【課題】リチウムターゲットのリチウムの膜厚の測定機能を備えると共に、蒸着源をリチウムターゲットに移動させて消耗されたリチウムターゲットの再生を自動で行うことができるリチウムターゲット自動再生装置及びリチウムターゲット自動再生方法を得る。
【解決手段】リチウムターゲットのリチウムを自動で再生することができるリチウムターゲット自動再生装置１０６であって、リチウムターゲット自動再生装置１０６は、リチウムターゲットにリチウムを蒸着させるリチウム蒸着ユニット１を備え、リチウム蒸着ユニット１は、リチウムターゲット側に移動してリチウムターゲットにリチウムを蒸着させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】複数の異なるエネルギーのＸ線を放射すると共に、生成したＸ線のエネルギーのばらつきを抑制する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１０に備えられるＸ線発生装置１４は、粒子加速装置２０が複数の異なるエネルギーのＸ線を発生させるための荷電粒子ビームを生成し、ターゲット２２に荷電粒子ビームが照射されることによってＸ線を放射する。単一エネルギー制御装置は、ターゲット２２に荷電粒子ビームが照射されることによって、ターゲット２２に流れる電流の計測値及びターゲット２２から放射されるＸ線の線量の計測値から求められる単位ターゲット電流当たりのＸ線線量に基づいて、異なるエネルギーのＸ線毎に粒子加速装置２０を制御する。 （もっと読む）

【課題】軸部材の摺動面の潤滑性を維持しつつ、真空容器へ空気の進入を防止して装置の信頼性の向上を図ることが可能な粒子加速器を提供すること。
【解決手段】本発明の粒子加速器は、真空容器の壁体３ａを貫通して容器内の真空環境に達すると共に進退可能である軸部材２１の周面２１ａ上に潤滑剤を供給すると共に、軸部材２１の周面２１ａ上に形成された空孔３８Ａに対して真空排気を行う軸封装置３０を有する構成とする。これにより、供給された潤滑剤によって軸部材の潤滑性を維持し、軸部材２１の周面上２１ａに形成された空孔３８Ａに対して真空排気を行うことで、真空容器への空気の進入を防止する。 （もっと読む）

【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器１０と、容器１０内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット２１が収容された照射箱２０と、照射箱２０からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器１０の外部に導くイオンビーム引き出し部１２と、照射箱２０から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ５１と、静電レンズ５１の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ５２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 発生する放射光の波長を大きく変えることが可能なアンジュレータを提供する。
【解決手段】 対向する２つのアンジュレータ磁石列は、磁石の配列方向における相対位置が可変であり、着磁周期の前半および後半それぞれによって、着磁周期の１／２の周期の磁場を形成し、着磁周期の全体によって、着磁周期と同じ周期の磁場を形成するように着磁されて、両者の合成磁場を形成する。磁石の配列方向における２つのアンジュレータ磁石列の相対位置のずれ量によって、磁場合成の割合が調整される。 （もっと読む）

【課題】高い価数のイオンを送ることができ、加速器無しで必要価数のイオン速度分布とイオン数を測定できる低コストなレーザイオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザイオン発生装置は、レーザ光を発生させるパルスレーザ光源１１と、パルスレーザ光源１１からのレーザ光を物質１４に照射してプラズマを発生させるプラズマ発生手段１５と、発生したプラズマ中の重粒子イオンを電界によって引き出すイオン引出手段１６と、引き出された重粒子イオンのイオン速度分布を測定するイオン速度測定手段１８と、イオン速度測定手段から各価数のイオン速度分布とイオン数を演算して出力するイオン速度分布演算手段とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】移動可能な機械的デバイスを加速チェンバー内部に配置して有する粒子加速器を提供する。
【解決手段】加速チェンバー（２０６）内部において所望の経路に沿って荷電粒子を導く電場システム（１０６）及び磁場システム（１０８）を含む粒子加速器（１０２）である。本粒子加速器はさらに、加速チェンバーの内部に配置させた機械的デバイス（２８０、２８２）を含む。この機械的デバイスは、加速チェンバー内部の別の位置まで選択的に移動される。本粒子加速器はさらに、コネクタ構成要素（４５６）と該コネクタ構成要素と動作可能に結合させた圧電素子（５１２）とを有する電気機械的（ＥＭ）モータ（２９０、２９２）を含む。このコネクタ構成要素は機械的デバイスに動作可能に取り付けられている。圧電素子を作動させたときにＥＭモータはコネクタ構成要素を駆動し、これにより機械的デバイスが移動する。 （もっと読む）

