線形加速器は、複数の加速キャビティであって、隣り合う一対の加速キャビティが連結キャビティを介して連結され、少なくとも１つの連結キャビティが、当該連結キャビティにより得られる連結を変化させるよう回転自在な回転非対称部材を有するような、複数の加速キャビティを備えている。線形加速器の制御手段は、線形加速器の動作および回転非対称部材の回転を制御するよう設置されている。この制御手段は、パルス方式により線形加速器を作動し、一対のパルス間で回転非対称部材を回転させて連続するパルスのエネルギーを制御するようになっている。実行することによる有益な方法は、線形加速器が作動する間に回転非対称部材を連続的に回転させることである。そして、制御手段は、連続するパルスの位相を調整することのみを必要とし、パルスの短い期間の間、回転非対称部材は所定位置にあるようにみえる。回転非対称部材は、線形加速器の真空部分内に設置され、当該回転非対称部材は、真空部分の外側にある部分によって電磁相互作用により回転させられる。真空シールを通過するような、駆動に関連する部材を設ける必要がない。このことは、回転非対称部材上にある少なくとも１つの磁気的に偏極した部材と、真空部分の外部にある少なくとも１つの電気コイルを設けることにより達成される。
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【課題】厚みが回転方向において変化して通過するイオンビームのエネルギーを変える１つの回転体で治療できる患者数を増加する。
【解決手段】イオンビームを患者３２に照射して治療を行うイオンビーム出射装置において、イオンビームを発生させるビーム発生装置１と、周回方向に所定の厚さ分布を備え、ビーム発生装置１から発生されたイオンビームの進路上で回転しイオンビームの飛程を制御するレンジモジュレーションホイール２９を備えたビーム照射ノズル１５と、レンジモジュレーションホイール２９の回転位相に応じて、ビーム発生装置１のビーム発生加速動作を制御する照射制御装置３８とを備える。 （もっと読む）

【課題】照射精度を良好に維持しつつ、素早く制動することができる。
【解決手段】回転ガントリー３を回転自在に支持する複数のローラ２２を支持するリンクフレーム２５と、エアが供給されるとローラ２２に対する制動力を開放し、エアが排出されるとローラ２２に対し制動力を付与するブレーキ装置３１と、閉じることによりブレーキ装置３１に供給されたエアを封入し、開くことによりブレーキ装置３１からエアを排出する電磁弁３２とを備え、上記電磁弁３２をリンクフレーム２５に設けた電磁弁支持部材５５で支持することにより、電磁弁３２をブレーキ装置３１の直近に配置する。 （もっと読む）

【解決手段】 レーザー加速イオンビームを設計する方法を開示している。当該方法は、重イオン層と、電場と、最大の軽い陽イオンエネルギーを有した高エネルギーの軽い陽イオンとを含むシステムをモデル化する工程と、前記重イオン層と、前記電場と、前記最大の軽い陽イオンエネルギーとの物理パラメータを、前記モデルを使って相関する工程と、前記高エネルギーの軽い陽イオンのエネルギー分布を最適化するため、前記重イオン層の前記パラメータを変化させる工程とを含む。一方法は、２次元ＰＩＣ（ｐａｒｔｉｃｌｅ ｉｎ ｃｅｌｌ）シミュレーションおよび１次元解析モデルを使って、高出力レーザーパルスと２層構造の標的との相互作用から軽い陽イオン（例えば陽子）の加速を解析する工程を含む。加速された軽い陽イオン（陽子など）が獲得する最大エネルギーは、このモデルにおいて、前記重イオン層の物理特性―電子とイオンとの質量比およびイオンの実効荷電状態―に依存する。電子種および重イオン種の双方についての流体力学方程式の解と、陽子についてのテスト粒子近似値とが、適用される。前記重イオンの運動が長手方向の電場分布を修正し、軽い陽イオンに対する加速条件を変化させることがわかった。 （もっと読む）

