツ波であり、
前記第2の電磁波は、前記テラヘルツ波よりも波長が短いパルス状の電磁波であり、
前記検出系は、その合焦位置が前記光学結晶内の前記載置面近傍と一致するように配置され、
前記第1の電磁波の照射領域と前記試料を透過した前記第2の電磁波の照射領域との少なくとも一部が前記光学結晶内で重なるように、前記第1の照射系と前記第2の照射系とが配置され、且つ、
前記可視光観察光学系は、前記試料上の前記第1の電磁波が照射された領域と少なくとも一部が重なった領域を観察するように構成されたことを特徴とするものである。
【0009】
請求項3に係る発明は、請求項2に記載の観察装置において、
前記光学結晶を載置する載置ユニットを備え、
該載置ユニットを、前記試料を前記検出系による観察を行う第1の観察状態と、前記可視光観察光学系による観察を行う第2の観察状態との間で、切替え可能に構成したことを特徴とするものである。
【0010】
請求項4に係る発明は、請求項3に記載の観察装置において、
前記載置ユニットは、水平方向への並進移動、前記載置面に平行な回転軸を中心とする回転による前記載置面の傾斜および反転のいずれか、または、これらの組み合わせにより、前記第1の観察状態と前記第2の観察状態との間で、切替え可能に構成したことを特徴とするものである。
【0011】
請求項5に係る発明は、請求項1−4のいずれか一項に記載の観察装置において、
前記光学結晶は、前記第1の電磁波の強度に応じて屈折率が変化する電気光学結晶であることを特徴とする請求項1−4のいずれか一項に記載の観察装置。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、テラヘルツ波観察のための照射系および検出系に加え、可視光観察系を設けたので、試料上の観察位置を変えることなく、テラヘルツ波観察と可視光観察とを同時、または、短時間のうちに行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】本発明の第1実施の形態に係る観察装置を示す全体構成図である。
【図2】図1の観察装置を用いてテラヘルツ波観察をする場合の電気光学結晶に入射するテラヘルツ波および近赤外光を説明する図である。
【図3】本発明の第2実施の形態に係る観察装置を示す全体構成図である。
【図4】図3の観察装置を用いてテラヘルツ波観察をする場合の試料および電気光学結晶に入射するテラヘルツ波および近赤外光を説明する図である。
【図5】図3の観察装置におけるテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。
【図6】本発明の第3実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。
【図7】本発明の第4実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。
【図8】本発明の第5実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との同時観察を説明する図である。
【図9】本発明の第6実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【0015】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1実施の形態に係る観察装置を示す全体構成図である。本実施の形態に係る観察装置1は、図1に示されるように、テラヘルツ波観察に用いられるテラヘルツ波観察光学系1aと蛍光観察(可視光観察)に用いられる可視光観察光学系1bとを含んで構成される。
【0016】
テラヘルツ波観察光学系1aは、テラヘルツ波照射光学系4と、近赤外光照射光学系5と、試料Aを保持するための試料ホルダ(図示せず)と、テラヘルツ波照射光学系4により試料Aの像が結像される電気光学結晶6と、近赤外光照射光学系5の近赤外光Lの照射により、電気光学結晶6で変調された近赤外光Lを検出する近赤外光検出光学系7とを備える。
【0017】
テラヘルツ波照射光学系(第1の照射系)4は、パルス状の近赤外光Lを発生する近赤外光源2と、該近赤外光源2からの近赤外光Lを2つの光路に分割するビームスプリッタ3と、該ビームスプリッタ3により分割された一方の光路に設けられたミラー10と、ミラー10で反射された近赤外光Lを集光する集光レンズ11と、該集光レンズ11により集光された近赤外光Lをテラヘルツ波(第1の電磁波)Lに変換するテラヘルツ波放射素子12と、該テラヘルツ波放射素子12から放射されたテラヘルツ波Lを略平行光束に変換する放物面ミラー13aと、該放物面ミラー13aによって略平行光束となったテラヘルツ波Lを試料Aに集光する放物面ミラー13bと、試料Aを透過したテラヘルツ波Lを略平行光束に変換する放物面ミラー14aと、該放物面ミラー14aによって略平行光束となったテラヘルツ波Lを電気光学結晶6に結像させる放物面ミラー14bとを備えている。
【0018】