【課題】作業効率を高めることができる中性子線照射システムを提供する。
【解決手段】中性子線照射システム１は、荷電粒子線Ｐが照射されて中性子線Ｎを発生させるターゲットＴと、減速体１０８を少なくとも含みターゲットＴを収容する収容部１０２と、被照射体へ照射する中性子線Ｎを収束させる収束部１０４と、被照射体を載置する治療台３２と、を備えている。また、中性子線照射システム１は、ターゲットＴ、収容部１０２及び収束部１０４に対して治療台３２を接近及び離間するように相対移動させる相対移動手段として、レール１１４、摺動部１１６及び駆動部１１７を備えている。よって、例えば中性子線Ｎの照射直後においても、放射化したターゲットＴ、収容部１０２及び収束部１０４に対して治療台３２を離間させることで、放射化の悪影響を受けずに治療台３２に医師等が近寄ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】不要なエネルギー領域のＸ線の発生量を抑制するＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線発生装置５０は、第１の線形加速器５４により加速された電子ビームＢを出射するビーム出射部５２と、電子ビームＢの経路上で薄膜ターゲットＴ１を保持する保持部２０と、薄膜ターゲットＴ１透過後の電子ビームＢを減速するための第２の線形加速器５６と、減速後の電子ビームＢを受け止めるビームダンプ部１８とを備え、第２の線形加速器５６は、高周波が供給されることによって内部に定在波電場が形成される加速セル１５ａを備えた加速部１５を有し、この加速部１５は、定在波電場により荷電粒子を加速したときに当該荷電粒子を外部に出射する開口１６を有し、この開口１６から加速部１５の内部に薄膜ターゲットＴ１通過後の電子ビームＢが入射する位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】放射光発生装置において、電子周回部の周長又はその一部を測長し、その変化量から放射光パルス時間を制御する装置及び方法を提供。
【解決手段】入射した電子ビームを加速し偏向電磁石７により電子周回部を周回させるエネルギー回収型リニアック１と、前記電子周回部に設けた複数の電磁石からなる周長補正用シケイン１０と、偏向電磁石７で発生した放射光を２台のスライド移動可能なステージに設置した回転ミラーに斜入射させることにより光軸を変えずに放射光の光路長を変化させる光学遅延機構１１とからなる。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー、大電流の荷電粒子ビームが照射されるターゲットを確実に冷却し、ターゲットが破損した場合であっても真空破壊等の甚大な事故を引き起こすことがないこと。
【解決手段】荷電粒子ビーム２が照射されて中性子を発生するビーム照射部３を有するターゲット板１と、このターゲット板と間隔をおいて配置され、冷却構造を有する吸熱板５とを備えている。
さらにビーム照射部を吸熱板に対向する位置に移動させるターゲット駆動機構９、１０とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一台の粒子加速器によって放射線治療用及びＲＩ製造用の各用途に応じた電流量の加速粒子を取り出すことを可能とし、その結果として、稼働率の向上を図り易くなる粒子加速器及び粒子加速システムを提供することを目的とする。
【解決手段】放射線治療用の陽子ビームＢ１及びＲＩ製造用の陽子ビームＢ２のそれぞれをサイクロン３から取り出すために、サイクロン３に少なくとも二つ設けられた取出ポート２５，２７と、サイクロン３内を周回する負イオンＰを取出ポート２５，２７に誘導するフォイル２１ｂ，２３ｂと、負イオンＰをサイクロン３に供給するイオン源１８と、フォイル２１ｂ，２３ｂの進退量及びイオン源１８による負イオンＰの供給量の少なくとも一方を制御して取出ポート２５，２７から取り出される陽子ビームＢ１，Ｂ２の電流量を制御する制御装置３５と、を備える粒子加速システム１Ａである。 （もっと読む）

【課題】超伝導加速器空洞に対して、欠陥の発生を抑制して内表面の平滑性を確保し、前記超伝導加速器空洞の性能低下を抑制する。
【解決手段】超伝導材料から構成される複数の内部空洞セルを互いに連接し、前記複数の内部空洞セルの連接部の内側を、前記複数の内部空洞セルの内部に配置したガイド部材で保持する。次いで、前記複数の内部空洞セルの前記連接部の外側を摩擦攪拌接合して、前記複数の内部空洞セルを互いに接合する。 （もっと読む）