【課題】イオンビームのビーム電流の可変範囲を拡大する。
【解決手段】イオン源６５は、マイクロ波パワー制御装置１３，マイクロ波発信器１５，放電容器１９及び電極２１ａ，２１ｂ，２１ｃを有する。マイクロ波パワー制御装置１３がケーブル１４によりマイクロ波発信器１５に接続される。放電容器１９内にマイクロ波を入射することによってプラズマが発生され、プラズマ中のイオンはイオンビーム２３となってイオン源６５より出射される。マイクロ波パワー制御装置１３はマイクロ波発信器１５を制御し、マイクロ波１６のパワーをパルスの途中で最低放電点弧可能パワーＰ_C よりも低減させる。これによって、最低放電点弧可能パワーＰ_C に対応する電流値よりも低いイオンビーム電流のパルスイオンビームが得られる。 （もっと読む）

【課題】加速された荷電粒子ビームを照射対象に照射する前に荷電粒子ビームのエネルギーを確認できる粒子線治療装置を提供することにある。
【解決手段】ビーム位置モニタ２０がシンクロトロン３に設けられ、空胴電圧モニタ１８が加速空胴１０に設けられる。シンクロトロン３内を周回するイオンビームは、加速空胴１０への高周波電圧の印加によって加速され、高周波印加装置６への高周波電圧の印加により出射される。周波数計測装置１９は空胴電圧モニタ１８が検出した空胴電圧信号を用いて加速空胴１０に印加される高周波電圧の周波数を計測する。ビーム軌道信号処理装置２１はビーム位置モニタ２０で検出した電圧を用いてビーム軌道の位置を計測する。エネルギー判定処理装置２６は高周波電圧の周波数及びビーム軌道の位置に基づいて加速終了後のイオンビームのエネルギーが正常であるか異常であるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】
患者の体内の深さ方向におけるビームの照射位置ずれを抑制することにある。
【解決手段】
エネルギー補正装置２７は、ビーム加速終了時の加速高周波信号の周波数Fmesと目標周波数Fdesの差が許容範囲±Ferr内にある場合、周波数Fmesを目標周波数Fdesにするための時間的に滑らかな変化の補正周波数データを逐次算出する。高周波制御装置２４は、これらの補正周波数データを、逐次、高周波発振器１１に設定する。高周波発振器１１は、それらの補正周波数データに基づいて出力した周波数の高周波信号を、逐次、シンクロトロン３に設けた加速空胴１０に印加する。このため、シンクロトロン３内を周回するビームのエネルギーが、加速後の目標エネルギーに一致する。目標エネルギーになったビームが、シンクロトロン３から出射されて照射野形成装置１６から患者に照射される。 （もっと読む）

【課題】金属ターゲットの除熱を良好に行い、安定して中性子を発生することができる。
【解決手段】ＲＦＱライナック２やドリフトチューブライナック３等の線形加速器により加速された陽子ビーム１０を用いて中性子を発生させる加速器中性子源６において、陽子ビーム１０が照射される板状の金属ターゲット１１と、冷却水流路１２ａ〜１２ｅをその内部に有し、金属ターゲット１１が一方側の面１３に接合され、その一方側の面１３が金属ターゲット１１との接合部１４の面積よりも大きな面積を有する冷却装置１５を備える。 （もっと読む）

【課題】 電界で壊れやすい陰極を使用し、かつ高電界を加えて電子流を希望する速度まで加速する方法及び装置を開発すること。
【解決手段】 本発明は、電界により壊れやすい陰極を設置した、低電界電子放射部と、高電界を加えて電子流を高速度に加速する高電界電子流加速部とを、９０度から１８０度の位置関係に設置し、いくつかの電磁石を使用して、低電界電子放射部と高電界電子流加速部との間を、曲線的に連結することにより、高電界電子流加速部の電界の影響を、陰極の設置された低電界電子放射部に及ぼさないようにし、壊れやすい陰極を長時間の使用に耐えられる構造にした。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ方向のワブラー電磁石とＹ方向のワブラー電磁石のうちいずれか一方の電磁石を省略して、装置全体の小型化を図るようにする。
【解決手段】 四極電磁石４，５，６を経由して最終偏向電磁石７内に入射してきた荷電粒子ビーム２は、最終偏向電磁石７内で生じる偏向電磁場を例えば一定の周期をもって増減させることにより、最終偏向電磁石７内を円弧状に進行しつつ、Ｘ方向の成分を含んでスキャンされる。そして、Ｘ方向の成分を含んでスキャンされた荷電粒子ビーム２はＹ方向のワブラー電磁石８を通過する間にＹ方向の成分を含んでスキャンされる。これにより荷電粒子ビーム２は、Ｘ方向の成分とＹ方向の成分を含んでスキャンされ、標的９に対して例えば円を描くように照射される。 （もっと読む）