近赤外光照射光学系(第2の照射系)5は、近赤外光源2と、ビームスプリッタ3と、該ビームスプリッタ3により分割された他方の光路に設けられた、光路長を調節して、テラヘルツ波照射光学系4と近赤外光照射光学系5との2つの光路の光路長を一致させる光路調整光学系15と、光路調整光学系15を出射した近赤外光(第2の電磁波)Lの偏光が所定の方向に偏光した直線偏光となるように偏光状態を変化させる1/2波長板17と、1/2波長板17を出射した近赤外光Lをテラヘルツ波Lと同一光路上に導光するダイクロイックミラー18と、近赤外光Lを電気光学結晶6に集光させる放物面ミラー14bとを備える。従って、本実施の形態では、近赤外光源2とビームスプリッタ3と放物面ミラー14bは、第1の照射系と第2の照射系との間で共用されている。なお、ダイクロイックミラー18は、近赤外光Lを反射させ、テラヘルツ波Lを透過させる特性を有する。
【0019】
光路調整光学系15は、2個一対の三角プリズム15a,15bと、一方の三角プリズム15bを他方の三角プリズム15aに対して矢印Bの方向に移動させる移動機構(図示せず)とを備えている。三角プリズム15aの外面において偏向させられた近赤外光Lは、三角プリズム15bの内面において2回偏向させられた後に、再度三角プリズム15aの外面において偏向されることで元の光路に戻るようになっている。2個の三角プリズム15a,15bの間隔を変更することで、近赤外光Lの光路長を調節することができる。なお、光路調整光学系15に一対の三角プリズムを用いているが、その代わりに、直角ミラーを用いても良い。
【0020】
電気光学結晶6は、テラヘルツ波Lが照射されることにより、その強度(電場の振幅)に応じて複屈折が生じる光学結晶であって、例えば、ZnTe(テルル化亜鉛)を挙げることができる。電気光学結晶6に強度分布を有するテラヘルツ波Lが照射されることで、その強度分布が複屈折の分布として電気光学結晶6に書き込まれ、その書き込まれた領域Sに近赤外光Lを通過させると、近赤外光Lの偏光方向が変化させられるようになっている。なお、領域Sで生じた複屈折で近赤外光Lの偏光が変化するように、近赤外光Lの偏光方向が上述の1/2波長板17によって調整されている。
【0021】
また、テラヘルツ波観察光学系は、図2に示すように、近赤外光Lとテラヘルツ波Lとの電気光学結晶6の照射位置が、少なくとも一部重なるように配置されている。したがって、試料Aを透過して試料Aの成分分布に対応した強度分布を含んだテラヘルツ波Lは、放物面ミラー14a、14bによって電気光学結晶6に結像し、試料Aの成分分布の情報を電気光学結晶6に複屈折の分布として書き込む。一方、近赤外光照射光学系5からの近赤外光Lは、テラヘルツ波Lと同方向から電気光学結晶6に入射して、テラヘルツ波Lにより書き込まれた試料Aの成分分布の情報を複屈折の分布として読み出し、電気光学結晶6の下方に射出される。
【0022】
近赤外光検出光学系(検出系)7は、電気光学結晶6を出射した近赤外光Lを略平行光束にする対物レンズ16と、該対物レンズ16により略平行光束となった近赤外光Lを反射するミラー21と、ミラー21によって偏向された近赤外光Lの中から所定の偏光方向を有する近赤外光Lを選択する偏光子22と、偏光子22を出射して選択された所定の偏光方向を有する近赤外光Lを結像する結像レンズ23と、結像レンズ23により結像された近赤外光Lを撮影する撮像素子(赤外光検出器)24とを備えている。なお、対物レンズ16は、その焦点面の一部が電気光学結晶6内におけるテラヘルツ波Lの結像面と重なるように配置される。
【0023】
偏光子22は、テラヘルツ波Lが電気光学結晶6に照射されていない状態での近赤外光Lが透過しない向きに設置されている。上述のように、テラヘルツ波Lの電場によって、電気光学結晶6には複屈折が誘起される。近赤外光Lがこの電気光学結晶6を透過することで、近赤外光Lに位相変化が生じて偏光状態が変化する。これによって、偏光子22の後に検出される近赤外光Lの強度が変化する。
【0024】
次に、可視光観察光学系1bについて説明する。可視光観察光学系1bは、励起光照射光学系8と蛍光検出光学系9とを備える。
【0025】
励起光照射光学系8は、励起光光源部31と、励起フィルタ32と、ダイクロイックミラー33と、可視光用対物レンズ34と、ダイクロイックミラー35とを備える。励起光光源部31は、試料Aに含まれる蛍光物質を励起するための光源であり、例えば、超高圧水銀灯を用いる。励起フィルタ32は、励起光光源部31を出射した光のうち、特定の波長範囲の光のみを励起光Lとして透過させるフィルタである。また、ダイクロイックミラー33は、励起光Lを反射させ、蛍光Lを透過させる性質を有する。可視光用対物レンズ34は、励起光Lをダイクロイックミラー35で反射させ、テラヘルツ波Lの照射方向とは反対側より試料Aを照射する。ダイクロイックミラー35は、励起光Lおよび蛍光Lを反射させ、テラヘルツ波Lを透過させる特性を有する。なお、励起光Lを照射する試料Aの領域は、テラヘルツ波Lを照射する領域と少なくとも一部が重なるように、各光学系を構成する。
【0026】