【課題】 サイクロトロンから粒子ビームを抽出するためにサイクロトロンの周囲の負に帯電された粒子ビームから電子をストリッピングするためのストリッピング部材を提供する。
【解決手段】 このストリッピング部材は、前記粒子ビームが第一ストリッパー箔を通過するように前記サイクロトロンの周囲に設けられるのに適合した第一ストリッパー箔を含んでおり、さらに前記負に帯電された粒子ビームが、前記第一ストリッパー箔が損傷したとき、第二ストリッパー箔を通過するように、前記第一ストリッパー箔より大きな周囲半径で前記サイクロトロンの周囲の第一箔と並んで設けられるのに適合した第二ストリッパー箔を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、癌腫瘍の多軸荷電粒子照射治療と併用される荷電粒子ビーム入射方法及び装置を有する。陰イオン源は、陰イオン・ビーム源、真空システム、イオン・ビーム・フォーカス・レンズ、及び又は２連型加速器を備えている。陰イオン源は、陰イオン・ビームをフォーカスするために電場線を使用する。陰イオン源プラズマ室は磁性材料を有し、その磁性材料は高温プラズマ室及び低温プラズマ領域の間に磁場障壁を設ける。入射システム真空システム及びシンクロトロン真空システムは変換箔によって分離され、その変換箔において陰イオンが陽イオンに変換される。その箔は、入射システム真空室に高めの部分圧力及びシンクロトロン真空システムに低めの圧力を用意する真空管の端に貼付される。 （もっと読む）

【課題】フォイルの移動及び切替えを一の駆動系により実現することができるフォイルストリッパーを提供する。
【解決手段】本発明に係るフォイルストリッパー４６は、少なくとも２枚のフォイル４７を回転軸７２まわりに回転可能に備え、一のフォイルを加速粒子軌道上に配置するカセットロール７１と、カセットロール７１を加速粒子軌道に沿って移動させる駆動機構５６と、回転軸７２まわりに設けられた複数のインデクスピン７４ａ〜７４ｄと、カセットロール７１の移動軌道上に設けられ、インデクスピンの１つと当接可能なレバー８３であって、第１の当接面８７及び第２の当接面８８を備え、第１の当接面８７でインデクスピンと当接する場合には動作が規制され、第２の当接面８８で当接する場合には、第２の当接面８８とインデクスピンとの当接状態を解消するように移動可能なレバー８３と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ビームスペースを阻害することなく、１個のフォイルストリッパーにより複数のターゲットに加速粒子を誘導させることができるフォイルストリッパーを提供する。
【解決手段】本発明に係るフォイルストリッパー４６は、加速粒子を取り出すためのフォイルストリッパー４６であって、弧状に形成されたガイド５１と、加速粒子の軌道を曲げるためのフォイル４７がガイド５１の弧状の軌道より内側に位置するように備えられ、ガイド５１に沿って移動可能な移動体５２と、移動体５２に連結され、移動体５２を移動させるための駆動力を与える駆動機構５６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】
ステムと円筒型空洞の電気的接触を取りながらドリフトチューブ間の平行度と位置調整を高精度にできるドリフトチューブ型加速器を提供することを課題とする。
【解決手段】
貫通穴を有する円筒型空洞と、円筒型空洞に入射された荷電粒子の通過位置に取り付けられるチューブ状のドリフトチューブと、ドリフトチューブを固定するステムとを有し、円筒型空洞の内部に複数のドリフトチューブを配置し、ドリフトチューブ間に高周波電場を発生させ、ドリフトチューブ中心を通過する荷電粒子を加速する型のドリフトチューブ型加速器において、円筒型空洞の貫通穴の壁とステムとの間に設置され、可動可能な構成を有する固定部材と、固定部材とステムとの間に設置される接続子とを備え、固定部材を可動することで、接触子を介して円筒型空洞とステムとの間の電気的接続を取ることによって、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で磁場結合によるインピーダンス整合を取ることが可能になる電力フィーダを提供する。
【解決手段】同軸共振器として作用する高周波加速空胴５で共振を持続させるための電力を供給する電力フィーダ１７であり、同軸状の中心導体２３と周囲導体２５とを備え、高周波加速空胴５の筐体７内で、中心導体２３と高周波加速空胴５の背壁１９とに固定される枠状のカプラー部２７と、カプラー部２７で囲まれた内側の領域Ｆのうち、磁束Ｂが通る有効面積を調整する有効面積調整手段４３と、を備える。有効面積調整手段４３によって、カプラー部２７で囲まれた内側の有効面積を変更してインピーダンス整合を取ることができ、カプラー部２７を移動させる機構や構造は不要であり、真空の保持や接点の確保などの構造が簡単になり、簡単な構造で磁場結合によるインピーダンス整合を取ることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】２つの物体間の高精度位置決めを可能とする位置出し機構に関する。
【解決手段】本発明の位置出し機構は、第１部材と、第２部材と、回動操作部とを備え、第１部材は、第１ベース部と、第１ベース部から突出した第１突出部と、第１突出部に設けられた第１雄ネジ部とを有し、第２部材は、第２ベース部と、第２ベース部から突出した第２突出部と、第２突出部に設けれた第２雄ネジ部とを有し、前記回動操作部は、第１雄ネジ部及び第２雄ネジ部のそれぞれに噛み合う第１雌ネジ部及び第２雌ネジ部を有し、第１雄ネジ部と第２雄ネジ部は、ネジの向きが同じでネジピッチが互いに異なることを特徴とする。 （もっと読む）