【課題】 小型かつ軽量の装置でありながら高いエネルギーを実現することができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 この電子線照射装置は、電子３４を発生させる電子源３２と、それからの電子３４を周回させて加速する円形の加速器であって、電子の軌道半径が大きくなるにつれて磁場の強さが強くなる磁場勾配を持ち時間的に一定の磁場を発生させる複数の電磁石４２を有しているＦＦＡＧ加速器４０と、それからの電子３４を走査する走査器１２と、それからの電子３４を透過させると共に走査器１２の内外の雰囲気を分離する窓箔１６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】安全で使用環境及び使用条件などに制限を加えることなく、熱中性子あるいは熱外中性子などの中性子を高強度に得る方法及び装置を提供する。
【解決手段】陽子又は重陽子をリング状の加速器により所定のエネルギーまで加速する。次いで、前記所定のエネルギーを有する前記陽子又は前記重陽子を所定のターゲットに衝突させ、原子核反応を通じて中性子を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 従来、ベータトロン加速装置の高出射効率化を図るため、主励磁用加速コアと副励磁用加速コアを設け、加速電圧パターンを主コアの主励磁電源、副コアの副励磁電源による電圧を重畳しているが、粒子加速期間中に副励磁電源の逆励磁過程における負電圧が重畳され、粒子加速電圧が若干低下するという課題解消を目的としている。
【解決手段】 粒子加速期間中に副励磁電源には、これにつながるコイル両端を短絡し、自由電流を流し、副励磁用加速の磁束を保持する動作を備え、加速期間中に負の電圧が印加されないようにした。 （もっと読む）

【課題】
ビーム出射停止信号が出力されてから、加速器からの荷電粒子ビームの出射が停止されるまでに時間を要する場合であっても、照射対象の線量分布をより均一化する。
【解決手段】
シンクロトロン１２と、走査電磁石５Ａ，５Ｂを有し、シンクロトロン１２から出射されたイオンビームを出力する照射装置１５と、照射装置１５からのイオンビームの出力をビーム出射停止信号に基づいて停止させ、イオンビームの出力を停止した状態で、走査電磁石５Ａ，５Ｂを制御することによりイオンビームの照射位置を変更させ、この変更後に、照射装置１５からのイオンビームの出力を開始させ、ビーム出射停止信号を起点とした積算照射量の増分が、予め記憶された設定照射量に達したことに基づいて次のビームの出射停止信号を出力する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 加速粒子によるターゲットのスパッタを抑え、かつターゲット物質を効率よく冷却して、放射性同位元素の製造効率を高めることができる放射性同位元素製造用ターゲットを提供する。
【解決手段】 ターゲット３は、ターゲット物質としてのターゲット水を収容する収容部３４を有するターゲット本体３１と、収容部３４の表面を被覆するターゲット被膜３２とを備える。ターゲット被膜３２の加速粒子によるスパッタ率は、ターゲット本体３１の加速粒子によるスパッタ率よりも小さい。またターゲット本体３１の熱伝導率は、ターゲット被膜３２の熱伝導率よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】異なる照射方式の照射装置を有する場合であっても、照射精度及び安全性を確保
する。
【解決手段】荷電粒子ビームを照射対象に対して出射する荷電粒子ビーム出射装置におい
て、
荷電粒子ビームを発生する荷電粒子ビーム発生装置１と、荷電粒子ビームを照射対象に
照射する、散乱体方式の照射装置３ｐ及びスキャニング方式の照射装置３ｓと、荷電粒子
ビーム発生装置１から出射された荷電粒子ビームを２つの照射装置３ｐ，３ｓのうちの選
択された１つの照射装置へ輸送するビーム輸送系２と、荷電粒子ビーム発生装置１の運転
条件を、選択された照射装置の照射方式に応じて変更する中央制御装置２３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 従来のＢＮＣＴ応用分野に用いられている荷電粒子加速装置では、サイクロトロン加速原理を用い、等時性磁場中を加速した荷電粒子を、装置の外側に配置したターゲットに衝突させ、２次粒子を発生させているが、２次粒子発生量が少なく、また、点光源でなく、分解能の悪い画像となる。そこで多量の２次粒子を発生し、点光源とみなすことが可能な荷電粒子加速器を提供する。
【解決手段】 電磁石の偏向磁場が、等時性／非等時性の磁場で構成され、非等時性磁場の領域に２次粒子発生手段が設けられ、加速イオンビームを衝突させる。 （もっと読む）