また、蛍光検出光学系9は、ダイクロイックミラー35と可視光用対物レンズ34とダイクロイックミラー33と吸収フィルタ36と結像レンズ37と、CCDカメラ等のカメラ38とを備える。ここで、ダイクロイックミラー35,33と対物レンズ34とは、励起光照射光学系8と共用される構成要素である。吸収フィルタ36は、蛍光を透過させそれ以外の波長成分の光を透過させない波長特性を有するフィルタである。また、結像レンズ37は、カメラ38の撮像素子に蛍光Lを結像させる。
【0027】
以上のように構成された観察装置1の作用について以下に説明する。
【0028】
まず、本実施の形態に係る観察装置1を用いて、テラヘルツ波を用いた細胞等の試料Aの観察を行うには、試料ホルダに試料Aを載置し、近赤外光源2からパルス状の近赤外光Lを出射させる。
【0029】
この近赤外光Lは、ビームスプリッタ3により分岐され、テラヘルツ波照射光学系4に入射し、ミラー10によって偏向された後、集光レンズ11によって集光され、テラヘルツ波放射素子12に照射される。これにより、テラヘルツ波Lが発生し、放物面ミラー13aによって、略平行光束に変換された後に、放物面ミラー13bによって試料Aに集光される。
【0030】
試料Aは、透明な細胞等であるが、試料Aを透過したテラヘルツ波Lは、試料Aにより変調されて試料A内における成分分布に応じた強度分布を有する。この強度分布を有するテラヘルツ波Lは、ダイクロイックミラー35を透過して放物面ミラー14aで略平行光となり、ダイクロイックミラー18を透過して放物面ミラー14bにより集光され、電気光学結晶6内に試料Aの像として結像される。これによって、電気光学結晶6には、テラヘルツ波Lの強度分布に応じた複屈折の分布が発生する。この複屈折の分布は、試料Aの成分分布を反映したものとなる。なお、テラヘルツ波Lの照射により電気光学結晶6内に複屈折の分布が発生している時間は極めて短いので、テラヘルツ波Lの照射とほぼ同時に複屈折の分布の情報を読み出す必要がある。
【0031】
この情報の読み出しには、近赤外光照射光学系5に入射した近赤外光Lが用いられる。ビームスプリッタ3により分岐された近赤外光Lは光路調整光学系15において光路を調整され、1/2波長板17で偏光状態を所定の直線偏光に設定された後に、図2に示すように、電気光学結晶6にテラヘルツ波Lの照射方向と同方向から照射される。図中、斜線で示される領域Sは、テラヘルツ波Lによって試料Aの成分分布の情報を書き込まれた領域である。同一の近赤外光源2から発せられた近赤外光Lに基づくテラヘルツ波Lと近赤外光Lとは、それぞれ異なる光路を通るので、そのままでは、パルスが同時に試料Aに照射されないこともある。そこで、光路調整光学系15による光路長の調節により、そのパルスの位相を精度良く調節することができる。なお、図2において、近赤外光Lとテラヘルツ波Lは、交互に別々の領域に照射されているように描かれているが、実際には、両者の照射領域の少なくとも一部が重なるように、両者は照射されている。
【0032】
領域Sでは、テラヘルツ波Lの照射によって、複屈折の分布が生じる。この領域Sを近赤外光Lが通過する際に、近赤外光Lの偏光状態が変化させられる。すなわち、対物レンズ16により略平行光束とされる近赤外光Lは、その領域Sの透過位置に応じて偏光状態が異なっている。その後、近赤外光Lは、偏光子22に入射されるが、偏光子22から射出される光量は、領域Sを透過後の近赤外光Lの偏光状態によって異なる。これにより、電気光学結晶6に記録された複屈折の分布の情報を、光の光量(強度)として読み出すことができる。
【0033】
そして、このようにして抽出された近赤外光Lを結像レンズ23によって結像し、撮像素子24によって撮影することにより、透明な細胞等の試料Aの画像を取得することができる。
【0034】
次に、テラヘルツ波観察と同時にあるいは、テラヘルツ波による試料観察に続いて、試料Aの蛍光観察(可視光観察)を行う場合、試料ホルダに試料Aを載置した状態で、励起光光源31から励起光Lを出射させる。励起光Lは、励起フィルタ32、ダイクロイックミラー33、可視光用対物レンズ34、ダイクロイックミラー35を経て、試料Aをテラヘルツ波Lの照射方向と反対側から照射する。その際、試料A上ではテラヘルツ波Lによって照射された位置と少なくとも一部が重なる位置が、励起光Lにより照射される。これによって、試料Aの照射位置より蛍光が発生する。
【0035】
試料Aで発生した蛍光は、ダイクロイックミラー35で反射され、可視光用対物レンズ34を経て、ダイクロイックミラー33を透過し、吸収フィルタ36によりノイズを除去して、結像レンズ37により、カメラ38の撮像素子上に結像される。カメラ38は、試料Aの蛍光画像を撮像し、これを図示しない画像処理装置等で処理して試料Aの画像を表示する。
【0036】
なお、撮像素子(赤外光検出器)24により検出した画像と、カメラ38により検出された画像とは、同一の視野範囲を同一方向から見た画像となるように、図示しない画像処理装置により、左右の反転、位置および倍率の調整等の処理を行い、使用者の表示画面に並べてまたは重ね合わせて表示される。
【0037】
以上説明したように、本実施の形態によれば、テラヘルツ波による試料観察のための照射系および検出系の構成に加え、蛍光観察(可視光観察)のために可視光観察光学系を設けたので、テラヘルツ波を用いた試料観察とともに、可視光による試料観察も可能になり、試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを同時、または、短時間のうちに切り替えて行うことができる。また、テラヘルツ波の照射による試料の変調を可視光で顕微観察することも可能となる。
【0038】
(第2実施の形態)
本発明の第2実施の形態に係る観察装置を示す全体構成図である。本実施の形態は、テラヘルツ波観察光学系1aと可視光観察光学系1bとの間で試料Aの観察位置が異なり、これら2つの観察位置の間で、観察対象の試料を移動可能に構成したものである。以下にその構成を説明する。
【0039】
まず、本実施の形態に係る観察装置1では、第1実施の形態におけるテラヘルツ波観察系1aの構成のように試料Aと電気光学結晶6との間に放物面ミラー14a、14bを設けて試料Aにテラヘルツ波Lを照射してその透過光を電気光学結晶6に結像させるのではなく、図4に示すように、試料Aを電気光学結晶6の載置面6aに直接載置する。すなわち、本実施の形態では、テラヘルツ波照射光学系4は、放物面ミラー14a、14bを含まず、ミラー10と、集光レンズ11と、テラヘルツ波放射素子12と、放物面ミラー13a、13bとを含んで構成される。
【0040】
また、本実施の形態の近赤外光照射光学系5は、ダイクロイックミラー18と放物面ミラー14bを設置せず、図3に示すように、近赤外光源2から出射された近赤外光Lが光路調整光学系15を経た後に近赤外光用対物レンズ16によって試料Aと反対側(図3,4において下側)の面から電気光学結晶6に集光されるように配置される。すなわち、本実施の形態では、近赤外光照射光学系5は、ダイクロイックミラー18と放物面ミラー14bを含まず、近赤外光源2と、ビームスプリッタ3と、光路調整光学系15と、近赤外光用対物レンズ16とを含んで構成される。
【0041】
また、本実施の形態に係る電気光学結晶6は、図4に示すように、電気光学結晶の試料A側の表面に反射膜19を有する。この反射膜19は、テラヘルツ波Lを透過させ、近赤外光Lを反射する性質を有している。また、テラヘルツ波観察光学系は、近赤外光Lとテラヘルツ波Lとの電気光学結晶6の照射位置が、少なくとも一部重なるように配置されている。したがって、試料Aを透過して試料Aの成分分布に対応した強度分布を含んだテラヘルツ波Lは、反射膜19を透過して電気光学結晶6に入射し、試料Aの成分分布の情報を電気光学結晶6に複屈折の分布として書き込む。一方、近赤外光照射光学系5からの近赤外光Lは、試料Aと反対側(図3,4において下側)の面から電気光学結晶6に入射して、テラヘルツ波Lにより複屈折の分布として電気光学結晶6に書き込まれた試料Aの成分分布の情報を偏光状態の変化として読み出し、反射膜19によって反射されて電気光学結晶6の下方に射出される。
【0042】
また、本実施の形態に係る近赤外光検出光学系7は、反射膜19で反射され電気光学結晶6を出射した近赤外光Lを略平行光束にする対物レンズ16と、該対物レンズ16によって略平行光束にされた近赤外光Lを分岐させるビームスプリッタ25と、ビームスプリッタ25により分岐された光路に設けられた偏光子22、結像レンズ23及び撮像素子24とを備え、第1実施の形態と同様に近赤外光Lの偏光状態の変化を撮像素子24に入射する近赤外光Lの光量の変化として検出する。
【0043】
一方、本実施の形態の可視光観察光学系1bでは、第1実施の形態における可視光観察光学系1bにおいて、テラヘルツ波観察を行う際の試料Aの観察位置に励起光Lを導光させ照射するためのダイクロイックミラー35を設けず、テラヘルツ波観察の観察位置と異なる観察位置で試料Aの蛍光観察を行うように構成する。すなわち、本実施の形態では、励起光照射光学系8は、励起光光源部31と、励起フィルタ32と、ダイクロイックミラー33と、可視光用対物レンズ34とを備え、蛍光検出光学系9は、可視光用対物レンズ34とダイクロイックミラー33と吸収フィルタ36と結像レンズ37と、CCDカメラ等のカメラ38とを備える。
【0044】
次に、試料Aをテラヘルツ波観察の観察位置と可視光観察の観察位置との間で、移動させる構成について説明する。図5は、図3の観察装置におけるテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。
【0045】
観察装置1は、試料Aを載置する電気光学結晶6を、少なくとも図5において試料Aの上下方向を光学的に遮蔽しない態様で載置する、載置ユニット42を備える。この載置ユニット42は、電気光学結晶6を載置した状態で、水平方向に並進移動可能に構成され、テラヘルツ波観察の観察位置と可視光観察の観察位置との間で、試料の位置を短時間に変位させることができる。
【0046】