【課題】
稼働率を向上できる粒子線照射システムを提供することにある。
【解決手段】
陽子線ライナック１から出射されたイオンビームは、スイッチング電磁石５によって
９０度偏向され、ビーム輸送系９を経てＲＩ製造装置１０に導かれる。ＲＩ製造装置１０内ではそのイオンビームによってＲＩが製造される。陽子線ライナック３からのイオンビームは、スイッチング電磁石５によって９０度偏向され、ビーム輸送系６を経てシンクロトロン７に導かれる。シンクロトロン７から出射されたイオンビームは照射装置１２から患者に照射される。陽子線ライナック３が異常状態になった場合には、その運転を停止して保守点検を行う。このとき、陽子線ライナック１から出射されたイオンビームは、スイッチング電磁石５によってＲＩ製造装置１０およびシンクロトロン７に交互に導かれる。 （もっと読む）

陽子線治療システム（ＰＢＴＳ）のような複雑でマルチプロセッサのソフトウェア制御型のシステム（１０）では、動作の様々なモードについてのソフトウェア制御型のシステムを準備するために、許可されたユーザによって容易に変更が為される、処置を構成可能なパラメータ（８０、８２）を提供することが重要となり得る。この特定の発明は、データ及び構成用パラメータ（８０、８２）を管理し、また処置を供給するためのＰＢＴＳ（１０）によって使用され得るシステム制御ファイル（５６）を生成して配布するためにデータベース（７２）を利用する、ＰＢＴＳ（１０）用の構成管理システム（５４）に関する。システム制御ファイル（５６）の使用は、ＰＢＴＳ（１０）がデータベース（７２）から独立して機能することを可能にすることによって、データベース（７２）内の単一点障害の弊害を低減する。ＰＢＴＳ（１０）は、システム制御ファイル（５６）を通じてデータベース（７２）からのデータ、パラメータ、及び制御設定にアクセスし、それが、データベース（７２）に関して単一点障害が生じるときに、データ及び構成用パラメータ（８０、８２）がアクセス可能であることを保証する。
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この発明は、少なくとも１つのターゲット（２００）に照射するための加速荷電粒子ビームを発生させることができるサイクロトロンに係わる。この発明のサイクロトロンは、少なくとも２つの磁極（１、１’）、即ち、サイクロトロンの中心軸（１００）と直交する正中面（１１０）に関して対称に配置され、円運動する荷電粒子及び磁気回路を閉じるためのフラックスリターンを含むギャップ（１２０）で隔てられている上方磁極（１）及び下方磁極（１’）を備える電磁石；磁極（１、１’）間のギャップにほぼ一定の主誘導磁場を発生させる1対の主誘導コイル（５、５’）を含む。この発明は、電源（８）によって給電され、サイクロトロンの第１領域における誘導磁場の強さを増大させ、サイクロトロンの中心軸（１００）を挟んで直径方向に第１領域と対向するサイクロトロンの第２領域における誘導磁場の強さを低下させるために主コイル（５、５’）によって生じる主誘導磁場の強さを調節することが可能な少なくとも１対のバッキングコイル（６、７）を含むビームのセンタリング手段を含むことを特徴とする。
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