図5(a)は、テラヘルツ波観察の観察位置に試料が位置している状態(第1の観察状態)を示している。この場合、近赤外光用対物レンズ16は、テラヘルツ波Lが照射される試料Aの下方に位置し、光軸を載置面6aに直交するように上方に向けて配置される。また、近赤外光用対物レンズ16は、近赤外光用対物レンズ16を出射する近赤外光Lの合焦位置が、電気光学結晶6内の載置面6a近傍となるように配置されている。一方、可視光用対物レンズ34は、電気光学結晶6の上方であって、近赤外光用対物レンズ16の光軸から外れた位置に位置する。
【0047】
なお、電気光学結晶6の試料A側の表面には、図4に示すように、テラヘルツ波Lを透過させ、近赤外光Lを反射する性質を有する反射膜19が設けられている。近赤外光Lが電気光学結晶6に照射される際に、電気光学結晶6内を透過して反射膜19で反射し、また、再び電気光学結晶6内を透過することによって、近赤外光Lに収差が発生する。テラヘルツ波Lが電気光学結晶6に書き込んだ試料Aの情報を高い空間分解で読み取るためには、近赤外光Lの分解能も高くする必要ある。このため、収差を補正することが必要となり、近赤外用対物レンズ16として補正環付のものを使用するか、または、近赤外光用補正素子(レンズ)43を、近赤外用対物レンズ16の手前に設けても良い。
【0048】
図5(b)は、可視光観察の観察位置に試料が位置している状態(第2の観察状態)を示している。この場合、可視光用対物レンズ34は、試料Aの上方に位置し、励起光Lを試料Aに向けて照射し、これによって発生する蛍光Lを略平行光束にする。この場合、図5(b)では、図5(a)の場合と比べ、載置ユニット42が、右方向に水平に並進移行している。
【0049】
その他の構成は、第1実施の形態と同様であるので、同一構成要素には同一参照符号を付して説明を省略する。
【0050】
以上のような構成によって、まず、テラヘルツ波観察を行う場合には、載置ユニット42を図5(a)の位置にして、試料Aを電気光学結晶6に載置し、近赤外光源2からパルス状の近赤外光Lを出射させる。この近赤外光Lは、ビームスプリッタ3で、テラヘルツ波照射光学系4と近赤外光照射光学系5との2つの光路に分岐される。テラヘルツ波照射光学系4は、第1実施の形態と同様に、テラヘルツ波放射素子12でテラヘルツ波Lを発生し、これを、放物面ミラー13a,13bを経由して、電気光学素子6の載置面6aに載置されて試料Aに照射する。
【0051】
第1実施の形態で説明したのと同様の原理によって、試料Aを透過したテラヘルツ波Lは試料Aの成分分布に応じた強度分布を有し、その強度分布が複屈折の分布として電気光学結晶6に書き込まれる。本実施の形態では、試料Aが電気光学結晶6に近接しているので、テラヘルツ波Lが試料通過後において回折によって試料Aの微細な空間情報を失う前に試料Aの情報を電気光学結晶6に複屈折の分布として書き込むことができ、電気光学結晶6に発生する複屈折の分布は、試料Aの成分分布をより精度良く反映したものとなる。この電気光学結晶6に書き込まれた情報の読み出しは、第1実施の形態と同様に近赤外光照射光学系5により行うが、本実施の形態では、近赤外光Lは試料Aと反対側(図3,4において下側)の面から電気光学結晶6に入射して、テラヘルツ波Lにより複屈折の分布として書き込まれた試料Aの成分分布の情報を偏光状態の変化として読み出し、反射膜19によって反射されて電気光学結晶6の下方に出射される。これにより、より高い分解能によるテラヘルツ波観察が可能になる。
【0052】
次に、蛍光観察(可視光観察)を行う場合は、載置ユニット42を図5(b)の位置に移動させ、励起光光源31から励起光Lを出射させ、励起フィルタ32、ダイクロイックミラー33、可視光用対物レンズ34を経て、試料Aをテラヘルツ波を照射するのと同じ方向(図において上側)から照射する。これにより試料Aで発生した蛍光を、可視光用対物レンズ34、ダイクロイックミラー33、吸収フィルタ36を経由して、結像レンズ37により、カメラ38の撮像素子上に結像して観察する。
【0053】
以上説明したように、本実施の形態によれば、テラヘルツ波観察のための照射系および検出系の構成に加え、蛍光観察(可視光観察)のために可視光観察光学系を設けたので、テラヘルツ波を用いた試料観察とともに、可視光による試料観察も可能になり、試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを、短時間のうちに行うことができる。さらに、試料Aを電気光学結晶の載置面に載置したので、簡易な構成でより空間分解能の高いテラヘルツ波観察を行うことが可能になる。また、テラヘルツ波観察と可視光観察とのそれぞれの光学系が分離されているので、それぞれの光学系を個別に調整することが容易である。
【0054】
(第3実施の形態)
図6は、本発明の第3実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。本実施の形態は、第2実施の形態において、載置ユニット42を水平方向に並進移動させるのではなく、電気光学結晶6の載置面6aに平行な、または、載置面6aの面内の回転軸を中心として、例えば30°傾斜可能としたものである。このため、可視光観察光学系1bの可視光用対物レンズ34は、試料Aに対するテラヘルツ波Lおよび近赤外光Lの照射方向に対して、光軸を傾けて配置されている。
【0055】
図6(a)は、テラヘルツ波観察の際の載置ユニット42の状態(第1の観察状態)を示している。この場合、載置ユニット42は、電気光学結晶6の載置面6aが水平となるように配置される。また、近赤外用対物レンズ16は、電気光学結晶6の下方に光軸を載置面6aに垂直に試料Aに向けて配置される。さらに、このときテラヘルツ波Lは、試料Aの上方より載置面6aに垂直方向に照射される。また、可視光用対物レンズ34は、このテラヘルツ波Lの照射方向とは30°ずれた位置に、テラヘルツ波Lの光路を妨げないように配置されている。
【0056】
図6(b)は、可視光観察の際の載置ユニット42の状態(第2の観察状態)を示している。この場合、載置ユニットは、水平面に対して30°傾斜し、それによって電気光学結晶6の載置面も30°傾斜している。このとき、可視光用対物レンズ34は、試料載置面6aに垂直方向に位置する。その他の構成は、第2実施の形態と同様であるので、同一構成要素には同一参照符号を付して説明を省略する。
【0057】
以上のような構成によって、テラヘルツ波観察を行う場合には、載置ユニット42を図6(a)のように水平にして、第2実施の形態と同様に観察を行う。また、蛍光観察による可視光観察を行う場合は、載置ユニット42を図6(b)のように傾斜させて、第2実施の形態と同様に観察を行う。このとき、テラヘルツ波観察と可視光観察の両観察において、試料Aの同一の位置を観察するようにする。
【0058】
以上説明したように、本実施の形態によれば、傾斜角度を変えるという簡単な構成によって、試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを、短時間のうちに切り替えて行うことができる。さらに、試料の移動距離を最小限に抑えることができる。なお、本実施の形態において、第2の観察状態の、載置ユニットの水平面に対する傾斜角度を30°としたが、傾斜角度はこれに限られず、様々な角度に設定することが可能である。また、本実施の形態では載置ユニット42を傾斜させる構成としたが、載置ユニット42を傾斜させず、テラヘルツ波Lを近赤外光Lの光軸に対して斜め方向から試料Aに照射する構成としても良い。この際、可視光用対物レンズ34は近赤外光Lの照射方向に対して光軸が等しくなる位置に配置することができ、載置ユニット42を傾斜する機構が必要なくなり、また、テラヘルツ波観察と可視光観察を同時に行うことが可能となる。
【0059】
(第4実施の形態)
図7は、本発明の第4実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。本実施の形態は、第2実施の形態において、載置ユニット42を水平方向に並進移動させるのではなく、電気光学結晶6の載置面6aに平行な回転軸を中心として、上下反転させることを可能にしたものである。反転時の試料の落下を防止するために、ガラス板(カバーガラス)51を用い、このガラス板51と電気光学結晶6との間に試料Aを挟みこんでいる。
【0060】
また、本実施の形態は、近赤外光照射光学系5と励起光照射光学系8とは、それぞれ、第2実施の形態における近赤外光用対物レンズ16および可視光用対物レンズ34の入射側手前で、ダイクロイックミラー52を介して、光路を統合され、近赤外光用対物レンズ16および可視光用対物レンズ34に代えて共通の対物レンズ53を用いて、電気光学結晶6の下側から試料Aに近赤外光Lおよび励起光Lを照射するようにしたものである。なお、ダイクロイックミラー52は、近赤外光Lを反射させ、励起光Lおよび蛍光Lを透過させる光学特性を有するものである。
【0061】
図7(a)は、テラヘルツ波観察の際の載置ユニット42の状態(第1の観察状態)を示している。この場合、載置ユニット42は、電気光学結晶6を試料Aの下側に、ガラス板51を試料Aの上側にして配置されている。また、図7(b)は、可視光観察の際の載置ユニット42の状態(第2の観察状態)を示している。この場合、載置ユニット42は、電気光学結晶6を試料Aの上側に、ガラス板51を試料Aの下側にして配置されている。その他の構成は、第2実施の形態と同様であるので、同一構成要素には同一参照符号を付して説明を省略する。
【0062】
以上のような構成によって、テラヘルツ波観察を行う場合には、載置ユニット42を図7(a)の状態にして、第2実施の形態と同様に、試料Aの上方からテラヘルツ波Lを照射するとともに、ダイクロイックミラー52および対物レンズ53を経由して、電気光学結晶6に下方より近赤外光Lを照射し、反射膜19で反射された近赤外光Lを対物レンズ53で略平行光束にして、ダイクロイックミラー52を介して、近赤外光検出光学系7で検出する。電気光学結晶内を通過することによる近赤外光Lの収差が大きい場合には、7(a)に示すように、近赤外光用補正素子43を対物レンズ53の手前に設けても良い。また、蛍光観察(可視光観察)を行う場合は、載置ユニット42を図7(b)のように上下反転させて、励起光照射光学系8からの励起光Lを、ダイクロイックミラー52、対物レンズ53を介して下方から試料Aに照射し、これにより発生した蛍光Lを対物レンズ53で略平行光束にしてダイクロイックミラー52で分岐させ蛍光検出光学系9により検出する。このとき、テラヘルツ波観察と可視光観察との両観察において、試料Aの同一の位置を観察するようにする。
【0063】
以上説明したように、本実施の形態によれば、載置ユニット42を上下反転させることによって、試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを、短時間のうちに切替えて行うことができる。さらに、本実施の形態では、テラヘルツ波観察と可視光観察とで同一の対物レンズを使用することができる。なお、ガラス板51は樹脂、光学結晶でも良く、その材質はガラスに限定しない。
【0064】
(第5実施の形態)
図8は、本発明の第5実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との同時観察を説明する図である。本実施の形態は、第4実施の形態における図7(a)の状態と同様の構成を用い、テラヘルツ波観察および可視光観察において、それぞれ近赤外光Lおよび励起光Lを試料Aの下側の同一の対物レンズ53から照射し、これにより試料Aで変調された近赤外光Lおよび試料Aで発生した蛍光Lを対物レンズ53により収集するようにしたものである。
【0065】
蛍光Lは電気光学結晶6を透過するため、対物レンズ53には補正環を設けて電気光学結晶で生じる収差を補正するようにしている。さらに、補正環による補正が十分ではない場合は、ダイクロイックミラー52の蛍光Lの出射側に、電気光学結晶6で生じる収差を補正するための可視光用補正素子54を設ける。
【0066】
なお本実施の形態では、載置ユニット42を反転させないので、そのための回転機構およびガラス板(カバーガラス)は設けていない。その他の構成は、第4実施の形態と同様であるので、同一構成要素には同一参照符号を付して説明を省略する。
【0067】
以上のような構成によって、テラヘルツ波観察および可視光観察を、載置ユニット42を動かさないで行うことができる。すなわち、テラヘルツ波観察は、第4実施の形態と同様に行うことができる。また、可視光観察も、第4実施の形態で図7(b)を用いて説明したように、対物レンズ53から励起光Lを出射させる。この励起光Lは、電気光学結晶6を透過して試料Aを照射し、これによって発生した蛍光が、電気光学結晶6を透過して対物レンズ53により略平行光束にされ、第4実施の形態と同様に検出される。ここで、本実施の形態では、励起光Lおよび蛍光Lを電気光学結晶6を透過させる構成となっている点が第4実施の形態と異なっているが、これによって発生する収差は、上述のように対物レンズ53の補正環および可視光補正素子54によって補正される。また、載置ユニット42を動かさないので、テラヘルツ波観察と可視光観察は、試料Aの同一の位置を観察する。
【0068】
以上説明したように、本実施の形態によれば、載置ユニット42を移動させずに、適切な対物レンズもしくは補正素子を用いて、テラヘルツ波観察と可視光観察とを行うようにしたので、試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを、同時に、または、短時間のうちに切替えて行うことができる。また、本実施の形態では、テラヘルツ波観察と可視光観察とで同一の対物レンズを使用することができる。さらに、載置ユニット42を変位させる必要がないので、そのための駆動機構も必要とせず構成が簡易になる。さらに、試料の移動に伴い試料状態が変化する虞もない。
【0069】
(第6実施の形態)
上述の第2−4実施の形態において、載置ユニット42を、水平方向への並進移動、前記載置面に平行な回転軸を中心とする回転による前記載置面の傾斜および反転のいずれかにより移動させたが、載置ユニットの移動は、それらに限られず、並進移動、傾斜、反転を組み合わせても良い。図9は、本発明の第6実施の形態に係る観察装置のテラヘルツ波観察と可視光観察との切り替えを説明する図である。本実施の形態では、載置ユニット42を、テラヘルツ波観察と可視光観察との間で、並進移動させ且つ上下反転させている。
【0070】
図9(a)は、テラヘルツ波観察の際の載置ユニット42の状態(第1の観察状態)を示している。この場合、載置ユニット42は、電気光学結晶6を試料Aの下側に、ガラス板51を試料Aの上側にして配置されている。また、近赤外光用対物レンズ16は、試料A6の下側に位置し、可視光用対物レンズ34は、これと水平方向に離間して位置する。
【0071】
また、図9(b)は、可視光観察の際の載置ユニット42の状態(第2の観察状態)を示している。この場合、載置ユニット42は、図9(a)の状態から反転し、電気光学結晶6を試料Aの上側に、ガラス板51を試料Aの下側にして配置されている。さらに、載置ユニットは水平方向(図9において右方向)にも移動し、試料Aの下方に可視光用対物レンズ34が位置している。その他の構成は、第2実施の形態と同様であるので、同一構成要素には同一参照符号を付して説明を省略する。
【0072】
以上のような構成によって、第2−4実施の形態と同様に、試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを、短時間のうちに切替えて行うことができる。
【0073】
なお、本発明は、上記実施の形態にのみ限定されるものではなく、幾多の変形または変更が可能である。たとえば、可視光観察は蛍光観察に限られず、多光子顕微鏡等も使用することができる。その場合は、励起光光源は適切な波長で発振するレーザとなる。また、自家発光蛍光や通常の屋内照明による反射または透過光を観察対象とすることもできる。その場合、別途励起光照明のための照射光学系を設ける必要はない。
【符号の説明】
【0074】
1 観察装置
1a テラヘルツ波観察光学系
1b 可視光観察光学系
2 近赤外光源
3、25 ビームスプリッタ
4 テラヘルツ波照射光学系
5 近赤外光照射光学系
6 電気光学結晶
6a 載置面
7 近赤外光検出光学系
8 励起光照射光学系
9 蛍光検出光学系
11 集光レンズ
10、21 ミラー
12 テラヘルツ波放射素子
13a、13b、14a、14b 放物面ミラー
15 光路調整光学系
15a、15b 三角プリズム
16 近赤外光用対物レンズ
17 1/2波長板
18、33、35、52 ダイクロイックミラー
19 反射膜
22 偏光子
23 結像レンズ
24 撮像素子(赤外光検出器)
31 励起光光源部
32 励起フィルタ
34 可視光用対物レンズ
36 吸収フィルタ
37 結像レンズ
38 カメラ
42 載置ユニット
43 近赤外光用補正素子
51 ガラス板
53 対物レンズ
54 可視光用補正素子
近赤外光
テラヘルツ波
励起光
蛍光
A 試料
S 領域

【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学結晶と、
試料に向けて第1の電磁波を照射し、該照射により試料を透過する光を前記光学結晶に結像させる第1の照射系と、
前記光学結晶に向けて第2の電磁波を照射する第2の照射系と、
前記光学結晶により変調された前記第2の電磁波を検出する検出系と、
前記試料の可視光観察光学系とを備え、
前記第1の電磁波は、パルス状のテラヘルツ波であり、
前記第2の電磁波は、前記テラヘルツ波よりも波長が短いパルス状の電磁波であり、
前記第1の電磁波の照射領域と前記第2の電磁波の前記照射領域との少なくとも一部が前記光学結晶内で重なるように、前記第1の照射系と前記第2の照射系とが配置され、且つ、
前記可視光観察光学系は、前記試料上の前記第1の電磁波が照射された領域と少なくとも一部が重なった領域を観察するように構成されたことを特徴とする観察装置。
【請求項2】
試料を載置する載置面を有する光学結晶と、
該光学結晶に向けて第1の電磁波を前記載置面側から照射する第1の照射系と、
前記光学結晶に向けて第2の電磁波を照射する第2の照射系と、
前記光学結晶により変調された前記第2の電磁波を検出する検出系と、
前記試料の可視光観察光学系とを備え、
前記第1の電磁波は、パルス状のテラヘルツ波であり、
前記第2の電磁波は、前記テラヘルツ波よりも波長が短いパルス状の電磁波であり、
前記検出系は、その合焦位置が前記光学結晶内の前記載置面近傍と一致するように配置され、
前記第1の電磁波の照射領域と前記試料を透過した前記第2の電磁波の照射領域との少なくとも一部が前記光学結晶内で重なるように、前記第1の照射系と前記第2の照射系とが配置され、且つ、
前記可視光観察光学系は、前記試料上の前記第1の電磁波が照射された領域と少なくとも一部が重なった領域を観察するように構成されたことを特徴とする観察装置。
【請求項3】
前記光学結晶を載置する載置ユニットを備え、
該載置ユニットを、前記試料を前記検出系による観察を行う第1の観察状態と、前記可視光観察光学系による観察を行う第2の観察状態との間で、切替え可能に構成したことを特徴とする請求項2に記載の観察装置。
【請求項4】
前記載置ユニットは、水平方向への並進移動、前記載置面に平行な回転軸を中心とする回転による前記載置面の傾斜および反転のいずれか、または、これらの組み合わせにより、前記第1の観察状態と前記第2の観察状態との間で、切替え可能に構成したことを特徴とする請求項3に記載の観察装置。
【請求項5】
前記光学結晶は、前記第1の電磁波の強度に応じて屈折率が変化する電気光学結晶であることを特徴とする請求項1−4のいずれか一項に記載の観察装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【公開番号】特開2011−203016(P2011−203016A)
【公開日】平成23年10月13日(2011.10.13)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−68649(P2010−68649)
【出願日】平成22年3月24日(2010.3.24)
【出願人】(000000376)オリンパス株式会社 (11,466)
【Fターム(参考)】